JP2003055754A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JP2003055754A JP2003055754A JP2001243332A JP2001243332A JP2003055754A JP 2003055754 A JP2003055754 A JP 2003055754A JP 2001243332 A JP2001243332 A JP 2001243332A JP 2001243332 A JP2001243332 A JP 2001243332A JP 2003055754 A JP2003055754 A JP 2003055754A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上に蒸着薄膜を形成させる真空蒸着法に
おいて、ヒーター等の特別な付帯設備を増設することな
く、防着板の膜付着力を向上させること。 【解決手段】 蒸発源を入れたるつぼ１をその設置台２
に載置し、るつぼ１と対向する位置にガラス基板３を配
置し、次の関係が成立するように真空蒸着機内の蒸発源
に対して防着板４を配置する。（１）防着板４に対する
蒸発源からの入射角が６０〜９０°になるように防着板
４を配置する。（２）防着板４に対する蒸発源からの入
射角が６０°以下になる場合は防着板に蒸発源からの蒸
着物が堆積するのを防止するひさし７を防着板４に取り
付ける。前記入射角が６０°以上であると防着板４また
はひさし７上に粒状の緻密な蒸着膜５が得られ、剥離す
ることがない。
おいて、ヒーター等の特別な付帯設備を増設することな
く、防着板の膜付着力を向上させること。 【解決手段】 蒸発源を入れたるつぼ１をその設置台２
に載置し、るつぼ１と対向する位置にガラス基板３を配
置し、次の関係が成立するように真空蒸着機内の蒸発源
に対して防着板４を配置する。（１）防着板４に対する
蒸発源からの入射角が６０〜９０°になるように防着板
４を配置する。（２）防着板４に対する蒸発源からの入
射角が６０°以下になる場合は防着板に蒸発源からの蒸
着物が堆積するのを防止するひさし７を防着板４に取り
付ける。前記入射角が６０°以上であると防着板４また
はひさし７上に粒状の緻密な蒸着膜５が得られ、剥離す
ることがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基板上に薄膜を形成
させる成膜装置に関する。
させる成膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板上に薄膜を形成させるための成膜法
としては、真空蒸着法、スパッタリング法、減圧または
常圧物理蒸着法、プラズマ化学蒸着法、化学蒸着法など
を用いて成膜ができる。
としては、真空蒸着法、スパッタリング法、減圧または
常圧物理蒸着法、プラズマ化学蒸着法、化学蒸着法など
を用いて成膜ができる。
【０００３】例えば、真空蒸着機で成膜する方法では、
真空状態の室内に対向して蒸発源とガラス基板を配置
し、蒸発源からガラス基板上に蒸発物質の蒸気をガラス
基板上に蒸着して薄膜を形成する。
真空状態の室内に対向して蒸発源とガラス基板を配置
し、蒸発源からガラス基板上に蒸発物質の蒸気をガラス
基板上に蒸着して薄膜を形成する。
【０００４】前記真空蒸着機では、図６に示すように蒸
発物質がガラス基板以外の方向に不用意に拡散しないよ
うに防着板を蒸発源の周囲から末広がり状に蒸発源に対
して所定の傾斜角度をもって配置している。
発物質がガラス基板以外の方向に不用意に拡散しないよ
うに防着板を蒸発源の周囲から末広がり状に蒸発源に対
して所定の傾斜角度をもって配置している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記真空蒸着機におい
ては、その使用時間が長いと、蒸着機内で膜付着を防止
する防着板に付着した蒸着材料を含む付着膜が生産時に
剥がれ落ちてガラス基板上に形成された蒸着薄膜上に載
り、外観欠点となる問題があった。
ては、その使用時間が長いと、蒸着機内で膜付着を防止
する防着板に付着した蒸着材料を含む付着膜が生産時に
剥がれ落ちてガラス基板上に形成された蒸着薄膜上に載
り、外観欠点となる問題があった。
【０００６】特開平９−１６５６７９号公報には、半導
体装置を製造する過程で用いられるプラズマ中で加速さ
れたイオンでターゲットの表面をスパッタし、ウエハ上
のスパッタ粒子を堆積する方法で配線などの薄膜を成膜
するスパッタリング法が記載されているが、該スパッタ
リング法において、パーティクル発生抑圧方法としてス
パッター装置のプラズマシールドを加熱してシールドか
らのパーティクル発生を低減させる方法について前記公
報には開示されている。ただし、この方法では加熱装置
が必要なため、高価な設備投資が必要である。
体装置を製造する過程で用いられるプラズマ中で加速さ
れたイオンでターゲットの表面をスパッタし、ウエハ上
のスパッタ粒子を堆積する方法で配線などの薄膜を成膜
するスパッタリング法が記載されているが、該スパッタ
リング法において、パーティクル発生抑圧方法としてス
パッター装置のプラズマシールドを加熱してシールドか
らのパーティクル発生を低減させる方法について前記公
報には開示されている。ただし、この方法では加熱装置
が必要なため、高価な設備投資が必要である。
【０００７】本発明の課題は、基板上に蒸着薄膜を形成
させる成膜装置において、ヒーター等の特別な付帯設備
を増設することなく、防着板の膜付着力を向上させるこ
とである。
させる成膜装置において、ヒーター等の特別な付帯設備
を増設することなく、防着板の膜付着力を向上させるこ
とである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、防着板
に対する蒸発源からの入射角度θが６０°〜９０°にな
るように防着板を蒸発源設定台に対して末広がり状に配
置することで解決できる。
に対する蒸発源からの入射角度θが６０°〜９０°にな
るように防着板を蒸発源設定台に対して末広がり状に配
置することで解決できる。
【０００９】本発明では、次の関係が成立するように成
膜装置内の蒸発源に対して防着板を配置する。 （１）防着板に対する蒸発源からの入射角が６０〜９０
°になるように防着板を配置する。 （２）防着板に対する蒸発源からの入射角が６０°以下
になる場合は防着板に蒸発源からの蒸着物が堆積するの
を防止するひさしを防着板に並列状に複数取り付ける。
膜装置内の蒸発源に対して防着板を配置する。 （１）防着板に対する蒸発源からの入射角が６０〜９０
°になるように防着板を配置する。 （２）防着板に対する蒸発源からの入射角が６０°以下
になる場合は防着板に蒸発源からの蒸着物が堆積するの
を防止するひさしを防着板に並列状に複数取り付ける。
【００１０】本発明の成膜方法としては、真空蒸着法、
スパッタリング法、減圧または常圧物理蒸着法、プラズ
マ化学蒸着法、化学蒸着法などがある。
スパッタリング法、減圧または常圧物理蒸着法、プラズ
マ化学蒸着法、化学蒸着法などがある。
【００１１】
【作用】防着板に対する蒸発源からの入射角θを種々変
更して防着板上の付着膜をこすりとり、パーティクルの
発生状況を確認した結果、入射角θが６０°以上になる
とパーティクルの発生が大きく減少することが分かっ
た。その結果を図５に示す。
更して防着板上の付着膜をこすりとり、パーティクルの
発生状況を確認した結果、入射角θが６０°以上になる
とパーティクルの発生が大きく減少することが分かっ
た。その結果を図５に示す。
【００１２】前記入射角θが３０°である場合の防着板
上には図４（ｂ）に示すように柱状の粗い蒸着膜が得ら
れる。この場合得られる柱状の蒸着膜は金属棒で容易に
こすり取ることができた。
上には図４（ｂ）に示すように柱状の粗い蒸着膜が得ら
れる。この場合得られる柱状の蒸着膜は金属棒で容易に
こすり取ることができた。
【００１３】そこで、蒸発源からの入射角θ＝６０〜９
０°にした防着板を蒸着機内に配置することで防着板上
の付着膜が堆積するのを防止することができることを本
発明者らは見い出した。
０°にした防着板を蒸着機内に配置することで防着板上
の付着膜が堆積するのを防止することができることを本
発明者らは見い出した。
【００１４】前記入射角θが６０°である場合の防着板
上には図４（ａ）に示すように粒状の緻密な蒸着膜が得
られた。この場合得られる粒状の蒸着膜は金属棒でこす
っても容易にこすり取ることができなかった。
上には図４（ａ）に示すように粒状の緻密な蒸着膜が得
られた。この場合得られる粒状の蒸着膜は金属棒でこす
っても容易にこすり取ることができなかった。
【００１５】以上の現象を見い出したことにより、蒸発
源からの入射角θを６０°未満にした防着板を真空蒸着
機内に配置する場合には、防着板に蒸発源からの蒸着物
が堆積するのを防止するひさしを複数個、防着板上に並
列配置することで防着板の膜付着力を向上させることが
できた。
源からの入射角θを６０°未満にした防着板を真空蒸着
機内に配置する場合には、防着板に蒸発源からの蒸着物
が堆積するのを防止するひさしを複数個、防着板上に並
列配置することで防着板の膜付着力を向上させることが
できた。
【００１６】複数の同一高さのひさしを防着板に並列配
置するが、防着板に対する取り付け角度は任意とし、従
って、ひさしの蒸発源に対する入射角も任意とする。
置するが、防着板に対する取り付け角度は任意とし、従
って、ひさしの蒸発源に対する入射角も任意とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の形態につい
て図面と共に説明する。図１には本発明の第一の実施の
形態の真空蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を
入れたるつぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と
対向する位置にガラス基板３を配置する。蒸発源１から
の入射角が６０°〜９０°になるように防着板４を配置
する。例えば、ステンレス（ＳＵＳ３０４）製の平板状
の防着板４は蒸発源設定台に対して末広がり状に対向位
置に配置する。
て図面と共に説明する。図１には本発明の第一の実施の
形態の真空蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を
入れたるつぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と
対向する位置にガラス基板３を配置する。蒸発源１から
の入射角が６０°〜９０°になるように防着板４を配置
する。例えば、ステンレス（ＳＵＳ３０４）製の平板状
の防着板４は蒸発源設定台に対して末広がり状に対向位
置に配置する。
【００１８】図１のるつぼ１とガラス基板３と防着板４
の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１内
に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料であるＴ
ｉＯ ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料であるＳ
ｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板４
近傍の温度は、おおよそ１５０℃前後でガラス基板３上
に蒸着させる。ガラス基板３と防着板４上に積層された
蒸着膜５は図４（ａ）に示す密な粒状構造であった。Ｓ
ＵＳ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても発塵は起
こらなかった。
の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１内
に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料であるＴ
ｉＯ ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料であるＳ
ｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板４
近傍の温度は、おおよそ１５０℃前後でガラス基板３上
に蒸着させる。ガラス基板３と防着板４上に積層された
蒸着膜５は図４（ａ）に示す密な粒状構造であった。Ｓ
ＵＳ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても発塵は起
こらなかった。
【００１９】図２には本発明の第二の実施の形態の真空
蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を入れたるつ
ぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と対向する位
置にガラス基板３を配置する。蒸発源からの入射角が６
０°〜９０°になるように防着板４を配置するが、領域
Ａにおける防着板４の表面は蒸発源からの入射角θが６
０°未満になるが、その領域の防着板４の表面に並列配
置されたひさし７を蒸発源からの入射角θが６０°〜９
０°になるように取り付ける。
蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を入れたるつ
ぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と対向する位
置にガラス基板３を配置する。蒸発源からの入射角が６
０°〜９０°になるように防着板４を配置するが、領域
Ａにおける防着板４の表面は蒸発源からの入射角θが６
０°未満になるが、その領域の防着板４の表面に並列配
置されたひさし７を蒸発源からの入射角θが６０°〜９
０°になるように取り付ける。
【００２０】図２のるつぼ１とガラス基板３及び防着板
４の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１
内に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＳｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板
近傍の温度はおおよそ１５０℃前後でガラス基板３上に
蒸着させる。ガラス基板３と防着板４とひさし７上に積
層された蒸着膜５は図４（ａ）に示す密な粒状構造であ
った。ＳＵＳ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても
発塵は起こらなかった。
４の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１
内に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＳｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板
近傍の温度はおおよそ１５０℃前後でガラス基板３上に
蒸着させる。ガラス基板３と防着板４とひさし７上に積
層された蒸着膜５は図４（ａ）に示す密な粒状構造であ
った。ＳＵＳ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても
発塵は起こらなかった。
【００２１】図３には本発明の第三の実施の形態の真空
蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を入れたるつ
ぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と対向する位
置にガラス基板３を配置する。防着板４の蒸発源からの
入射角θが６０°未満になるが、防着板４全体の表面に
並列配置されたひさし７を取り付けている。
蒸着機の内部の要部概略図を示す。蒸発源を入れたるつ
ぼ１をその設置台２に載置し、該るつぼ１と対向する位
置にガラス基板３を配置する。防着板４の蒸発源からの
入射角θが６０°未満になるが、防着板４全体の表面に
並列配置されたひさし７を取り付けている。
【００２２】図３のるつぼ１とガラス基板３及び防着板
４の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１
内に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＳｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板
４の近傍の温度はおおよそ１５０℃前後でガラス基板３
上に蒸着させる。ガラス基板３とひさし７上に積層され
た蒸着膜５（防着板４には実質的に蒸着膜５は形成され
ない）は図４（ａ）に示す密な粒状構造であった。ＳＵ
Ｓ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても発塵は起こ
らなかった。なお、防着板４に蒸着膜５が形成されない
ようにひさし７の設置角度をうまく設計することが好ま
しい。
４の配置関係からなる真空蒸着機内において、るつぼ１
内に蒸発源（ＴｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜を形成するための原料である
ＳｉＯ２）から常法通り、７Ｅ−５ｍｂａｒで、防着板
４の近傍の温度はおおよそ１５０℃前後でガラス基板３
上に蒸着させる。ガラス基板３とひさし７上に積層され
た蒸着膜５（防着板４には実質的に蒸着膜５は形成され
ない）は図４（ａ）に示す密な粒状構造であった。ＳＵ
Ｓ３０４製の金属棒で蒸着膜表面を擦っても発塵は起こ
らなかった。なお、防着板４に蒸着膜５が形成されない
ようにひさし７の設置角度をうまく設計することが好ま
しい。
【００２３】前記本発明の実施の形態の防着板４及び／
又はひさし７は蒸着膜５のガラス基板３との密着性を、
より改善する（高める）ためサンドブラスト処理した板
を用いることもできる。
又はひさし７は蒸着膜５のガラス基板３との密着性を、
より改善する（高める）ためサンドブラスト処理した板
を用いることもできる。
【００２４】前記本発明の実施の形態の蒸着材料として
はＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜形成原料だけでなく全ての
蒸着材料を用いることができる。
はＴｉＯ２及びＳｉＯ２の膜形成原料だけでなく全ての
蒸着材料を用いることができる。
【００２５】（比較例）図６に示す真空蒸着機の防着板
の配置で、領域Ａにおける防着板４の表面は蒸発源から
の入射角θが６０°未満になるが、本発明の実施の形態
と同様な手順で、同一蒸着物質を蒸着させると、領域Ａ
の防着板４の表面に積層された蒸着膜は図４（ｂ）に示
す粗い柱状構造であった。ＳＵＳ３０４製の金属棒で表
面をこするとフレーク状の発塵が発生した。
の配置で、領域Ａにおける防着板４の表面は蒸発源から
の入射角θが６０°未満になるが、本発明の実施の形態
と同様な手順で、同一蒸着物質を蒸着させると、領域Ａ
の防着板４の表面に積層された蒸着膜は図４（ｂ）に示
す粗い柱状構造であった。ＳＵＳ３０４製の金属棒で表
面をこするとフレーク状の発塵が発生した。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、従来技術のようなシー
ルド加熱のヒーターは必要ない。また、防着板への付着
膜の膜密着が増加して、膜強度が上がり、付着膜の剥が
れが減少する。
ルド加熱のヒーターは必要ない。また、防着板への付着
膜の膜密着が増加して、膜強度が上がり、付着膜の剥が
れが減少する。
【図１】 本発明の第一の実施の形態の真空蒸着機の内
部の要部概略図を示す。
部の要部概略図を示す。
【図２】 本発明の第二の実施の形態の真空蒸着機の内
部の要部概略図を示す。
部の要部概略図を示す。
【図３】 本発明の第三の実施の形態の真空蒸着機の内
部の要部概略図を示す。
部の要部概略図を示す。
【図４】 本発明の実施の形態と従来技術の真空蒸着機
を用いて得られる蒸着膜の構造図である。
を用いて得られる蒸着膜の構造図である。
【図５】 防着板に対する蒸発源からの入射角θを種々
変更して防着板上の付着膜をこすり、パーティクルの発
生状況を確認した結果を示す。
変更して防着板上の付着膜をこすり、パーティクルの発
生状況を確認した結果を示す。
【図６】 従来技術の真空蒸着機の内部の要部概略図を
示す。
示す。
１ るつぼ ２ るつぼ設置台
３ ガラス基板 ４ 防着板
５ 蒸着膜 ７ ひさし
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 荻野 悦男
大阪府大阪市中央区北浜四丁目７番28号
日本板硝子株式会社内
Ｆターム(参考） 4K029 DA10
Claims (2)
- 【請求項１】 蒸発源と該蒸発源に対向する位置に配置
された基板と蒸発源の近傍に防着板を配置した成膜装置
において、 防着板に対する蒸発源からの入射角が６０〜９０°にな
るように防着板を配置したことを特徴とする成膜装置。 - 【請求項２】 蒸発源と該蒸発源に対向する位置に配置
された基板と蒸発源の近傍に防着板を配置した成膜装置
において、 防着板に対する蒸発源からの入射角が６０°以下になる
場合は防着板に蒸発源からの蒸着物が堆積するのを防止
するひさしを防着板に並列状に複数取り付けたことを特
徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001243332A JP2003055754A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001243332A JP2003055754A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003055754A true JP2003055754A (ja) | 2003-02-26 |
Family
ID=19073447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001243332A Pending JP2003055754A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003055754A (ja) |
-
2001
- 2001-08-10 JP JP2001243332A patent/JP2003055754A/ja active Pending
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