JP2003059654A - 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子 - Google Patents
有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子Info
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- JP2003059654A JP2003059654A JP2001241989A JP2001241989A JP2003059654A JP 2003059654 A JP2003059654 A JP 2003059654A JP 2001241989 A JP2001241989 A JP 2001241989A JP 2001241989 A JP2001241989 A JP 2001241989A JP 2003059654 A JP2003059654 A JP 2003059654A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 所望の発光特性を備えた有機ＥＬ層を低コス
トで歩留りよく形成することができる有機ＥＬ素子の製
造を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板１０の上に下部電極を形成する工程
と、有機発光体を含む液体を第１のロール４４の所定の
部分に付着させ、第１のロール４４を基板１０に接触回
転させることにより、第１のロール４４に付着した液体
を下部電極上に転写して有機発光層を形成する工程と、
有機発光層の上に上部電極を形成する工程とを有する。
トで歩留りよく形成することができる有機ＥＬ素子の製
造を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板１０の上に下部電極を形成する工程
と、有機発光体を含む液体を第１のロール４４の所定の
部分に付着させ、第１のロール４４を基板１０に接触回
転させることにより、第１のロール４４に付着した液体
を下部電極上に転写して有機発光層を形成する工程と、
有機発光層の上に上部電極を形成する工程とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一対の電極間に有
機ＥＬ（Electroluminescence）層を挟んだ構造の有機
ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子に関する。
機ＥＬ（Electroluminescence）層を挟んだ構造の有機
ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、自己発光素子として有機ＥＬ素子
が注目されている。この有機ＥＬ素子は自己発光のため
視認性がよく、また、完全固体素子であるため耐衝撃性
に優れ、さらには、低消費電力であるなどの特徴を有す
ることから、各種表示装置における発光素子としての利
用が期待されている。
が注目されている。この有機ＥＬ素子は自己発光のため
視認性がよく、また、完全固体素子であるため耐衝撃性
に優れ、さらには、低消費電力であるなどの特徴を有す
ることから、各種表示装置における発光素子としての利
用が期待されている。
【０００３】有機ＥＬ素子は陰極と陽極との間に有機Ｅ
Ｌ層を挟んだものを基本構造し、陽極から注入されたホ
ールと陰極から注入された電子とが有機ＥＬ層の内部で
再結合することにより光が放たれ、この光は透明な陽極
を透過して外部へ放出される。このような有機ＥＬ素子
を用いてカラー表示を行うためには、赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）及び青色（Ｒ）の３原色を発光する３種の有機Ｅ
Ｌ層パターンをそれぞれ平面方向（水平方向及び垂直方
向）に配置し、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｒ）
の３種の有機ＥＬ層が１組になって１つの画素を構成す
るようにする必要がある。従来、このような有機ＥＬ層
パターンの形成方法として、スピンコート法により有機
ＥＬ層を成膜し、これをフォトリソグラフィー及びエッ
チングによりパターニングする方法やインクジェット法
などが用いられていた。
Ｌ層を挟んだものを基本構造し、陽極から注入されたホ
ールと陰極から注入された電子とが有機ＥＬ層の内部で
再結合することにより光が放たれ、この光は透明な陽極
を透過して外部へ放出される。このような有機ＥＬ素子
を用いてカラー表示を行うためには、赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）及び青色（Ｒ）の３原色を発光する３種の有機Ｅ
Ｌ層パターンをそれぞれ平面方向（水平方向及び垂直方
向）に配置し、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｒ）
の３種の有機ＥＬ層が１組になって１つの画素を構成す
るようにする必要がある。従来、このような有機ＥＬ層
パターンの形成方法として、スピンコート法により有機
ＥＬ層を成膜し、これをフォトリソグラフィー及びエッ
チングによりパターニングする方法やインクジェット法
などが用いられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機Ｅ
Ｌ層をパターニングする方法においては、有機ＥＬ層が
フォトリソグラフィーやエッチング工程に係る紫外光、
水分、熱及び有機溶剤などに弱く、これらの影響により
蛍光波長の変化、色変換効率の低下もしくは発光機能の
消失などが起こるため、この方法では所望の発光特性を
備えた有機ＥＬ層を形成するのは困難である。しかも、
この方法では、有機ＥＬ膜の成膜とパターニングとを３
回繰り返す必要があるので、製造工程が複雑になり、製
品コストの上昇を招くことになる。
Ｌ層をパターニングする方法においては、有機ＥＬ層が
フォトリソグラフィーやエッチング工程に係る紫外光、
水分、熱及び有機溶剤などに弱く、これらの影響により
蛍光波長の変化、色変換効率の低下もしくは発光機能の
消失などが起こるため、この方法では所望の発光特性を
備えた有機ＥＬ層を形成するのは困難である。しかも、
この方法では、有機ＥＬ膜の成膜とパターニングとを３
回繰り返す必要があるので、製造工程が複雑になり、製
品コストの上昇を招くことになる。
【０００５】また、インクジェット法では、画素部にな
る面積（例えば９０μｍ×２７０μｍ程度）がインクジ
ェット装置の液体を噴射する単位ドットの面積（例えば
径が１０〜２０μｍ）よりかなり大きいので、インクジ
ェット装置から噴射される単位ドットで形成される液体
層の端部をお互いに重ねることで複数のドットをつない
で所定の面積の有機ＥＬ層を形成する必要がある。この
ため、有機ＥＬ層の形成に要する時間が長くなるばかり
ではなく、有機ＥＬ層のパターンがムラになりやすく、
その結果、この有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置の
表示品質が悪くなるという問題がある。
る面積（例えば９０μｍ×２７０μｍ程度）がインクジ
ェット装置の液体を噴射する単位ドットの面積（例えば
径が１０〜２０μｍ）よりかなり大きいので、インクジ
ェット装置から噴射される単位ドットで形成される液体
層の端部をお互いに重ねることで複数のドットをつない
で所定の面積の有機ＥＬ層を形成する必要がある。この
ため、有機ＥＬ層の形成に要する時間が長くなるばかり
ではなく、有機ＥＬ層のパターンがムラになりやすく、
その結果、この有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置の
表示品質が悪くなるという問題がある。
【０００６】本発明は以上の問題点を鑑みて創作された
ものであり、所望の発光特性を備えた有機ＥＬ層を低コ
ストで歩留りよく形成することができる有機ＥＬ素子の
製造方法及び有機ＥＬ素子を提供することを目的とす
る。
ものであり、所望の発光特性を備えた有機ＥＬ層を低コ
ストで歩留りよく形成することができる有機ＥＬ素子の
製造方法及び有機ＥＬ素子を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、本発明は有機ＥＬ素子の製造方法に係り、基板の上
に下部電極を形成する工程と、有機発光体を含む液体を
第１のロールの所定の部分に付着させ、前記第１のロー
ルを前記基板に接触回転させることにより、前記第１の
ロールに付着した液体を前記下部電極上に転写して有機
発光層を形成する工程と、前記有機発光層の上に上部電
極を形成する工程とを有することを特徴とする。
め、本発明は有機ＥＬ素子の製造方法に係り、基板の上
に下部電極を形成する工程と、有機発光体を含む液体を
第１のロールの所定の部分に付着させ、前記第１のロー
ルを前記基板に接触回転させることにより、前記第１の
ロールに付着した液体を前記下部電極上に転写して有機
発光層を形成する工程と、前記有機発光層の上に上部電
極を形成する工程とを有することを特徴とする。
【０００８】本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法におけ
る所定の発光特性を備えた有機発光層の形成に係るもの
であって、オフセット印刷の原理を利用したものであ
る。すなわち、まず、有機発光体を含む液体を例えばゴ
ム胴などの第１のロールの所定部分に付着させる。この
工程は、例えば、所定の凹部を備えたガラス板などから
なる版の該凹部にインクジェット法などにより、所望の
発光特性を備えた有機発光体を含む液体を充填し、この
版に第１のロールを接触回転させることにより、版の凹
部に充填された液体を第１のロールの表面に転写して付
着させる。又は、第２のロールの表面の所定部分にイン
クジェット法により所望の発光特性を備えた有機発光体
を含む液体を付着させ、この第２のロールを第１のロー
ルに接触回転させることにより、第２のロールの表面に
付着した液体を第１のロールの所定部分に転写して付着
させてもよい。
る所定の発光特性を備えた有機発光層の形成に係るもの
であって、オフセット印刷の原理を利用したものであ
る。すなわち、まず、有機発光体を含む液体を例えばゴ
ム胴などの第１のロールの所定部分に付着させる。この
工程は、例えば、所定の凹部を備えたガラス板などから
なる版の該凹部にインクジェット法などにより、所望の
発光特性を備えた有機発光体を含む液体を充填し、この
版に第１のロールを接触回転させることにより、版の凹
部に充填された液体を第１のロールの表面に転写して付
着させる。又は、第２のロールの表面の所定部分にイン
クジェット法により所望の発光特性を備えた有機発光体
を含む液体を付着させ、この第２のロールを第１のロー
ルに接触回転させることにより、第２のロールの表面に
付着した液体を第１のロールの所定部分に転写して付着
させてもよい。
【０００９】次いで、第１のロールを基板に接触回転さ
せることにより、第１のロールの表面の所定部分に付着
した有機発光体を含む液体を、基板上に形成された下部
電極上の所定部分に転写することで有機発光層を形成す
る。このようにして有機発光層を形成することにより、
製造工程において、有機発光層はその発光特性を劣化さ
れる紫外光、水分、熱及び有機溶剤などの影響を受けな
くなるので、所望の発光特性を備えた有機発光層を安定
して形成することができるようになる。また、スピンコ
ート法により成膜された有機発光層をパターニングして
形成する場合と比べて製造工程が簡易になるので、有機
ＥＬ素子のコストを下げることができる。
せることにより、第１のロールの表面の所定部分に付着
した有機発光体を含む液体を、基板上に形成された下部
電極上の所定部分に転写することで有機発光層を形成す
る。このようにして有機発光層を形成することにより、
製造工程において、有機発光層はその発光特性を劣化さ
れる紫外光、水分、熱及び有機溶剤などの影響を受けな
くなるので、所望の発光特性を備えた有機発光層を安定
して形成することができるようになる。また、スピンコ
ート法により成膜された有機発光層をパターニングして
形成する場合と比べて製造工程が簡易になるので、有機
ＥＬ素子のコストを下げることができる。
【００１０】さらには、有機発光層が形成される際、有
機発光層となる液体が基板と第１のロールとで挟まれて
押圧されながら形成されるので、有機発光層がムラにな
って形成されるおそれがなくなり、基板の全面にわたっ
て均一な有機発光層が形成されるようになる。これによ
り、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置の表示品質
を向上させることができる。
機発光層となる液体が基板と第１のロールとで挟まれて
押圧されながら形成されるので、有機発光層がムラにな
って形成されるおそれがなくなり、基板の全面にわたっ
て均一な有機発光層が形成されるようになる。これによ
り、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置の表示品質
を向上させることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付の図面を参照して説明する。 （第１の実施の形態）図１は本発明の第１実施形態の有
機ＥＬ素子の製造方法により製造される有機ＥＬ素子に
接続されるＴＦＴの構造を示す概略断面図、図２（ａ）
〜（ｃ）は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造
方法を示す概略断面図である。
て、添付の図面を参照して説明する。 （第１の実施の形態）図１は本発明の第１実施形態の有
機ＥＬ素子の製造方法により製造される有機ＥＬ素子に
接続されるＴＦＴの構造を示す概略断面図、図２（ａ）
〜（ｃ）は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造
方法を示す概略断面図である。
【００１２】１．ＴＦＴの製造方法
本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法により
製造される有機ＥＬ素子として、赤色（Ｒ）画素部、緑
色（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部の電極がそれぞれ
図１に示すＴＦＴ１３のソース部１９ａに接続されるカ
ラー表示のアクティブマトリクス型のものを例示して説
明する。最初に、このＴＦＴ１３の製造方法について説
明する。
製造される有機ＥＬ素子として、赤色（Ｒ）画素部、緑
色（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部の電極がそれぞれ
図１に示すＴＦＴ１３のソース部１９ａに接続されるカ
ラー表示のアクティブマトリクス型のものを例示して説
明する。最初に、このＴＦＴ１３の製造方法について説
明する。
【００１３】まず、図１に示すように、基板として透明
なガラス基板１０を用意し、このガラス基板１０上にＣ
ＶＤにより下部シリコン酸化膜１１を成膜する。続い
て、この下地シリコン酸化膜１１上にＣＶＤによりｎ型
の導電型不純物を含む非晶質シリコン層を成膜し、この
非晶質シリコン層を例えば３００℃程度の温度でレーザ
ーアニールすることにより多結晶シリコン層に変換す
る。その後、この多結晶シリコン層をパターニングする
ことにより多結晶シリコン層パターン１９を形成する。
なガラス基板１０を用意し、このガラス基板１０上にＣ
ＶＤにより下部シリコン酸化膜１１を成膜する。続い
て、この下地シリコン酸化膜１１上にＣＶＤによりｎ型
の導電型不純物を含む非晶質シリコン層を成膜し、この
非晶質シリコン層を例えば３００℃程度の温度でレーザ
ーアニールすることにより多結晶シリコン層に変換す
る。その後、この多結晶シリコン層をパターニングする
ことにより多結晶シリコン層パターン１９を形成する。
【００１４】次いで、ＣＶＤによりシリコン酸化膜を成
膜してゲート絶縁膜１２とする。続いて、ゲート絶縁膜
１２上に蒸着などによりＡｌ（アルミニウム）膜を成膜
し、これをパターニングすることによりゲート電極１５
を形成する。次いで、このゲート電極１５をマスクにし
てｐ型の導電性不純物を導入してソース部１９ａ及びド
レイン部１９ｂを形成する。これにより、ガラス基板１
０の上方にｐチャネルのＴＦＴ１３が形成される。
膜してゲート絶縁膜１２とする。続いて、ゲート絶縁膜
１２上に蒸着などによりＡｌ（アルミニウム）膜を成膜
し、これをパターニングすることによりゲート電極１５
を形成する。次いで、このゲート電極１５をマスクにし
てｐ型の導電性不純物を導入してソース部１９ａ及びド
レイン部１９ｂを形成する。これにより、ガラス基板１
０の上方にｐチャネルのＴＦＴ１３が形成される。
【００１５】次に、ＴＦＴ１３のソース部１９ａと有機
ＥＬ素子とを接続するための金属配線の形成方法を説明
する。まず、図１に示すように、ＴＦＴ１３上にＣＶＤ
によりシリコン酸化膜やシリコン窒化膜などからなる層
間絶縁膜１４を成膜する。続いて、ＴＦＴ１３のソース
部１９ａ及びドレイン部１９ｂ上のゲート酸化膜１２及
び層間絶縁膜１４をパターニングすることにより、コン
タクトホール１４ａを形成する。
ＥＬ素子とを接続するための金属配線の形成方法を説明
する。まず、図１に示すように、ＴＦＴ１３上にＣＶＤ
によりシリコン酸化膜やシリコン窒化膜などからなる層
間絶縁膜１４を成膜する。続いて、ＴＦＴ１３のソース
部１９ａ及びドレイン部１９ｂ上のゲート酸化膜１２及
び層間絶縁膜１４をパターニングすることにより、コン
タクトホール１４ａを形成する。
【００１６】次いで、コンタクトホール１４ａ内及び層
間絶縁膜１４上にＡｌなどからなる金属膜を成膜し、こ
れをパターニングすることにより金属配線１６を形成す
る。次いで、金属配線１６及び層間絶縁膜１４上にＣＶ
Ｄにより中間シリコン酸化膜１８を形成し、この中間シ
リコン酸化膜１８をパターニングすることにより、ＴＦ
Ｔ１３のソース部１９ａに接続された金属配線１６が露
出するビアホール１８ａを形成する。
間絶縁膜１４上にＡｌなどからなる金属膜を成膜し、こ
れをパターニングすることにより金属配線１６を形成す
る。次いで、金属配線１６及び層間絶縁膜１４上にＣＶ
Ｄにより中間シリコン酸化膜１８を形成し、この中間シ
リコン酸化膜１８をパターニングすることにより、ＴＦ
Ｔ１３のソース部１９ａに接続された金属配線１６が露
出するビアホール１８ａを形成する。
【００１７】２．有機ＥＬ素子の製造方法
次に、有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。ま
ず、図２（ａ）に示すように、ビアホール１８ａ及びシ
リコン酸化膜１８上にスパッタリング法により膜厚が例
えば２００ｎｍのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を成膜
し、これをパターニングすることにより、陽極２０（下
部電極）を形成する。この陽極２０は、赤色（Ｒ）画素
部に形成された赤色（Ｒ）画素用陽極２０ａと緑色
（Ｇ）画素部に形成された緑色（Ｇ）画素用陽極２０ｂ
と青色（Ｂ）画素部に形成された青色（Ｂ）画素用陽極
２０ｃとからなる。これにより、ＴＦＴ１３のソース部
１９ａと有機Ｅ素子の陽極２０とが金属配線１６を介し
て電気的に接続される。
ず、図２（ａ）に示すように、ビアホール１８ａ及びシ
リコン酸化膜１８上にスパッタリング法により膜厚が例
えば２００ｎｍのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を成膜
し、これをパターニングすることにより、陽極２０（下
部電極）を形成する。この陽極２０は、赤色（Ｒ）画素
部に形成された赤色（Ｒ）画素用陽極２０ａと緑色
（Ｇ）画素部に形成された緑色（Ｇ）画素用陽極２０ｂ
と青色（Ｂ）画素部に形成された青色（Ｂ）画素用陽極
２０ｃとからなる。これにより、ＴＦＴ１３のソース部
１９ａと有機Ｅ素子の陽極２０とが金属配線１６を介し
て電気的に接続される。
【００１８】その後、図２（ｂ）に示すように、陽極
（２０ａ，２０ｂ，２０ｃ）及び中間リコン酸化膜１８
上に、スピンコート法により膜厚が例えば３００ｎｍの
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）２２を形成する。次
の工程が正孔注入層２２上に有機発光層を形成する工程
であって、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法の特徴
の一つが、有機発光層を形成する方法にあるので、以
下、有機発光層の形成工程について詳しく説明する。
（２０ａ，２０ｂ，２０ｃ）及び中間リコン酸化膜１８
上に、スピンコート法により膜厚が例えば３００ｎｍの
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）２２を形成する。次
の工程が正孔注入層２２上に有機発光層を形成する工程
であって、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法の特徴
の一つが、有機発光層を形成する方法にあるので、以
下、有機発光層の形成工程について詳しく説明する。
【００１９】図３（ａ）は本発明の第１実施形態の有機
ＥＬ素子の製造方法に係わる版の概略平面図、図３
（ｂ）は図３（ａ）のＩ−Ｉに沿った断面図であって、
インクジェット装置により版の凹部に液体を充填する様
子を示す概略部分断面図、図３（ｃ）は版の凹部に液体
が充填された様子を示す概略部分断面図、図４（ａ）及
び（ｂ）は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造
方法に係わる有機発光層の形成方法を示す概略斜視図、
図５は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法
で製造された有機ＥＬ素子を示す概略断面図である。
ＥＬ素子の製造方法に係わる版の概略平面図、図３
（ｂ）は図３（ａ）のＩ−Ｉに沿った断面図であって、
インクジェット装置により版の凹部に液体を充填する様
子を示す概略部分断面図、図３（ｃ）は版の凹部に液体
が充填された様子を示す概略部分断面図、図４（ａ）及
び（ｂ）は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造
方法に係わる有機発光層の形成方法を示す概略斜視図、
図５は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法
で製造された有機ＥＬ素子を示す概略断面図である。
【００２０】本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法に係
わる有機発光層の形成方法は、オフセット印刷の原理を
利用したものである。すなわち、まず、図３（ａ）及び
（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子の赤色（Ｒ）画素
部、緑色（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部になる部分
にそれぞれ対応する凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・
・）を備えたガラス板などからなる版４０を用意する。
わる有機発光層の形成方法は、オフセット印刷の原理を
利用したものである。すなわち、まず、図３（ａ）及び
（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子の赤色（Ｒ）画素
部、緑色（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部になる部分
にそれぞれ対応する凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・
・）を備えたガラス板などからなる版４０を用意する。
【００２１】この版４０の凹部（４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ・・・）は、版４０上に所定のレジスト膜をパターニ
ングし、このレジスト膜をマスクにしてドライエッチン
グなどにより版をエッチングすることにより形成され
る。この凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）の面積
は、製造する有機ＥＬ素子の画素面積に応じて適宜調整
すればよいが、一例としては、赤色（Ｒ）画素部、緑色
（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部から構成される一つ
のカラー画素の面積が９０μｍ×２７０μｍ程度になる
ようにすればよい。また、凹部の深さは０．２μｍ程度
になるようにすればよい。
ｃ・・・）は、版４０上に所定のレジスト膜をパターニ
ングし、このレジスト膜をマスクにしてドライエッチン
グなどにより版をエッチングすることにより形成され
る。この凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）の面積
は、製造する有機ＥＬ素子の画素面積に応じて適宜調整
すればよいが、一例としては、赤色（Ｒ）画素部、緑色
（Ｇ）画素部及び青色（Ｂ）画素部から構成される一つ
のカラー画素の面積が９０μｍ×２７０μｍ程度になる
ようにすればよい。また、凹部の深さは０．２μｍ程度
になるようにすればよい。
【００２２】なお、本実施形態では版の凹部として、一
つのカラー画素部を構成する赤色（Ｒ）有機発光層、緑
色（Ｇ）有機発光層及び青色（Ｂ）有機発光層が、他の
カラー画素部に対してそれぞれ分離して配置される有機
ＥＬ素子の製造に対応するものを例示しているが、各色
の有機発光層が複数のカラー画素にわたってそれぞれス
トライプ状（帯状）に連続して形成される有機ＥＬ素子
の製造に対応するものとしてもよい。
つのカラー画素部を構成する赤色（Ｒ）有機発光層、緑
色（Ｇ）有機発光層及び青色（Ｂ）有機発光層が、他の
カラー画素部に対してそれぞれ分離して配置される有機
ＥＬ素子の製造に対応するものを例示しているが、各色
の有機発光層が複数のカラー画素にわたってそれぞれス
トライプ状（帯状）に連続して形成される有機ＥＬ素子
の製造に対応するものとしてもよい。
【００２３】次いで、所定の位置のノズルから版４０の
凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）内にそれぞれ赤
色（Ｒ）発光体を含む液体、緑色（Ｇ）発光体を含む液
体及び青色（Ｂ）発光体を含む液体が噴射されるように
所定の液体が収納されたインクジェット装置４２を用意
する。ここで、赤色（Ｒ）発光体として、ｃｏｐｏｌｙ
（２，５−ｄｉｄｏｄｅｃｙｌｏｘｙ−１，４−ｐｈｅ
ｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（３−ｄｏ
ｄｅｃｙｌｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌｔｈｉｅｎｙｌｅｎ
ｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）を用いることができ
る。また、緑色（Ｇ）発光体として、ｃｏｐｏｌｙ
（２，５−ｄｉａｌｋｏｘｙ−ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ
ｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（２−ａｌｋｏｘｙ−ｍ
−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）を
用いることができる。また、青色（Ｂ）発光体として、
ｃｏｐｏｌｙ（４，４‘−ｂｉｐｈｅｎｙｌｙｌｅｎｅ
ｌｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（４−ｄｏｄｅｃｙｌ
ｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌ
ｅｎｅ）を用いることができる。
凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）内にそれぞれ赤
色（Ｒ）発光体を含む液体、緑色（Ｇ）発光体を含む液
体及び青色（Ｂ）発光体を含む液体が噴射されるように
所定の液体が収納されたインクジェット装置４２を用意
する。ここで、赤色（Ｒ）発光体として、ｃｏｐｏｌｙ
（２，５−ｄｉｄｏｄｅｃｙｌｏｘｙ−１，４−ｐｈｅ
ｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（３−ｄｏ
ｄｅｃｙｌｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌｔｈｉｅｎｙｌｅｎ
ｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）を用いることができ
る。また、緑色（Ｇ）発光体として、ｃｏｐｏｌｙ
（２，５−ｄｉａｌｋｏｘｙ−ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ
ｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（２−ａｌｋｏｘｙ−ｍ
−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）を
用いることができる。また、青色（Ｂ）発光体として、
ｃｏｐｏｌｙ（４，４‘−ｂｉｐｈｅｎｙｌｙｌｅｎｅ
ｌｂｕｔａｄｉｙｎｙｌｅｎｅ）（４−ｄｏｄｅｃｙｌ
ｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｂｕｔａｄｉｙｎｙｌ
ｅｎｅ）を用いることができる。
【００２４】このようにして、図３（ｂ）に示すよう
に、版４０の凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）に
インクジェット装置４２の所定のノズルから上記した所
定の液体を噴射することにより、図３（ｃ）に示すよう
に、版４０の凹部４０ａに赤色（Ｒ）発光体を含む液体
３４ａが、凹部４０ｂに緑色（Ｇ）発光体を含む液体３
４ｂが、さらに、凹部４０ｃに青色（Ｂ）発光体を含む
液体３４ｃがそれぞれ充填される。
に、版４０の凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・）に
インクジェット装置４２の所定のノズルから上記した所
定の液体を噴射することにより、図３（ｃ）に示すよう
に、版４０の凹部４０ａに赤色（Ｒ）発光体を含む液体
３４ａが、凹部４０ｂに緑色（Ｇ）発光体を含む液体３
４ｂが、さらに、凹部４０ｃに青色（Ｂ）発光体を含む
液体３４ｃがそれぞれ充填される。
【００２５】次いで、図４（ａ）に示すように、図３
（ｃ）の版４０上にゴム胴（第１のロール）４４を接触
配置し、このゴム胴４４を回転させることにより、ゴム
胴４４の表面に版４０の凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ
・・・）に充填された液体を転写する。これにより、ガ
ラス基板１０の正孔注入層２２上に有機発光層を形成す
る準備が完了する。
（ｃ）の版４０上にゴム胴（第１のロール）４４を接触
配置し、このゴム胴４４を回転させることにより、ゴム
胴４４の表面に版４０の凹部（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ
・・・）に充填された液体を転写する。これにより、ガ
ラス基板１０の正孔注入層２２上に有機発光層を形成す
る準備が完了する。
【００２６】次いで、図４（ｂ）に示すように、前述し
た全面に正孔注入層２２が形成されたガラス基板１０を
用意し、このガラス基板１０上に所定の色の有機発光体
を含む液体が付着したゴム胴４４を接触配置して回転さ
せる。これにより、正孔注入層２２上の所定部分にこの
液体が転写されて転写層が形成される。この転写層を乾
燥することにより、膜厚が例えば１５０ｎｍの有機発光
層２４が形成される。
た全面に正孔注入層２２が形成されたガラス基板１０を
用意し、このガラス基板１０上に所定の色の有機発光体
を含む液体が付着したゴム胴４４を接触配置して回転さ
せる。これにより、正孔注入層２２上の所定部分にこの
液体が転写されて転写層が形成される。この転写層を乾
燥することにより、膜厚が例えば１５０ｎｍの有機発光
層２４が形成される。
【００２７】すなわち、図２（ｂ）に戻って説明する
と、赤色（Ｒ）画素部の正孔注入層２２上に赤色（Ｒ）
有機発光層２４ａが、緑色（Ｇ）画素部の正孔注入層２
２上に緑色（Ｇ）有機発光層２４ｂが、さらに、青色
（Ｂ）画素部の正孔注入層２２上に青色（Ｂ）有機発光
層２４ｃが形成される。赤色（Ｒ）有機発光層２４ａと
緑色（Ｇ）有機発光層２４ｂと青色（Ｂ）有機発光層２
４ｃとが形成された領域が、カラー表示有機ＥＬ素子の
一つのカラー画素を構成するようになる。
と、赤色（Ｒ）画素部の正孔注入層２２上に赤色（Ｒ）
有機発光層２４ａが、緑色（Ｇ）画素部の正孔注入層２
２上に緑色（Ｇ）有機発光層２４ｂが、さらに、青色
（Ｂ）画素部の正孔注入層２２上に青色（Ｂ）有機発光
層２４ｃが形成される。赤色（Ｒ）有機発光層２４ａと
緑色（Ｇ）有機発光層２４ｂと青色（Ｂ）有機発光層２
４ｃとが形成された領域が、カラー表示有機ＥＬ素子の
一つのカラー画素を構成するようになる。
【００２８】このようにして、オフセット印刷の原理を
利用してパターン化された有機発光層２４を形成するこ
とにより、フォトリソグラフィーやエッチング工程を必
要とせず、有機発光層２４が紫外光、水分、熱及び有機
溶剤などの影響を受けなくなるので、所望の発光特性を
備えた有機発光層２４を安定して形成することができる
ようになる。
利用してパターン化された有機発光層２４を形成するこ
とにより、フォトリソグラフィーやエッチング工程を必
要とせず、有機発光層２４が紫外光、水分、熱及び有機
溶剤などの影響を受けなくなるので、所望の発光特性を
備えた有機発光層２４を安定して形成することができる
ようになる。
【００２９】また、パターン化された３種の有機発光層
（２４ａ，２４ｂ，２４ｃ）を成膜＋パターニングを３
回繰り返す方法やインクジェット法で形成する場合と比
べて工程が簡易になるとともに、形成に要する時間を大
幅に短くすることができるので、有機ＥＬ素子の製造コ
ストを下げることができる。さらには、有機発光層２４
は、ゴム胴４４がガラス基板１０を押圧しながら形成さ
れるので、有機発光層２４にムラが発生するおそれがな
くなり、有機発光層２４の発光特性に係る信頼性を向上
させることができる。
（２４ａ，２４ｂ，２４ｃ）を成膜＋パターニングを３
回繰り返す方法やインクジェット法で形成する場合と比
べて工程が簡易になるとともに、形成に要する時間を大
幅に短くすることができるので、有機ＥＬ素子の製造コ
ストを下げることができる。さらには、有機発光層２４
は、ゴム胴４４がガラス基板１０を押圧しながら形成さ
れるので、有機発光層２４にムラが発生するおそれがな
くなり、有機発光層２４の発光特性に係る信頼性を向上
させることができる。
【００３０】次いで、図２（ｃ）に示すように、有機発
光層２４及び正孔注入層２２上にＡｌＬｉ（アルミニウ
ムリチウム）などからなる膜厚が例えば２００ｎｍの陰
極２６（上部電極）を形成する。陽極２０は前述したよ
うに画素ごとに独立して形成されるのに対し、陰極２６
は全画素に対して共通して形成される。以上により、図
５に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法
で製造された有機ＥＬ素子３０が完成する。なお、図５
はカラー表示有機ＥＬ素子のうち、赤（Ｒ）色画素部の
みを部分的に示すものである。
光層２４及び正孔注入層２２上にＡｌＬｉ（アルミニウ
ムリチウム）などからなる膜厚が例えば２００ｎｍの陰
極２６（上部電極）を形成する。陽極２０は前述したよ
うに画素ごとに独立して形成されるのに対し、陰極２６
は全画素に対して共通して形成される。以上により、図
５に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法
で製造された有機ＥＬ素子３０が完成する。なお、図５
はカラー表示有機ＥＬ素子のうち、赤（Ｒ）色画素部の
みを部分的に示すものである。
【００３１】本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法によ
り製造された有機ＥＬ素子３０は、図５に示すように、
陽極２０ａと陰極２６との間に正孔注入層２２と有機発
光層２４ａとが積層されて形成されている。この正孔注
入層２２は、陽極２０ａから注入された正孔を有機発光
層２４ａに伝達する機能を備えている。正孔注入層２２
を有機発光層２４ａと陽極２０ａとの間に介在させるこ
とによって、より低い電界で多くの正孔が有機発光層２
４ａに注入される。
り製造された有機ＥＬ素子３０は、図５に示すように、
陽極２０ａと陰極２６との間に正孔注入層２２と有機発
光層２４ａとが積層されて形成されている。この正孔注
入層２２は、陽極２０ａから注入された正孔を有機発光
層２４ａに伝達する機能を備えている。正孔注入層２２
を有機発光層２４ａと陽極２０ａとの間に介在させるこ
とによって、より低い電界で多くの正孔が有機発光層２
４ａに注入される。
【００３２】さらに、正孔注入層２２は電子を輸送しな
いので、陰極２６から有機発光層２４ａに注入された電
子が、正孔注入層２２と有機発光層２４ａとの界面に蓄
積される。このように、正孔注入層２２を設けることに
よって有機ＥＬ素子の発光効率を上げることができる。
また、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素部
の陽極２０にはそれぞれ駆動用のＴＦＴ１３のソース部
１９ａが金属配線１６を介して電気的に接続されてい
る。赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素部に
対して共通に形成された陰極２６は、接地（ＧＮＤ）電
位などの固定電位である端子（図示せず）に接続され
る。ＴＦＴ１３のドレイン部１９ｂに接続された金属配
線１６ａは電源ライン（図示せず）に接続されている。
いので、陰極２６から有機発光層２４ａに注入された電
子が、正孔注入層２２と有機発光層２４ａとの界面に蓄
積される。このように、正孔注入層２２を設けることに
よって有機ＥＬ素子の発光効率を上げることができる。
また、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素部
の陽極２０にはそれぞれ駆動用のＴＦＴ１３のソース部
１９ａが金属配線１６を介して電気的に接続されてい
る。赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素部に
対して共通に形成された陰極２６は、接地（ＧＮＤ）電
位などの固定電位である端子（図示せず）に接続され
る。ＴＦＴ１３のドレイン部１９ｂに接続された金属配
線１６ａは電源ライン（図示せず）に接続されている。
【００３３】このような有機ＥＬ素子３０の陽極２０ａ
に正、陰極２６に負の電圧を印加することにより、陽極
２０ａから注入された正孔と陰極２６から注入された電
子とが有機発光層２４ａの内部で再結合することにより
所定の色の光が放たれ、陰極２６側ではこの光が陰極２
６により反射されて透明な陽極２０ａ側からガラス基板
１０を透過して外部に放出される（図５の矢印の方
向）。
に正、陰極２６に負の電圧を印加することにより、陽極
２０ａから注入された正孔と陰極２６から注入された電
子とが有機発光層２４ａの内部で再結合することにより
所定の色の光が放たれ、陰極２６側ではこの光が陰極２
６により反射されて透明な陽極２０ａ側からガラス基板
１０を透過して外部に放出される（図５の矢印の方
向）。
【００３４】本実施形態の製造方法で製造された有機Ｅ
Ｌ素子を用いて有機ＥＬ表示装置を製造する場合、有機
ＥＬ素子の有機発光層（２４ａ・・・）は前述した方法
で形成されたものであって、設計要求に応じた所望の発
光特性を備えた有機発光層（２４ａ・・・）がガラス基
板１０の全面にわたって歩留りよく形成されるので、有
機ＥＬ表示装置の表示品質を向上させることができる。
Ｌ素子を用いて有機ＥＬ表示装置を製造する場合、有機
ＥＬ素子の有機発光層（２４ａ・・・）は前述した方法
で形成されたものであって、設計要求に応じた所望の発
光特性を備えた有機発光層（２４ａ・・・）がガラス基
板１０の全面にわたって歩留りよく形成されるので、有
機ＥＬ表示装置の表示品質を向上させることができる。
【００３５】次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方
法により製造された有機ＥＬ素子の変形例を説明する。
図６は、本実施形態の製造方法により製造された有機Ｅ
Ｌ素子の変形例を示す概略断面図である。本変形例にお
いては、ＴＦＴとしてｎチャネルのＴＦＴ１３ａが配置
され、図５に示す有機ＥＬ素子３０の陽極２０と陰極２
８とが逆に配置されるようにした形態である。
法により製造された有機ＥＬ素子の変形例を説明する。
図６は、本実施形態の製造方法により製造された有機Ｅ
Ｌ素子の変形例を示す概略断面図である。本変形例にお
いては、ＴＦＴとしてｎチャネルのＴＦＴ１３ａが配置
され、図５に示す有機ＥＬ素子３０の陽極２０と陰極２
８とが逆に配置されるようにした形態である。
【００３６】すなわち、図６に示すように、有機ＥＬ素
子３０ａの陰極２６ａが下部電極となり、各色の画素部
ごとに独立してパターニングして形成される。一方、陽
極２０Ｉが上部電極となり、各画素に対して共通して形
成されている。陽極２０Ｉと有機発光層２４ａとの間に
は正孔注入層２２が形成されている。そして、ｎチャネ
ルＴＦＴ１３ａのソース部１ａと陰極２６ａが金属配線
１６を介して電気的に接続され、陽極２０Ｉが接地（Ｇ
ＮＤ）電位などの固定電位となる端子に接続されてい
る。
子３０ａの陰極２６ａが下部電極となり、各色の画素部
ごとに独立してパターニングして形成される。一方、陽
極２０Ｉが上部電極となり、各画素に対して共通して形
成されている。陽極２０Ｉと有機発光層２４ａとの間に
は正孔注入層２２が形成されている。そして、ｎチャネ
ルＴＦＴ１３ａのソース部１ａと陰極２６ａが金属配線
１６を介して電気的に接続され、陽極２０Ｉが接地（Ｇ
ＮＤ）電位などの固定電位となる端子に接続されてい
る。
【００３７】この有機ＥＬ素子３０ａの陰極２６ａに
負、陽極２０Ｉに正の電圧を印加することにより、陰極
２６ａから注入された電子と陽極２８ａから正孔注入層
２２を介して注入された正孔とが有機発光層２４ａの内
部で再結合することにより所定の色の光が放出される。
そして、この光が陰極２６ａ側では陰極２６ａにより反
射されて透明な陽極２０Ｉを透過して外部に放出される
（図６の矢印の方向）。
負、陽極２０Ｉに正の電圧を印加することにより、陰極
２６ａから注入された電子と陽極２８ａから正孔注入層
２２を介して注入された正孔とが有機発光層２４ａの内
部で再結合することにより所定の色の光が放出される。
そして、この光が陰極２６ａ側では陰極２６ａにより反
射されて透明な陽極２０Ｉを透過して外部に放出される
（図６の矢印の方向）。
【００３８】このように、本実施形態の変形例の有機Ｅ
Ｌ素子３０ａにおいては、光がガラス基板１０を透過せ
ずにガラス基板１０側とは反対側に放出されるので、基
板が透明なガラス基板１０に制限されるのではなく、半
透明又は不透明な基板をも使用することができる。 （第２の実施の形態）図７は本発明の第２実施形態の有
機ＥＬ素子の製造方法に係わる有機発光層の形成方法を
示す概略斜視図である。本実施の形態の有機ＥＬ素子の
製造方法が第１実施形態と異なる点は、第１のロールに
有機発光体が含まれる液体を転写させる方法が異なるこ
とである。なお、第１実施形態と同一工程の詳細な説明
を省略する。
Ｌ素子３０ａにおいては、光がガラス基板１０を透過せ
ずにガラス基板１０側とは反対側に放出されるので、基
板が透明なガラス基板１０に制限されるのではなく、半
透明又は不透明な基板をも使用することができる。 （第２の実施の形態）図７は本発明の第２実施形態の有
機ＥＬ素子の製造方法に係わる有機発光層の形成方法を
示す概略斜視図である。本実施の形態の有機ＥＬ素子の
製造方法が第１実施形態と異なる点は、第１のロールに
有機発光体が含まれる液体を転写させる方法が異なるこ
とである。なお、第１実施形態と同一工程の詳細な説明
を省略する。
【００３９】まず、第１実施形態と同様な方法で、ガラ
ス基板１０上に形成されたＴＦＴ１３のソース部１９ａ
に接続されるようにして、陽極２０を形成し、この上に
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）２２を形成する。そ
の後、図７に示すように、表面に正孔注入層２２が露出
するガラス基板１０上にゴム胴４４を接触配置し、さら
にこの上に第２のロール４６を接触配置する。そして、
インクジェット装置４２からこの第２のロール４６の表
面の所定部分に所定の色を発光する有機発光体を含む液
体を噴射して付着させる。これと同時に、第２のロール
４６とゴム胴４４との周面を接触させて回転させること
により、第２のロール４６に付着した発光体を含む液体
をゴム胴４４に転写する。これに連動して、ゴム胴４４
が回転することでゴム胴４４の表面に付着した発光体を
含む液体がガラス基板１０の正孔注入層２２上の所定部
分に転写されて転写層が形成される。この転写層を乾燥
することにより第１実施形態と同様な有機発光層２４を
形成することができる。
ス基板１０上に形成されたＴＦＴ１３のソース部１９ａ
に接続されるようにして、陽極２０を形成し、この上に
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）２２を形成する。そ
の後、図７に示すように、表面に正孔注入層２２が露出
するガラス基板１０上にゴム胴４４を接触配置し、さら
にこの上に第２のロール４６を接触配置する。そして、
インクジェット装置４２からこの第２のロール４６の表
面の所定部分に所定の色を発光する有機発光体を含む液
体を噴射して付着させる。これと同時に、第２のロール
４６とゴム胴４４との周面を接触させて回転させること
により、第２のロール４６に付着した発光体を含む液体
をゴム胴４４に転写する。これに連動して、ゴム胴４４
が回転することでゴム胴４４の表面に付着した発光体を
含む液体がガラス基板１０の正孔注入層２２上の所定部
分に転写されて転写層が形成される。この転写層を乾燥
することにより第１実施形態と同様な有機発光層２４を
形成することができる。
【００４０】第２実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法に
おいても第１実施形態と同様な効果を奏するとともに、
第２実施形態においては版４０を作成する必要がないの
で、その製造方法をさらに簡易とすることができる。な
お、本実施形態においても、有機ＥＬ素子の構造を第１
実施形態における変形例のような構造にしてもよい。以
上、第１及び第２実施形態により、この発明の詳細を説
明したが、この発明の範囲は上記実施の形態に具体的に
示した例に限られるものではなく、この発明を逸脱しな
い要旨の範囲における上記実施の形態の変更はこの発明
の範囲に含まれる。
おいても第１実施形態と同様な効果を奏するとともに、
第２実施形態においては版４０を作成する必要がないの
で、その製造方法をさらに簡易とすることができる。な
お、本実施形態においても、有機ＥＬ素子の構造を第１
実施形態における変形例のような構造にしてもよい。以
上、第１及び第２実施形態により、この発明の詳細を説
明したが、この発明の範囲は上記実施の形態に具体的に
示した例に限られるものではなく、この発明を逸脱しな
い要旨の範囲における上記実施の形態の変更はこの発明
の範囲に含まれる。
【００４１】例えば、本実施形態では、カラー表示が可
能なアクティブマトリクス型の有機ＥＬ素子の製造に適
用したものを例示したが、ストライプ状の陰極と陽極と
がお互いに直交するように形成され、これらが交差する
部分の有機発光層が発光するようにした単色表示の単純
マトリクス型の有機ＥＬ素子の製造に適用してもよい。
能なアクティブマトリクス型の有機ＥＬ素子の製造に適
用したものを例示したが、ストライプ状の陰極と陽極と
がお互いに直交するように形成され、これらが交差する
部分の有機発光層が発光するようにした単色表示の単純
マトリクス型の有機ＥＬ素子の製造に適用してもよい。
【００４２】また、第１及び第２の実施形態では、陽極
２０と有機発光層２４の間に正孔注入層２２が形成され
ているものを例示したが、有機発光層２４と正孔注入層
２２との間にさらに正孔輸送層が形成された形態として
もよいし、正孔注入層２２を省略した形態としてもよ
い。さらにまた、陰極２６と有機発光層２４との間に電
子注入層や電子輸送層が形成された形態としてもよい。
２０と有機発光層２４の間に正孔注入層２２が形成され
ているものを例示したが、有機発光層２４と正孔注入層
２２との間にさらに正孔輸送層が形成された形態として
もよいし、正孔注入層２２を省略した形態としてもよ
い。さらにまた、陰極２６と有機発光層２４との間に電
子注入層や電子輸送層が形成された形態としてもよい。
【００４３】（付記１） 基板の上に下部電極を形成す
る工程と、有機発光体を含む液体を第１のロールの所定
の部分に付着させ、前記第１のロールを前記基板に接触
回転させることにより、前記液体を前記下部電極上に転
写して有機発光層を形成する工程と、前記有機発光層の
上に上部電極を形成する工程とを有することを特徴とす
る有機ＥＬ素子の製造方法。
る工程と、有機発光体を含む液体を第１のロールの所定
の部分に付着させ、前記第１のロールを前記基板に接触
回転させることにより、前記液体を前記下部電極上に転
写して有機発光層を形成する工程と、前記有機発光層の
上に上部電極を形成する工程とを有することを特徴とす
る有機ＥＬ素子の製造方法。
【００４４】（付記２） 前記有機発光体を含む液体を
第１のロールの所定の部分に付着させる工程において、
前記有機発光体を含む液体を所定の部分に凹部を備えた
版の該凹部に充填し、前記第１のロールを前記版に接触
回転させることにより、前記版の凹部に充填された液体
を前記第１のロールの所定の部分に付着させることを特
徴とする付記１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
第１のロールの所定の部分に付着させる工程において、
前記有機発光体を含む液体を所定の部分に凹部を備えた
版の該凹部に充填し、前記第１のロールを前記版に接触
回転させることにより、前記版の凹部に充填された液体
を前記第１のロールの所定の部分に付着させることを特
徴とする付記１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００４５】（付記３） 前記有機発光体を含む液体を
第１のロールの所定の部分に付着させる工程において、
前記有機発光体を含む液体を第２のロールの所定の部分
に付着させ、前記第２のロールを前記第１のロールに接
触回転させることにより、前記第２のロールに付着した
液体を前記第１のロールの所定の部分に付着させること
を特徴とする付記１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
第１のロールの所定の部分に付着させる工程において、
前記有機発光体を含む液体を第２のロールの所定の部分
に付着させ、前記第２のロールを前記第１のロールに接
触回転させることにより、前記第２のロールに付着した
液体を前記第１のロールの所定の部分に付着させること
を特徴とする付記１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００４６】（付記４） 前記版の凹部に液体を充填す
る工程において、該液体が収納されたインクジェット装
置から該液体を噴射するインクジェット法により行うこ
とを特徴とする付記２に記載の有機ＥＬ素子の製造方
法。 （付記５） 前記第２のロールの所定の部分に液体を付
着させる工程において、該液体が収納されたインクジェ
ット装置から該液体を噴射するインクジェット法により
行うことを特徴とする付記３に記載の有機ＥＬ素子の製
造方法。
る工程において、該液体が収納されたインクジェット装
置から該液体を噴射するインクジェット法により行うこ
とを特徴とする付記２に記載の有機ＥＬ素子の製造方
法。 （付記５） 前記第２のロールの所定の部分に液体を付
着させる工程において、該液体が収納されたインクジェ
ット装置から該液体を噴射するインクジェット法により
行うことを特徴とする付記３に記載の有機ＥＬ素子の製
造方法。
【００４７】（付記６） 前記有機発光層を形成する工
程の前に、前記下部電極の上に正孔注入層を形成する工
程を有することを特徴とする付記１乃至５のいずれか１
項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。 （付記７） 前記上部電極を形成する工程の前に、前記
有機発光層の上に正孔注入層を形成する工程を有するこ
とを特徴とする付記１乃至５のいずれか１項に記載の有
機ＥＬ素子の製造方法。
程の前に、前記下部電極の上に正孔注入層を形成する工
程を有することを特徴とする付記１乃至５のいずれか１
項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。 （付記７） 前記上部電極を形成する工程の前に、前記
有機発光層の上に正孔注入層を形成する工程を有するこ
とを特徴とする付記１乃至５のいずれか１項に記載の有
機ＥＬ素子の製造方法。
【００４８】（付記８） 付記１乃至６のいずれかの有
機ＥＬ素子の製造方法で製造された有機ＥＬ素子であっ
て、前記下部電極が陽極、又は陰極となり、該下部電極
がＴＦＴ（Thin Film Transistor）のソース部と電気的
に接続されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
機ＥＬ素子の製造方法で製造された有機ＥＬ素子であっ
て、前記下部電極が陽極、又は陰極となり、該下部電極
がＴＦＴ（Thin Film Transistor）のソース部と電気的
に接続されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【００４９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
所望の発光特性を有する有機発光体を含む液体を、例え
ばゴム胴などの第１のロールの所定の部分に付着させ、
基板にこの第１のロールを接触回転させることにより、
第１のロールに付着した液体を基板の上に転写して有機
発光層を形成する。
所望の発光特性を有する有機発光体を含む液体を、例え
ばゴム胴などの第１のロールの所定の部分に付着させ、
基板にこの第１のロールを接触回転させることにより、
第１のロールに付着した液体を基板の上に転写して有機
発光層を形成する。
【００５０】このようにすることにより、製造工程にお
いて、有機発光層がその発光特性を劣化される紫外光、
水分、熱及び有機溶剤などの影響を受けなくなるので、
所望の発光特性を備えた有機発光層を安定して形成する
ことができるようになる。また、スピンコート法により
成膜された有機発光層をパターニングして形成する場合
と比べて製造工程を簡易とすることができるので、有機
ＥＬ素子のコストを下げることができる。さらには、有
機発光層が形成される際、有機発光層となる液体が基板
と第１のロールとで挟まれて押圧されながら形成される
ので、有機発光層がムラになって形成されるおそれがな
くなり、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置の表示
品質を向上させることができる。
いて、有機発光層がその発光特性を劣化される紫外光、
水分、熱及び有機溶剤などの影響を受けなくなるので、
所望の発光特性を備えた有機発光層を安定して形成する
ことができるようになる。また、スピンコート法により
成膜された有機発光層をパターニングして形成する場合
と比べて製造工程を簡易とすることができるので、有機
ＥＬ素子のコストを下げることができる。さらには、有
機発光層が形成される際、有機発光層となる液体が基板
と第１のロールとで挟まれて押圧されながら形成される
ので、有機発光層がムラになって形成されるおそれがな
くなり、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置の表示
品質を向上させることができる。
【図１】図１は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の
製造方法により製造される有機ＥＬ素子に接続されるＴ
ＦＴの構造を示す概略断面図である。
製造方法により製造される有機ＥＬ素子に接続されるＴ
ＦＴの構造を示す概略断面図である。
【図２】図２（ａ）〜（ｃ）は本発明の第１実施形態の
有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
【図３】図３（ａ）は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ
素子の製造方法に係わる版の概略平面図、図３（ｂ）は
図３（ａ）のＩ−Ｉに沿った断面図であって、インクジ
ェット装置により版の凹部に液体を充填する様子を示す
概略部分断面図、図３（ｃ）は版の凹部に液体が充填さ
れた様子を示す概略部分断面図である。
素子の製造方法に係わる版の概略平面図、図３（ｂ）は
図３（ａ）のＩ−Ｉに沿った断面図であって、インクジ
ェット装置により版の凹部に液体を充填する様子を示す
概略部分断面図、図３（ｃ）は版の凹部に液体が充填さ
れた様子を示す概略部分断面図である。
【図４】図４（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１実施形態
の有機ＥＬ素子の製造方法に係わる有機発光層の形成方
法を示す概略斜視図である。
の有機ＥＬ素子の製造方法に係わる有機発光層の形成方
法を示す概略斜視図である。
【図５】図５は本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の製造
方法で製造された有機ＥＬ素子を示す概略断面図であ
る。
方法で製造された有機ＥＬ素子を示す概略断面図であ
る。
【図６】図６は本発明の第１実施形態の有機ＥＬ素子の
製造方法により製造された有機ＥＬ素子の変形例を示す
概略断面図である。
製造方法により製造された有機ＥＬ素子の変形例を示す
概略断面図である。
【図７】図７は本発明の第２実施形態の有機ＥＬ素子の
製造方法に係わる有機発光層の形成方法を示す概略斜視
図である。
製造方法に係わる有機発光層の形成方法を示す概略斜視
図である。
１０：ガラス基板（基板）
１１：下部シリコン酸化膜
１２：ゲート絶縁膜
１３，１３ａ：ＴＦＴ
１４：層間絶縁膜
１４ａ：コンタクトホール
１５：ゲート電極
１６，１６ａ：金属配線
１８：中間シリコン絶縁膜
１８ａ：ビアホール
１９：多結晶シリコン膜パターン
１９ａ：ソース部
１９ｂ：ドレイン部
２０，２０Ｉ：陽極
２０ａ：赤色（Ｒ）画素用陽極
２０ｂ：緑色（Ｇ）画素用陽極
２０ｃ：青色（Ｂ）画素用陽極
２２：正孔注入層
２４：有機発光層
２４ａ：赤色（Ｒ）有機発光層
２４ｂ：緑色（Ｇ）有機発光層
２４ｃ：青色（Ｂ）有機発光層
２６、２６ａ：陰極
３０，３０ａ：有機ＥＬ素子
４０：版
４０ａ，４０ｂ，４０ｃ：凹部
４２：インクジェット装置
３４ａ：赤色（Ｒ）発光体を含む液体
３４ｂ：緑色（Ｇ）発光体を含む液体
３４ｃ：青色（Ｂ）発光体を含む液体
４４：ゴム胴（第１のロール）
４６：第２のロール
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ
Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB18 BA06 BB07 CA01
CB01 DA01 DB03 EB00 FA01
5C094 AA03 AA08 AA43 AA44 BA03
BA12 BA27 CA19 CA24 DA13
EA04 EA05 EA06 EB02 FA01
FA02 FB01 FB20 GB10
5G435 AA01 AA04 AA17 BB05 CC09
CC12 HH01 HH20 KK05 KK10
Claims (5)
- 【請求項１】 基板の上に下部電極を形成する工程と、 有機発光体を含む液体を第１のロールの所定の部分に付
着させ、前記第１のロールを前記基板に接触回転させる
ことにより、前記第１のロールに付着した液体を前記下
部電極上に転写して有機発光層を形成する工程と、 前記有機発光層の上に上部電極を形成する工程とを有す
ることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 - 【請求項２】 前記有機発光体を含む液体を第１のロー
ルの所定の部分に付着させる工程において、 前記有機発光体を含む液体を所定の部分に凹部を備えた
版の該凹部に充填し、前記第１のロールを前記版に接触
回転させることにより、前記版の凹部に充填された液体
を前記第１のロールの所定の部分に付着させることを特
徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。 - 【請求項３】 前記有機発光体を含む液体を第１のロー
ルの所定の部分に付着させる工程において、 前記有機発光体を含む液体を第２のロールの所定の部分
に付着させ、前記第２のロールを前記第１のロールに接
触回転させることにより、前記第２のロールに付着した
液体を前記第１のロールの所定の部分に付着させること
を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方
法。 - 【請求項４】 前記版の凹部に液体を充填する工程にお
いて、 前記液体が収納されたインクジェット装置から該液体を
噴射するインクジェット法により行うことを特徴とする
請求項２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかの有機ＥＬ素
子の製造方法で製造された有機ＥＬ素子であって、 前記下部電極が陽極、又は陰極となり、該下部電極がＴ
ＦＴ（Thin Film Transistor）のソース部と電気的に接
続されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001241989A JP4340405B2 (ja) | 2001-08-09 | 2001-08-09 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001241989A JP4340405B2 (ja) | 2001-08-09 | 2001-08-09 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003059654A true JP2003059654A (ja) | 2003-02-28 |
| JP4340405B2 JP4340405B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=19072338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001241989A Expired - Lifetime JP4340405B2 (ja) | 2001-08-09 | 2001-08-09 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4340405B2 (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7485023B2 (en) | 2005-03-31 | 2009-02-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent device having partition wall and a manufacturing method of the same by relief printing method |
| US7546803B2 (en) | 2006-01-30 | 2009-06-16 | Toppan Printing Co., Ltd. | Letterpress printing machine |
| US7655948B2 (en) | 2005-09-05 | 2010-02-02 | Lg Display Co., Ltd. | Light emitting display |
| US7686665B2 (en) | 2005-09-22 | 2010-03-30 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of a printed matter and a printed matter |
| US7687390B2 (en) | 2006-03-28 | 2010-03-30 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of a transparent conductive film, a manufacturing method of a transparent electrode of an organic electroluminescence device, an organic electroluminescence device and the manufacturing method |
| US7696683B2 (en) | 2006-01-19 | 2010-04-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent element and the manufacturing method |
| US7719183B2 (en) | 2005-07-01 | 2010-05-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of organic electroluminescent device and an organic electroluminescent device |
| US7791275B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-09-07 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescence element and manufacturing method of the same |
| US7819716B2 (en) | 2006-02-15 | 2010-10-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent element and the manufacturing method |
| US7880382B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-02-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescence panel and manufacturing method of the same |
| JP2011198577A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Casio Computer Co Ltd | 発光装置の製造装置及び製造方法 |
| JP2011198578A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Casio Computer Co Ltd | 発光装置の製造装置及び製造方法 |
| KR101484508B1 (ko) * | 2004-10-22 | 2015-01-21 | 매사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 반도체 나노결정을 포함하는 발광 디바이스 |
-
2001
- 2001-08-09 JP JP2001241989A patent/JP4340405B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101484508B1 (ko) * | 2004-10-22 | 2015-01-21 | 매사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 반도체 나노결정을 포함하는 발광 디바이스 |
| US7485023B2 (en) | 2005-03-31 | 2009-02-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent device having partition wall and a manufacturing method of the same by relief printing method |
| US7719183B2 (en) | 2005-07-01 | 2010-05-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of organic electroluminescent device and an organic electroluminescent device |
| US7655948B2 (en) | 2005-09-05 | 2010-02-02 | Lg Display Co., Ltd. | Light emitting display |
| US7686665B2 (en) | 2005-09-22 | 2010-03-30 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of a printed matter and a printed matter |
| US7696683B2 (en) | 2006-01-19 | 2010-04-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent element and the manufacturing method |
| US7546803B2 (en) | 2006-01-30 | 2009-06-16 | Toppan Printing Co., Ltd. | Letterpress printing machine |
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| US7687390B2 (en) | 2006-03-28 | 2010-03-30 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method of a transparent conductive film, a manufacturing method of a transparent electrode of an organic electroluminescence device, an organic electroluminescence device and the manufacturing method |
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| JP2011198577A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Casio Computer Co Ltd | 発光装置の製造装置及び製造方法 |
| JP2011198578A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Casio Computer Co Ltd | 発光装置の製造装置及び製造方法 |
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| JP4340405B2 (ja) | 2009-10-07 |
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