JP2003057814A - 平版印刷版用原版 - Google Patents

平版印刷版用原版

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JP2003057814A
JP2003057814A JP2001247257A JP2001247257A JP2003057814A JP 2003057814 A JP2003057814 A JP 2003057814A JP 2001247257 A JP2001247257 A JP 2001247257A JP 2001247257 A JP2001247257 A JP 2001247257A JP 2003057814 A JP2003057814 A JP 2003057814A
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acid
group
layer
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mass
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JP2001247257A
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English (en)
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Ikuo Kawachi
幾生 河内
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐傷性に優れた赤外線レーザ用ポジ型の平版
印刷版用原版を提供すること。 【解決手段】 光を吸収し熱を発生する物質と、フェノ
ール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、特
定の構造で表される基を1〜6個有する化合物とを含有
する画像記録層を少なくとも支持体の表面に設け、コー
ティング層を支持体の裏面に設けたことを特徴とする平
版印刷版用原版。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版を主用途とする赤外線レ
ーザ用ポジ型の平版印刷版用原版に関する。 【0002】 【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型のレーザー発振装置が容
易に入手できるようになっている。これらのレーザの露
光光源を用いて、コンピュータ等で加工されたディジタ
ルデータの原稿を印刷原版上に画像記録し、版下工程を
省略して製版するCTP(コンピュータ・トウ・プレー
ト)方式などのダイレクト簡易整版・印刷は、原稿作成
から整版までの工程の短縮と操作の簡易化が図られ、き
わめて有用な印刷方式である。 【0003】このダイレクト整版方式に適合する印刷原
版は、赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷版材料であり、
この材料は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂
と、光を吸収し熱を発生する光熱変換性の赤外線染料
(以後IR染料とも呼ぶ)等とを必須成分とし、IR染
料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との
相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下
させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)で
は、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との
相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷
版を形成する。 【0004】また、赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷版
用原版の表面のすべり性を上げ、キズ抑制効果、即ち耐
傷性を有することを目的として、赤外線レーザ用ポジ型
の平版印刷版用原版の画像形成層においてWAX剤の添
加することが検討されている。しかしながら、該印刷版
原版の表面のWAXは、コイルや集積され加速された状
態で経時すると、支持体の裏面に転写しやすく、耐傷性
が低下するという問題を抱えていた。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
技術の欠点を克服しようとするものであり、その目的
は、耐傷性に優れた赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷版
用原版を提供しようとするものである。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、支持体表面の画像記録層に特定のWAX
剤を添加し、更に支持体裏面にコーティングを施すこと
により、上記目的が達成されることを見出し、本発明を
完成するに到った。即ち、本発明は、下記構成により達
成される。 【0007】(1) 光を吸収し熱を発生する物質と、
フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂
と、下記一般式(A)で表される基を1〜6個有する化
合物とを含有する画像記録層を少なくとも支持体の表面
に設け、コーティング層を支持体の裏面に設けたことを
特徴とする平版印刷版用原版。 −R1CO−X−R2 一般式(A) (式中、XはO、S、またはNR3を表し、R1は炭素数
1〜32のアルキル基またはアリーレン基を表し、
2、R3は水素原子、または、炭素数1〜18のアルキ
ル基、アルケニル基、もしくはアリール基を表す。) 【0008】即ち、上記の本発明の平版印刷版用原版
は、支持体裏面にコーティング層を施してあり、それに
よって画像記録層が水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及
び赤外線吸収剤を含んで機械的強度が乏しいにもかかわ
らず、前記した現像感度の過大な変動や物理的画像欠陥
が低減されて、実用上の制約が解決される。しかも、単
にコーテイング層を裏面に設けるだけで、これらの欠陥
の本質的原因を内在している画像記録層に変更を加える
必要がないので、画像記録層の本来の画像記録性能を維
持することが出来る。 【0009】コーテイング層としては、従来から汎用さ
れているPS版に関して公知の任意のコーティング層を
用いることができるが、とくに印刷原版表面に対する動
摩擦係数が0.15〜0.7の範囲のコーティング層を
用いると発明目的に対する効果が増大する。また、コー
ティング層を構成する結着材のヤング率やずり弾性率が
比較的大きい場合に発明の効果が顕著であり、とりわけ
ずり弾性率が、0.05〜2.5×104MPaの範囲
のコーティング層が特に有効である。ここでいう結着材
のずり弾性率は、結着材が単一素材から構成されている
場合は、その素材の室温におけるずり弾性率であるが、
結着材が複数の材料から構成されている場合は、構成結
着材のそれぞれの室温におけるずり弾性率を構成質量比
で加重平均した値を便宜的に結着材のずり弾性率として
いる。また、簡略化のために、構成質量比が5%未満の
構成結着材の寄与分は無視できるものとする。 【0010】本発明の平版印刷版用原版としては、赤外
線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性
が増大するポジ型画像記録層が少なくとも2層の重層構
成からなるように画像記録層を設計すると、現像進行が
遅くなりがちな下層は、より現像され易い組成へ、また
表面層はコーティング層と接したときの動摩擦特性や機
械的強度をより好ましい範囲に、それぞれ調節できて、
本発明の効果を一層高めることができる。本発明のポジ
型平版印刷版用原版の画像記録層の結着材として用いら
れる水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂には、赤外レーザ
の照射によってアルカリ水溶液に対する溶解性が増大す
るアルカリ可溶性樹脂を含有するもの、分子内にフッ素
原子で置換されたフェノール性水酸基を有する水不溶性
且つアルカリ可溶性樹脂を含有するもの、或いは、ポジ
型記録層に、分子内にシロキサン構造を有する水不溶性
且つアルカリ可溶性樹脂を含有するもの等が特に好まし
い。 【0011】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 [画像記録層]はじめに画像記録層について述べる。画像
記録層としては、上記したように、光を吸収し熱を発生
する物質と、フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶
液可溶性樹脂と、前記一般式(A)で表される基を1〜
6個有する化合物(以下「(A)成分」または「(A)
の化合物」ともいう)を含有するが、まず本発明の特徴
成分である(A)成分について説明する。 【0012】〔一般式(A)で表される基を1〜6個有
する化合物〕(以下「(A)成分」または「(A)の化
合物」ともいう) 本発明の前記一般式(A)で表される基を1〜6個有す
る化合物は、いわゆるワックスと呼ばれる炭素数の大き
な脂肪酸またはその誘導体である。式中、R1は炭素数
1〜32のアルキレン基またはアリーレン基を表す。ア
ルキレン基またはアリーレン基は分岐を有していてもよ
く、アルキレン基としては、例えば、n−ヘキシレン
基、n−ヘプチレン基、n−オクチレン基、n−ノニレ
ン基、n−デシレン基、n−ウンデシレン基等の直鎖ア
ルキレン基、14−メチルペンタデシレン基、16−メ
チルヘプタデシレン基等の分岐を有するアルキレン基が
挙げられる。また、アリーレン基としては、フェニレン
基、ナフチレン基等が挙げられる。この中でも、塗布溶
剤に対する溶解性の点で、炭素数25以下のアルキル
基、アリーレン基が好ましい。 【0013】R2、R3は、水素原子、または、炭素数1
〜18のアルキル基、アルケニル基、もしくはアリール
基を表す。アルキル基、アルケニル基は分岐を有してい
てもよく、また、置換基を有していてもよい。このよう
なアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−ヘキ
シル基、n−ノニル基、ベンジル基、シクロヘキシルメ
チル基等が挙げられ、アルケニル基としては、プロピレ
ニル基、1−ブテニル基、1−イソブテニル基、1−ペ
ンテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1−ヘキセ
ニル基、1−オクテニル基等が挙げられる。アリール基
は、置換基を有していてもよく、アリール基としては、
フェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、シクロヘキシ
ルフェニル基等が挙げられる。XはO、S、またはNR
3を表す。 【0014】即ち、前記(A)の化合物は、脂肪酸、脂
肪酸エステル、チオ脂肪酸エステル、または脂肪酸アミ
ドである。前記一般式(A)で表される化合物の具体例
を挙げると、脂肪酸としては、エナント酸、カプリル
酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリ
ン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、
パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデ
カン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロ
チン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラ
クセル酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン
酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸等が挙げら
れる。脂肪酸エステルとしては、これらの脂肪酸のメチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチ
ルエステル、ドデシルエステル、フェニルエステル、ナ
フチルエステルが挙げられる。チオ脂肪酸エステルとし
ては、これらの脂肪酸のメチルチオエステル、エチルチ
オエステル、プロピルチオエステル、ブチルチオエステ
ル、ベンジルチオエステルが挙げられる。脂肪酸アミド
としては、これらの脂肪酸のアミド、メチルアミド、エ
チルアミド等が挙げられる。 【0015】前記(A)の化合物は、それぞれ1種類あ
るいは2種類以上を組み合わせて使用してもよく、全印
刷版材料固形分中、0.02〜10重量%、好ましくは
0.2〜10重量%、特に好ましくは2〜10重量%の
添加量で用いられる。前記(A)の化合物の添加量が
0.02重量%未満であると外傷に対する現像安定性が
不十分となり、また、10重量%で効果が飽和するため
これ以上加える必要がない。 【0016】〔フェノール性水酸基を有するアルカリ水
溶液可溶性樹脂〕本発明で使用するフェノール性水酸基
を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂(以下、「フェノー
ル性水酸基を有する樹脂」という。)としては、例えば
フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
フェノール/クレゾール(m−,p−,またはm−/p
−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂な
どのノボラック樹脂を挙げることができる。 【0017】これらのフェノール性水酸基を有する樹脂
は、重量平均分子量が500〜20000で数平均分子
量が200〜10000のものが好ましい。更に、米国
特許第4123279号明細書に記載されているよう
に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。かかる
フェノール性水酸基を有する樹脂は、1種類あるいは2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。 【0018】本発明では、前記フェノール性水酸基を有
する樹脂と、下記(a)から(c)のうち少なくとも一
つを共重合成分として10モル%以上含む共重合体(以
下、「特定の共重合体」という。)とを併用するのが好
ましい。 【0019】(a)1分子中に、窒素原子上に少なくと
も一つの水素原子が結合したスルホンアミド基を有する
モノマー (b)1分子中に、下記の式で表される活性イミノ基を
有するモノマー 【0020】 【化1】 【0021】(c)それぞれフェノール性水酸基を有す
るアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレ
ン 【0022】本発明の特定の共重合体は、前記(a)か
ら(c)のうち少なくとも一つを共重合成分として10
モル%以上含んでいることが必要とされ、20モル%以
上含むものがより好ましい。10モル%より少ないと、
フェノール性水酸基を有する樹脂との相互作用が不十分
となり現像ラチチュードが低下する。また、前記(a)
から(c)以外の他の共重合成分を含んでいてもよい。 【0023】(a)に該当するモノマーとは、1分子中
に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合した
スルホンアミド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ
一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーである。
その中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が
好ましい。このような化合物としては、例えば、下記一
般式(I)〜(V)で示される化合物が挙げられる。 【0024】 【化2】 【0025】式中、X1 、X2はそれぞれ−O−又は−
NR10−を示す。R4、R7はそれぞれ水素原子又は−C
3を表す。R5、R8、R12、R15、R19はそれぞれ置
換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。R6、R10、R16は水素原子、それぞれ置
換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示
す。また、R9、R20は、それぞれ置換基を有していて
もよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R11、R13、R
17は水素原子又は−CH3を表す。R14、R18はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ単結合ま
たは−CO−を表す。 【0026】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。 【0027】(b)に該当するモノマーとは、1分子中
に、前記式で表される活性イミノ基と、重合可能な不飽
和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる
モノマーである。このような化合物としては、具体的に
は、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルイミ
ド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルイミド等
を好適に使用することができる。 【0028】(c)に該当するモノマーとは、それぞれ
フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、またはヒドロキシスチレンからなるモノマーであ
る。このような化合物としては、具体的には、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリ
レート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒ
ドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリ
レート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチ
レン、p−ヒドロキシスチレン等を好適に使用すること
ができる。 【0029】他の共重合成分としては、例えば、下記
(1)〜(12)に挙げるモノマーを用いることができ
る。 (1)2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル
類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 【0030】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。 【0031】本発明の特定の共重合体は、重量平均分子
量が2000以上、数平均分子量が1000以上のもの
が好ましく用いられる。さらに好ましくは、重量平均分
子量が5000〜300000、数平均分子量が200
0〜250000であり、分散度(重量平均分子量/数
平均分子量)が1.1〜10のものである。 【0032】かかる特定の共重合体は、1種類あるいは
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 【0033】前記フェノール性水酸基を有する樹脂と前
記特定の共重合体との配合重量比は50:50から5:
95の範囲にあることが好ましく、40:60から1
0:90の範囲にあることがより好ましい。これより前
記フェノール性水酸基を有する樹脂の配合量が多くなる
と、海島構造が逆転し、耐溶剤性等を改善することが困
難となる。逆に、これより前記共重合体の配合量が多く
なると、前記フェノール性水酸基を有する樹脂による表
面層が薄くなり過ぎ、現像ラチチュードの向上が不十分
となる。 【0034】これらフェノール性水酸基を有する樹脂と
特定の共重合体とからなるアルカリ可溶性の高分子化合
物は、それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせ
て使用してもよく、全印刷版材料固形分中、30〜99
重量%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは
50〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶
性の高分子化合物の添加量が30重量%未満であると記
録層の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。 【0035】〔光を吸収し熱を発生する物質〕本発明に
おいて、光を吸収し熱を発生する物質としては種々の顔
料もしくは染料を用いる事ができる。顔料としては、市
販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。 【0036】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。 【0037】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、界
面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シラ
ンカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネー
ト等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上
記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。 【0038】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。 【0039】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。 【0040】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。 【0041】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Epolight III−1
78、Epolight III−130、Epoligh
t III−125等は特に好ましく用いられる。 【0042】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、後述する熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。 【0043】〔その他の成分〕前記のポジ型画像記録層
を形成するにあたっては、上記のそれぞれの必須成分の
他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要
に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ばオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スル
ホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分
解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性高分
子化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を併用する
ことは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点
では、好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙
げる事ができる。 【0044】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,
201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444
号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,60
4,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules,10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem.Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc.Conf. Rad. Curing AS
IA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等
があげられる。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩
が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩とし
ては特開平5−158230号公報記載のものがあげら
れる。 【0045】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。 【0046】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公
報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジ
アジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノ
ン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸ク
ロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエス
テルも好適に使用される。 【0047】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。 【0048】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50質量%、更
に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜3
0質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。 【0049】また、感度を更に向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、
α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロ
メリット酸などが使用できる。フェノール類としては、
ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキ
シフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリ
ヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″
−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチ
ルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸
類としては、特開昭60−88942 号、特開平2−96755 号
公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン
酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル
類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トル
エンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン
酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジ
フェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−
トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フ
ェノール類及び有機酸類の印刷版材料中に占める割合
は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは
0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量
%である。 【0050】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤、EP950
517公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平11−288093号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙
げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられ
る。シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサン
とポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好まし
く、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,
DBE−621,DBE−712,DBP−732,D
BP−534、独Tego社製、Tego Glide
100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙
げることが出来る。上記非イオン界面活性剤及び両性界
面活性剤の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜1
5質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%
である。 【0051】本発明における画像記録層中には、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出す
る化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組
合せを代表として挙げることができる。具体的には、特
開昭50−36209号、同53−8128号の各公報
に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スル
ホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開
昭53−36223号、同54−74728号、同60
−3626号、同61−143748号、同61−15
1644号及び同63−58440号の各公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合
物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合
物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出
し画像を与える。 【0052】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。 【0053】本発明の平版印刷版用原版の各記録層は、
通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に、
記録層塗布液を塗布することにより製造することができ
る。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独ある
いは混合して使用される。塗布溶剤の選択にあたって
は、上部記録層、下部記録層の2層構造を有するものに
ついては、隣接して設けられる場合に互いの層の界面に
おける相溶を防止するため、上部記録層の塗布溶媒は、
下部記録層を実質的に溶解しないものを選択することが
好ましい。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)
の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。 【0054】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。本発明
における感光性層中には、塗布性を良化するための界面
活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載
されているようなフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。好ましい添加量は、記録層全固形分中0.01
〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%
である。 【0055】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状
物が挙げられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミ
ネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が含まれる。 【0056】本発明に用いる支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中で
も寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板
は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を
含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもし
くは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミ
ニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10質量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられるア
ルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。 【0057】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。 【0058】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分
であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、ア
ルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,
714,066号、同第3,181,461号、第3,
280,734号及び第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は
電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に
開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許
第3,276,868号、同第4,153,461号、
同第4,689,272号に開示されているようなポリ
ビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 【0059】本発明の平版印刷版用原版においては、支
持体上にポジ型の画像記録層を単層又は2層以上積層し
て設けたものであるが、必要に応じて支持体と画像記録
層(重層構成の場合、下部記録層)との間に下塗層を設
けることができる。下塗層成分としては種々の有機化合
物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチル
リン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールア
ミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸
塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。 【0060】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。 【0061】[バックコート層]本発明の赤外線レーザ用
ポジ型の平版印刷版用原版は、支持体裏面にバックコー
ト層が施されており,それによって発明の目的である白
ぬけなどの物理的欠陥の抑止と現像ラチチュードの確保
が達せられる。従来汎用のPS版では、支持体の裏面に
バックコート層を設けてアルミニウムの陽極酸化皮膜の
溶出を抑えることが行われている。それに対して、本発
明の赤外レーザ用平版印刷版用原版のバックコートは、
目的を異にしているにも係らが、PS版の裏面コート用
の公知のバックコート層と同じ組成と厚みの層を用いる
ことができる。本発明に用いるバックコート層の構成材
料は、(a)有機金属化合物あるいは無機金属化合物を
加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物、(b)
有機高分子を主体とする材料に分けられるが、後述する
ように、両者は副次的構成成分に共通の材料を混合して
用いることも可能であり、また両者は互いに混合して用
いることもできる。 【0062】(a)有機金属化合物あるいは無機金属化
合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物か
らなるバックコート層 バックコート層に用いられる金属酸化物としてはシリカ
(酸化珪素)、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化アルミニ
ウムや酸化ジルコニウム及びそれらの複合体などが挙げ
られる。本発明で用いられる金属酸化物の被覆層は、有
機金属化合物あるいは無機金属化合物を水および有機溶
媒中で、酸、またはアルカリなどの触媒で加水分解、及
び縮重合反応を起こさせたいわゆるゾル−ゲル反応液を
支持体の裏面に塗布、乾燥することにより得られる。こ
こで用いる有機金属化合物あるいは無機金属化合物とし
ては、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセト
ネート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金
属硫酸塩、金属炭酸塩、金属オキシ塩化物、金属塩化物
およびこれらを部分加水分解してオリゴマー化した縮合
物が挙げられる。 【0063】金属アルコキシドはM(OR)n の一般式
で表される(Mは金属元素、Rはアルキル基、nは金属
元素の酸化数を示す)。その例としては、Si(OCH3)4
Si(OC2H5)4 、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、Al(OCH3)3 、A
l(OC2H5)3、Al(OC3H7)3、Al(OC4H9)3、B(OCH3)3、B(OC2
H5)3 、B(OC3H7)3 、B(OC4H9)3 、Ti(OCH3)4 、Ti(OC 2H
5)4、Ti(OC3H7)4、Ti(OC4H9)4、Zr(OCH3)4 、Zr(OC2H5)
4、Zr(OC3H7)4、Zr(OC 4H9)4などが用いられる。他にG
e、Li、Na、Fe、Ga、Mg、P 、Sb、Sn、Ta、V などのア
ルコキシドが挙げられる。さらに、CH3Si(OCH3)3、C2H5
Si(OCH3)3 、CH3Si(OC2H5)3 、C2H5Si(OC2H5)3などのモ
ノ置換珪素アルコキシドも用いられる。金属アセチルア
セトネートの例としては、Al(COCH2COCH3)3 、Ti(COCH2
COCH3)4 、などが挙げられる。金属シュウ酸塩の例とし
てはK2TiO(C2O4)2など、金属硝酸塩の例としてはAl(N
O3)3、ZrO(NO3)2 ・2H2O などがある。金属硫酸塩の例
としてはAl2(SO4)3 、(NH4)Al(SO4)2 、KAl(SO4)2 、Na
Al(SO4)2、金属オキシ塩化物の例としてはSi2OCl6 、Zr
OCl2、塩化物の例としてはAlCl3 、SiCl4 、ZrCl2、TiC
l4 などがある。 【0064】これらの有機金属化合物あるいは無機金属
化合物は単独、または二つ以上のものを組み合わせて用
いることができる。これらの有機金属化合物あるいは無
機金属化合物のなかでは金属アルコキシドが反応性に富
み、金属−酸素の結合からできた重合体を生成しやすく
好ましい。それらの内、Si(OCH3)4 、Si(OC2H5)4 、Si
(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、などの珪素のアルコキシ化合物
が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被
覆層が耐現像液性に優れており特に好ましい。また、こ
れらの珪素のアルコキシ化合物を部分加水分解して縮合
したオリゴマーも好ましい。この例としては、約40質
量%のSiO2を含有する平均5量体のエチルシリケートオ
リゴマーが挙げられる。 【0065】更に、上記の珪素のテトラアルコキシ化合
物の一個または二個のアルコキシ基をアルキル基や反応
性を持った基で置換したいわゆるシランカップリング剤
を併用するのも好ましい例として挙げられる。これに用
いられるシランカップリング剤としては、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-(メタ
クリロキシプロピル)トリメトキシシラン、β−(3,
4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-
グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N−β
(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-
クロロプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキ
シシランおよびメチルトリエトキシシランなどである。 【0066】他方、触媒としては有機、無機の酸および
アルカリが用いられる。その例としては、塩酸、硫酸、
亜硫酸、硝酸、亜硝酸、フッ酸、リン酸、亜リン酸など
の無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、グリコー
ル酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フ
ロロ酢酸、ブロモ酢酸、メトキシ酢酸、オキサロ酢酸、
クエン酸、シュウ酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、フ
マル酸、マレイン酸、マロン酸、アスコルビン酸、安息
香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸のような置換安息香
酸、フェノキシ酢酸、フタル酸、ピクリン酸、ニコチン
酸、ピコリン酸、ピラジン、ピラゾール、ジピコリン
酸、アジピン酸、p−トルイル酸、テレフタル酸、1,
4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エルカ
酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸な
どの有機酸、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物、アンモニア、エタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミンなどのアルカリが挙げら
れる。他にスルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、およびリン酸エステル類など、具
体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル酸、フ
ェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェ
ニル、リン酸ジフェニルなどの有機酸も使用できる。こ
れらの触媒は単独または二種以上を組み合わせて用いる
ことができる。触媒は原料の金属化合物に対して0.0
01〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.05
〜5質量%の範囲である。触媒量がこの範囲より少ない
とゾル−ゲル反応の開始が遅くなり、この範囲より多い
と反応が急速に進み、不均一なゾル−ゲル粒子ができる
ためか、得られる被覆層は耐現像液性に劣る。 【0067】ゾル−ゲル反応を開始させるには更に適量
の水が必要であり、その添加量は原料の金属化合物を完
全に加水分解するのに必要な水の量の0.05〜50倍
モルが好ましく、より好ましくは0.5〜30倍モルで
ある。水の量がこの範囲より少ないと加水分解が進みに
くく、この範囲より多いと原料が薄められるためか、や
はり反応が進みにくくなる。ゾル−ゲル反応液には更に
溶媒が添加される。溶媒は原料の金属化合物を溶解し、
反応で生じたゾル−ゲル粒子を溶解または分散するもの
であればよく、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどの低級アルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン類が用
いられる。またバックコート層の塗布面質の向上等の目
的でエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、プロピレングリコールおよびジプ
ロピレングリコールなどのグリコール類のモノまたはジ
アルキルエーテルおよび酢酸エステルを用いることがで
きる。これらの溶媒の中で水と混合可能な低級アルコー
ル類が好ましい。ゾル−ゲル反応液は塗布するのに適し
た濃度に溶媒で調製されるが、溶媒の全量を最初から反
応液に加えると原料が希釈されるためか加水分解反応が
進みにくくなる。そこで溶媒の一部をゾル−ゲル反応液
に加え、反応が進んだ時点で残りの溶媒を加える方法が
好ましい。 【0068】ゾル−ゲル反応は、金属酸化物原料、水、
溶媒および触媒を混合することにより進む。反応の進行
はそれらの種類、組成比および反応の温度、時間に依存
し、成膜後の膜質にも影響を与える。特に反応温度の影
響が大きいので、反応中温度制御することが好ましい。
ゾル−ゲル反応液には上述の必須成分に加えて、ゾル−
ゲル反応を適度に調整するために水酸基、アミノ基や活
性水素を分子内に含む化合物を添加してもよい。それら
の化合物としてはポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、それらのブロック共重合体、およびそ
れらのモノアルキルエーテルまたはモノアルキルアリー
ルエーテル、フェノールやクレゾールなどの各種フェノ
ール類、ポリビニルアルコールおよび他のビニルモノマ
ーとの共重合体、リンゴ酸、酒石酸などの水酸基を持つ
酸、脂肪族および芳香族アミン、ホルムアミドおよびジ
メチルホルムアミドなどが挙げられる。 【0069】更にバックコート層の皮膜性向上のため有
機、無機の高分子化合物、バックコート層に可とう性を
持たせたり、すべり性を調整する目的で後述する可塑
剤、界面活性剤、その他の添加物を必要により添加でき
る。 【0070】(b)有機高分子材料を主体とするバック
コート層 本発明に用いる別のバックコート層の素材としては、ガ
ラス転移点20℃以上、より好ましくは30℃以上で、
好ましくは水およびpH8.5以上のアルカリ性の現像液に
不溶の有機高分子化合物が用いられる。ガラス転移点が
上記範囲であると、バックコート層が現像液の不溶解で
あり、液汚れや液性能の劣化がなく、現像性能の変動が
少ないので現像ラチチュードも広く高感度が維持され
る。ガラス転移点が20℃未満の有機高分子化合物では
感光層との接着が起こり、好ましくない。 【0071】かかる有機高分子化合物としては例えばポ
リブテン、ポリブタジエン、飽和ポリエステル樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、ナイロン、ポリウレタン、ポリ
ウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、塩素化ポリエチレ
ン、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂、アセタ
ール樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
スチレン、アクリル系樹脂およびこれらの共重合樹脂、
ヒドロキシセルロース、ポリビニルアルコール、セルロ
ースアセテート、カルボキシメチルセルロース等が適し
ている。これらの有機高分子化合物はその重合度や共重
合する相手を選ぶことにより、あるいは適切な架橋剤を
用いて硬化させることにより、ガラス転移点が20℃以
上に調整される。 【0072】(a)、(b)に共通なバックコート層構
成成分 以上に(a)有機金属化合物あるいは無機金属化合物を
加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる
バックコート層及び(b)有機高分子材料を主体とする
バックコート層のそれぞれの特徴となる構成材料をしめ
したが、これらの各層のいずれにも含有させることがで
きる好適なバックコート層の構成材料として以下(1)
〜(12)に示すモノマーをその構成単位とする通常1
万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げることができ
る。これらも同様に重合度、共重合モノマーを選択する
ことにより、ガラス転移点を所望の値に調節できる。 【0073】(1)芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドま
たはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−、m−およびp−ヒドロキシスチレン、o−、
m−およびp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたは
メタクリレート、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル
酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、
2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、(3)アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロ
エチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジル
アクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート
などの(置換)アクリル酸エステル、(4)メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタク
リル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタク
リル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸
ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、メタクリ
ル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの
(置換)メタクリル酸エステル、 【0074】(5)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(6)エチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
(7)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル
類、(8)スチレン、メチルスチレン、クロロメチルス
チレンなどのスチレン類、(9)メチルビニルケトン、
エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニル
ビニルケトンなどのビニルケトン類、(10)エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ンなどのオレフィン類、 【0075】(11)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど、(12)N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(m−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p−
アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−〔1
−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕アクリルアミ
ド、N−(2−アミノスルホニルエチル)アクリルアミ
ドなどのアクリルアミド類、N−(o−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−〔1−
(3−アミノスルホニル)ナフチル〕メタクリルアミ
ド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルア
ミドなどのメタクリルアミド類、また、o−アミノスル
ホニルフェニルアクリレート、m−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、p−アミノスルホニルフェニルア
クリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフ
チル)アクリレートなどのアクリル酸エステル類などの
不飽和スルホンアミド、o−アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)メ
タクリレートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽
和スルホンアミド。 【0076】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。 【0077】高分子化合物は場合によりラテックスの形
でバックコート塗布液に加えられる。好ましいラテック
スとしては、ポリアクアリル酸エステル共重合体のエマ
ルジョン;商品名、ジュリマーET−410 、ジュリマーSE
K-301 、ジュリマーSEK-101、ジュリマーFC−30、ジュ
リマーFC−60、ジュリマーFC−80、ジュリマー−5101、
ジュリマー−5102、ジュリマー−5103、ジュリマー−53
01、ジュリマー−361、ジュリマー−363 、ジュリマー
−365 、ジュリマー−6302、ジュリマー−6311、ジュリ
マー−6312、以上日本純薬( 株) 製、NipolLX811、Nipo
lLX814、NipolLX841、NipolLX851、NipolLX852、NipolL
X854、NipolLX856、NipolLX860、NipolLX875、以上日本
ゼオン( 株)製、プライマルAC-22 、プライマルAC-33
、プライマルAC-3444 、プライマルAC-55 、プライマ
ルAC-61 、プライマルAC-382、プライマルASE-60、プラ
イマルASE-75、プライマルASE-108 、プライマルB-15、
プライマルB-41、プライマルB-74、プライマルB-336 、
プライマルB-505 、プライマルB-832 、プライマルB-92
4 、プライマルC-72、プライマルE-32、プライマルE-35
8 、プライマルHA-8、プライマルHA-16 、プライマルHA
-24 、プライマルI-94、プライマルLC-40 、プライマル
LT-76 、プライマルLT-87 、プライマルMC-4530 、プラ
イマルN-580 、プライマルP-6N、プライマルP-1060、プ
ライマルS-1 、プライマルTR-49 、プライマル850 、以
上日本アクリル化学(株) 製、 【0078】アクリロニトリル・ブタジエン系ラテック
ス;Nipol1551 、Nipol1561 、Nipol1562 、Nipol1571
、Nipo11577 、NipolLX511 NipolLX513、NipolLX531、
NipolLX531B 、以上日本ゼオン(株)製、スチレン・ブ
タジエン系ラテックス;NipolLX111、Nipol4850 、Nipo
l4850A、NipolLX110、NipolLX119、NipolLX204、NipolL
X206、NipolLX209、Nipol2507、NipolLX303、Nipol2518
FS 、NipolLX415A 、NipolLX426、NipolLX430、NipolLX
432A 、NipolLX433、NipolLX472、Nipol2570X5、NipolL
X407BP、NipolLX407C 、NipolLX407F 、NipolLX407G 、
以上日本ゼオン(株)製、塩化ビニル系ラテックス;Ge
on150X15、Geon351 、Geon576 、以上日本ゼオン(株)
製、 【0079】ウレタン樹脂エマルジョン;VONDIC 1041N
S 、VONDIC 1050B-NS 、VONDIC 1230NS 、VONDIC 1250
、VONDIC 1310NSC 、VONDIC 1320NSC、VONDIC 1510 、
VONDIC 1610NS 、VONDIC 1612NSC、VONDIC 1640 、VOND
IC 1660NS 、VONDIC 1670NS、VONDIC 1930A-NS、VONDIC
1980NS、VONDIC 1205、VONDIC 2220、VONDIC 2230、以
上大日本インキ化学工業(株) 製、アロン ネオタンUE
-1101 、アロンネオタンUE-1200 、アロン ネオタンUE-
1300 、アロン ネオタンUE-1402 、アロン ネオタンUE-
2103 、アロン ネオタンUE-2200 、アロン ネオタンUE-
2600 、アロンネオタンUE-2900 、アロン ネオタンUE-5
404 、アロン ネオタンUE-5600 、以上東亜合成化学工
業(株) 製、コロイド分散型ウレタン樹脂;HYDRAN HW
-301、HYDRAN HW-310 、HYDRAN HW-311 、HYDRAN HW-31
2B、HYDRAN HW-333 、HYDRAN HW-340 、HYDRAN HW-350
、HWDRAN HW-111 、HYDRAN HW-140 、HYDRAN HW-910
、HYDRAN HW-920 、HYDRAN HW-930 、HYDRAN HW-940
、HYDRAN HW-950 、HYDRAN HW-960 、以上大日本イン
キ化学工業(株) 製が挙げられる。また、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテルなどの水溶
性樹脂もまた好ましく用いられる。これらの高分子化合
物は現像後のバックコート層が適度に親水性を保つ範囲
で加えられる。具体的には原料の金属化合物に対して2
00質量%以下であることが好ましい。 【0080】本発明に係るバックコート層に用いられる
好ましい可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレー
ト、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカ
プリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジト
リデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイ
ソデシルフタレート、ジアリルフタレートなどのフタル
酸エステル類、ジメチルグリコールフタレート、エチル
フタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチ
ルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレー
ト、トリエチレングリコールジカプリル酸エステルなど
のグリコールエステル類、トリクレジールホスフェー
ト、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル
類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、
ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチル
アゼレート、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基酸
エステル類、ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸
トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリ
ン酸ブチルなどが有効である。可塑剤はバックコート層
がべとつかない範囲で加えられる。 【0081】本発明に係るバックコート層に用いられる
界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリス
リトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル
類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグ
リセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化
ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分
エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビ
ス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エス
テル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界
面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシ
アルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジ
アルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベン
ゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン
酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル
フェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、 【0082】ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニ
ルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナ
トリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナ
トリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪
酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミタゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられ
る。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンと
あるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに
読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含
される。 【0083】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、バックコート層中に0.001〜1
0質量%、より好ましくは0.01〜5質量%の範囲で
添加される。 【0084】本発明に用いるバックコート層には更に、
着色して版種を判別するための染料や顔料が加えられ
る。好ましい染料の例としては、ローダミン6G塩化
物、ローダミンB塩化物、クリスタルバイオレット、マ
ラカイトグリーンシュウ酸塩、オキサジン4パークロレ
ート、キニザリン、2−(α−ナフチル)−5−フェニ
ルオキサゾール、クマリン−4が挙げられる。他の染料
として具体的には、オイルイエロー#101、オイルイ
エロー#103、オイルピンク#312、オイルグリー
ンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、
オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラ
ックT−505(以上、オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、エチルバイオレット、メチレンブルー(CI
52015)、パテントピュアブルー(住友三国化学社
製)、ブリリアントブルー、メチルグリーン、エリスリ
シンB、ベーシックフクシン、m−クレゾールパープ
ル、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルア
セトアニリドなどに代表されるトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノ
ン系の染料が挙げられる。上記色素は、バックコート層
中に通常約0.05〜10質量%、より好ましくは約0.
5〜5質量%含有される。 【0085】本発明に適用されるバックコート層には、
更に感光性アジド化合物、不飽和二重結合含有モノマー
を主成分とする光重合性組成物、桂皮酸やジメチルマレ
イミド基を光架橋性組成物およびジアゾニウム塩モノマ
ーや、芳香族ジアゾニウム塩と反応性カルボニル基含有
有機縮合剤、特にホルムアルデヒド、アセトアルデヒド
などのアルデヒド類またはアセタール類とを酸性媒体中
で縮合したジアゾ樹脂を耐薬品性の向上などのために添
加することができる。芳香族ジアゾニウム塩としてはそ
の最も代表的なものにp−ジアゾジフェニルアミンとホ
ルムアルデヒドとの縮合物がある。これらのジアゾ樹脂
の合成法は、例えば、米国特許第2,679,498 号、同第3,
050,502 号、同第3,311,605 号および同第3,277,074 号
の明細書に記載されている。更に、ジアゾニウム塩とし
ては、特公昭49−48,001号公報記載の芳香族ジアゾニ
ウム塩とジアゾニウム基を含まない置換芳香族化合物と
の共縮合ジアゾニウム化合物が好適に用いられ、中でも
カルボキシル基や水酸基のようなアルカリ可溶基で置換
された芳香族化合物との共縮合ジアゾ化合物が好まし
い。更には、特開平4−18559号公報、特願昭2−
321,823 および同2−299,551 号明細書記載のアルカリ
可溶性基を持つ反応性カルボニル化合物で芳香族ジアゾ
ニウム塩を縮合したジアゾニウム塩化合物も用いられ
る。 【0086】これらのジアゾニウム塩の対アニオンとし
て塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸などの鉱酸また
は塩化亜鉛との複塩などの無機アニオンを用いたジアゾ
ニウム化合物があるが、実質的に水不溶性で有機溶剤可
溶性のジアゾニウム化合物の方が特に好ましい。かかる
好ましいジアゾニウム化合物は特公昭47−1167号
公報、米国特許第3,300,309 号明細書に詳しく記載され
ている。更には特開昭54−98613号、同56−1
21031号公報に記載されているようなテトラフルオ
ロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸などのハロゲン化ルイ
ス酸および過塩素酸、過ヨウ素酸などの過ハロゲン酸を
対アニオンとしたジアゾニウム化合物が好適に用いられ
る。また、特開昭58−209733号、同62−17
5731号、同63−262643号公報に記載されて
いる長鎖のアルキル基を有するスルホン酸を対アニオン
としたジアゾニウム化合物も好適に用いられる。ジアゾ
ニウム化合物は感光層中に0.5〜60質量%、好まし
くは5〜50質量%の範囲で含有させられる。 【0087】バックコート層には更に滑らせ剤としてベ
ヘン酸、ベヘン酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸
アミド、アルケニルコハク酸無水物などの高級脂肪酸や
高級脂肪酸アミド、ワックス、ジメチルシロキサン類、
ポリエチレン粉末などが加えられる。またバックコート
層には親水性の向上や皮膜性の改質のために、シリカ微
粉末、コロイダルシリカ、メタノールシリカゾルおよび
無水ホウ酸などが加えられる。本発明で用いられるバッ
クコート層の厚さは基本的には現像時アルミニウムの陽
極酸化皮膜の溶出を抑えられる厚さがあればよく、0.
001〜10g/m2の範囲が好ましく、より好ましく
は0.01〜1g/m2が好ましく、0.02〜0.1g/
2が最も好ましい。バックコート層をアルミニウム支
持体の裏面に被覆する方法としては種々の方法が適用で
きるが、上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは
溶液にして塗布、乾燥する方法である。 【0088】以上に述べた本発明に用いる(a)有機金
属化合物あるいは無機金属化合物を加水分解及び重縮合
させて得られる金属酸化物及び/又は(b)有機高分子
を主体とする材料から構成されるバックコート層は、印
刷原版表面に対する動摩擦係数が適切な範囲にあると白
ぬけなどの物理欠陥が特に低減できて好都合である。そ
のような動摩擦係数は、0.15〜0.7の範囲であ
り、好ましくは0.25〜0.68、より好ましくは
0.30〜0.65の範囲である。さらにオートローダ
でハロゲン化銀を操作することを考慮すれば0.35〜
0.65の範囲であることが最も好ましい。動摩擦係数
が低すぎると重なりあった原版同士の滑りが大きいため
か、却って擦り傷発生の頻度が高くなり、白ぬけを引き
起こし易い。また、動摩擦係数が高すぎると重なりあっ
た原版同士のずり応力が増大するためか、同様に擦り傷
発生の頻度が高く、白ぬけを生じ易い。動摩擦係数を上
記の範囲に制御するには、バックコート層及び画像記録
層のいずれか、又は両方の前記した界面活性剤と、バッ
クコート層の前記した滑らせ剤とのそれぞれの種類の選
択と含有量の調節によって容易に行うことができる。 【0089】印刷原版表面に対するバックコート層の動
摩擦係数の測定方法は、公知の任意の方法を用いること
ができるが、とくにJIS K7125に規定された方
法が望ましく、またJIS K7624(現像処理済み写真フィ
ルムの潤滑処理の判定方法)に提示されている動摩擦係
数測定装置と方法が簡易でかつ実用的に充分な精度で測
定できる。 【0090】また、本発明においては、コーティング層
を構成する結着材のヤング率やずり弾性率が比較的大き
くすると擦り傷や白ぬけなどの機械的な局部欠陥が減少
して発明の効果が顕著となることも判明した。とりわけ
コーティング層の結着材のずり弾性率を、0.05〜
2.5×104MPa,好ましくは、0.01〜2.0
×104MPa,より好ましくは0.05〜5.0×1
4MPa,の範囲に制御すると特に発明の効果が有効
に発揮される。ここでいう結着材のずり弾性率は、結着
材が単一素材から構成されている場合は、その素材の室
温におけるずり弾性率であり、結着材が複数の材料から
構成されている場合は、構成結着材のそれぞれの室温で
求めたずり弾性率を構成質量比で加重平均した値を便宜
的にコーティング層の結着材のずり弾性率としている。
また、簡略化のために、構成質量比が5%未満の構成結
着材の寄与分は無視できるものとする。 【0091】ずり弾性率が大きいほど、破壊を伴なわな
い弾性歪み領域は拡大すると推定されるが、意外にもず
り弾性率が上記の範囲を超えると却って擦り傷や白ぬけ
が生じ易く、現像ラチチュードも狭くなる。また、ずり
弾性率が上記の範囲よりも低いと本発明の効果が乏しく
なる。バックコート層は、画像記録層よりも、構成成分
の選択や組成の制約が少ないので、摩擦係数やずり弾性
率の調節の自由度が大きく、したがってバックコート層
のこれらの物理的性質によって白ぬけなどの局部欠陥を
低減できることは極めて好都合である。 【0092】コーティング層の結着材の各構成成分のず
り弾性率は、例えばプラスチックハンドブック類(例え
ば大阪工業試験所編;実用プラスチック用語辞典、19
89刊行)などに記載されている値を用いることができ
る。また、測定方法としては、公知の方法、例えばヤン
グ率とポアソン比を測定して計算する方法によって求め
ることが出きる。本発明の印刷原版のコーティング材料
に好ましく適用できるヤング率測定方法は、例えば、国
際規格ISO1184(フィルム及びシートの引っ張り
特性の測定方法)にしたがってヤング率とポアソン比を
求めて算出される。より一般的には、材料中の音波の伝
播速度を測定してヤング率、体積弾性率、ポアソン比等
とともにずり弾性率も求めることもできる。 【0093】[製版・印刷]上記のようにして作成された
平版印刷版用原版は、通常、像露光、現像処理を施され
る。像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤
外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体
レーザ、半導体レーザが好ましい。発光波長としては、
760〜1080nmが好ましい。 【0094】本発明の赤外線レーザ用ポジ型の平版印刷
版用原版の現像液及び補充液としては、従来よりPS版
などの汎用平版印刷版用原版用のアルカリ性水溶液を使
用すればよい。本発明の方法に適用可能な公知のアルカ
リ水溶液に用いられるアルカリ化合物としては、例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組
み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特に
好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム
等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分
である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比
率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであ
り、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭5
7−7427号に記載されているようなアルカリ金属ケ
イ酸塩が有効に用いられる。 【0095】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理でき
ることが知られている。本発明においてもこの補充方式
が好ましく適用される。現像液および補充液には、現像
性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の
親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸や
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩やカリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。 【0096】上記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。 【0097】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。 【0098】本発明の平版印刷版用原版においては、画
像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガ
ム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例え
ば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合に
は、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このよう
な消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載さ
れているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのま
ま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう
方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に
記載されているようなオプティカルファイバーで導かれ
た活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法
も利用できる。 【0099】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。 【0100】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。 【0101】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【0102】 【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 実施例1 〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/
2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で
10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で
15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は1
5mg/m2であった。 【0103】 (下塗り液) ・下記化合物 0.3g ・メタノール 100 g ・水 1 g 【0104】 【化3】 【0105】(基板1〜8の作製) 基板1 上記のように処理された支持体の裏面に下記のゾル−ゲ
ル反応液を塗布液1として、乾燥後の塗布量が30mg
/m2となるようにバーコーターで塗布し、100℃で
1分間乾燥することにより、バックコート層を設けて、
基板1を作製した。 【0106】 <塗布液−1> ・ゾルーゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 質量部 水 21.6 質量部 メタノール 10.8 質量部 硝酸 0.05質量部 上記成分を混合、撹はんすると約5分で発熱した。10
分間反応させた後、メタノールを700質量部加えるこ
とによりバックコート塗布液−1を調製した。 【0107】基板2 乾燥後の塗布量が60mg/m2となるように塗布した
以外は、上記基板1の作製と同じ方法・操作で基板2を
作製した。 【0108】基板3 乾燥後の塗布量が90mg/m2となるように塗布した
以外は、上記基板1の作製と同じ方法・操作で基板3を
作製した。 【0109】基板4 下記バックコート塗布液−2を使用し、乾燥後の塗布量
が60mg/m2となるように塗布した以外は、上記基
板1の作製と同じ方法・操作で基板4を作製した。 <塗布液−2> ・ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 質量部 水 86.4 質量部 メタノール 10.8 質量部 リン酸(85%) 0.08質量部 上記成分を混合、撹はんすると約35分で発熱した。4
0分間攪はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混
合し、バックコート塗布液−2を調製した。 希釈液 ピロガロール−アセトン縮合樹脂 3.5 質量部 マレイン酸ジブチル 5.0 質量部 メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.8 質量部 メタノール 800 質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 270 質量部 【0110】基板5 下記バックコート塗布液−3を使用し、乾燥後の塗布量
が60mg/m2となるように塗布した以外は、上記基
板1の作製と同じ方法・操作で基板5を作製した。 <塗布液−3> ・ゾル−ゲル反応液 テトラn−ブチルシリケート 50 質量部 水 21.6 質量部 メタノール 10.8 質量部 硝酸 0.05質量部 上記成分を混合、撹はんすると約15分で発熱した。2
0分間反応させた後、メタノールを700質量部加える
ことによりバックコート塗布液−3を調製した。 【0111】基板6 下記バックコート塗布液−4を使用し、乾燥後の塗布量
が60mg/m2となるように塗布した以外は、上記基
板1の作製と同じ方法・操作で基板6を作製した。 <塗布液−4> ・ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 質量部 水 86.4 質量部 メタノール 10.8 質量部 リン酸(85%) 0.08質量部 上記成分を混合し、反応容器を25℃に保って50分間
撹はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混合し、
バックコート塗布液−4を調製した。 希釈液 ピロガロールアセトン縮合樹脂 3.5 質量部 ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル (平均分子量270) 5.0 質量部 メガファツクF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.8 質量部 メタノール 800 質量部 プロヒレングリコールモノメチルエーテル 270 質量部 【0112】基板7 下記バックコート塗布液−5を使用し、乾燥後の塗布量
が60mg/m2となるように塗布した以外は、上記基
板1の作製と同じ方法・操作で基板7を作製した。 <塗布液−5>フェノキシ樹脂(商品名フェノトートY
P−50、東都化成(株)製)3.0質量部をメチルエ
チルケトン100質量部に溶解し、更にメガファックF
−177(大日本インキ化学工業(株)製のフッ素系界
面活性剤)0.05質量部を溶解してバックコート液−
5を調製した。 【0113】基板8(比較用) アルミニウム支持体に、前記の陽極酸化、珪酸ナトリウ
ム処理、下塗りを施したが、バックコート液の塗布を行
わない基板を比較用の基板8とした。 【0114】[画像記録層Aの塗設]上記の基板1〜8
のそれぞれに以下の下部記録層用塗布液を塗布量0.7
5g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、
PERFECT OVENPH200にてWind C
ontrolを7に設定して140度で50秒間乾燥
し、その後、上部記録層用塗布液を塗布量が0.3g/
2になるよう塗布したのち、120度で1分間乾燥
し、本発明の平版印刷版用原版を得た。 【0115】 〔下部記録層用塗布液〕 ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル(36/34/30: 重量平均分子量50000) 2.133g ・3−メトキシ−4−ジアゾフェニルアミンヘキサフルオロ ホスフェート 0.030g ・シアニン染料A(下記構造) 0.109g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレン スルホン酸に変えたもの 0.05 g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、 大日本インキ工業(株)社製) 0.035g ・メチルエチルケトン 26.6 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6 g ・γ−ブチロラクトン 13.8 g 【0116】 【化4】 【0117】 〔上部記録層用塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 重量平均分子量、4500、未反応クレゾール 0.8重量%含有) 0.237g ・シアニン染料A(上記構造) 0.047g ・WAX剤(表1に記載) 0.06 g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサ フルオロホスフェート 0.030g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ 化学工業(株)製) 0.110g ・フッ素系界面活性剤(メガファックMCF312(30%)、 大日本インキ工業(株)社製) 0.120g ・メチルエチルケトン 15.1 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 10 g 【0118】〔画像記録層Bの塗設〕以下の感光液2を
調整した。実施例1で用いたのと同じ支持体基板1〜8
に、この感光液2を塗布量が1.3g/m2になるよう
塗布、乾燥して感光層を形成し、平版印刷版原版を得
た。 【0119】 〔感光液2〕 ・フッ素含有ポリマー(下記構造) 0.03 g ・共重合体1(以下に詳述する) 0.75 g ・ノボラツク樹脂 0.25 g (重量平均分子量、4,500、未反応クレゾール0.4重量%) ・p−トルエンスルホン酸 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03 g ・シアニン染料A 0.017g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロリン酸塩 0.02 g ・WAX剤(表1に記載) 0.06 g ・フッ素系界面括性剤 0.05 g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) ・γ−ブチルラクトン 10 g ・メチルエチルケトン 10 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8 g 【0120】 【化5】 【0121】〔共重合体1の合成〕攪拌後、冷却管及び
滴下ロートを備えた500ml三ツ口フラスコにメタク
リル酸31.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル
39.1g(0.36モル)及びアセトニトリル200
mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。
この混合物にトリエチルアミン36.4g(0.36モ
ル)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴をとり去り、室温下で30分間混合物を
攪拌した。 【0122】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。 【0123】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.58g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を撹拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸メチル2.58g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。 【0124】作成直後の平版印刷版用原版と、強制経時
条件として、合紙をはさまずに各印刷版用原版30枚を
積層してクラフト紙で梱包した状態で、45℃の恒温槽
に3日入れた印刷版用原版の耐傷性を評価した。 【0125】[平版印刷版用原版の評価] 〔耐傷性テスト〕得られた本発明の平版印刷版用原版を
HEIDON社製引っかき試験機を用いてダイヤ(0.
4mm)に荷重をかけてプレートを引っかき、その後、
富士写真フイルム(株)製現像液DT−1(希釈して、
伝導度45mS/cmとしたもの)で現像し、傷が視認
できる荷重を表示した。数値が大きいほど耐傷性に優れ
ていると評価する。耐傷性評価の結果を表1に示す。 【0126】 【表1】 【0127】尚、表1において、WAX剤としては、 1:ステアリン酸n−ドデシル 2:リグノセリン酸メチル 3:ベヘン酸アシド 4:リグノセリン酸メチル 5:3,3'−チオジプロピオン酸ジミリスチル を表す。 【0128】表1より、本発明に係る平版印刷版用原版
は、同等に設定した伝導度の現像液で現像した場合にお
いて、比較例に比べて良好な耐傷性を示した。 【0129】 【発明の効果】本発明により、耐傷性に優れた赤外線レ
ーザ用ポジ型の平版印刷版用原版を提供することができ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 光を吸収し熱を発生する物質と、フェノ
    ール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、下
    記一般式(A)で表される基を1〜6個有する化合物と
    を含有する画像記録層を少なくとも支持体の表面に設
    け、コーティング層を支持体の裏面に設けたことを特徴
    とする平版印刷版用原版。 −R1CO−X−R2 一般式(A) (式中、XはO、S、またはNR3を表し、R1は炭素数
    1〜32のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R
    2、R3は水素原子、または、炭素数1〜18のアルキル
    基、アルケニル基、もしくはアリール基を表す。)
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007065387A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Fujifilm Holdings Corp 赤外線感光性平版印刷版原版
JP2007271718A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp 赤外線感光性平版印刷版原版

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JP4614454B2 (ja) * 2006-03-30 2011-01-19 富士フイルム株式会社 赤外線感光性平版印刷版原版

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