JP2003068505A - Chip resistor and method for manufacturing the same - Google Patents

Chip resistor and method for manufacturing the same

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JP2003068505A
JP2003068505A JP2001260880A JP2001260880A JP2003068505A JP 2003068505 A JP2003068505 A JP 2003068505A JP 2001260880 A JP2001260880 A JP 2001260880A JP 2001260880 A JP2001260880 A JP 2001260880A JP 2003068505 A JP2003068505 A JP 2003068505A
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Japan
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resistor
film
electrode
insulating substrate
chip
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Toshihiro Hanaoka
敏博 花岡
Yasushi Akaha
泰 赤羽
Kazumasa Sakai
一勝 坂井
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Koa Corp
Original Assignee
Koa Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip resistor which does not care about the top or bottom of a chip component at the time of mounting, in other words, appropriate for bulk mounting. SOLUTION: The chip resistor comprises a first resistor film 15a disposed over the nearly entire length on the surface of an insulation substrate 11, a pair of second resistor films 15b disposed apart from each other on both end parts of the insulation substrate, a pair of electrodes 13 disposed on the second resistor films, a protective film 17 which covers a portion of the first resistor film which is not overlaid by the second resistor film, and plating electrodes 23 disposed at least on the pair of electrodes. The surface height of the plating electrode is higher than that of the protective film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、チップ抵抗器およ
びその製造方法に係り、特に多数のチップ部品を収納し
たバルクカセットから該チップ部品の表裏を選択するこ
となく回路基板に実装する、いわゆるバルク実装に好適
なチップ抵抗器およびその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip resistor and a method for manufacturing the same, and more particularly to a so-called bulk which is mounted on a circuit board without selecting the front and back of the chip component from a bulk cassette containing a large number of chip components. The present invention relates to a chip resistor suitable for mounting and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7(a)は従来の厚膜チップ抵抗器の
構造例を示す。従来のチップ抵抗器は、アルミナ等の絶
縁性基板11の表面両端部に厚膜電極13,13を備
え、この電極間に厚膜抵抗体15が配置されている。抵
抗体15はガラス絶縁膜および樹脂絶縁膜からなる保護
膜17により被覆され保護されている。絶縁性基板11
の両端部である表面の電極13と裏面の電極19および
側端面の端面電極21にはめっき電極23,23が形成
されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7A shows a structural example of a conventional thick film chip resistor. The conventional chip resistor is provided with thick film electrodes 13, 13 at both ends of the surface of an insulating substrate 11 made of alumina or the like, and a thick film resistor 15 is arranged between the electrodes. The resistor 15 is covered and protected by a protective film 17 made of a glass insulating film and a resin insulating film. Insulating substrate 11
Plated electrodes 23, 23 are formed on the front surface electrode 13 and the back surface electrode 19 and the end surface electrodes 21 on the side end surfaces, which are both end portions of the.

【0003】この場合、基板中央部の保護膜17の部分
の高さがめっき電極23の高さよりも高くなる。絶縁性
基板11の表面側のめっき電極23と保護膜17のそれ
ぞれの表面の段差が10−30μm程度発生している場
合が多い。
In this case, the height of the protective film 17 in the central portion of the substrate is higher than the height of the plated electrode 23. In many cases, a difference in level between the plated electrode 23 on the surface of the insulating substrate 11 and the surface of the protective film 17 is about 10-30 μm.

【0004】ところで、従来のチップ抵抗器は、工場出
荷の際にテープに1個ずつ、抵抗体が存在する面を表面
として固定するいわゆるテーピングによる荷姿で出荷さ
れる場合が多い。そして、回路基板に実装する際には、
そのままの状態で、即ち、抵抗体が存在する面(保護膜
側)を表面として実装機(マウンタ)により回路基板に
固定されていた。この場合には、図7(b)に示すよう
に回路基板25のランド部27に絶縁性基板11のめっ
き電極23,23の裏面側が密着し、はんだリフロー等
による固定が行われる。
Incidentally, the conventional chip resistors are often shipped one by one at the time of factory shipment in a so-called taping package in which the surface on which the resistors are present is fixed as the surface. And when mounting on a circuit board,
It was fixed to the circuit board in the state as it is, that is, with the surface (the protective film side) where the resistor is present as the surface by the mounting machine (mounter). In this case, as shown in FIG. 7B, the back surface side of the plated electrodes 23, 23 of the insulating substrate 11 is closely attached to the land portion 27 of the circuit board 25, and is fixed by solder reflow or the like.

【0005】しかしながら、実装方法にはバルクカセッ
トに多数のチップ部品をランダムな状態で収容し、この
チップ部品を一個ずつバルクカセットから取り出して回
路基板に実装する、いわゆるバルク実装方式が存在す
る。係る実装方式によれば、チップ部品を回路基板に装
着するに際して、チップ部品の表裏を選択することな
く、チップ部品の面実装が行われる。
However, as a mounting method, there is a so-called bulk mounting method in which a large number of chip components are randomly accommodated in a bulk cassette and the chip components are taken out one by one from the bulk cassette and mounted on a circuit board. According to this mounting method, when mounting the chip component on the circuit board, the surface mounting of the chip component is performed without selecting the front and back of the chip component.

【0006】従って、図7(a)に示す従来のチップ抵
抗器をバルク実装機にてバルク実装した場合に、図7
(b)に示すように、チップ抵抗器の表面側(保護膜
側)が回路基板25に面するように裏向きに実装される
場合が発生する。しかしながら、図7(c)に示すよう
に、チップ抵抗器の表面側(保護膜側)が回路基板25
に面するように裏向きに実装される場合が50%程度の
確率で発生する。この時、チップ抵抗器が傾いて実装さ
れる可能性が強く、最悪の場合、片側のはんだ付けがで
きない、または、図7(d)に示すように、チップ立等
の現象が発生するという問題がある。また、自力でラン
ドの中心に戻る現象(いわゆるはんだのセルフアライメ
ント効果)においても、結局は保護膜が引っ掛かり位置
ずれが生じるという問題がある。
Therefore, when the conventional chip resistor shown in FIG. 7A is bulk-mounted by the bulk mounting machine,
As shown in (b), there is a case where the chip resistor is mounted so that the front surface side (protective film side) faces the circuit board 25. However, as shown in FIG. 7C, the surface side (protective film side) of the chip resistor is the circuit board 25.
There is a probability of about 50% that the device is mounted face-down so as to face. At this time, there is a strong possibility that the chip resistor will be mounted in an inclined manner, and in the worst case, one side cannot be soldered, or as shown in FIG. 7D, a phenomenon such as chip rising occurs. There is. Further, even in the phenomenon of returning to the center of the land by itself (so-called self-alignment effect of solder), there is a problem that the protective film is eventually caught and the position is displaced.

【0007】一方で、実装面積の低減の要請から、いわ
ゆるフィレットレス方式の実装技術が開発されている。
これは裏向きに(フェースダウンで)チップ部品を回路
基板に実装する技術であり、この場合にもめっき電極の
表面高さが保護膜の表面高さよりも高いことが必要であ
る。
On the other hand, so-called filletless mounting technology has been developed in order to reduce the mounting area.
This is a technique of mounting the chip component on the circuit board face down (face down), and in this case as well, the surface height of the plating electrode needs to be higher than the surface height of the protective film.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した事情
に鑑みて為されたもので、実装に際してチップ部品の表
裏を選択しない、いわゆるバルク実装に対応が可能なチ
ップ抵抗器を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and provides a chip resistor which does not select the front and back of a chip component at the time of mounting, and which is compatible with so-called bulk mounting. To aim.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
め、絶縁性基板と、該絶縁性基板に形成された抵抗体膜
と、該抵抗体膜上に形成された少なくとも一対の電極
と、少なくとも前記電極が形成されていない部分の前記
抵抗体膜を被覆する保護膜と、前記電極上に形成された
めっき電極と、を備え、前記抵抗体膜を前記電極が形成
される領域に対応した部分の厚みが増すように形成する
ことにより、前記めっき電極表面の高さを前記保護膜の
表面の高さよりも高くしたことを特徴とするチップ抵抗
器を構成した。かかる構成により、保護膜を形成した面
側を回路基板へ搭載しても、保護膜と回路基板との間に
隙間が生じるため、搭載がしやすくなる。
In order to solve the above problems, an insulating substrate, a resistor film formed on the insulating substrate, and at least a pair of electrodes formed on the resistor film, At least the protective film covering the resistor film in a portion where the electrode is not formed, and a plating electrode formed on the electrode are provided, and the resistor film corresponds to a region where the electrode is formed. By forming the chip resistor so that the thickness of the portion is increased, the height of the surface of the plating electrode is made higher than the height of the surface of the protective film. With this configuration, even if the surface side on which the protective film is formed is mounted on the circuit board, a gap is created between the protective film and the circuit board, which facilitates mounting.

【0010】前記抵抗体膜は、前記絶縁性基板の少なく
とも前記一対の電極の間を含む領域に形成される第1の
抵抗体膜と、該第1の抵抗体膜と導通し且つ前記電極が
形成される領域に対応した部分に形成される第2の抵抗
体膜と、により構成してもよい。かかる構成により膜厚
が一部異なる抵抗体膜を形成しやすい。また、前記絶縁
性基板の裏面に裏面電極を配置し、側端面には端面電極
を配置し、これらの電極上に前記めっき電極を配置する
構成としてもよい。かかる構成により表裏の区別無く回
路基板に実装可能である。
The resistor film has a first resistor film formed in a region of the insulating substrate including at least a portion between the pair of electrodes, and the first resistor film is electrically connected to the first resistor film. The second resistor film may be formed in a portion corresponding to the formed region. With this structure, it is easy to form a resistor film having a partially different film thickness. A back electrode may be arranged on the back surface of the insulating substrate, end surface electrodes may be arranged on the side end surfaces, and the plating electrode may be arranged on these electrodes. With such a configuration, it can be mounted on the circuit board without distinction between the front and back.

【0011】絶縁性基板の表面に形成された抵抗体膜上
に一対の電極が形成され、且つ抵抗体膜の表面形状が電
極を形成する領域に対応した部分の厚みが増した形状と
なるように形成されるチップ抵抗器の製造方法であっ
て、前記絶縁性基板上に形成される前記抵抗体膜の表面
形状に対応する形状に成形された凹版に、抵抗材を充填
する工程と、前記凹版を前記絶縁性基板に押圧して充填
された抵抗材を転写することにより前記抵抗体膜を形成
する工程と、前記抵抗体膜の厚みを増した部分に前記電
極を形成する工程と、少なくとも前記電極が形成されて
いない部分の前記抵抗体膜を被覆する保護膜を形成する
工程と、を含む製造方法によりチップ抵抗器を構成し
た。かかる製造方法により、1回の印刷工程で膜厚が一
部異なる抵抗体膜を形成可能である。
A pair of electrodes are formed on the resistor film formed on the surface of the insulating substrate, and the surface shape of the resistor film is such that the thickness of the portion corresponding to the region where the electrodes are formed is increased. A method of manufacturing a chip resistor formed in, wherein the intaglio formed in a shape corresponding to the surface shape of the resistor film formed on the insulating substrate, a step of filling a resistive material, At least a step of pressing the intaglio plate against the insulating substrate to transfer the filled resistance material to form the resistor film, and a step of forming the electrode at a portion where the thickness of the resistor film is increased; A chip resistor is configured by a manufacturing method including a step of forming a protective film that covers the resistor film in a portion where the electrode is not formed. With such a manufacturing method, it is possible to form a resistor film having a partially different film thickness in one printing process.

【0012】前記絶縁性基板の裏面に裏面電極を形成す
る工程と、前記絶縁性基板の側面に側面電極を形成する
工程と、を含む製造方法によりチップ抵抗器を構成して
もよい。かかる製造方法により表裏の区別無く回路基板
に実装可能なチップ抵抗器を製造可能である。
The chip resistor may be constructed by a manufacturing method including a step of forming a back surface electrode on the back surface of the insulating substrate and a step of forming a side surface electrode on the side surface of the insulating substrate. With this manufacturing method, it is possible to manufacture a chip resistor that can be mounted on a circuit board without distinction between the front and back.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るチップ抵抗器
の実施形態について図1乃至図6を参照して詳細に説明
する。図1は、本発明の実施形態におけるチップ抵抗器
の全体構成を示す図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a chip resistor according to the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a chip resistor according to an embodiment of the present invention.

【0014】このチップ抵抗器は、アルミナ等の絶縁性
基板11の表面の略全長にわたる第1の抵抗体膜15a
を備えている。この抵抗体膜15aは、例えば酸化ルテ
ニウムの抵抗体ペーストをスクリーン印刷により塗布さ
れ、これを高温で焼成して形成されている。
This chip resistor has a first resistor film 15a extending over substantially the entire length of the surface of an insulating substrate 11 made of alumina or the like.
Is equipped with. The resistor film 15a is formed, for example, by applying a resistor paste of ruthenium oxide by screen printing and firing it at a high temperature.

【0015】第1の抵抗体膜15a上の両端部に、一対
の第2の抵抗体膜15bが互いに離隔して配置されてい
る。この第2の抵抗体膜15bもこれと同程度の厚さ
か、最終的にめっき電極23の表面の高さ(絶縁性基板
11の保護膜17bを形成した面側におけるめっき電極
23表面の高さ)が保護膜17bの表面の高さよりも高
くなる範囲で適宜選択可能である。第2の抵抗体膜15
bにより、抵抗体膜の電極を形成する領域がその厚みを
増しているため、後述の如く電極13を嵩上げするため
の嵩上げ部を構成している。
At both ends of the first resistor film 15a, a pair of second resistor films 15b are arranged apart from each other. This second resistor film 15b also has the same thickness as this, or the height of the surface of the plating electrode 23 finally (the height of the surface of the plating electrode 23 on the surface side of the insulating substrate 11 on which the protective film 17b is formed). ) Can be appropriately selected within a range in which the height is higher than the height of the surface of the protective film 17b. Second resistor film 15
Since the region where the electrode of the resistor film is formed is thickened by b, it constitutes a raised portion for raising the electrode 13 as described later.

【0016】第2の抵抗体膜15b上には、これを被覆
する電極13が配置されている。この電極13は、例え
ば銀または銀パラジウムの厚膜電極ペーストをスクリー
ン印刷により塗布し、その後焼成することにより形成す
る。電極13は、厚さ10−20μm程度に形成するこ
とが好ましい。第1の抵抗体膜15aの第2の抵抗体膜
15bにより被覆されていない部分には、例えばガラス
層からなる第1の保護膜17aと、例えば樹脂層からな
る第2の保護膜17bとにより被覆されている。これら
の保護膜17aおよび17bにより、全体として保護膜
17が形成されている。ガラス絶縁膜17aは厚さ15
−20μm程度に形成することが好ましく、樹脂絶縁膜
17bは厚さ20μm程度に形成することが好ましい。
An electrode 13 for covering the second resistor film 15b is arranged on the second resistor film 15b. This electrode 13 is formed, for example, by applying a thick film electrode paste of silver or silver palladium by screen printing and then firing. The electrode 13 is preferably formed to have a thickness of about 10-20 μm. A portion of the first resistor film 15a which is not covered with the second resistor film 15b is covered with a first protective film 17a made of, for example, a glass layer and a second protective film 17b made of, for example, a resin layer. It is covered. The protective film 17 is formed as a whole by these protective films 17a and 17b. The glass insulating film 17a has a thickness of 15
The thickness is preferably about −20 μm, and the resin insulating film 17b is preferably formed with a thickness of about 20 μm.

【0017】絶縁性基板11の裏面には、同様に厚膜電
極ペーストの塗布および焼成により形成された裏面電極
19,19を備え、また端面には金属のスパッタリング
等により形成された端面電極21を備え、これらの電極
13,19,21上にはめっき電極23が形成されてい
る。ここで、めっき電極23は、例えばニッケルめっき
層23aと、はんだまたは錫めっき層23bとから構成
されている。ニッケルめっき層23aは厚さ3−10μ
m程度に形成することが好ましく、はんだまたはスズめ
っき層23bは厚さ5−15μm程度に形成することが
好ましい。
The back surface of the insulating substrate 11 is similarly provided with back surface electrodes 19 and 19 formed by applying and firing a thick film electrode paste, and the end surface is provided with an end surface electrode 21 formed by metal sputtering or the like. A plating electrode 23 is formed on these electrodes 13, 19, 21. Here, the plating electrode 23 is composed of, for example, a nickel plating layer 23a and a solder or tin plating layer 23b. The nickel plating layer 23a has a thickness of 3-10 μm.
The thickness of the solder or tin plating layer 23b is preferably about 5 to 15 μm.

【0018】上述した構造を持ったチップ抵抗器は、チ
ップ抵抗器の保護膜17の表面より突出しためっき電極
23が形成されているため、チップ抵抗器が裏向きに実
装されてもチップ抵抗器の傾きを抑えることができ、こ
れにより確実に回路基板に実装される。このため、バル
ク実装機によるバルクカセットからの表裏面の選択性の
ない面実装を行い、チップ抵抗器の表面側(保護膜側)
が回路基板25に面するように(裏向きに)実装されて
も、問題無くはんだ付けによる固定が可能である。
In the chip resistor having the above-mentioned structure, since the plating electrode 23 protruding from the surface of the protective film 17 of the chip resistor is formed, even if the chip resistor is mounted face down, Can be suppressed, so that the circuit board can be reliably mounted on the circuit board. For this reason, the surface mounting of the front and back surfaces from the bulk cassette by the bulk mounting machine without selectivity is performed, and the surface side (protective film side) of the chip resistor is mounted.
Even if it is mounted so as to face the circuit board 25 (face down), it can be fixed by soldering without any problem.

【0019】図2には、本発明の第2の実施形態のチッ
プ抵抗器を示す。このチップ抵抗器は、互いに離隔して
配置された凸部を有する一体形成の凹型抵抗体膜15c
を備えている。即ち、第1の実施形態が第1の抵抗体膜
15aおよび第2の抵抗体膜15bとから抵抗体膜を構
成しているのに対して、第1の抵抗体膜15aおよび第
2の抵抗体膜15bを同時に一回の印刷工程により形成
したものである。この抵抗体膜の構成の相違以外には、
第1の実施形態のチップ抵抗器と同一の構成を備えてい
る。従って、このチップ抵抗器においても、いわゆるバ
ルク実装に対応が可能となる。
FIG. 2 shows a chip resistor according to the second embodiment of the present invention. This chip resistor has an integrally formed concave resistor film 15c having convex portions arranged apart from each other.
Is equipped with. That is, in the first embodiment, the resistor film is composed of the first resistor film 15a and the second resistor film 15b, whereas the first resistor film 15a and the second resistor film 15b are formed. The body film 15b is formed simultaneously by one printing process. Other than the difference in the structure of this resistor film,
It has the same configuration as the chip resistor of the first embodiment. Therefore, even this chip resistor can be used for so-called bulk mounting.

【0020】次に、本発明のチップ抵抗器の製造方法に
ついて、図3乃至図6を参照しながら説明する。まず、
図3(a)に示すように、アルミナ等の絶縁性基板11
を準備する。図示の例では1個のチップ領域を示すが、
実際には多数のチップ抵抗器を一括して製造する多数個
取りのシート状基板が用いられる。
Next, a method of manufacturing the chip resistor of the present invention will be described with reference to FIGS. First,
As shown in FIG. 3A, an insulating substrate 11 made of alumina or the like is used.
To prepare. The example shown shows one chip area,
In practice, a multi-piece sheet-like substrate that collectively manufactures a large number of chip resistors is used.

【0021】次に、図3(b)に示すように、凹型の抵
抗体膜15cを転写印刷(スタンピング)により形成す
る。この転写印刷は、図4(a)(b)に示すように、
転写パッド33(凹版)を用いることで、絶縁性基板1
1上に抵抗体膜15cを容易に転写して形成することが
できる。即ち、まず、例えばシリコンゴムからなる転写
パッド33の先端部に、形成しようとする抵抗体膜15
cの表面形状に対応した立体的なパターン型である凹版
33cを設けておく。そして、転写パッド33を抵抗体
ペースト35の中に入れ込み、パターン型である凹版3
3cに抵抗体ペーストを充填する。次に、図4(b)に
示すように絶縁性基板11上に押圧して抵抗体ペースト
を付着せしめ、引き上げることにより、両端に凸部を有
することにより断面凹型の抵抗体膜15cを形成するこ
とができる。この様な転写印刷によれば、一回の印刷工
程により、膜厚の一部異なる抵抗体膜を形成することが
できる。
Next, as shown in FIG. 3B, a concave resistor film 15c is formed by transfer printing (stamping). This transfer printing, as shown in FIGS.
By using the transfer pad 33 (intaglio), the insulating substrate 1
The resistor film 15c can be easily transferred and formed on the substrate 1. That is, first, the resistor film 15 to be formed is first formed on the tip of the transfer pad 33 made of, for example, silicon rubber.
An intaglio 33c, which is a three-dimensional pattern type corresponding to the surface shape of c, is provided. Then, the transfer pad 33 is put into the resistor paste 35, and the intaglio plate 3 of the pattern type is formed.
3c is filled with a resistor paste. Next, as shown in FIG. 4B, the resistor paste is applied by pressing on the insulating substrate 11 and pulled up to form a resistor film 15c having a convex cross section with concave portions at both ends. be able to. According to such transfer printing, a resistor film having a partially different film thickness can be formed by one printing process.

【0022】尚、スクリーン印刷により本発明の抵抗体
膜を形成する別の実施の態様として、図5に示す例は、
絶縁性基板の切断部分に跨って下層の抵抗体膜15bを
形成した後、絶縁性基板全体に亘って上層の抵抗体膜1
5aを形成し、その後、切断するようにしてもよい。図
6(a)(b)に示す例は、それぞれ図1、図5に示す
電極を嵩上げするための抵抗体膜部分を2層(2層以上
でもよい)とした例である。かかる構成により、電極を
より高く嵩上げすることができる。また、図6(c)の
ように、電極を嵩上げするための抵抗体部分を2層とす
るが、かかる2層の抵抗体膜のうち上側の層が下側の層
を被覆する態様で形成されている。更に図示はしない
が、第1の抵抗体膜を絶縁性基板11の略全長ではなく
両端部を残すように形成し、かかる両端部の第1の抵抗
体膜が形成されていない部分に第2の抵抗体膜を形成す
るようにしてもよい。この場合、第2の抵抗膜は少なく
とも第1の抵抗膜よりも厚く形成する。ここで、第2の
抵抗体膜は、抵抗値を支配する第1の抵抗体膜15aに
対して電極としての役割も果たすことから、その抵抗値
は第1の抵抗体膜15aに比較して低くするようにして
もよい。抵抗体としては酸化ルテニウム等を用いること
が好ましく、例えば850℃程度の温度で焼成する。
As another embodiment of forming the resistor film of the present invention by screen printing, the example shown in FIG.
After forming the lower resistor film 15b across the cut portion of the insulating substrate, the upper resistor film 1 is formed over the entire insulating substrate.
5a may be formed and then cut. The examples shown in FIGS. 6A and 6B are examples in which the resistor film portions for raising the electrodes shown in FIGS. 1 and 5 have two layers (two or more layers may be used). With this configuration, the electrode can be raised to a higher height. Further, as shown in FIG. 6C, the resistor portion for raising the electrode has two layers, but the upper layer of the two-layer resistor film covers the lower layer. Has been done. Although not shown in the drawing, the first resistor film is formed so that both ends thereof are left not in the substantially entire length of the insulating substrate 11, and the second resistor is formed in the portions where the first resistor film is not formed. The resistor film may be formed. In this case, the second resistance film is formed to be thicker than at least the first resistance film. Here, the second resistor film also serves as an electrode for the first resistor film 15a that governs the resistance value, so that the resistance value is higher than that of the first resistor film 15a. You may make it low. It is preferable to use ruthenium oxide or the like as the resistor, and the resistor is fired at a temperature of about 850 ° C., for example.

【0023】次に、図3(c)に示すように、抵抗体膜
15cの凸部(即ち第2の抵抗体膜15bまたは転写印
刷により厚みを増した部分)上に電極13を形成する。
この電極13はAgまたはAg−Pdペーストパターン
をスクリーン印刷により形成し、例えば850℃程度の
温度で焼成することで形成する。裏面電極19も同様に
AgまたはAg−Pdペーストパターンをスクリーン印
刷により配置し、焼成することで形成する。表面側の電
極13と裏面側の電極19とは、どちらを先に形成して
もよい。
Next, as shown in FIG. 3C, the electrode 13 is formed on the convex portion of the resistor film 15c (that is, the second resistor film 15b or the portion whose thickness is increased by transfer printing).
The electrode 13 is formed by forming an Ag or Ag-Pd paste pattern by screen printing and firing it at a temperature of about 850 ° C., for example. Similarly, the back electrode 19 is also formed by arranging an Ag or Ag-Pd paste pattern by screen printing and firing it. Either of the front surface side electrode 13 and the rear surface side electrode 19 may be formed first.

【0024】次に、図3(d)に示すように、スクリー
ン印刷にて抵抗体膜15cの凹部上へ第1保護層パター
ンを形成して焼成する。第1保護層17aはガラス絶縁
層であり、600℃程度の温度で焼成することが好まし
い。抵抗体膜15cには必要に応じてレーザートミリン
グを行い、抵抗値を調整する。次に、スクリーン印刷に
てガラス絶縁層17a上へ樹脂ペーストの第2保護層パ
ターンを形成して加温硬化し、第2保護層17bを形成
する。第2保護層17bはエポキシ系樹脂であり、20
0℃程度の温度で加温硬化することが好ましい。第1保
護層17aおよび第2保護層17bは抵抗体膜15cの
一対の凸部間に形成された凹部に配置する。
Next, as shown in FIG. 3 (d), a first protective layer pattern is formed on the concave portion of the resistor film 15c by screen printing and baked. The first protective layer 17a is a glass insulating layer and is preferably fired at a temperature of about 600 ° C. The resistor film 15c is subjected to laser milling as necessary to adjust the resistance value. Next, a second protective layer pattern of a resin paste is formed on the glass insulating layer 17a by screen printing and heated and cured to form a second protective layer 17b. The second protective layer 17b is an epoxy resin,
It is preferable to perform heat curing at a temperature of about 0 ° C. The first protective layer 17a and the second protective layer 17b are arranged in the concave portion formed between the pair of convex portions of the resistor film 15c.

【0025】以上の処理は多数個取りのシート状基板の
一括処理であるが、次に短冊状に分割する加工を行う。
加工はダイシング、またはブレークのどちらでも良い。
多数個取りシート状基板を短冊状に分割後に、図3
(e)に示すように、露出した基板側端面に端面電極2
1,21を形成する。端面電極21,21は例えばスパ
ッタリングにより被着したNi・Crの薄膜層である。
そして、チップ単体に分割する加工を行う。加工はダイ
シング、ブレークどちらでも良い。次に、図3(f)に
示すように、電解メッキを行い、電極13,19,21
上にめっき電極23,23を形成する。電極くわれ防止
およびはんだ付けの信頼性向上のために、電解めっきに
よってNiめっき層23aとSn−Pbめっき層(Sn
めっき層でもよい)23bとからなるめっき電極23を
形成している。
The above processing is a batch processing of a large number of sheet-shaped substrates, but a processing for dividing into strips is next performed.
The processing may be dicing or break.
After dividing the multi-cavity sheet-shaped substrate into strips,
As shown in (e), the end face electrode 2 is formed on the exposed end face of the substrate.
1, 21 are formed. The end face electrodes 21 and 21 are Ni / Cr thin film layers deposited by, for example, sputtering.
Then, a process of dividing the chip into individual chips is performed. Either dicing or break can be used for processing. Next, as shown in FIG. 3 (f), electrolytic plating is performed to form electrodes 13, 19, 21.
The plated electrodes 23, 23 are formed on top. In order to prevent electrode breakage and improve the reliability of soldering, the Ni plating layer 23a and the Sn-Pb plating layer (Sn) are formed by electrolytic plating.
A plating layer 23b).

【0026】上述した製造工程によれば、絶縁性基板1
1の両端部の電極23の表面が抵抗体膜15cの凸部
(または第2の抵抗体膜15b)により嵩上げされ、中
央の保護膜17の表面部分に実装時の回路基板面又はラ
ンド間のパターンに対して隙間(スタンドオフ)が生じ
る。係るチップ抵抗器の製造方法によれば、抵抗体膜の
形成工程以外は通常のチップ抵抗器の製造方法をそのま
ま採用することができる。従って、転写印刷技術を用い
ることで工程数を増加することなく、製造コストの上昇
を抑制しつつ、実装面の表裏の選択性のないバルク実装
に対応したチップ抵抗器を製造できる。
According to the above manufacturing process, the insulating substrate 1
The surface of the electrode 23 at both ends of 1 is raised by the convex portion of the resistor film 15c (or the second resistor film 15b), and the surface portion of the protective film 17 in the center is covered with the circuit board surface or between the lands. There is a gap (standoff) with respect to the pattern. According to such a method of manufacturing a chip resistor, a normal method of manufacturing a chip resistor can be adopted as it is, except for the step of forming the resistor film. Therefore, by using the transfer printing technique, it is possible to manufacture the chip resistor corresponding to bulk mounting without increasing the manufacturing cost without increasing the manufacturing cost and suppressing the front and back of the mounting surface.

【0027】なお、上記実施形態においては、絶縁性基
板の表面および裏面に電極を設け、チップ抵抗器が表向
きにも裏向きにも実装可能な例について説明した。しか
しながら、基板表面のみに電極を設け、裏向きにのみ実
装するいわゆるフィレットレス実装にも適用が可能であ
る。即ち、裏面電極19および端面電極21の形成を単
純に省略することで、フィレットレス実装対応のチップ
抵抗器を製造することができる。
In the above embodiment, an example has been described in which electrodes are provided on the front surface and the back surface of the insulating substrate so that the chip resistor can be mounted face-up or face-down. However, it is also applicable to so-called filletless mounting, in which electrodes are provided only on the front surface of the substrate and the mounting is performed only on the back side. That is, a chip resistor compatible with filletless mounting can be manufactured by simply omitting the formation of the back surface electrode 19 and the end surface electrode 21.

【0028】これまで本発明の一実施形態について説明
したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技
術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施され
てよいことは言うまでもない。
Although one embodiment of the present invention has been described so far, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment and may be implemented in various different forms within the scope of the technical idea thereof.

【0029】[0029]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、チッ
プ抵抗器の保護膜の表面に対して嵩上げされた電極によ
り、回路基板への面実装の確実性を高めることができ
る。
As described above, according to the present invention, the reliability of the surface mounting on the circuit board can be increased by the electrode raised on the surface of the protective film of the chip resistor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態におけるチップ抵抗器
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a chip resistor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態におけるチップ抵抗器
を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a chip resistor according to a second embodiment of the present invention.

【図3】上記チップ抵抗器の製造工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of the chip resistor.

【図4】凹型抵抗体膜の転写印刷についての説明図であ
り、(a)は抵抗体ペーストを転写パッドの先端部に付
着させる段階を示し、(b)は絶縁性基板上に凹型抵抗
体膜を転写した段階をそれぞれ示している。
4A and 4B are explanatory diagrams of transfer printing of a concave resistor film, in which FIG. 4A shows a step of attaching a resistor paste to a tip portion of a transfer pad, and FIG. 4B shows a concave resistor on an insulating substrate. The respective stages of transferring the film are shown.

【図5】抵抗体膜の形成について、変形例を示す断面図
である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a modified example of formation of a resistor film.

【図6】第2の抵抗体膜の形成について、変形例を示す
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a modified example of formation of a second resistor film.

【図7】従来のチップ抵抗器について、(a)は全体構
成を示す断面図であり、(b)は保護膜側が表面側に向
いて実装され、(c)は保護膜側が回路基板に向いて裏
向きに実装され、(d)はいわゆるチップ立ちを起こし
た状態をそれぞれ示した図である。
7A and 7B are cross-sectional views showing the overall configuration of a conventional chip resistor, FIG. 7B is mounted with the protective film side facing the front side, and FIG. 7C is the protective film side facing the circuit board. And (d) is a view showing a state in which a so-called chip is raised.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 絶縁性基板 13,19,21 電極 15 抵抗体 15a 第1の抵抗体膜 15b 第2の抵抗体膜 15c 一体形成した凹型抵抗体膜 17a,17b,17 保護膜 23a,23b,23 めっき電極 11 Insulating substrate 13, 19, 21 electrodes 15 resistor 15a First resistor film 15b Second resistor film 15c Recessed resistor film integrally formed 17a, 17b, 17 protective film 23a, 23b, 23 plated electrode

フロントページの続き (72)発明者 坂井 一勝 長野県上伊那郡箕輪町大字中箕輪14016 コーア株式会社内 Fターム(参考) 5E032 BA04 BB01 CA02 CC14 CC16 5E033 AA27 BB02 BC01 BD01 BE02 BG02 BG03 BH02 Continued front page    (72) Inventor Ikatsu Sakai             14016 Nakaminowa, Minowa-cho, Kamiina-gun, Nagano Prefecture             Inside Coer Co., Ltd. F-term (reference) 5E032 BA04 BB01 CA02 CC14 CC16                 5E033 AA27 BB02 BC01 BD01 BE02                       BG02 BG03 BH02

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性基板と、 該絶縁性基板に形成された抵抗体膜と、 該抵抗体膜上に形成された少なくとも一対の電極と、 少なくとも前記電極が形成されていない部分の前記抵抗
体膜を被覆する保護膜と、 前記電極上に形成されためっき電極と、を備え、 前記抵抗体膜を前記電極が形成される領域に対応した部
分の厚みが増すように形成することにより、前記めっき
電極表面の高さを前記保護膜の表面の高さよりも高くし
たことを特徴とするチップ抵抗器。
1. An insulating substrate, a resistor film formed on the insulating substrate, at least a pair of electrodes formed on the resistor film, and at least a portion of the resistor where the electrodes are not formed. A protective film covering the body film, and a plating electrode formed on the electrode, by forming the resistor film to increase the thickness of the portion corresponding to the region where the electrode is formed, A chip resistor, wherein the height of the surface of the plating electrode is made higher than the height of the surface of the protective film.
【請求項2】 前記抵抗体膜は、前記絶縁性基板の少な
くとも前記一対の電極の間を含む領域に形成される第1
の抵抗体膜と、該第1の抵抗体膜と導通し且つ前記電極
が形成される領域に対応した部分に形成される第2の抵
抗体膜と、からなることを特徴とする請求項1に記載の
チップ抵抗器。
2. The first resistor film is formed in a region including at least a portion between the pair of electrodes of the insulating substrate.
2. The resistor film according to claim 1, and a second resistor film formed in a portion that is electrically connected to the first resistor film and corresponds to a region where the electrode is formed. The chip resistor described in.
【請求項3】 前記絶縁性基板の裏面には裏面電極が配
置され、側端面には端面電極が配置され、これらの電極
上に前記めっき電極が配置されていることを特徴とする
請求項1に記載のチップ抵抗器。
3. A back surface electrode is arranged on the back surface of the insulating substrate, an end surface electrode is arranged on a side end surface, and the plating electrode is arranged on these electrodes. The chip resistor described in.
【請求項4】 絶縁性基板の表面に形成された抵抗体膜
上に一対の電極が形成され、且つ抵抗体膜の表面形状が
電極を形成する領域に対応した部分の厚みが増した形状
となるように形成されるチップ抵抗器の製造方法であっ
て、 前記絶縁性基板上に形成される前記抵抗体膜の表面形状
に対応する形状に成形された凹版に、抵抗材を充填する
工程と、 前記凹版を前記絶縁性基板に押圧して充填された抵抗材
を転写することにより前記抵抗体膜を形成する工程と、 前記抵抗体膜の厚みを増した部分に前記電極を形成する
工程と、 少なくとも前記電極が形成されていない部分の前記抵抗
体膜を被覆する保護膜を形成する工程と、を含むことを
特徴とするチップ抵抗器の製造方法。
4. A shape in which a pair of electrodes are formed on a resistor film formed on the surface of an insulating substrate, and the surface shape of the resistor film has an increased thickness at a portion corresponding to a region where the electrodes are formed. A method of manufacturing a chip resistor formed so as to include a step of filling a resistive material into an intaglio molded into a shape corresponding to the surface shape of the resistor film formed on the insulating substrate, A step of forming the resistor film by pressing the intaglio plate onto the insulating substrate and transferring a filled resistor material; and a step of forming the electrode in a portion where the thickness of the resistor film is increased. And a step of forming a protective film covering at least a portion of the resistor film where the electrode is not formed, the method of manufacturing a chip resistor.
【請求項5】 前記絶縁性基板の裏面に裏面電極を形成
する工程と、前記絶縁性基板の側面に側面電極を形成す
る工程と、を含むことを特徴とする請求項4に記載のチ
ップ抵抗器の製造方法。
5. The chip resistor according to claim 4, including a step of forming a back surface electrode on the back surface of the insulating substrate, and a step of forming a side surface electrode on a side surface of the insulating substrate. Manufacturing method.
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