JP2003056828A - 燃焼式除害装置 - Google Patents
燃焼式除害装置Info
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- JP2003056828A JP2003056828A JP2001244604A JP2001244604A JP2003056828A JP 2003056828 A JP2003056828 A JP 2003056828A JP 2001244604 A JP2001244604 A JP 2001244604A JP 2001244604 A JP2001244604 A JP 2001244604A JP 2003056828 A JP2003056828 A JP 2003056828A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一酸化炭素や窒素酸化物の排出量が少なく、
且つ燃焼排ガスの排出量が少ない燃焼式除害装置を提供
する。 【解決手段】 プロセス排ガスは、半導体製造装置２０
から排出管２３を介して燃焼室１０に導入される。排出
管２３の途中にはマスフローメータ１６が取り付けられ
ている。燃焼室１０内には、燃料ガス流量調整器１７及
び燃料ガス供給管１２を介して燃料ガスが導入され、空
気流量調整器１８及び空気供給管１３を介して空気が導
入される。発生した燃焼排ガスは燃焼排ガス排出管１４
を介して排出される。マスフローメータ１６の出力（プ
ロセス排ガスの流量）は制御装置３０へ送られる。制御
装置３０は、この出力に基づいて、燃焼室１０内で完全
燃焼を実現するために最適な燃料ガス及び空気の供給流
量を算出し、その値に一致するように燃料ガス流量調整
器１７及び空気流量調整器１８を制御する。
且つ燃焼排ガスの排出量が少ない燃焼式除害装置を提供
する。 【解決手段】 プロセス排ガスは、半導体製造装置２０
から排出管２３を介して燃焼室１０に導入される。排出
管２３の途中にはマスフローメータ１６が取り付けられ
ている。燃焼室１０内には、燃料ガス流量調整器１７及
び燃料ガス供給管１２を介して燃料ガスが導入され、空
気流量調整器１８及び空気供給管１３を介して空気が導
入される。発生した燃焼排ガスは燃焼排ガス排出管１４
を介して排出される。マスフローメータ１６の出力（プ
ロセス排ガスの流量）は制御装置３０へ送られる。制御
装置３０は、この出力に基づいて、燃焼室１０内で完全
燃焼を実現するために最適な燃料ガス及び空気の供給流
量を算出し、その値に一致するように燃料ガス流量調整
器１７及び空気流量調整器１８を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造装置
から排出される排ガスの除害装置に係る。
から排出される排ガスの除害装置に係る。
【０００２】
【従来の技術】図３に、半導体の製造装置から排出され
る排ガスの除害に使用される従来の燃焼式除害方法の一
例を示す。
る排ガスの除害に使用される従来の燃焼式除害方法の一
例を示す。
【０００３】燃焼室１０には、プロセス排ガス１ととも
に燃料ガス２及び空気３が供給され、プロセス排ガス１
中に含まれる有害ガスは酸化されて除害される。燃料ガ
ス２及び空気３の流量は一定の値で固定され、その値
は、燃焼室１０内で常に完全燃焼状態が維持されるよう
に設定される。
に燃料ガス２及び空気３が供給され、プロセス排ガス１
中に含まれる有害ガスは酸化されて除害される。燃料ガ
ス２及び空気３の流量は一定の値で固定され、その値
は、燃焼室１０内で常に完全燃焼状態が維持されるよう
に設定される。
【０００４】この場合、プロセス排ガス１中の有害ガス
の除害に必要とされる量を超える十分な量の燃料ガス及
び空気が燃焼室１０に投入される。このため、プロセス
排ガス１の流量が変動しても、燃焼室１０からの排出さ
れる燃焼排ガス４中に含まれる一酸化炭素や窒素酸化物
の濃度を低く保つことができる。しかし、このような方
式を採用した場合、装置のランニングコストが高くな
り、燃焼排ガス４の排出量も大きくなる。
の除害に必要とされる量を超える十分な量の燃料ガス及
び空気が燃焼室１０に投入される。このため、プロセス
排ガス１の流量が変動しても、燃焼室１０からの排出さ
れる燃焼排ガス４中に含まれる一酸化炭素や窒素酸化物
の濃度を低く保つことができる。しかし、このような方
式を採用した場合、装置のランニングコストが高くな
り、燃焼排ガス４の排出量も大きくなる。
【０００５】図４に、従来の燃焼式除害方法の他の例を
示す。
示す。
【０００６】燃焼室１０には、プロセス排ガス１ととも
に燃料ガス２及び空気３が供給され、プロセス排ガス１
中に含まれる有害ガスが酸化されて除害される。燃料ガ
ス２及び空気３の流量は一定の値（または、プロセスの
段階に応じた複数水準の値））で固定され、その値は、
プロセス排ガス１の流量が予め想定された標準値の場合
に、燃焼室１０内で完全燃焼状態が実現されるように設
定される。
に燃料ガス２及び空気３が供給され、プロセス排ガス１
中に含まれる有害ガスが酸化されて除害される。燃料ガ
ス２及び空気３の流量は一定の値（または、プロセスの
段階に応じた複数水準の値））で固定され、その値は、
プロセス排ガス１の流量が予め想定された標準値の場合
に、燃焼室１０内で完全燃焼状態が実現されるように設
定される。
【０００７】この場合、先の場合と比較して、装置のラ
ンニングコストが低くなり、燃焼排ガス４の排出量も少
なくなる。しかし、プロセス排ガス１の流量が上記の標
準値から外れると、燃焼室１０内の酸素が不足または過
剰の状態となり、燃焼排ガス４中の一酸化炭素または窒
素酸化物の量が増大する。
ンニングコストが低くなり、燃焼排ガス４の排出量も少
なくなる。しかし、プロセス排ガス１の流量が上記の標
準値から外れると、燃焼室１０内の酸素が不足または過
剰の状態となり、燃焼排ガス４中の一酸化炭素または窒
素酸化物の量が増大する。
【０００８】（従来の燃焼式除害装置の問題点）前者の
方法の場合、燃焼室に常に余分な量の燃料ガス及び空気
が供給される。そのため、必要以上の燃料ガスが消費さ
れることになる。また、当該燃焼室からの燃焼排ガス
を、更に後段の他の除害装置で除害する必要がある場合
には、後段の除害装置にも、燃焼排ガスの流量に見合っ
た大きな処理能力が要求される。
方法の場合、燃焼室に常に余分な量の燃料ガス及び空気
が供給される。そのため、必要以上の燃料ガスが消費さ
れることになる。また、当該燃焼室からの燃焼排ガス
を、更に後段の他の除害装置で除害する必要がある場合
には、後段の除害装置にも、燃焼排ガスの流量に見合っ
た大きな処理能力が要求される。
【０００９】後者の方法は、プロセス排ガスの流量の変
動幅が小さい場合には有効である。しかし、流量の変動
幅が大きい場合、例えば、プロセスの進行に伴い排ガス
導入量が連続的にまたは断続的に変化する場合には、完
全燃焼状態が実現されている期間が短くなり、排出され
る一酸化炭素や窒素酸化物の量が増大する。また、最悪
の場合には、除害すべき有害ガスが完全には除害されず
に燃焼室から排出されてしまう可能性がある。
動幅が小さい場合には有効である。しかし、流量の変動
幅が大きい場合、例えば、プロセスの進行に伴い排ガス
導入量が連続的にまたは断続的に変化する場合には、完
全燃焼状態が実現されている期間が短くなり、排出され
る一酸化炭素や窒素酸化物の量が増大する。また、最悪
の場合には、除害すべき有害ガスが完全には除害されず
に燃焼室から排出されてしまう可能性がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の様な
従来の燃焼式除害方法の問題点に鑑み成されたもので、
本発明の目的は、一酸化炭素や窒素酸化物の排出量が少
なく、燃焼排ガスの排出量が少なく、且つ装置のランニ
ングコストを低く抑えることができる燃焼式除害装置を
提供することにある。
従来の燃焼式除害方法の問題点に鑑み成されたもので、
本発明の目的は、一酸化炭素や窒素酸化物の排出量が少
なく、燃焼排ガスの排出量が少なく、且つ装置のランニ
ングコストを低く抑えることができる燃焼式除害装置を
提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の燃焼式除害装置
は、半導体の製造装置から排出される排ガスの除害に使
用される燃焼式除害装置において、前記排ガスに燃料ガ
ス及び空気を混合し、前記排ガス中に含まれる有害成分
を燃焼させて除害する燃焼室と、燃焼室に供給される燃
料ガスの流量を調整する燃料ガス流量調整器と、燃焼室
に供給される空気の流量を調整する空気流量調整器と、
前記製造装置から前記燃焼室へ送られる排ガスの流量を
測定する流量測定器と、前記流量測定器から送られた排
ガスの流量に基づいてその流量に見合う燃料ガス及び空
気の供給流量を算出し、その結果に基づいて前記燃料ガ
ス流量調整器及び前記空気流量調整器を制御する制御装
置と、を備えたことを特徴とする。
は、半導体の製造装置から排出される排ガスの除害に使
用される燃焼式除害装置において、前記排ガスに燃料ガ
ス及び空気を混合し、前記排ガス中に含まれる有害成分
を燃焼させて除害する燃焼室と、燃焼室に供給される燃
料ガスの流量を調整する燃料ガス流量調整器と、燃焼室
に供給される空気の流量を調整する空気流量調整器と、
前記製造装置から前記燃焼室へ送られる排ガスの流量を
測定する流量測定器と、前記流量測定器から送られた排
ガスの流量に基づいてその流量に見合う燃料ガス及び空
気の供給流量を算出し、その結果に基づいて前記燃料ガ
ス流量調整器及び前記空気流量調整器を制御する制御装
置と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】本発明の燃焼式除害装置によれば、燃焼室
へ導入される排ガスの流量を前記流量測定器を用いて測
定し、その流量に見合う最適な量の燃料ガス及び空気
を、前記制御装置からの指令に基づいて燃焼室に供給す
ることができる。従って、燃焼室内が常に完全燃焼状態
で維持され、その結果、一酸化炭素や窒素酸化物の排出
量を低く抑えることができる。また、燃料ガスの供給量
が必要最小限の値に調整されるので、装置のランニング
コストを低下させるとともに、燃焼排気ガスの排出量を
最小限に抑えることができる。
へ導入される排ガスの流量を前記流量測定器を用いて測
定し、その流量に見合う最適な量の燃料ガス及び空気
を、前記制御装置からの指令に基づいて燃焼室に供給す
ることができる。従って、燃焼室内が常に完全燃焼状態
で維持され、その結果、一酸化炭素や窒素酸化物の排出
量を低く抑えることができる。また、燃料ガスの供給量
が必要最小限の値に調整されるので、装置のランニング
コストを低下させるとともに、燃焼排気ガスの排出量を
最小限に抑えることができる。
【００１３】なお、前記製造装置から前記燃焼室へ送ら
れる排ガスの流量については、上記の様に流量測定器を
用いて直接測定する代わりに、前記製造装置に導入され
る反応ガスの流量の測定値を演算装置に送り、この演算
装置で上記の測定値に基づき排ガスの流量を算出し、そ
の結果を前記制御装置へ送ることもできる。
れる排ガスの流量については、上記の様に流量測定器を
用いて直接測定する代わりに、前記製造装置に導入され
る反応ガスの流量の測定値を演算装置に送り、この演算
装置で上記の測定値に基づき排ガスの流量を算出し、そ
の結果を前記制御装置へ送ることもできる。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１に、本発明に基づく燃焼式除
害装置の概略構成を示す。図中、１０は燃焼室、１６は
マスフローメータ（流量測定器）、１７は燃料ガス流量
調整器、１８は空気流量調整器、２０は半導体製造装
置、３０は制御装置を表わす。
害装置の概略構成を示す。図中、１０は燃焼室、１６は
マスフローメータ（流量測定器）、１７は燃料ガス流量
調整器、１８は空気流量調整器、２０は半導体製造装
置、３０は制御装置を表わす。
【００１５】半導体製造装置２０には、マスフローメー
タ２１、２２を介して反応ガス（例えば、Ｈ２、ＳｉＨ
４など）が導入され、プロセス排ガスは排出管２３を介
して排出される。
タ２１、２２を介して反応ガス（例えば、Ｈ２、ＳｉＨ
４など）が導入され、プロセス排ガスは排出管２３を介
して排出される。
【００１６】排出管２３の下流側は、燃焼式除害装置の
燃焼室１０に接続されている。排出管２３の途中にはマ
スフローメータ１６が取り付けられ、このマスフローメ
ータ１６によってプロセス排ガスの流量が測定される。
燃焼室１０には、燃料ガス供給管１２、空気供給管１３
及び燃焼排ガス排出管１４が接続されている。燃料ガス
供給管１２の途中には燃料ガス流量調整器１７が設けら
れ、空気供給管１３の途中には空気流量調整器１８が設
けられている。
燃焼室１０に接続されている。排出管２３の途中にはマ
スフローメータ１６が取り付けられ、このマスフローメ
ータ１６によってプロセス排ガスの流量が測定される。
燃焼室１０には、燃料ガス供給管１２、空気供給管１３
及び燃焼排ガス排出管１４が接続されている。燃料ガス
供給管１２の途中には燃料ガス流量調整器１７が設けら
れ、空気供給管１３の途中には空気流量調整器１８が設
けられている。
【００１７】燃焼室１０内には、排出管２３を介してプ
ロセス排ガスが導入されると同時に、燃料ガス供給管１
２を介して燃料ガスが導入され、空気供給管１３を介し
て空気が導入される。燃焼室１０内で発生した燃焼排ガ
スは、燃焼排ガス排出管１４を介して装置外へ排出され
る。なお、必要に応じて、燃焼排ガス排出管１４の下流
側に、更に、他の方式の除害装置が接続される。
ロセス排ガスが導入されると同時に、燃料ガス供給管１
２を介して燃料ガスが導入され、空気供給管１３を介し
て空気が導入される。燃焼室１０内で発生した燃焼排ガ
スは、燃焼排ガス排出管１４を介して装置外へ排出され
る。なお、必要に応じて、燃焼排ガス排出管１４の下流
側に、更に、他の方式の除害装置が接続される。
【００１８】マスフローメータ１６からの出力（プロセ
ス排ガスの流量の測定値）は、逐次、制御装置３０へ送
られる。制御装置３０は、送られたプロセス排ガスの流
量に基づいて、燃焼室１０内で完全燃焼を実現するため
に最適な燃料ガス及び空気の供給流量を算出する。制御
装置３０は、更に、燃料ガス流量調整器１７及び空気流
量調整器１８を制御して、燃料ガス及び空気の供給流量
を上記の算出された値に合わせる。
ス排ガスの流量の測定値）は、逐次、制御装置３０へ送
られる。制御装置３０は、送られたプロセス排ガスの流
量に基づいて、燃焼室１０内で完全燃焼を実現するため
に最適な燃料ガス及び空気の供給流量を算出する。制御
装置３０は、更に、燃料ガス流量調整器１７及び空気流
量調整器１８を制御して、燃料ガス及び空気の供給流量
を上記の算出された値に合わせる。
【００１９】なお、燃焼室１０へ導入されるプロセス排
ガスの流量については、上記の例の様にマスフローメー
タ１６を用いて直接測定する代わりに、図２に示すよう
に、半導体製造装置２０に導入される反応ガスの流量
を、マスフローメータ２１及び２２の出力として演算装
置３１に取り込み、それらの値に基づいてプロセス排ガ
スの流量を算出し、その結果を演算装置３１から制御装
置３０に送ることもできる。
ガスの流量については、上記の例の様にマスフローメー
タ１６を用いて直接測定する代わりに、図２に示すよう
に、半導体製造装置２０に導入される反応ガスの流量
を、マスフローメータ２１及び２２の出力として演算装
置３１に取り込み、それらの値に基づいてプロセス排ガ
スの流量を算出し、その結果を演算装置３１から制御装
置３０に送ることもできる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の燃焼式除害装置によれば、燃焼
室内が常に完全燃焼状態で維持され、その結果、一酸化
炭素や窒素酸化物の排出量を低く抑えることができる。
また、燃料ガスの供給量が必要最小限の値に調整される
ので、装置のランニングコストを低下させるとともに、
燃焼排気ガスの排出量を最小限に抑えることができる。
室内が常に完全燃焼状態で維持され、その結果、一酸化
炭素や窒素酸化物の排出量を低く抑えることができる。
また、燃料ガスの供給量が必要最小限の値に調整される
ので、装置のランニングコストを低下させるとともに、
燃焼排気ガスの排出量を最小限に抑えることができる。
【図１】本発明の燃焼式除害装置の一例を示す図
【図２】本発明の燃焼式除害装置の他の例を示す図
【図３】従来の燃焼式除害方法の一例の概要を示す図
【図４】従来の燃焼式除害方法の他の例の概要を示す図
１・・・プロセス排ガス、
２・・・燃料ガス、
３・・・空気、
４・・・燃焼排ガス、
１０・・・燃焼室、
１２・・・燃料ガス供給管、
１３・・・空気供給管、
１４・・・燃焼排ガス排出管、
１６・・・マスフローメータ（流量測定器）、
１７・・・燃料ガス流量調整器、
１８・・・空気流量調整器、
２０・・・半導体製造装置、
２１、２２・・・マスフローメータ、
２３・・・排出管、
３０・・・制御装置、
３１・・・演算装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3K062 AA16 AB01 AC19 BA02 CB01
CB04 DA07 DA32 DB06 DB12
3K078 AA06 BA20 CA02 CA12
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体の製造装置から排出される排ガス
の除害に使用される燃焼式除害装置において、 前記排ガスに燃料ガス及び空気を混合し、前記排ガス中
に含まれる有害成分を燃焼させて除害する燃焼室と、 燃焼室に供給される燃料ガスの流量を調整する燃料ガス
流量調整器と、 燃焼室に供給される空気の流量を調整する空気流量調整
器と、 前記製造装置から前記燃焼室へ送られる排ガスの流量を
測定する流量測定器と、 前記流量測定器から送られた排ガスの流量に基づいてそ
の流量に見合う燃料ガス及び空気の供給流量を算出し、
その結果に基づいて前記燃料ガス流量調整器及び前記空
気流量調整器を制御する制御装置と、 を備えたことを特徴とする燃焼式除害装置。 - 【請求項２】 半導体の製造装置から排出される排ガス
の除害に使用される燃焼式除害装置において、 前記排ガスに燃料ガス及び空気を混合し、前記排ガス中
に含まれる有害成分を燃焼させて除害する燃焼室と、 燃焼室に供給される燃料ガスの流量を調整する燃料ガス
流量調整器と、 燃焼室に供給される空気の流量を調整する空気流量調整
器と、 前記製造装置から前記燃焼室へ送られる排ガスの流量
を、前記製造装置に導入される反応ガスの流量の測定値
に基づいて算出する演算装置と、 前記演算装置から送られた排ガスの流量に基づいてその
流量に見合う燃料ガス及び空気の供給流量を算出し、そ
の結果に基づいて前記燃料ガス流量調整器及び前記空気
流量調整器を制御する制御装置と、 を備えたことを特徴とする燃焼式除害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244604A JP4690597B2 (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 燃焼式除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244604A JP4690597B2 (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 燃焼式除害装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003056828A true JP2003056828A (ja) | 2003-02-26 |
| JP4690597B2 JP4690597B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=19074507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001244604A Expired - Fee Related JP4690597B2 (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 燃焼式除害装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4690597B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080017108A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Czerniak Michael R | Gas combustion apparatus |
| JP2009082892A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Kanken Techno Co Ltd | 排ガス処理装置の温度制御方法及び該方法を用いた排ガス処理装置と排ガス処理システム |
| JP2014126342A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Edwards Kk | 除害装置 |
| CN106871139A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-06-20 | 宜兴市智博环境设备有限公司 | 一种废气焚烧输送防爆防回火安全系统 |
| CN111425869A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-07-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体设备的控制方法及系统 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103090399B (zh) * | 2011-10-28 | 2015-05-13 | 无锡华润华晶微电子有限公司 | 硅烷尾气处理装置以及方法 |
| JP2017142004A (ja) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59229109A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-22 | Rohm Co Ltd | シランガス燃焼装置 |
| JPH02119920A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-08 | Mitsubishi Jushi Eng Kk | 半導体製造装置の排ガス燃焼方法 |
| JP2963792B2 (ja) * | 1991-07-24 | 1999-10-18 | 小池酸素工業株式会社 | 有毒性排ガスの処理方法及び装置 |
| JP3866808B2 (ja) * | 1996-12-03 | 2007-01-10 | 大陽日酸株式会社 | 半導体製造工程排ガス除害装置 |
-
2001
- 2001-08-10 JP JP2001244604A patent/JP4690597B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080017108A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Czerniak Michael R | Gas combustion apparatus |
| JP2009082892A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Kanken Techno Co Ltd | 排ガス処理装置の温度制御方法及び該方法を用いた排ガス処理装置と排ガス処理システム |
| JP2014126342A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Edwards Kk | 除害装置 |
| CN106871139A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-06-20 | 宜兴市智博环境设备有限公司 | 一种废气焚烧输送防爆防回火安全系统 |
| CN111425869A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-07-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体设备的控制方法及系统 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4690597B2 (ja) | 2011-06-01 |
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