JP2003075555A - 時計用文字板の成形型とこれを用いた時計用文字板の製造方法とそれによる時計用文字板 - Google Patents
時計用文字板の成形型とこれを用いた時計用文字板の製造方法とそれによる時計用文字板Info
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Abstract
外観品質が十分でなかったり、脱落しやすかったりとい
う問題があったが、これらの問題を解決して、凸マーク
が一体に形成された新しい外観の文字板を提供するこ
と。 【解決手段】 シリコン基板に異方性エッチングを施し
て凸マーク13に相当する窪みを設け、このシリコン基
板を成形型に組み付けて、プラスチック文字板を射出成
形する。シリコン基板の窪みは鏡面になるので、凸マー
クも鏡面構成のものが得られる。凸マークは時目盛りだ
けでなく商品名の表示等に用いてもよく、文字板全面に
凸模様をつけることもできる。凸マークと凸模様を両方
設けることも可能である。文字板の下面に金属の反射膜
を蒸着すれば、プリスム作用で虹色を呈し、従来にない
外観の文字板になる。シリコン基板に電鋳を行って得ら
れる金属の複製品で成形型を作れば、耐久性があって量
産に適する。
Description
に腕時計等の小型時計の文字板に関するものである。
分の目盛りであるマークを設けてあり、指針で時刻を指
示する。これらのマークにはドットや数字を平面的に印
刷しただけのものもあるが、文字板上に隆起した凸マー
クを設けることも多く、特に時間目盛りを凸マークにし
たものが多い。図8(A)は時計の文字板面の一例で、
文字板1上を時針2、分針3と秒針4が回転して時刻を
示し、文字板外周には時間目盛りとして凸マーク5が設
けてある。さらに凸マーク5の間に分目盛りを印刷する
のも普通であるが、ここでは省略する。
ける方法は幾通りかある。その一つは文字板の上に別体
のマークを固定することで、図8(B)は直方体の凸マ
ーク5を文字板1に接着剤や点溶接によって接合するも
のである。また同図(C)は、凸マーク5に足5aを設
け、これを文字板1の穴1aに押し込んで固定してお
り、文字板1の下面側から足5aをかしめたり、接着剤
を併用したりすることもある。図(D)では文字板1と
凸マーク5が一体で、これはコイニング加工等によって
金属文字板1に凸マーク5の箇所を盛り上がらせ、上面
を仕上げ切削したものである。
顔に相当する部分であって、高度の装飾性が求められる
が、文字板に凸マークを設ける方法の種類が前記の程度
であったため、出来栄えも自ずと限られて、あまり斬新
なものが得られない状況が続いていた。また、前記の方
法にはそれぞれ問題点があった。すなわち、凸マークを
接着やかしめで取り付けたものは剥がれて脱落しやす
く、溶接したものは熱の影響で文字板表面の装飾層が焦
げたりする。さらに、コイニング加工の場合は凸マーク
上面と文字板表面に傷が入りやすい。本発明は凸マーク
付き文字板の新規な製造方法を提案することにより、前
記の欠点を解消し、従来は得られなかった外観を持つ時
計用文字板を実現するものである。
め、本発明は、プラスチックを成形して凸マークが文字
板と一体になったものを形成し、表面に被膜を作って単
なるプラスチックとは異なる質感を持たせるようにした
ものである。被膜は文字板の上面に形成してもよく、全
面に被覆してもよいが、文字板材料に透明のプラスチッ
クを用い、下面だけに金属等の反射膜を形成すれば、表
側から見た時、文字板のプリズム作用で虹色の珍しい外
観を生じるものになる。
立った特徴がある。すなわち、シリコン基板に異方性エ
ッチングを施して、文字板の凸マークの鋳型となる窪み
を作り、そのようなシリコン基板そのもの、あるいはそ
のようなシリコン基板から電鋳等で作った金属複製品を
用いて成形型を製作するのである。
クし、その一部に正方形、長方形等の露出部を設けてエ
ッチングすると、結晶学的異方性により、露出部分を底
面として各辺から(100)面に対し54.7°の一定
角度の面に沿う先細りの窪みを生じて行き、最後は正角
錐あるいは頂上に稜線のある屋根型などの窪みとなって
終了する。窪みの内面は結晶の(111)面であって鏡
面であり、これを成形型にして形成される文字板の凸マ
ークの構成面もまた美麗な鏡面になる。
施形態を説明する。図1は本発明による時計用文字板の
一例で、(A)に見るように文字板11は中央に指針軸
の通る穴12があり、外周に等間隔に12箇所、時間目
盛りとなる凸マーク13が設けてある。前述のように、
文字板11はプラスチック製で、凸マーク13は文字板
11に一体成形されている。凸マーク13の拡大斜視図
を(C)に示すが、小さな正四角錐を1箇所に4個配置
して構成してある。
字板の下面に蒸着等の方法で金属の反射膜14を被覆し
てある。このように構成すると、文字板11の上面から
入射した光が反射膜14で反射するが、凸マーク13の
部分は、反射光が表面から出射するまでの光路長の違い
によって虹色などの干渉色を生じ、通常の文字板のよう
に表面で光を反射するものでは得られない彩りのある外
観を生じる。
である。凸マーク15は図1のような正四角錐でなく、
(C)に拡大斜視図を示すように、底面が長方形で頂上
に稜線のある屋根型の凸部を二つ並べたものである。
(B)は(A)のB−B断面を時計方向に90°回転し
た図で、図1と同様に文字板11の下面に金属を蒸着し
て反射膜14を形成してある。しかし反射膜14は金属
膜に限らず、反射率のよい白色塗装等であってもよい
し、そもそも下面に限らず上面を被覆してもよく、それ
によって多様な質感の文字板を得ることができる。
が一体になった文字板11のプラスチック成形型を、シ
リコン基板を用いて製作する方法を説明する。 1)図3のようなシリコン基板16を用意する。結晶の
(100)面に平行にスライスしたもので、(110)
面をO.F.(Orientation Flat)にしてある。このシ
リコン基板に、以下の手順で異方性エッチングを施す。
着し、次いでAuを蒸着する。Crを蒸着するのはAu
の密着性を高めるためであり、Au膜はエッチングに対
するマスクである。Cr膜は厚さの範囲が100〜1,
000オングストロームで、好ましくは400〜600
オングストロームであり、本実施例では約500オング
ストロームとした。またAu膜は厚さの範囲が500〜
10,000オングストロームで、好ましくは2,00
0〜5,000オングストロームであり、本実施例では
約3,000オングストロームとした。
薄いと、Au膜とシリコン基板との接触面積が増えて定
着性に問題が発生し、1,000オングストロームより
厚くなると、生産性とコスト面の不利、および内部応力
によるシリコン基板の反りの問題が生じるため、Cr膜
厚の最適範囲は400〜600オングストロームといえ
る。
範囲は30〜1,300μmであるが、Au膜厚が50
0オングストロームより薄いと、所要の深さまでエッチ
ングする前にAuマスクが侵され、一方、10,000
オングストロームより厚いと生産性とコスト面で不利に
なるので、Au膜厚の最適範囲は2,000〜5,00
0オングストロームといえる。
レジスト膜を塗布する。 4)上面のレジスト膜をフォトリソグラフィでパターニ
ングし、レジスト膜のなくなった部分のAu膜、Cr膜
をそれぞれに適するエッチャントでエッチングして除去
する。こうしてマスクが除去されて露出した領域が、エ
ッチングで形成する窪みの開口部(すなわち文字板の凸
マークの底面)である。
(400g/水1lit.)でエッチングして、シリコン基
板に窪みを形成する。前述のように、結晶格子の(11
1)面の連なりが窪みの内面を形成し、これは鏡面にな
る。窪みの深さはエッチング時間によって定まり、文字
板の凸マークの場合、7時間のエッチングで約400μ
mの深さが得られた。エッチングが完了するまで続けれ
ば、窪みの開口部形状によって正四角錐や稜線のある屋
根型となるが、それ以前にエッチングを停止すれば上端
に平面部のある正四角錐台(図4)や、上端に平面部の
ある屋根型(図5)等の形状になる。なお、Au膜やC
r膜のパターニングに用いた上下面のレジスト膜は、K
OH溶液で除去されてしまう。
れぞれのエッチャントで除去する。 7)こうして窪みの形成されたシリコン基板を加工し、
これを組み付けてプラスチックの成形型を製作する。 8)射出成形を行い、透明なプラスチック文字板を得
る。これによって得られる凸マークは鏡面で構成されて
いる。 9)最後に、下面にAl蒸着、Au蒸着などを施して反
射膜を形成する。もちろん金属蒸着膜に限定する必要は
なく、反射率の高い白色塗装などでもよいし、仕様によ
っては上面に被覆する場合もある。
金合金、白色系としては銀、アルミニウムあるいはそれ
らの合金、着色系としては発色性のある金属酸化膜など
を用いることができる。
凸マーク13、15を持つ文字板11、あるいは図4、
図5の凸マークを持つ文字板を製作できるが、これ以外
にも本発明を利用した文字板加工ができる。その一つは
図6に示すような文字板表面の模様付けで、文字板11
は中心に穴12があるが、その他の全面に細かくて丈の
低い正四角錐台の凸模様17を設けてある。同図(C)
は凸模様17の拡大斜視図である。このような文字板
も、異方性エッチングでシリコン基板の全面に浅い窪み
を設け、これを用いて成形型を作ることにより製作でき
る。図(B)は(A)のB−B断面図で、下面に金属の
反射膜14を蒸着してある。
従来例と同様に別体のマーク部品を文字板11に固定し
たものであるが、デザインを適切に行って、フォトリソ
グラフィとエッチングを所要の回数繰り返せば、図6の
ような凸模様17と図1、図2のような凸マーク13、
15の両方に相当する窪みをシリコン基板に形成するこ
とができ、これを組み込んだ射出成形型で凸模様と凸マ
ークが両方ある文字板を成形できる。
それ以外の文字板面にヘアラインをつけたり、梨地にし
たりすることもできる。これは異方性エッチングで凸マ
ーク形成用の窪みを設けたシリコン基板を、ブラシでこ
すってヘアラインをつけたり、サンドブラスト等で梨地
にしたりして行われる。もっともこれらの表面加工の際
には、エッチングの窪み内にゴム材料などを充填して保
護する必要があり、表面加工後、充填材を溶剤で除去す
る。
したシリコン基板を材料にして作った成形型は、耐久性
がそれほど大きくないから、試作品を作ってデザイン検
討する場合などにはよくても、文字板を大量生産するに
は適しない。電鋳技術によりシリコン基板の複製品を金
属材料で作り、これを用いて耐久性のある成形型を作る
方法を次に説明する。
シリコン基板16に異方性エッチングで凸マークや凸模
様の窪みを設けたものである。前述のように、シリコン
基板21の下面が(100)面であり、窪みの内面が
(111)面である。このようなシリコン基板21を用
い、プラスチック転写技術で、図(B)のプラ複製A
(22)を作る。プラ複製A(22)の表面に金属の電
極膜を蒸着して電鋳を行い、図(C)のようにNi等の
金属のマスター23を仮に1個得るとする。これは窪み
のあるシリコン基板21の精度のよい複製品である。次
にマスター23を用いて再びプラスチック転写を行い、
図(D)のプラ複製B(24)を作るが、マスター23
は金属製なので耐久性があり、控え目に見ても例えば
1,000個のプラ複製B(24)が得られる。
い、図(E)のようにプラ複製B(24)と同数の1,
000個のNiのスタンパー25を得る。このスタンパ
ー25を組み付けてプラスチック用の成形型を作って射
出成形すれば、窪み部分が金属製の型であるからシリコ
ン基板を直接用いた型よりもはるかに耐久性があり、こ
れも控え目に見て1,000個の成形が可能としても、
最初の1枚のシリコン基板から1,000×1,000
=100万個の文字板を成形することができて量産的で
ある。
ン基板でなく、表面が(110)面であるシリコン基板
も、エッチングして内面が鏡面の窪みを作ることができ
るが、その場合は窪みの側面が、実施形態のように基板
の表面に対して傾斜した面でなく垂直な面になって、溝
状の窪みが得られる。それでは抜き勾配がついてないの
で成形型を作るには不向きであり、本発明を行うには、
前記の実施形態のような(100)面に沿ってスライス
したシリコン基板を用いるのがよい。
には次のような効果がある。 1)従来、文字板の凸マークは別体のものを文字板に固
定したり、文字板をコイニングして盛り上げたりする必
要があったが、本発明によれば、凸マークを一体に形成
したプラスチック文字板を射出成形で量産でき、文字板
から凸マークが脱落したり、コイニング作業で文字板に
傷がついたりすることがない。 2)凸マークはダイヤモンド切削などを行わなくとも、
美麗な鏡面で構成されたものが得られる。 3)文字板は全面を蒸着膜や塗装膜で覆ってもよいし、
また下面だけに金属の蒸着膜や白色塗装の反射膜を設け
るなら、プリズム作用で従来にない多彩な虹色などを呈
するものとなる。 4)凸マークは時目盛りを構成するほか、メーカー名や
ブランド名等の表示に用いてもよく、また、この技術に
よって文字板全面に凸模様をつけることもできる。この
ようにして、従来の技術では得られない多様な時計用文
字板を、廉価に大量生産できる。
は(A)のB−B断面図、(C)は拡大斜視図である。
(B)は(A)のB−B断面を90°時計方向に回転し
た図、(C)は拡大斜視図である。
る。
る。
図、(B)は(A)のB−B断面図、(C)は拡大斜視
図である。
(C)、(D)はいずれも(A)のB−B断面図であ
る。
Claims (5)
- 【請求項1】 プラスチックで時計用文字板を成形する
成形型であって、 異方性エッチングにより窪みを設けたシリコン基板、ま
たはそのようなシリコン基板から電鋳で得た金属複製品
を組み付けて製作した成形型。 - 【請求項2】 請求項1に記載の成形型を用いて、該成
形型の窪みに対応する凸部を表面に有するプラスチック
部品を成形し、 該プラスチック部品の外面の一部または全部に蒸着ある
いは塗装等により被膜を形成して文字板とすることを特
徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載の製造方法により製造し
た時計用文字板であって、 プラスチック製で表面に凸部を有し、外面の一部または
全部に蒸着あるいは塗装等により被膜を形成したことを
特徴とする時計用文字板。 - 【請求項4】 請求項3に記載の時計用文字板におい
て、 表面の凸部は時目盛りをなす凸マーク、あるいはブラン
ド名や商標等の表示、あるいは凸模様、あるいはこれら
の組み合わせであることを特徴とする時計用文字板。 - 【請求項5】 請求項3に記載の時計用文字板におい
て、 外面の被膜は透明プラスチック文字板の下面に形成した
金属膜あるいは高反射率の塗装等による反射膜であるこ
とを特徴とする時計用文字板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001262459A JP2003075555A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 時計用文字板の成形型とこれを用いた時計用文字板の製造方法とそれによる時計用文字板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001262459A JP2003075555A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 時計用文字板の成形型とこれを用いた時計用文字板の製造方法とそれによる時計用文字板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003075555A true JP2003075555A (ja) | 2003-03-12 |
Family
ID=19089355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001262459A Pending JP2003075555A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 時計用文字板の成形型とこれを用いた時計用文字板の製造方法とそれによる時計用文字板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003075555A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015017959A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-29 | 雅史 野▲崎▼ | 拘置施設向け時計 |
WO2019203151A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | 日本精機株式会社 | 計器装置 |
Citations (4)
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JPS55132971A (en) * | 1979-04-05 | 1980-10-16 | Seiko Epson Corp | Production of dial for watch |
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JPH07113193A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Olympus Optical Co Ltd | 回折格子成形用金型の製造方法 |
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-
2001
- 2001-08-30 JP JP2001262459A patent/JP2003075555A/ja active Pending
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