JP2003055343A - ハロゲノメチルピロール化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物 - Google Patents
ハロゲノメチルピロール化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物Info
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- JP2003055343A JP2003055343A JP2001250105A JP2001250105A JP2003055343A JP 2003055343 A JP2003055343 A JP 2003055343A JP 2001250105 A JP2001250105 A JP 2001250105A JP 2001250105 A JP2001250105 A JP 2001250105A JP 2003055343 A JP2003055343 A JP 2003055343A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】機能製品、農薬、医薬等の製造中間体として有
用なハロゲノメチルピロール化合物の簡便かつ工業的に
有利に製造する方法、及び新規なハロゲノメチルピロー
ル化合物を提供する。 【解決手段】ヒドロキシメチルピロール化合物(1)に
ハロゲン化水素(HY)を反応させることを特徴とする
ハロゲノメチルピロール化合物(2)の製造方法、及び
ハロゲノメチルピロール化合物(2)(AがC1〜C6
アルコキシカルボニル基である化合物を除く。)。 【化1】 〔AはC1〜C6アルキル基、置換基を有していてもよ
いフェニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1
〜C6ハロアルキルカルボニル基、C1〜C6アルコキ
シカルボニル基等を表し、Xはハロゲン原子、C1〜C
6アルキル基等を表し、Yはハロゲン原子を表し、nは
0又は1を表し、mは0〜3を表す。〕
用なハロゲノメチルピロール化合物の簡便かつ工業的に
有利に製造する方法、及び新規なハロゲノメチルピロー
ル化合物を提供する。 【解決手段】ヒドロキシメチルピロール化合物(1)に
ハロゲン化水素(HY)を反応させることを特徴とする
ハロゲノメチルピロール化合物(2)の製造方法、及び
ハロゲノメチルピロール化合物(2)(AがC1〜C6
アルコキシカルボニル基である化合物を除く。)。 【化1】 〔AはC1〜C6アルキル基、置換基を有していてもよ
いフェニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1
〜C6ハロアルキルカルボニル基、C1〜C6アルコキ
シカルボニル基等を表し、Xはハロゲン原子、C1〜C
6アルキル基等を表し、Yはハロゲン原子を表し、nは
0又は1を表し、mは0〜3を表す。〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、機能製品、農薬、
医薬等の製造中間体として有用なハロゲノメチルピロー
ル化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物
に関する。
医薬等の製造中間体として有用なハロゲノメチルピロー
ル化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物
に関する。
【0002】
【従来の技術】ピロール環の炭素原子にハロゲノメチル
基が結合した化合物(以下「ハロゲノメチルピロール化
合物」という。)は、機能製品、農薬、医薬等の製造中
間体として有用である。従来、ピロール環の炭素原子に
ヒドロキシメチル基が結合した化合物(以下「ヒドロキ
シメチルピロール化合物」という。)のヒドロキシメチ
ル基をハロゲノメチル基に変換する方法としては、例え
ば、(1)1−t−ブトキシカルボニル−3,4−ジ
(ヒドロキシメチル)ピロールに、テトラヒドロフラン
中で、N−ブロモスクシンイミド及びトリフェニルホス
フィンを反応させて、1−t−ブトキシカルボニル−
3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールを得る方法(特表
平8−500591号公報)、(2)ピロール環にヒド
ロキシメチル基を有するポルフィリン化合物に、スルホ
ニルクロリドを反応させて、該ヒドロキシメチル基をア
リールスルホニルオキシメチル基又はアルキルスルホニ
ルオキシメチル基とし、さらに塩化リチウム等のアルカ
リ金属ハロゲン化物を反応させて、ピロール環にハロゲ
ノメチル基を有するポルフィリン化合物を得る方法(特
公平4−27986号公報)、及び(3)ピロール環に
ヒドロキシメチル基を有するポルフィリン化合物にハロ
ゲン化チオニルを反応させ、ピロール環にハロゲノメチ
ル基を有するポルフィリン化合物を得る方法(同公報)
等が知られている。
基が結合した化合物(以下「ハロゲノメチルピロール化
合物」という。)は、機能製品、農薬、医薬等の製造中
間体として有用である。従来、ピロール環の炭素原子に
ヒドロキシメチル基が結合した化合物(以下「ヒドロキ
シメチルピロール化合物」という。)のヒドロキシメチ
ル基をハロゲノメチル基に変換する方法としては、例え
ば、(1)1−t−ブトキシカルボニル−3,4−ジ
(ヒドロキシメチル)ピロールに、テトラヒドロフラン
中で、N−ブロモスクシンイミド及びトリフェニルホス
フィンを反応させて、1−t−ブトキシカルボニル−
3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールを得る方法(特表
平8−500591号公報)、(2)ピロール環にヒド
ロキシメチル基を有するポルフィリン化合物に、スルホ
ニルクロリドを反応させて、該ヒドロキシメチル基をア
リールスルホニルオキシメチル基又はアルキルスルホニ
ルオキシメチル基とし、さらに塩化リチウム等のアルカ
リ金属ハロゲン化物を反応させて、ピロール環にハロゲ
ノメチル基を有するポルフィリン化合物を得る方法(特
公平4−27986号公報)、及び(3)ピロール環に
ヒドロキシメチル基を有するポルフィリン化合物にハロ
ゲン化チオニルを反応させ、ピロール環にハロゲノメチ
ル基を有するポルフィリン化合物を得る方法(同公報)
等が知られている。
【0003】しかしながら、(1)の方法においては目
的物と副生するトリフェニルホスフィンオキサイドとを
分離する工程が必要となり、また、上記(1)〜(3)
の方法は、いずれも高価な試薬を必要とするため、工業
的に大量生産する上で有利な方法とは言えなかった。
的物と副生するトリフェニルホスフィンオキサイドとを
分離する工程が必要となり、また、上記(1)〜(3)
の方法は、いずれも高価な試薬を必要とするため、工業
的に大量生産する上で有利な方法とは言えなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる実状に
鑑みてなされたものであり、ヒドロキシメチルピロール
化合物を原料として、ハロゲノメチルピロール化合物を
簡便かつ工業的に有利に製造する方法、及び新規なハロ
ゲノメチルピロール化合物を提供することを課題とす
る。
鑑みてなされたものであり、ヒドロキシメチルピロール
化合物を原料として、ハロゲノメチルピロール化合物を
簡便かつ工業的に有利に製造する方法、及び新規なハロ
ゲノメチルピロール化合物を提供することを課題とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、ヒドロキシメチルピロ
ール化合物にハロゲン化水素を反応させることにより、
ハロゲノメチルピロール化合物を簡便かつ効率よく得る
ことができることを見出し、本発明を完成するに到っ
た。
を解決すべく鋭意検討した結果、ヒドロキシメチルピロ
ール化合物にハロゲン化水素を反応させることにより、
ハロゲノメチルピロール化合物を簡便かつ効率よく得る
ことができることを見出し、本発明を完成するに到っ
た。
【0006】すなわち、本発明は第1に、一般式(1)
【0007】
【化4】
【0008】(式中、AはC1〜C6アルキル基、置換
基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していて
もよいフェニルスルホニル基、C1〜C6アルキルスル
ホニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホル
ミル基、C1〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C6
ハロアルキルカルボニル基、置換基を有していてもよい
ベンゾイル基又はC1〜C6アルコキシカルボニル基を
表し、Xはハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、ニト
ロ基、シアノ基又は置換基を有していてもよいフェニル
基を表し、nは0又は1を表し、nが0のとき、mは0
又は1〜3の整数を表し、nが1のとき、mは0、1又
は2を表す。また、mが2以上の場合、Xは同一又は相
異なっていてもよい。)で表される化合物とハロゲン化
水素を反応させることを特徴とする、一般式(2)
基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していて
もよいフェニルスルホニル基、C1〜C6アルキルスル
ホニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホル
ミル基、C1〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C6
ハロアルキルカルボニル基、置換基を有していてもよい
ベンゾイル基又はC1〜C6アルコキシカルボニル基を
表し、Xはハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、ニト
ロ基、シアノ基又は置換基を有していてもよいフェニル
基を表し、nは0又は1を表し、nが0のとき、mは0
又は1〜3の整数を表し、nが1のとき、mは0、1又
は2を表す。また、mが2以上の場合、Xは同一又は相
異なっていてもよい。)で表される化合物とハロゲン化
水素を反応させることを特徴とする、一般式(2)
【0009】
【化5】
【0010】(式中、A、X、m及びnは前記と同じ意
味を表し、Yはハロゲン原子を表す。)で表されるハロ
ゲノメチルピロール化合物の製造方法を提供する。
味を表し、Yはハロゲン原子を表す。)で表されるハロ
ゲノメチルピロール化合物の製造方法を提供する。
【0011】また、本発明は第2に、一般式(3)
【0012】
【化6】
【0013】(式中、A1はC1〜C6アルキル基、置
換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有してい
てもよいフェニルスルホニル基、C1〜C6アルキルス
ルホニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホ
ルミル基、C1〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C
6ハロアルキルカルボニル基又は置換基を有していても
よいベンゾイル基を表し、X、Y、m及びnは前記と同
じ意味を表す。)で表される新規ハロゲノメチルピロー
ル化合物を提供する。
換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有してい
てもよいフェニルスルホニル基、C1〜C6アルキルス
ルホニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホ
ルミル基、C1〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C
6ハロアルキルカルボニル基又は置換基を有していても
よいベンゾイル基を表し、X、Y、m及びnは前記と同
じ意味を表す。)で表される新規ハロゲノメチルピロー
ル化合物を提供する。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法は、一般式
(1)で表されるヒドロキシメチルピロール化合物にハ
ロゲン化水素を反応させることを特徴とする。
(1)で表されるヒドロキシメチルピロール化合物にハ
ロゲン化水素を反応させることを特徴とする。
【0015】一般式(1)及び(2)中、Aは、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等のC1〜C6
アルキル基;置換基を有していてもよいフェニル基;置
換基を有していてもよいフェニルスルホニル基;メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスル
ホニル基、イソプロピルスルホニル基等のC1〜C6ア
ルキルスルホニル基;トリフルオロメチルスルホニル基
等のC1〜C6ハロアルキルスルホニル基;ホルミル
基;アセチル基、プロピオニル基等のC1〜C6アルキ
ルカルボニル基;クロロアセチル基、ジクロロアセチル
基、トリフルオロアセチル基等のC1〜C6ハロアルキ
ルカルボニル基;置換基を有していてもよいベンゾイル
基;又は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカ
ルボニル基等のC1〜C6アルコキシカルボニル基を表
す。
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等のC1〜C6
アルキル基;置換基を有していてもよいフェニル基;置
換基を有していてもよいフェニルスルホニル基;メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスル
ホニル基、イソプロピルスルホニル基等のC1〜C6ア
ルキルスルホニル基;トリフルオロメチルスルホニル基
等のC1〜C6ハロアルキルスルホニル基;ホルミル
基;アセチル基、プロピオニル基等のC1〜C6アルキ
ルカルボニル基;クロロアセチル基、ジクロロアセチル
基、トリフルオロアセチル基等のC1〜C6ハロアルキ
ルカルボニル基;置換基を有していてもよいベンゾイル
基;又は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカ
ルボニル基等のC1〜C6アルコキシカルボニル基を表
す。
【0016】前記置換基を有していてもよい(フェニル
基、フェニルスルホニル基又はベンゾイル基)の置換基
としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチ
ル基等のC1〜C6アルキル基;メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキ
シ基等のC1〜C6アルコキシ基等が挙げられる。ま
た、前記フェニル基、フェニルスルホニル基又はベンゾ
イル基は、ベンゼン環の任意の位置に同一又は相異なる
複数の置換基を有していてもよい。
基、フェニルスルホニル基又はベンゾイル基)の置換基
としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチ
ル基等のC1〜C6アルキル基;メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキ
シ基等のC1〜C6アルコキシ基等が挙げられる。ま
た、前記フェニル基、フェニルスルホニル基又はベンゾ
イル基は、ベンゼン環の任意の位置に同一又は相異なる
複数の置換基を有していてもよい。
【0017】Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のC1〜C6ア
ルキル基;ニトロ基;シアノ基;又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を表す。置換基を有していてもよい
フェニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチ
ル基、エチル基等のC1〜C6アルキル基;メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基等のC1〜C6アルコキシ基等が挙
げられる。また、前記フェニル基は、ベンゼン環の任意
の位置に同一又は相異なる複数の置換基を有していても
よい。Yは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子を表し、nは0又は1を表す。ま
た、nが0のとき、mは0又は1〜3の整数を表し、n
が1のとき、mは0、1又は2を表す。mが2以上の場
合、Xは同一又は相異なっていてもよい。
のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のC1〜C6ア
ルキル基;ニトロ基;シアノ基;又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を表す。置換基を有していてもよい
フェニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチ
ル基、エチル基等のC1〜C6アルキル基;メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基等のC1〜C6アルコキシ基等が挙
げられる。また、前記フェニル基は、ベンゼン環の任意
の位置に同一又は相異なる複数の置換基を有していても
よい。Yは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子を表し、nは0又は1を表す。ま
た、nが0のとき、mは0又は1〜3の整数を表し、n
が1のとき、mは0、1又は2を表す。mが2以上の場
合、Xは同一又は相異なっていてもよい。
【0018】本発明に用いられるハロゲン化水素として
は、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が
挙げられる。これらの中でも、取扱い性及び効率よく目
的物を得ることができること等から、塩化水素又は臭化
水素の使用が好ましく、臭化水素の使用が特に好まし
い。
は、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が
挙げられる。これらの中でも、取扱い性及び効率よく目
的物を得ることができること等から、塩化水素又は臭化
水素の使用が好ましく、臭化水素の使用が特に好まし
い。
【0019】反応は、有機溶媒を用いなくても行うこと
ができるが、有機溶媒を用いて行うのが好ましい。有機
溶媒を用いる場合は、一般式(1)で表される化合物の
有機溶媒溶液に、ハロゲン化水素を添加することで、効
率良く反応を進行させることができる。
ができるが、有機溶媒を用いて行うのが好ましい。有機
溶媒を用いる場合は、一般式(1)で表される化合物の
有機溶媒溶液に、ハロゲン化水素を添加することで、効
率良く反応を進行させることができる。
【0020】用いられる不活性有機溶媒としては、例え
ば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン等
の炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラハイドロフラ
ン等のエーテル類;酢酸エチル等のエステル類等が挙げ
られる。これらの中でも、ジクロロメタン等のハロゲン
化炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類又はジエ
チルエーテル等のエーテル類の使用が好ましい。これら
の有機溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を混合し
て用いることができる。有機溶媒の使用量は、一般式
(1)で表される化合物1モルに対し、通常100〜1
0,000mlの範囲である。
ば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン等
の炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラハイドロフラ
ン等のエーテル類;酢酸エチル等のエステル類等が挙げ
られる。これらの中でも、ジクロロメタン等のハロゲン
化炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類又はジエ
チルエーテル等のエーテル類の使用が好ましい。これら
の有機溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を混合し
て用いることができる。有機溶媒の使用量は、一般式
(1)で表される化合物1モルに対し、通常100〜1
0,000mlの範囲である。
【0021】一般式(1)で表される化合物とハロゲン
化水素を反応させる方法として、より具体的には、
(a)一般式(1)で表される化合物の不活性溶媒溶液
に、ハロゲン化水素ガスを吹き込む方法、(b)一般式
(1)で表される化合物の不活性溶媒溶液に、ハロゲン
化水素の水溶液を添加する方法等が挙げられる。これら
の中でも本発明においては、操作が簡便であること及び
高収率で目的物が得られることから、(b)の方法が好
ましい。ハロゲン化水素水溶液を使用する場合のハロゲ
ン化水素濃度は、通常10重量%〜90重量%、好まし
くは30重量%〜60重量%の範囲である。
化水素を反応させる方法として、より具体的には、
(a)一般式(1)で表される化合物の不活性溶媒溶液
に、ハロゲン化水素ガスを吹き込む方法、(b)一般式
(1)で表される化合物の不活性溶媒溶液に、ハロゲン
化水素の水溶液を添加する方法等が挙げられる。これら
の中でも本発明においては、操作が簡便であること及び
高収率で目的物が得られることから、(b)の方法が好
ましい。ハロゲン化水素水溶液を使用する場合のハロゲ
ン化水素濃度は、通常10重量%〜90重量%、好まし
くは30重量%〜60重量%の範囲である。
【0022】ハロゲン化水素の使用量は、一般式(1)
で表される化合物のヒドロキシ基に対して、通常1当量
〜300当量、好ましくは4当量〜50当量の範囲であ
る。反応温度は、通常−20℃〜溶媒の沸点までの温度
範囲、好ましくは0℃〜60℃、より好ましくは0℃〜
室温である。反応は、通常0.5〜48時間、好ましく
は0.5時間〜10時間で終了する。
で表される化合物のヒドロキシ基に対して、通常1当量
〜300当量、好ましくは4当量〜50当量の範囲であ
る。反応温度は、通常−20℃〜溶媒の沸点までの温度
範囲、好ましくは0℃〜60℃、より好ましくは0℃〜
室温である。反応は、通常0.5〜48時間、好ましく
は0.5時間〜10時間で終了する。
【0023】反応終了後は、通常の後処理操作に従って
単離・精製を行い、目的物を効率よく得ることができ
る。目的物の構造は、NMR、IR、MASSスペクト
ル等の各種スペクトルの測定を行うことにより決定する
ことができる。
単離・精製を行い、目的物を効率よく得ることができ
る。目的物の構造は、NMR、IR、MASSスペクト
ル等の各種スペクトルの測定を行うことにより決定する
ことができる。
【0024】出発原料となる一般式(1)で表される化
合物は、例えば、WO94/4531号公報、USP.
5428158号公報等に記載の公知の方法で製造する
ことができる。例えば、3,4−ジ(ヒドロキシメチ
ル)ピロール化合物は、マレイン酸ジアルキルエステル
又はフマル酸ジアルキルエステルとトシルメチルイソシ
アニド(Tosmic)を塩基存在下に反応させて、
3,4−ジアルコキシカルボニルピロール化合物を得た
後、ピロール環の窒素原子を保護基により保護し、次い
で還元することにより得ることができる(下記反応式参
照)。
合物は、例えば、WO94/4531号公報、USP.
5428158号公報等に記載の公知の方法で製造する
ことができる。例えば、3,4−ジ(ヒドロキシメチ
ル)ピロール化合物は、マレイン酸ジアルキルエステル
又はフマル酸ジアルキルエステルとトシルメチルイソシ
アニド(Tosmic)を塩基存在下に反応させて、
3,4−ジアルコキシカルボニルピロール化合物を得た
後、ピロール環の窒素原子を保護基により保護し、次い
で還元することにより得ることができる(下記反応式参
照)。
【0025】
【化7】
【0026】(式中、r及びr’はそれぞれ独立してC
1〜C6アルキル基を表し、Aは前記と同じ意味を表
す。)
1〜C6アルキル基を表し、Aは前記と同じ意味を表
す。)
【0027】本発明の第2は、前記一般式(3)で表さ
れる新規ハロゲノメチルピロール化合物である。一般式
(3)において、X、Y、m及びnは、前記と同じ意味
を表す。A1は、C1〜C6アルコキシアルキル基を除
く前記Aと同じ意味を表す。
れる新規ハロゲノメチルピロール化合物である。一般式
(3)において、X、Y、m及びnは、前記と同じ意味
を表す。A1は、C1〜C6アルコキシアルキル基を除
く前記Aと同じ意味を表す。
【0028】本発明の一般式(3)で表される化合物の
具体例としては、1−メチル−3−クロロメチルピロー
ル、1−メチル−3−ブロモメチルピロール、1−エチ
ル−3−クロロメチルピロール、1−エチル−3−ブロ
モメチルピロール、1−フェニル−3−クロロメチルピ
ロール、1−フェニル−3−ブロモメチルピロール、1
−(p−クロロフェニル)−3−クロロメチルピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−3−ブロモメチルピ
ロール、1−(p−メチルフェニル)−3−クロロメチ
ルピロール、1−(p−メチルフェニル)−3−ブロモ
メチルピロール、1−フェニルスルホニル−3−クロロ
メチルピロール、1−フェニルスルホニル−3−ブロモ
メチルピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニ
ル)−3−クロロメチルピロール、1−(p−メチルフ
ェニルスルホニル)−3−ブロモメチルピロール、1−
(p−メトキシフェニルスルホニル)−3−クロロメチ
ルピロール、1−(p−メトキシフェニルスルホニル)
−3−ブロモメチルピロール、1−メチルスルホニル−
3−クロロメチルピロール、1−メチルスルホニル−3
−ブロモメチルピロール、1−トリフルオロメチルスル
ホニル−3−クロロメチルピロール、1−トリフルオロ
メチルスルホニル−3−ブロモメチルピロール、1−ホ
ルミル−3−クロロメチルピロール、1−ホルミル−3
−ブロモメチルピロール、1−アセチル−3−クロロメ
チルピロール、1−アセチル−3−ブロモメチルピロー
ル、1−クロロアセチル−3−クロロメチルピロール、
1−ブロモアセチル−3−クロロメチルピロール、1−
ベンゾイル−3−クロロメチルピロール、1−ベンゾイ
ル−3−ブロモメチルピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−3−クロロメチルピロール、1−(p−メ
トキシベンゾイル)−3−ブロモメチルピロール等の3
−ハロゲノメチルピロール化合物;
具体例としては、1−メチル−3−クロロメチルピロー
ル、1−メチル−3−ブロモメチルピロール、1−エチ
ル−3−クロロメチルピロール、1−エチル−3−ブロ
モメチルピロール、1−フェニル−3−クロロメチルピ
ロール、1−フェニル−3−ブロモメチルピロール、1
−(p−クロロフェニル)−3−クロロメチルピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−3−ブロモメチルピ
ロール、1−(p−メチルフェニル)−3−クロロメチ
ルピロール、1−(p−メチルフェニル)−3−ブロモ
メチルピロール、1−フェニルスルホニル−3−クロロ
メチルピロール、1−フェニルスルホニル−3−ブロモ
メチルピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニ
ル)−3−クロロメチルピロール、1−(p−メチルフ
ェニルスルホニル)−3−ブロモメチルピロール、1−
(p−メトキシフェニルスルホニル)−3−クロロメチ
ルピロール、1−(p−メトキシフェニルスルホニル)
−3−ブロモメチルピロール、1−メチルスルホニル−
3−クロロメチルピロール、1−メチルスルホニル−3
−ブロモメチルピロール、1−トリフルオロメチルスル
ホニル−3−クロロメチルピロール、1−トリフルオロ
メチルスルホニル−3−ブロモメチルピロール、1−ホ
ルミル−3−クロロメチルピロール、1−ホルミル−3
−ブロモメチルピロール、1−アセチル−3−クロロメ
チルピロール、1−アセチル−3−ブロモメチルピロー
ル、1−クロロアセチル−3−クロロメチルピロール、
1−ブロモアセチル−3−クロロメチルピロール、1−
ベンゾイル−3−クロロメチルピロール、1−ベンゾイ
ル−3−ブロモメチルピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−3−クロロメチルピロール、1−(p−メ
トキシベンゾイル)−3−ブロモメチルピロール等の3
−ハロゲノメチルピロール化合物;
【0029】1−メチル−2,3−ジ(クロロメチル)
ピロール、1−メチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピ
ロール、1−エチル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロ
ール、1−エチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−フェニル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−フェニル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−2,3−ジ(クロロ
メチル)ピロール、1−(p−クロロフェニル)−2,
3−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフ
ェニル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1−
(p−メチルフェニル)−2,3−ジ(ブロモメチル)
ピロール、1−フェニルスルホニル−2,3−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−フェニルスルホニル−2,3
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェ
ニルスルホニル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−(p−メチルフェニルスルホニル)−2,3−
ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−5−メチル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニル)
−5−メチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロール、
1−(p−メトキシフェニルスルホニル)−2,3−ジ
(クロロメチル)ピロール、1−(p−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−メチルスルホニル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−メチルスルホニル−2,3−ジ(ブ
ロモメチル)ピロール、1−トリフルオロメチルスルホ
ニル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1−トリ
フルオロメチルスルホニル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−アセチル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−アセチル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−クロロアセチル−2,3−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−クロロアセチル−2,3−ジ
(ブロモメチル)ピロール、1−ベンゾイル−2,3−
ジ(クロロメチル)ピロール、1−ベンゾイル−2,3
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1
−(p−メトキシベンゾイル)−2,3−ジ(ブロモメ
チル)ピロール等の2,3−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物;
ピロール、1−メチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピ
ロール、1−エチル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロ
ール、1−エチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−フェニル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−フェニル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−2,3−ジ(クロロ
メチル)ピロール、1−(p−クロロフェニル)−2,
3−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフ
ェニル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1−
(p−メチルフェニル)−2,3−ジ(ブロモメチル)
ピロール、1−フェニルスルホニル−2,3−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−フェニルスルホニル−2,3
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェ
ニルスルホニル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−(p−メチルフェニルスルホニル)−2,3−
ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−5−メチル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニル)
−5−メチル−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロール、
1−(p−メトキシフェニルスルホニル)−2,3−ジ
(クロロメチル)ピロール、1−(p−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2,3−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−メチルスルホニル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−メチルスルホニル−2,3−ジ(ブ
ロモメチル)ピロール、1−トリフルオロメチルスルホ
ニル−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1−トリ
フルオロメチルスルホニル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−アセチル−2,3−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−アセチル−2,3−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−クロロアセチル−2,3−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−クロロアセチル−2,3−ジ
(ブロモメチル)ピロール、1−ベンゾイル−2,3−
ジ(クロロメチル)ピロール、1−ベンゾイル−2,3
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−2,3−ジ(クロロメチル)ピロール、1
−(p−メトキシベンゾイル)−2,3−ジ(ブロモメ
チル)ピロール等の2,3−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物;
【0030】1−メチル−3,4−ジ(クロロメチル)
ピロール、1−メチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピ
ロール、1−エチル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロ
ール、1−エチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−フェニル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−フェニル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−3,4−ジ(クロロ
メチル)ピロール、1−(p−クロロフェニル)−3,
4−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフ
ェニル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1−
(p−メチルフェニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)
ピロール、1−フェニルスルホニル−3,4−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−フェニルスルホニル−3,4
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェ
ニルスルホニル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−(p−メチルフェニルスルホニル)−3,4−
ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−2−メチル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニル)
−2−メチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール、
1−(p−メトキシフェニルスルホニル)−3,4−ジ
(クロロメチル)ピロール、1−(p−メトキシフェニ
ルスルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−メチルスルホニル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−メチルスルホニル−3,4−ジ(ブ
ロモメチル)ピロール、1−トリフルオロメチルスルホ
ニル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1−トリ
フルオロメチルスルホニル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−アセチル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−アセチル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−クロロアセチル−3,4−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−クロロアセチル−3,4−ジ
(ブロモメチル)ピロール、1−ベンゾイル−3,4−
ジ(クロロメチル)ピロール、1−ベンゾイル−3,4
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1
−(p−メトキシベンゾイル)−3,4−ジ(ブロモメ
チル)ピロール等の3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物等が挙げられる。
ピロール、1−メチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピ
ロール、1−エチル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロ
ール、1−エチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−フェニル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−フェニル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−(p−クロロフェニル)−3,4−ジ(クロロ
メチル)ピロール、1−(p−クロロフェニル)−3,
4−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフ
ェニル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1−
(p−メチルフェニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)
ピロール、1−フェニルスルホニル−3,4−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−フェニルスルホニル−3,4
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェ
ニルスルホニル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロー
ル、1−(p−メチルフェニルスルホニル)−3,4−
ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−2−メチル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−(p−メチルフェニルスルホニル)
−2−メチル−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール、
1−(p−メトキシフェニルスルホニル)−3,4−ジ
(クロロメチル)ピロール、1−(p−メトキシフェニ
ルスルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロー
ル、1−メチルスルホニル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−メチルスルホニル−3,4−ジ(ブ
ロモメチル)ピロール、1−トリフルオロメチルスルホ
ニル−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1−トリ
フルオロメチルスルホニル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−ホルミル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−アセチル−3,4−ジ(クロロメチ
ル)ピロール、1−アセチル−3,4−ジ(ブロモメチ
ル)ピロール、1−クロロアセチル−3,4−ジ(クロ
ロメチル)ピロール、1−クロロアセチル−3,4−ジ
(ブロモメチル)ピロール、1−ベンゾイル−3,4−
ジ(クロロメチル)ピロール、1−ベンゾイル−3,4
−ジ(ブロモメチル)ピロール、1−(p−メトキシベ
ンゾイル)−3,4−ジ(クロロメチル)ピロール、1
−(p−メトキシベンゾイル)−3,4−ジ(ブロモメ
チル)ピロール等の3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物等が挙げられる。
【0031】これらの中でも、3−ハロゲノメチルピロ
ール化合物又は3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロール
化合物が好ましく、3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物がより好ましい。また、ハロゲノメチル基と
しては、ブロモメチル基が好ましい。
ール化合物又は3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロール
化合物が好ましく、3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロ
ール化合物がより好ましい。また、ハロゲノメチル基と
しては、ブロモメチル基が好ましい。
【0032】なお、一般式(3)で表される本発明のハ
ロゲノメチルピロール化合物は、前記した本発明のハロ
ゲノメチルピロール化合物の製造方法によって製造する
ことができるが、例えば、特表平8−500591号公
報、特公平4−27986号公報等に記載の公知の方法
によって製造することもできる。
ロゲノメチルピロール化合物は、前記した本発明のハロ
ゲノメチルピロール化合物の製造方法によって製造する
ことができるが、例えば、特表平8−500591号公
報、特公平4−27986号公報等に記載の公知の方法
によって製造することもできる。
【0033】本発明の一般式(3)で表される化合物
は、機能製品、農薬、医薬等の製造中間体として有用で
ある。例えば、3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロール
化合物は、2次電池の電極材料の製造原料となる。
は、機能製品、農薬、医薬等の製造中間体として有用で
ある。例えば、3,4−ジ(ハロゲノメチル)ピロール
化合物は、2次電池の電極材料の製造原料となる。
【0034】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 1−(p−メチルフェニルスルホニル)−
3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールの製造
するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 1−(p−メチルフェニルスルホニル)−
3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールの製造
【0035】
【化8】
【0036】1−(p−メチルフェニルスルホニル)−
3,4−ジ(ヒドロキシメチル)ピロール0.2g
(0.7mmol)のトルエン5ml溶液に、47%臭
化水素酸4mlを加えて、室温で5時間撹拌した。反応
終了後、トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧濃縮して、1−(p−メチルフェニル
スルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール
0.26g得た。 収率90% mp118−119℃
3,4−ジ(ヒドロキシメチル)ピロール0.2g
(0.7mmol)のトルエン5ml溶液に、47%臭
化水素酸4mlを加えて、室温で5時間撹拌した。反応
終了後、トルエン層を分取し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧濃縮して、1−(p−メチルフェニル
スルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール
0.26g得た。 収率90% mp118−119℃
【0037】実施例2 1−(p−メチルフェニルスル
ホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールの製造 1−(p−メチルフェニルスルホニル)−3,4−ジ
(ヒドロキシメチル)ピロール0.2g(0.7mmo
l)のジエチルエーテル4ml溶液に、47%臭化水素
酸3mlを加えて、室温で1時間撹拌した。反応終了
後、反応液に水及びジエチルエーテルを加えた後、ジエ
チルエーテル層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。このものを減圧濃縮し、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール
0.29gを得た。 収率 定量的(〜100%)
ホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロールの製造 1−(p−メチルフェニルスルホニル)−3,4−ジ
(ヒドロキシメチル)ピロール0.2g(0.7mmo
l)のジエチルエーテル4ml溶液に、47%臭化水素
酸3mlを加えて、室温で1時間撹拌した。反応終了
後、反応液に水及びジエチルエーテルを加えた後、ジエ
チルエーテル層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。このものを減圧濃縮し、1−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)−3,4−ジ(ブロモメチル)ピロール
0.29gを得た。 収率 定量的(〜100%)
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
機能製品、農薬、医薬等の製造中間体として有用な新規
ハロゲノメチルピロール化合物が提供される。また、本
発明の製造方法によれば、ハロゲノメチルピロール化合
物を簡便かつ工業的に有利に製造することができる。
機能製品、農薬、医薬等の製造中間体として有用な新規
ハロゲノメチルピロール化合物が提供される。また、本
発明の製造方法によれば、ハロゲノメチルピロール化合
物を簡便かつ工業的に有利に製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式中、AはC1〜C6アルキル基、置換基を有してい
てもよいフェニル基、置換基を有していてもよいフェニ
ルスルホニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C
1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホルミル基、C1
〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C6ハロアルキル
カルボニル基、置換基を有していてもよいベンゾイル基
又はC1〜C6アルコキシカルボニル基を表し、Xはハ
ロゲン原子、C1〜C6アルキル基、ニトロ基、シアノ
基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表し、n
は0又は1を表し、nが0のとき、mは0又は1〜3の
整数を表し、nが1のとき、mは0、1又は2を表す。
また、mが2以上の場合、Xは同一又は相異なっていて
もよい。)で表される化合物とハロゲン化水素を反応さ
せることを特徴とする、一般式(2) 【化2】 (式中、A、X、m及びnは前記と同じ意味を表し、Y
はハロゲン原子を表す。)で表されるハロゲノメチルピ
ロール化合物の製造方法。 - 【請求項2】一般式(3) 【化3】 (式中、A1はC1〜C6アルキル基、置換基を有して
いてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいフェ
ニルスルホニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、
C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、ホルミル基、C
1〜C6アルキルカルボニル基、C1〜C6ハロアルキ
ルカルボニル基又は置換基を有していてもよいベンゾイ
ル基を表し、X、Y、m及びnは前記と同じ意味を表
す。)で表されるハロゲノメチルピロール化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001250105A JP2003055343A (ja) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | ハロゲノメチルピロール化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001250105A JP2003055343A (ja) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | ハロゲノメチルピロール化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003055343A true JP2003055343A (ja) | 2003-02-26 |
Family
ID=19078993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001250105A Pending JP2003055343A (ja) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | ハロゲノメチルピロール化合物の製造方法及びハロゲノメチルピロール化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003055343A (ja) |
-
2001
- 2001-08-21 JP JP2001250105A patent/JP2003055343A/ja active Pending
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