JP2003059853A - Lamp heater and heat treatment apparatus - Google Patents
Lamp heater and heat treatment apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ランプヒータおよ
びランプヒータを用いて被処理体に対して熱処理を行う
熱処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lamp heater and a heat treatment apparatus for performing heat treatment on an object to be processed using the lamp heater.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路を製造するためには、半
導体ウエハ等のシリコン基板に対して、成膜処理、アニ
ール処理、酸化拡散処理、スパッタ処理、エッチング処
理、窒化処理等の各種の熱処理が複数回にわたって繰り
返される。2. Description of the Related Art In order to manufacture a semiconductor integrated circuit, a silicon substrate such as a semiconductor wafer is subjected to various heat treatments such as film forming treatment, annealing treatment, oxidation diffusion treatment, sputtering treatment, etching treatment and nitriding treatment. Repeated multiple times.
【０００３】これら半導体製造処理の歩留まりと品質を
向上させるため等の目的から、シリコン基板の温度を１
００〜３００℃／ｓ程度の温度勾配で急速に上昇させま
た下降させるＲＴＰ（Rapid Thermal Processing）シ
ステムが採用されている。For the purpose of improving the yield and quality of these semiconductor manufacturing processes, the temperature of the silicon substrate is set to 1
An RTP (Rapid Thermal Processing) system that rapidly increases and decreases with a temperature gradient of about 00 to 300 ° C./s is adopted.
【０００４】例えば図７に示す枚葉式のＲＴＰシステム
用熱処理装置１００の場合、複数のハロゲンランプ１１
６と、ハロゲンランプ１１６を覆うランプリフレクタ１
１５と、１枚のシリコン基板やガラス基板等の被処理体
１と、被処理体１を熱処理するチャンバ１１７と、チャ
ンバ１１７に配置された石英ウインドウ１０２とを備え
る。For example, in the case of the single-wafer type heat treatment apparatus 100 for an RTP system shown in FIG.
6 and a lamp reflector 1 for covering the halogen lamp 116.
15, a single substrate 1 such as a silicon substrate or a glass substrate, a chamber 117 for heat-treating the substrate 1, and a quartz window 102 arranged in the chamber 117.
【０００５】チャンバ１１７は、被処理体１を支持する
サポートリング１２１と、サポートリング１２１を回転
させるためのローテーションシステム１２４とを備え
る。なお、参照符号１３は、図示しない放射温度計に接
続される石英ロッドを示す。チャンバ１１７内は真空状
態とされ、流通ガスが図７中右側のノズルから流入し、
左側のノズルから流出する。The chamber 117 comprises a support ring 121 for supporting the object 1 to be processed, and a rotation system 124 for rotating the support ring 121. Reference numeral 13 indicates a quartz rod connected to a radiation thermometer (not shown). The inside of the chamber 117 is in a vacuum state, and the flowing gas flows in from the nozzle on the right side in FIG.
Outflow from the left nozzle.
【０００６】上記の構成を有するＲＴＰシステム用熱処
理装置１００は、被処理体１がハロゲンランプ１１６に
よって加熱される間、被処理体１が装着されたサポート
リング１２１がローテーションシステム１２４により回
転される。これにより、ハロゲンランプ１１６からの放
射光が被処理体１の全面に対して隔たりなく照射される
ことになるため、加熱下の被処理体１の温度分布は、被
処理体１を回転させない場合に比べてその均一性が向上
される。[0006] In the heat treatment apparatus 100 for the RTP system having the above structure, while the object 1 to be processed is heated by the halogen lamp 116, the support ring 121 on which the object 1 to be processed is mounted is rotated by the rotation system 124. As a result, the radiated light from the halogen lamp 116 is applied to the entire surface of the object to be processed 1 without any separation, so that the temperature distribution of the object to be processed 1 under heating is such that the object to be processed 1 does not rotate. The uniformity is improved as compared with.
【０００７】ここで、ハロゲンランプ１１６について、
さらに説明する。Here, regarding the halogen lamp 116,
Further description will be made.
【０００８】ハロゲンランプ１１６は、例えば、図８示
すような２つの電極部を有するダブルエンドタイプのも
のが用いられる。ハロゲンランプ１１６は、フィラメン
ト６ａが内蔵された円弧状管部６ｂとその円弧状管部６
ｂの両端に設けられた直立状管部６ｃ、６ｄとを有し、
フィラメント６ａの両端に電極６ｅ、６ｆが設けられて
いる。As the halogen lamp 116, for example, a double end type having two electrode portions as shown in FIG. 8 is used. The halogen lamp 116 includes an arc tube portion 6b in which the filament 6a is built and the arc tube portion 6b.
b has upright tube portions 6c and 6d provided at both ends,
Electrodes 6e and 6f are provided on both ends of the filament 6a.
【０００９】ハロゲンランプ１１６は、円弧状管部６ｂ
を被処理体２に対向して、平行に配置され、図９の平面
図に示すように複数個（図９の場合４個）のハロゲンラ
ンプ１１６が円弧状管部６ｂの両端部をそれぞれ隣り合
うようにして配列され、全体として円環状のランプ列ｍ
を構成する。The halogen lamp 116 has an arc-shaped tube portion 6b.
Are arranged parallel to each other so as to face the object 2 to be processed, and a plurality of (four in the case of FIG. 9) halogen lamps 116 are adjacent to each other at both ends of the arc-shaped tube portion 6b as shown in the plan view of FIG. Lamp rows m that are arranged so that they fit together and have an annular shape as a whole
Make up.
【００１０】そして、図１０に示すように、径（中心点
ｏからの距離）の異なる複数の円環状のランプ列ｍ１〜
ｍ３が同心円状に配列され、ランプヒータを構成する。
これらランプヒータの基本単位（構成単位）となる個々
のハロゲンランプ１１６の径および配列数は、被処理体
１の寸法、および加熱条件等によって詳細が決定され
る。少なくとも最外周のランプが被処理体の外縁上方に
位置するように設けられる。なお、被処理体１の中心領
域の加熱を確実に行うために、最内周側のランプ列ｍ１
の内側には、上記のダブルエンドタイプのものに替えて
電球のように一の端部のみを有するシングルエンドタイ
プのランプが設けられている。Then, as shown in FIG. 10, a plurality of annular lamp rows m1 to m1 having different diameters (distances from the center point o).
m3 are arranged concentrically to form a lamp heater.
The details of the diameter and the number of arrays of the individual halogen lamps 116, which are the basic units (constituent units) of these lamp heaters, are determined by the dimensions of the object to be processed 1, the heating conditions, and the like. At least the outermost lamp is provided so as to be located above the outer edge of the object to be processed. In order to reliably heat the central region of the object to be processed 1, the lamp row m1 on the innermost peripheral side is provided.
Inside of, a single end type lamp having only one end portion like a light bulb is provided in place of the above double end type.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たダブルエンドタイプのランプを用いた従来の枚葉式の
ＲＴＰシステム用熱処理装置は、基本単位となるランプ
の照射領域が円弧状管部に形成されているため、中心か
ら外側に向けて同心円状に配列された円環状のランプ列
ごとに、ランプの曲率半径（ここでは、円弧を含む円の
半径と同義で用いる。）が異なる。この場合、曲率半径
の異なる多数のランプ部を用いることは、製造コストが
高くなり、また、保守管理も煩雑となる。なお、ダブル
エンドタイプであってフィラメント内蔵部（照射領域）
が長尺な直管状に形成されたランプを複数個平行に配列
した構造のランプヒータも採用されているが、この場
合、加熱の均一性の点において上記のものより劣ること
は明らかである。However, in the conventional heat treatment apparatus for a single-wafer type RTP system using the double-end type lamp described above, the irradiation area of the lamp, which is the basic unit, is formed in the arc-shaped tube portion. Therefore, the radius of curvature of the lamp (here, it is synonymous with the radius of a circle including an arc) is different for each of the annular lamp rows arranged concentrically from the center toward the outside. In this case, using a large number of ramps having different radii of curvature increases the manufacturing cost and also makes maintenance difficult. In addition, it is a double end type and has a built-in filament (irradiation area)
A lamp heater having a structure in which a plurality of long straight tube-shaped lamps are arranged in parallel is also used, but in this case, it is obvious that the heating uniformity is inferior to the above.
【００１２】また、ランプとして電球のようなシングル
エンドタイプのものを用いるときは、数十を越える多数
のランプを蜂の巣のように放射状に設ける必要があり、
この場合の製造コストおよび保守管理面において上記と
同様の問題がある。When a single-ended type lamp such as a light bulb is used as the lamp, it is necessary to provide a large number of lamps of several tens in a radial pattern like a honeycomb.
In this case, there are problems similar to the above in terms of manufacturing cost and maintenance management.
【００１３】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
のであり、均一加熱を実現するランプヒータであって、
製造コストが安価で、また、保守管理が容易なランプヒ
ータおよびこのランプヒータを加熱源として用いた熱処
理装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and is a lamp heater that realizes uniform heating,
An object of the present invention is to provide a lamp heater which is inexpensive in manufacturing cost and easy to maintain and a heat treatment apparatus using the lamp heater as a heating source.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明に係るランプヒー
タは、被処理体に対して熱処理を行う熱処理装置の加熱
源として用いられるランプヒータにおいて、配置される
被処理体に対向して設けられ、被処理体に対して平行に
配置される照射領域が直管部で形成されるとともに該直
管部の両端側に電極を備えるダブルエンドタイプのラン
プ部を基本単位とし、該ランプ部の該直管部の端部同士
を隣り合わせて複数個の該ランプ部を円環状に配列して
ランプ列を構成し、該ランプ列を複数列同心円状に所定
の間隔で配列してなることを特徴とする。A lamp heater according to the present invention is provided in a lamp heater used as a heat source of a heat treatment apparatus for performing heat treatment on an object to be processed, the lamp heater facing the object to be processed. The basic unit is a double-end type lamp part in which an irradiation region arranged in parallel to the object to be processed is formed by a straight tube part and electrodes are provided on both ends of the straight tube part. A plurality of lamp portions are arranged in an annular shape so that ends of the straight pipe portions are adjacent to each other to form a lamp row, and the lamp rows are concentrically arranged in a plurality of rows at predetermined intervals. To do.
【００１５】ここで、ランプ列は、加熱条件に応じて必
要な程度に、ランプ部を連続的に密に配置する。この場
合、最外周のランプ列の外側にさらに不連続なランプ列
を配置すると、被処理体の外縁をより十分に加熱するこ
とができ、これにより、被処理体全面を均一に加熱する
ことができるため、より好ましい。Here, in the lamp array, the lamp portions are continuously and densely arranged to the extent necessary according to the heating conditions. In this case, if a discontinuous lamp row is arranged outside the outermost lamp row, the outer edge of the object to be processed can be heated more sufficiently, and thus the entire surface of the object to be processed can be heated uniformly. Therefore, it is more preferable.
【００１６】本発明の上記の構成により、従来のように
多数種類の寸法の異なる円弧管状のランプ（ランプ部）
を用いあるいは多数の電球状のランプ（ランプ部）を用
いることなく、基本単位となるランプ部として好ましく
は最大５種類の寸法の異なるものを用い、また、より好
ましくは２種類の寸法の異なるものを用いて、所望のピ
ッチや配列間隔等の条件でランプ部あるいはランプ列の
配列を行うことが可能であり、所望の照射条件に制御可
能であるととともに、被処理体の面内温度分布を均一に
制御可能であり、これにより、製造コストの低減と保守
管理の容易化を図ることができる。With the above-mentioned structure of the present invention, a large number of arcuate tubular lamps (ramp portions) having different sizes as in the prior art.
Or a large number of light bulb-shaped lamps (lamp parts) are used, and as a basic unit, a lamp part preferably having up to 5 different sizes is used, and more preferably 2 different sizes. It is possible to arrange the lamp section or the lamp array under the conditions such as a desired pitch and an arrangement interval by using, and it is possible to control the irradiation conditions to a desired level, and the in-plane temperature distribution of the object to be processed can be controlled. It is possible to control uniformly, which can reduce the manufacturing cost and facilitate the maintenance management.
【００１７】この場合、ランプ部の直管部の端部同士を
隣り合わせて複数個の該ランプ部を多角形状に配列して
ランプ列を構成し、該ランプ列を中心からの距離を違え
て複数列相似状に配列すると、個々のランプ部がランプ
ヒータの中心からの径方向に対して斜めに配置され、こ
の結果、個々のランプ部の照射範囲（照射軌跡）が径方
向に幅広になるため、より均一な加熱を行うことができ
る。In this case, a plurality of the lamp portions are arranged in a polygonal shape so that the ends of the straight pipe portions of the lamp portions are adjacent to each other to form a lamp row, and a plurality of lamp rows are arranged at different distances from the center. When arranged in a row-similar manner, the individual lamp parts are arranged diagonally with respect to the radial direction from the center of the lamp heater, and as a result, the irradiation range (irradiation locus) of the individual lamp parts becomes wider in the radial direction. Therefore, more uniform heating can be performed.
【００１８】また、前記ランプ部は、前記直管部の長さ
Ｌが以下の手順で求められることを特徴とする。Further, in the ramp portion, the length L of the straight pipe portion is obtained by the following procedure.
【００１９】（１）ランプ列の数Ｘとランプヒータの半
径Ｄとの関係は、Ｌ／２+（ｄ+Ｇ）×（Ｘ−１）＝Ｄで
表される。(1) The relationship between the number X of lamp rows and the radius D of the lamp heater is expressed by L / 2 + (d + G) * (X-1) = D.
【００２０】（２）中心から第ｎ番目（但ｎは２以上）
のランプ列と中心との距離Ｒｎは、Ｒｎ＝Ｌ／２＋ｄ×
（ｎ−３／２）＋Ｇ×（ｎ−１）で表される。(2) nth from the center (where n is 2 or more)
The distance Rn between the lamp row and the center is Rn = L / 2 + d ×
It is represented by (n−3 / 2) + G × (n−1).
【００２１】（３）第ｎ番目のランプ列に配置できるラ
ンプ部の数Ｎｎは、Ｎｎ＝（２πＲｎ）／（Ｌ＋ｇ）で
表される。(3) The number Nn of lamp parts that can be arranged in the nth lamp row is expressed by Nn = (2πRn) / (L + g).
【００２２】（４）ランプ部の総数Ｎは、Ｎ＝１＋（Ｎ
２＋Ｎ３＋…＋Ｎｘ）で表される。(4) The total number N of lamp units is N = 1 + (N
2 + N 3 + ... + N x ).
【００２３】（５）フィラメント長の総和ｌｔｏｔａｌ
は、ｌｔｏｔａｌ＝Ｎ×ｌで表される。(5) Sum of filament lengths l total
Is represented by l total = N × l.
【００２４】（６）目的とするランプ総パワーＰに対し
て、Ｐ≦ｐ×ｌｔｏｔａｌを満足させる。(6) P ≦ p × l total is satisfied with respect to the target total lamp power P.
【００２５】（７）上記（１）〜（５）の各式を連立さ
せて、ｐ、ｌｔｏｔａｌを求め、上記（６）のＰ≦ｐ×
ｌｔｏｔａｌの式に代入することにより、Ｌの上限値が
求まる。(7) The above equations (1) to (5) are combined to obtain p and l total, and P ≦ p × in the above (6).
By substituting into the formula l total , the upper limit value of L is obtained.
【００２６】上記（１）〜（６）の各式中、ｌはランプ
部のフィラメントの長さを、Ｌは直管部の長さを、ｄは
直管部の直径を示し、ランプ部を配列した状態におい
て、Ｄはランプヒータの半径を、Ｘはランプ列の数を、
ｇは隣り合うランプ部間の離間間隔を、Ｇはランプ列間
の離間間隔を、Ｐは目的の被処理体の所定の昇温速度を
得るのに必要な単位時間当たりのランプ総パワーを、お
よびｐはフィラメントの単位長さ当たり、単位時間当た
りのパワー密度をそれぞれ示す。In the above formulas (1) to (6), l is the length of the filament of the lamp part, L is the length of the straight pipe part, d is the diameter of the straight pipe part, and the lamp part is In the arranged state, D is the radius of the lamp heater, X is the number of lamp rows,
g is the spacing between adjacent lamp parts, G is the spacing between the lamp rows, and P is the total lamp power per unit time required to obtain a predetermined heating rate of the target object. And p indicate the power density per unit length of filament and per unit time, respectively.
【００２７】上記の構成により、加熱条件や設置スペー
ス等ランプヒータの設備上の要求、制約を十分に満足す
るとともに、ランプ部の配列の自由度が増加し、被処理
体の形状や加熱条件に応じて所望の形態に配列すること
ができ、これにより、ランプの照射条件をより自由に制
御することができる。なお、直管部の長さの直管部の長
さの上限値は、好ましくは例えば５ｃｍ程度である。一
方、下限値は特に規定するものではないが、ランプ部の
製造容易性や取り扱い性等の諸条件を考慮すると、実用
的には２ｃｍ程度が下限である。With the above-mentioned structure, the requirements and restrictions on the equipment of the lamp heater such as the heating conditions and the installation space are sufficiently satisfied, and the degree of freedom of the arrangement of the lamp part is increased, so that the shape and the heating conditions of the object to be processed can be improved. Accordingly, the lamps can be arranged in a desired form, and thereby the irradiation conditions of the lamp can be controlled more freely. The upper limit of the length of the straight pipe portion is preferably about 5 cm, for example. On the other hand, the lower limit value is not particularly specified, but in consideration of various conditions such as ease of manufacture and handling of the lamp portion, the lower limit is practically about 2 cm.
【００２８】また、本発明に係る熱処理装置は、熱処理
する被処理体を配置するチャンバと、配置される被処理
体と対向する位置に設けられ、光を放射して被処理体を
加熱する加熱源と、該チャンバに配置された石英ウイン
ドウとを備える熱処理装置において、該加熱源が上記の
ランプヒータであることを特徴とする。The heat treatment apparatus according to the present invention is provided in a chamber for arranging an object to be heat-treated, and at a position opposed to the object to be placed, and radiates light to heat the object. A heat treatment apparatus comprising a heat source and a quartz window arranged in the chamber, wherein the heating source is the lamp heater.
【００２９】これにより、上記本発明のランプヒータの
効果を奏することができる。As a result, the effects of the lamp heater of the present invention can be obtained.
【００３０】この場合、１枚の被処理体を配置して、温
度を１００〜３００℃／ｓ程度の温度勾配で急速に上昇
させまた下降させるＲＴＰ（Rapid Thermal Processi
ng）システムであると、好適である。In this case, one sheet to be processed is arranged and the temperature is rapidly raised and lowered at a temperature gradient of about 100 to 300 ° C./s, and RTP (Rapid Thermal Processi) is used.
ng) system.
【００３１】本発明において、被処理体は、例えば、半
導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガ
ラス基板、光ディスク用基板等を挙げることができる。
また、熱処理は、急速熱アニーリング（ＲＴＡ）、急速
クリーニング（ＲＴＣ）、急速熱化学気相成長（ＲＴＣ
ＶＤ）、急速熱酸化（ＲＴＯ）および急速熱窒化（ＲＴ
Ｎ）を含む。In the present invention, the object to be processed may be, for example, a semiconductor wafer, a photomask glass substrate, a liquid crystal display glass substrate, an optical disk substrate, or the like.
The heat treatment includes rapid thermal annealing (RTA), rapid cleaning (RTC), rapid thermal chemical vapor deposition (RTC).
VD), rapid thermal oxidation (RTO) and rapid thermal nitridation (RT)
N) is included.
【００３２】[0032]
【発明の実施の形態】本発明に係るランプヒータおよび
熱処理装置の好適な実施の形態（以下、本実施の形態例
という。）について、図を参照して、以下に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A preferred embodiment of a lamp heater and a heat treatment apparatus according to the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described below with reference to the drawings.
【００３３】本実施の形態例に係るランプヒータを備え
た熱処理装置は、基本的な構成が前記した従来例の熱処
理装置１００と同様の枚葉式のＲＴＰシステム用であ
り、熱処理する被処理体を配置するチャンバ１１７と、
配置される被処理体と対向する位置に設けられ、光を放
射して被処理体を加熱する加熱源としての本実施の形態
例に係るランプヒータランプヒータと、チャンバ１１７
に配置された石英ウインドウ０１２とを備える。熱処理
装置の構成について、熱処理装置１００と同じものにつ
いては、重複する詳細な説明は省略する。すなわち、こ
こでは、本発明の特徴部分であるランプヒータの構成に
ついて詳細に説明する。本発明に係る熱処理装置の上記
ランプヒータを除いた構成については、上記熱処理装置
１００を含む公知、周知のものあるいはそれ以外の任意
のものを適宜適用することができる。The heat treatment apparatus provided with the lamp heater according to the present embodiment is for a single-wafer type RTP system having the same basic configuration as the heat treatment apparatus 100 according to the conventional example described above. A chamber 117 for arranging
A lamp heater according to the present embodiment, which is provided at a position facing an object to be processed and which emits light to heat the object to be processed, and a chamber 117.
And a quartz window 012 arranged in the. Regarding the configuration of the heat treatment apparatus, the same detailed description as that of the heat treatment apparatus 100 will be omitted. That is, here, the configuration of the lamp heater, which is a characteristic part of the present invention, will be described in detail. Regarding the configuration of the heat treatment apparatus according to the present invention excluding the lamp heater, any publicly known or well-known thing including the heat treatment apparatus 100 or any other one can be appropriately applied.
【００３４】本実施の形態例に係るランプヒータについ
て、図１および図２を参照して説明する。A lamp heater according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
【００３５】まず、本実施の形態例に係るランプヒータ
の基本単位となるランプ部について、図１のランプ部の
概略側面図を参照して説明する。First, the lamp unit, which is the basic unit of the lamp heater according to this embodiment, will be described with reference to the schematic side view of the lamp unit shown in FIG.
【００３６】ランプ部１０は、ダブルエンドタイプであ
り、フィラメント１２を内蔵し、被処理体と平行に配置
される照射領域を構成する直管部１４と、その直管部１
４の両端に設けられた直立状管部１６ａ、１６ｂとで構
成される。The lamp section 10 is of a double end type, has a filament 12 built therein, and constitutes a straight tube section 14 which constitutes an irradiation area arranged in parallel with the object to be processed, and the straight tube section 1 thereof.
4 and the upright tube portions 16a and 16b provided at both ends.
【００３７】つぎに、上記のランプ部１０を用いたラン
プヒータについて図２のランプヒータの概略平面図を参
照して説明する。Next, a lamp heater using the above-mentioned lamp portion 10 will be described with reference to the schematic plan view of the lamp heater in FIG.
【００３８】例えば直管部が同一寸法Ｌに形成されたラ
ンプ部１０の直管部１４の端部同士を隣り合わせて複数
個のランプ部１０を円環状に配列してランプ列Ｍ１を構
成する。同様に、直管部の長さ寸法が例えば上記寸法Ｌ
よりは大きいランプ部を複数個準備し、ランプ列Ｍ１の
外側にランプ列Ｍ２を構成する。このようにして、例え
ばランプ部の直管部の長さ寸法が異なる５列のランプ列
Ｍ１〜Ｍ５を中心からの距離を違えて同心円状に所定の
間隔で配列することによりランプヒータを構成する。な
お、被処理体２の中心部を確実に加熱するために、ラン
プ列Ｍ１の内側、言いかえると、ランプヒータの中心部
には、例えばランプ列Ｍ１に用いたものと同じ寸法のラ
ンプ部１０を配置する。これにより、被処理体の中心部
分に確実に熱線を照射することができる。一方、最外周
のランプ列Ｍ５は、中心からの距離Ｄが被処理体２の半
径Ｋよりも大きな寸法となるように配列される。これに
より、被処理体２の外縁部分についても確実に熱線を照
射することができる。For example, a plurality of lamp portions 10 are arranged in an annular shape so that the end portions of the straight pipe portions 14 of the lamp portion 10 in which the straight pipe portions are formed to have the same size L are adjacent to each other to form a lamp row M1. Similarly, the length dimension of the straight pipe portion is, for example, the above dimension L.
A plurality of larger lamp units are prepared and a lamp row M2 is formed outside the lamp row M1. In this way, for example, the lamp heater is configured by arranging the five lamp rows M1 to M5 having different lengths of the straight tube portion of the lamp portion in concentric circles at predetermined intervals with different distances from the center. . In order to reliably heat the central portion of the object to be processed 2, in the lamp array M1, in other words, in the central portion of the lamp heater, for example, the lamp portion 10 having the same size as that used for the lamp array M1. To place. This makes it possible to reliably irradiate the central portion of the object to be processed with the heat ray. On the other hand, the outermost lamp row M5 is arranged such that the distance D from the center is larger than the radius K of the object 2 to be processed. Thereby, the outer edge portion of the object 2 can be reliably irradiated with the heat ray.
【００３９】この場合、１つのランプ列において、異な
る寸法のランプ部を組み合わせて用いてもよい。また、
異なるランプ列において、同一寸法のランプ部を用いて
もよい。総じて、内周のランプ列に比べて外周のランプ
列のランプ部の寸法を大きくする方が製造上、製造コス
ト上および照射効率上も好ましいが、このとき、ランプ
部の寸法の種類をあまりに多種類にすることはかえって
不都合であるため、ランプ部の寸法は、好ましくは最大
５種類以内、より好ましくは２種類にする。In this case, lamp units having different sizes may be combined and used in one lamp row. Also,
The lamp units having the same size may be used in different lamp rows. In general, it is preferable to increase the size of the lamp portion of the outer peripheral lamp row compared to the inner peripheral lamp row in terms of manufacturing, manufacturing cost, and irradiation efficiency, but at this time, there are too many types of lamp portion dimensions. Since it is rather inconvenient to use different types, the maximum size of the lamp portion is preferably 5 types or less, more preferably 2 types.
【００４０】また、ランプ部の寸法として、直管部の長
さ寸法は、好ましくは、全て５ｃｍ以下に形成する。As for the dimensions of the lamp portion, the length dimension of the straight pipe portion is preferably all 5 cm or less.
【００４１】ランプ部の直管部の長さ寸法は、設計上
は、以下のものが求められる。The length dimension of the straight tube portion of the lamp portion is required to be the following in terms of design.
【００４２】図３に示すように、ランプ部のフィラメン
トの長さをｌ、直管部の長さをＬ、直管部の直径をｄと
し、ランプ部を配列した状態において、ランプヒータの
半径をＤ、ランプ列の数をＸ、隣り合うランプ部間の離
間間隔をｇ、ランプ列間の離間間隔をＧとする。そし
て、目的の被処理体の所定の昇温速度を得るのに必要な
単位時間当たりのランプ総パワーをＰ、およびフィラメ
ントの単位長さ当たり、単位時間当たりのパワー密度を
ｐとする。As shown in FIG. 3, the length of the filament of the lamp part is l, the length of the straight tube part is L, the diameter of the straight tube part is d, and the radius of the lamp heater in the state where the lamp parts are arranged. Let D be the number of lamp rows, X be the spacing between adjacent lamp sections, and G be the spacing between lamp rows. Then, the total lamp power per unit time required to obtain a predetermined temperature rising rate of the target object is P, and the power density per unit length of the filament is p.
【００４３】このとき、ランプ列の数Ｘとランプヒータ
の半径Ｄとの関係は、Ｌ／２+（ｄ+Ｇ）×（Ｘ−１）＝
Ｄで表される。At this time, the relationship between the number X of lamp rows and the radius D of the lamp heater is L / 2 + (d + G) × (X-1) =
Represented by D.
【００４４】中心から第ｎ番目（但ｎは２以上）のラン
プ列と中心との距離Ｒｎは、Ｒｎ＝Ｌ／２＋ｄ×（ｎ−
３／２）＋Ｇ×（ｎ−１）で表される。The distance Rn between the n-th lamp row (where n is 2 or more) from the center and the center is Rn = L / 2 + d * (n-
It is represented by 3/2) + G × (n−1).
【００４５】したがって、第ｎ番目のランプ列に配置で
きるランプ部の数Ｎｎは、Ｎｎ＝（２πＲｎ）／（Ｌ＋
ｇ）で表される。Therefore, the number Nn of ramp portions that can be arranged in the nth ramp row is Nn = (2πRn) / (L +
It is represented by g).
【００４６】以上から、ランプ部の総数Ｎは、Ｎ＝１＋
（Ｎ２＋Ｎ３＋…＋Ｎｘ）で表される。From the above, the total number N of lamp parts is N = 1 +
It is represented by (N 2 + N 3 + ... + N x ).
【００４７】よって、フィラメント長の総和ｌ
ｔｏｔａｌは、ｌｔｏｔａｌ＝Ｎ×ｌで表される。Therefore, the sum of the filament lengths l
total is represented by l total = N × l.
【００４８】さらに、目的とするランプ総パワーＰに対
して、Ｐ≦ｐ×ｌｔｏｔａｌを満足する必要がある。Furthermore, it is necessary to satisfy P ≦ p × l total with respect to the target total lamp power P.
【００４９】上記Ｐ≦ｐ×ｌｔｏｔａｌの式においてｌ
ｔｏｔａｌの項にＬを含む諸元を入れ、さらにこれらの
諸元として設計上望ましい数値を設定することにより、
加熱条件、装置寸法等との関係において規定されるラン
プ部の直管部の長さ寸法Ｌの上限が好適には５ｃｍであ
ることが定まる。直管部の長さ寸法Ｌが５ｃｍ以下であ
ると、ランプ部の配列の自由度が増加し、被処理体の形
状や加熱条件に応じて所望の形態に配列することがで
き、これにより、ランプの照射条件をより自由に制御す
ることができる。In the above expression of P ≦ p × l total , l
By including specifications including L in the term of total , and setting numerical values desirable in design as these specifications,
It is determined that the upper limit of the length dimension L of the straight pipe part of the lamp part, which is defined in relation to the heating conditions, the device size, etc., is preferably 5 cm. When the length dimension L of the straight pipe portion is 5 cm or less, the degree of freedom in the arrangement of the lamp portions is increased, and the lamp portions can be arranged in a desired shape according to the shape and heating conditions of the object to be processed. The irradiation conditions of the lamp can be controlled more freely.
【００５０】上記のように構成された本実施の形態例に
係るランプヒータおよびランプヒータを備えた熱処理装
置は、所望のピッチや配列間隔等の条件でランプ部ある
いはランプ列の配列を行うことが可能であり、所望の照
射条件に制御可能であるととともに、被処理体の面内温
度分布を均一に制御可能である。また、個々のランプ部
の直管部の長さが従来の円弧状管部の長さより短いた
め、例えば、１個のランプのフィラメントが切れたとき
であっても照射効率や照射の均一性を大きく損なうこと
がない。また、交換するランプ部は寸法の小さなもので
ある。これにより、製造コストの低減と保守管理の容易
化を図ることができる。つぎに、本実施の形態例に係る
ランプヒータの変形例として、２例を挙げて、図４〜図
６を参照して説明する。The lamp heater and the heat treatment apparatus equipped with the lamp heater according to the present embodiment configured as described above can arrange the lamp sections or the lamp rows under conditions such as a desired pitch and arrangement interval. It is possible to control to desired irradiation conditions, and it is possible to uniformly control the in-plane temperature distribution of the object to be processed. In addition, since the length of the straight tube part of each lamp part is shorter than the length of the conventional arc-shaped tube part, for example, even when the filament of one lamp is cut, the irradiation efficiency and the uniformity of irradiation can be improved. There is no major loss. The lamp part to be replaced has a small size. This makes it possible to reduce manufacturing costs and facilitate maintenance management. Next, two modified examples of the lamp heater according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 6.
【００５１】第１の変形例および第２の変形例のランプ
ヒータのランプ部の形状は、図１に示す本実施の形態例
に係るランプヒータのランプ部と同じである。第１の変
形例および第２の変形例のランプヒータは、ランプ部の
配列状態が本実施の形態例に係るランプヒータのランプ
部と異なる。The shape of the lamp portion of the lamp heater of the first modification and the second modification is the same as that of the lamp heater according to the present embodiment shown in FIG. The lamp heaters of the first modified example and the second modified example are different in the arrangement state of the lamp parts from the lamp part of the lamp heater according to the present embodiment.
【００５２】すなわち、第１の変形例のランプヒータ
は、図４に示すように、ランプ部１０の直管部の端部同
士を隣り合わせて複数個のランプ部１０を多角形状に配
列してランプ列Ｎ１を構成する。そして、ランプ列Ｎ１
の外側にランプ部の直管部の長さ寸法がランプ列ごとに
同一のあるいは異なる複数列のランプ列Ｎ２〜Ｎ５を中
心からの距離を違えて相似状に、すなわち、各ランプ列
Ｎ１からＮ５の辺（例えばＨ１とＨ２）を平行に配列し
たものである。That is, in the lamp heater of the first modified example, as shown in FIG. 4, a plurality of lamp portions 10 are arranged in a polygonal shape with the ends of the straight pipe portion of the lamp portion 10 adjacent to each other. Configure the column N1. And the lamp row N1
A plurality of lamp rows N2 to N5 having the same or different length dimension of the straight tube portion of the lamp portion on the outside of the lamp rows are similar to each other with different distances from the center, that is, the respective lamp rows N1 to N5. The sides (for example, H1 and H2) are arranged in parallel.
【００５３】ランプ部のフィラメントを内蔵した照射領
域が従来の円弧管状部６ｂのものの場合、図５（ａ）に
示すように、加熱時、被処理体が回転するときの、照射
領域の軌跡は、ハッチング部ｘとなり、被処理体の中心
ｏからの径方向の照射領域の幅ｗ１は、ランプ部の円弧
管状部の幅ｗ２（図８参照。）そのものである。When the irradiation area containing the filament of the lamp portion is the conventional arcuate tubular portion 6b, as shown in FIG. 5A, the locus of the irradiation area when the object to be processed rotates during heating is shown. The width w1 of the irradiation area in the radial direction from the center o of the object to be processed is the width w2 (see FIG. 8) of the arcuate tubular portion of the ramp portion.
【００５４】これに対して、第１の変形例のランプ部１
０は、図５（ｂ）に示すように、ランプヒータの中心Ｏ
からの径方向Ｒに対して斜めに交差するように配置され
ているため、加熱時、被処理体が回転するときの照射領
域の軌跡は、ハッチング部Ｘとなり、被処理体の中心Ｏ
からの径方向の照射領域（照射領域の軌跡）の幅Ｗ１
は、ランプ部の直管部の幅Ｗ２よりもはるかに大きい。On the other hand, the ramp unit 1 of the first modified example
0 is the center O of the lamp heater as shown in FIG.
Since it is arranged so as to obliquely intersect the radial direction R from, the locus of the irradiation area when the object to be processed rotates during heating becomes the hatched portion X, and the center O of the object to be processed O
Width W1 of the irradiation area (trajectory of the irradiation area) in the radial direction from
Is much larger than the width W2 of the straight pipe portion of the ramp portion.
【００５５】したがって、上記第１の変形例のランプヒ
ータは、個々のランプ部に着目したとき、より均一に被
処理体を加熱することができるという効果を有する。Therefore, the lamp heater of the first modified example has an effect that the object to be processed can be heated more uniformly when focusing on the individual lamp parts.
【００５６】また、第２の変形例のランプヒータは、図
６に示すように、ランプ部の直管部の端部同士を隣り合
わせて複数個のランプ部円環状に配列してランプ列を構
成し、複数のランプ列を同心円状に配列したものである
点において、本実施の形態例に係るランプヒータに近い
ものである。但し、第２の変形例のランプヒータは、本
実施の形態例に係るランプヒータの最外周のランプ列Ｍ
５の外側にさらにランプ列Ｍ６がランプ部を不連続に配
置されている。この場合、ランプ列Ｍ６は、図６に示す
ように複数のランプ部の集合体からなる複数のブロック
Ｂ１〜Ｂ４で構成してもよいが、ブロックを構成するこ
となく個々のランプ部を離散的に配置すると、より好ま
しい。In the lamp heater of the second modification, as shown in FIG. 6, the end portions of the straight pipe portions of the lamp portion are arranged adjacent to each other in a plurality of annular lamp portions to form a lamp row. However, it is similar to the lamp heater according to the present embodiment in that a plurality of lamp rows are concentrically arranged. However, the lamp heater of the second modification is the outermost lamp row M of the lamp heater according to the present embodiment.
Further, on the outer side of 5, lamp rows M6 are arranged with the lamp portions discontinuously. In this case, the lamp array M6 may be composed of a plurality of blocks B1 to B4 formed of an assembly of a plurality of lamp parts as shown in FIG. 6, but the individual lamp parts are discretely formed without forming a block. It is more preferable to arrange in.
【００５７】第２の変形例のランプヒータによれば、被
処理体の外縁をより十分に加熱することができ、これに
より、被処理体全面を均一に加熱することができる。According to the lamp heater of the second modified example, the outer edge of the object to be processed can be heated more sufficiently, and thus the entire surface of the object to be processed can be heated uniformly.
【００５８】[0058]
【発明の効果】本発明に係るランプヒータによれば、照
射領域が直管部で形成されるとともに直管部の両端側に
電極を備えるダブルエンドタイプのランプ部を基本単位
とし、ランプ部の直管部の端部同士を隣り合わせて複数
個のランプ部を円環状に配列してランプ列を構成し、ラ
ンプ列を中心からの距離を違えて複数列同心円状に配列
してなるため、所望のピッチや配列間隔等の条件でラン
プ部あるいはランプ列の配列を行うことが可能であり、
所望の照射条件に制御可能であるととともに、被処理体
の面内温度分布を均一に制御可能であり、これにより、
製造コストの低減と保守管理の容易化を図ることができ
る。According to the lamp heater of the present invention, the irradiation area is formed by the straight pipe portion and the double end type lamp portion having electrodes on both ends of the straight pipe portion is used as a basic unit. Since a plurality of lamp parts are arranged in an annular shape so that the ends of the straight pipe parts are adjacent to each other to form a lamp row, and the lamp rows are arranged concentrically in a plurality of rows at different distances from the center, It is possible to arrange the lamp part or lamp row under conditions such as the pitch and arrangement interval of
In addition to being able to control to the desired irradiation conditions, it is possible to control the in-plane temperature distribution of the object to be treated uniformly.
It is possible to reduce manufacturing costs and facilitate maintenance management.
【００５９】また、本発明に係るランプヒータによれ
ば、ランプ部の直管部の端部同士を隣り合わせて複数個
のランプ部を多角形状に配列してランプ列を構成し、ラ
ンプ列を中心からの距離を違えて複数列相似状に配列す
るため、より均一な加熱を行うことができる。Further, according to the lamp heater of the present invention, a plurality of lamp portions are arranged in a polygonal shape with the ends of the straight pipe portion of the lamp portion adjacent to each other to form a lamp row, and the lamp row is centered. Since a plurality of rows are arranged in a similar pattern with different distances from, more uniform heating can be performed.
【００６０】また、本発明に係るランプヒータによれ
ば、ランプ部は、直管部の長さが５ｃｍ以下に形成され
てなるため、加熱条件や設置スペース等の設計条件を満
足するとともに、ランプ部の配列の自由度が増加し、被
処理体の形状や加熱条件に応じて所望の形態に配列する
ことができ、これにより、ランプの照射条件をより自由
に制御することができる。Further, according to the lamp heater of the present invention, since the straight part of the lamp part is formed to have a length of 5 cm or less, the lamp condition is satisfied while satisfying the design conditions such as heating conditions and installation space. The degree of freedom in arranging the parts is increased, and the parts can be arranged in a desired shape according to the shape of the object to be processed and the heating conditions, whereby the irradiation conditions of the lamp can be controlled more freely.
【図１】本実施の形態例に係るランプヒータの基本単位
となるランプ部の概略側面図である。FIG. 1 is a schematic side view of a lamp unit that is a basic unit of a lamp heater according to an embodiment of the present invention.
【図２】本実施の形態例に係るランプヒータのランプ部
の配列を説明するためのランプヒータの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the lamp heater for explaining the arrangement of the lamp parts of the lamp heater according to the present embodiment.
【図３】ランプ部の寸法を設計する方法を説明するため
のものであり、図３（ａ）はランプ部の部分図を示し、
図３（ｂ）はランプ部を配列したランプヒータの平面図
である。FIG. 3 is for explaining a method for designing the dimensions of the lamp part, and FIG. 3 (a) shows a partial view of the lamp part,
FIG. 3B is a plan view of a lamp heater in which lamp units are arranged.
【図４】第１の変形例に係るランプヒータのランプ部の
配列を説明するためのランプヒータの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a lamp heater for explaining an arrangement of lamp parts of a lamp heater according to a first modification.
【図５】ランプヒータのランプ部の照射領域（軌跡）を
説明するためのものであり、図５（ａ）は従来のランプ
ヒータを、また、図５（ｂ）は図５のランプヒータを示
す。5A and 5B are for explaining an irradiation region (trajectory) of a lamp portion of a lamp heater, FIG. 5A is a conventional lamp heater, and FIG. 5B is a lamp heater of FIG. Show.
【図６】第２の変形例に係るランプヒータのランプ部の
配列を説明するためのランプヒータの平面図である。FIG. 6 is a plan view of a lamp heater for explaining an arrangement of lamp parts of a lamp heater according to a second modification.
【図７】従来の熱処理装置の一例を示す部分図である。FIG. 7 is a partial view showing an example of a conventional heat treatment apparatus.
【図８】図７の熱処理装置のランプヒータに用いられる
ハロゲンランプの斜視図である。8 is a perspective view of a halogen lamp used in the lamp heater of the heat treatment apparatus of FIG.
【図９】図８のハロゲンランプを用いてランプ列を構成
した状態を示す図である。9 is a diagram showing a state in which a lamp row is configured using the halogen lamp of FIG.
【図１０】図７の熱処理装置のランプヒータのハロゲン
ランプの配列を説明するためのランプヒータの平面図で
ある。10 is a plan view of the lamp heater for explaining the arrangement of the halogen lamps of the lamp heater of the heat treatment apparatus of FIG.
１０ ランプ部 １２ フィラメント １４ 直管部 １０２ 石英ウインドウ １１７ チャンバ Ｍ１〜Ｍ５、Ｎ１〜Ｎ５ ランプ列 10 Lamp part 12 filament 14 Straight pipe section 102 quartz window 117 chamber M1 to M5, N1 to N5 lamp rows
フロントページの続き (72)発明者 北村 昌幸 東京都港区赤坂五丁目３番６号 ＴＢＳ放 送センター 東京エレクトロン株式会社内 Ｆターム(参考） 3K092 PP20 QA01 QB26 QB41 QB47 VV01 VV03 VV21 VV22 VV40 5F045 BB02 DP02 EK12 EK21 Continued front page (72) Inventor Masayuki Kitamura TBS release, 5-3-6 Akasaka, Minato-ku, Tokyo Sending Center Tokyo Electron Limited F term (reference) 3K092 PP20 QA01 QB26 QB41 QB47 VV01 VV03 VV21 VV22 VV40 5F045 BB02 DP02 EK12 EK21
Claims (5)
置の加熱源として用いられるランプヒータにおいて、 配置される被処理体に対向して設けられ、 被処理体に対して平行に配置される照射領域が直管部で
形成されるとともに該直管部の両端側に電極を備えるダ
ブルエンドタイプのランプ部を基本単位とし、 該ランプ部の該直管部の端部同士を隣り合わせて複数個
の該ランプ部を円環状に配列してランプ列を構成し、 該ランプ列を複数列同心円状に所定の間隔で配列してな
ることを特徴とするランプヒータ。1. A lamp heater used as a heat source of a heat treatment apparatus for performing heat treatment on an object to be processed, the lamp heater being provided so as to face the object to be processed and arranged parallel to the object to be processed. A basic unit is a double-end type lamp part in which the irradiation area is formed by a straight pipe part and electrodes are provided on both ends of the straight pipe part, and a plurality of end parts of the straight pipe part of the lamp part are adjacent to each other. The lamp heater is characterized in that the lamp sections are arranged in an annular shape to form a lamp row, and the lamp rows are arranged in a plurality of concentric circles at predetermined intervals.
置の加熱源として用いられるランプヒータにおいて、 配置される被処理体に対向して設けられ、 被処理体に対して平行に配置される照射領域が直管部で
形成されるとともに該直管部の両端側に電極を備えるダ
ブルエンドタイプのランプ部を基本単位とし、 該ランプ部の該直管部の端部同士を隣り合わせて複数個
の該ランプ部を多角形状に配列してランプ列を構成し、 該ランプ列を中心からの距離を違えて複数列相似状に配
列してなることを特徴とするランプヒータ。2. A lamp heater used as a heating source of a heat treatment apparatus for performing heat treatment on an object to be processed, the lamp heater being provided so as to face the object to be processed, and arranged in parallel to the object to be processed. A basic unit is a double-end type lamp part in which the irradiation area is formed by a straight pipe part and electrodes are provided on both ends of the straight pipe part, and a plurality of end parts of the straight pipe part of the lamp part are adjacent to each other. The lamp heater is characterized by arranging the lamp portions in a polygonal shape to form a lamp row, and arranging the lamp rows in a plurality of rows similar to each other at different distances from the center.
以下の手順で求められることを特徴とする請求項１また
は２に記載のランプヒータ。 （１）ランプ列の数Ｘとランプヒータの半径Ｄとの関係
は、Ｌ／２+（ｄ+Ｇ）×（Ｘ−１）＝Ｄで表される （２）中心から第ｎ番目（但ｎは２以上）のランプ列と
中心との距離Ｒｎは、Ｒｎ＝Ｌ／２＋ｄ×（ｎ−３／
２）＋Ｇ×（ｎ−１）で表される （３）第ｎ番目のランプ列に配置できるランプ部の数Ｎ
ｎは、Ｎｎ＝（２πＲｎ）／（Ｌ＋ｇ）で表される （４）ランプ部の総数Ｎは、Ｎ＝１＋（Ｎ２＋Ｎ３＋…
＋Ｎｘ）で表される （５）フィラメント長の総和ｌｔｏｔａｌは、ｌ
ｔｏｔａｌ＝Ｎ×ｌで表される （６）目的とするランプ総パワーＰに対して、Ｐ≦ｐ×
ｌｔｏｔａｌを満足させる （７）上記（１）〜（５）の各式を連立させて、ｐ、ｌ
ｔｏｔａｌを求め、上記（６）のＰ≦ｐ×ｌｔｏｔａｌ
の式に代入することにより、Ｌの上限値が求まる （上記（１）〜（６）の各式中、ｌはランプ部のフィラ
メントの長さを、Ｌは直管部の長さを、ｄは直管部の直
径を示し、ランプ部を配列した状態において、Ｄはラン
プヒータの半径を、Ｘはランプ列の数を、ｇは隣り合う
ランプ部間の離間間隔を、Ｇはランプ列間の離間間隔
を、Ｐは目的の被処理体の所定の昇温速度を得るのに必
要な単位時間当たりのランプ総パワーを、およびｐはフ
ィラメントの単位長さ当たり、単位時間当たりのパワー
密度をそれぞれ示す）3. The lamp heater according to claim 1, wherein in the lamp part, the length L of the straight pipe part is obtained by the following procedure. (1) The relationship between the number X of lamp rows and the radius D of the lamp heater is expressed by L / 2 + (d + G) * (X-1) = D. (2) The nth from the center (however, (n is 2 or more), the distance Rn between the lamp row and the center is Rn = L / 2 + d × (n−3 /
2) + G × (n-1) (3) N number of lamp units that can be arranged in the n-th lamp row
n is represented by Nn = (2πRn) / (L + g). (4) The total number N of ramp parts is N = 1 + (N 2 + N 3 + ...
(5) total sum l total of filament lengths represented by + N x ) is l
(6) P ≦ p × with respect to the target total lamp power P represented by total = N × l
(7) Satisfying the l total , the equations (1) to (5) above are made simultaneous, and p, l
The total is calculated, and P ≦ p × l total in (6) above
The upper limit of L can be obtained by substituting into the formula (1) to (6), where l is the length of the filament of the lamp part, L is the length of the straight pipe part, and d is the length of the straight pipe part. Indicates the diameter of the straight pipe portion, and in the state where the lamp portions are arranged, D is the radius of the lamp heater, X is the number of lamp rows, g is the distance between adjacent lamp portions, and G is the distance between the lamp rows. , P is the total lamp power per unit time required to obtain a predetermined heating rate of the target object, and p is the power density per unit length of filament, per unit time. Each shown)
いて構成してなることを特徴とする請求項１〜３のいず
れか１項に記載のランプヒータ。4. The lamp heater according to claim 1, wherein the lamp heater is configured by using a maximum of five kinds of lamp parts having different sizes.
と、配置される被処理体と対向する位置に設けられ、光
を放射して被処理体を加熱する加熱源と、該チャンバに
配置された石英ウインドウとを備える熱処理装置におい
て、 該加熱源が請求項１〜４のいずれか１項に記載のランプ
ヒータであることを特徴とする熱処理装置。5. A chamber for arranging an object to be heat-treated, a heating source provided at a position facing the object to be arranged and radiating light to heat the object to be processed, and a heating source arranged in the chamber. And a quartz window, wherein the heating source is the lamp heater according to any one of claims 1 to 4.
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