JP2003047804A - 気液分離装置 - Google Patents

気液分離装置

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JP2003047804A
JP2003047804A JP2002178340A JP2002178340A JP2003047804A JP 2003047804 A JP2003047804 A JP 2003047804A JP 2002178340 A JP2002178340 A JP 2002178340A JP 2002178340 A JP2002178340 A JP 2002178340A JP 2003047804 A JP2003047804 A JP 2003047804A
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liquid
gas
cylindrical container
treated
cylindrical vessel
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JP2002178340A
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English (en)
Inventor
Norio Komura
規夫 小村
Yutaka Himoku
豊 日木
Satoshi Taguchi
聡 田口
Kei Handa
圭 判田
Kazuya Miwa
和也 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honda Motor Co Ltd
Original Assignee
Honda Motor Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0042Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B01D19/0052Degasification of liquids modifying the liquid flow in rotating vessels, vessels containing movable parts or in which centrifugal movement is caused
    • B01D19/0057Degasification of liquids modifying the liquid flow in rotating vessels, vessels containing movable parts or in which centrifugal movement is caused the centrifugal movement being caused by a vortex, e.g. using a cyclone, or by a tangential inlet

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気体と液体との分離を確実に行うことがで
き,また円筒形容器の内部構造を簡素化し,その上,占
有設置面積を減少させた気液分離装置を提供する。 【解決手段】 気液分離装置1は,液体およびその液体
に含まれた気体よりなる被処理液を処理して気体と液体
とに分離する。その装置1は,上下方向に伸びる軸線a
1 を持つ円筒形容器2と,その円筒形容器2の頂壁4に
設けられて,分離後の気体を排出する排気口10aと,
円筒形容器2の底壁5に設けられて,分離後の液体を排
出する排液口14aと,円筒形容器2内周面に沿う被処
理液の回転により逆円錐状液面sを形成して気液分離を
行うべく,円筒形容器2の周壁3に設けられて,その円
筒形容器2内に被処理液を導入する導入口9aとを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は気液分離装置,即
ち,液体およびその液体に含まれた気体よりなる被処理
液を処理して気体と液体とに分離する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来,この種の気液分離装置としては,
ほぼ水平な軸線を有する円筒形容器内において,その内
周面に沿って,被処理液を回転させることにより,遠心
力による気体と液体との分離を行い,気体を容器外周面
上部の排出口から外部に排出し,また液体を容器外周面
下部の排出口から外部に排出するようにしたものが知ら
れている(米国特許第5427685号明細書参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら,従来装
置においては,円筒形容器内に,被処理液をガイドする
ための溝,分離された気体をガイドするための通路等を
設けているので,円筒形容器の内部構造が煩雑となり,
また円筒形容器を,いわゆる横置きにすると,装置の占
有設置面積が大になる,という不具合もあった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は,円筒形容器の
内部構造を簡素化し,また占有設置面積を減少させた前
記気液分離装置を提供することを目的とする。
【0005】前記目的を達成するため本発明によれば,
液体およびその液体に含まれた気体よりなる被処理液を
処理して気体と液体とに分離する気液分離装置におい
て,上下方向に伸びる軸線を持つ円筒形容器と,その円
筒形容器の頂壁に設けられて,分離後の気体を排出する
排気口と,円筒形容器の底壁に設けられて,分離後の液
体を排出する排液口と,円筒形容器内周面に沿う被処理
液の回転により逆円錐状液面を形成して気液分離を行う
べく,円筒形容器の周壁に設けられて,その円筒形容器
内に被処理液を導入する導入口とを有する気液分離装置
が提供される。
【0006】前記のように,円筒形容器内周面に沿って
被処理液を回転させると,その被処理液は遠心力により
気体と液体とに分離される。分離後の気体は,逆円錐状
液面からその内側の空間内に,液体を含むことなく集合
し,次いで排気口より円筒形容器外に排出される。一
方,液体は,その自重により漸次下降して排液口より円
筒形容器外に排出される。
【0007】円筒形容器内には,被処理液をガイドする
ための溝や,分離された気体をガイドするための通路を
設ける必要がないので,円筒形容器の内部構造を簡素化
し,また円筒形容器を,いわゆる縦置きにしたので,装
置の占有設置面積を小にすることが可能である。
【0008】
【発明の実施の形態】図1〜図3に示すように,実施例
に係る気液分離装置1は,水電解装置から排出された,
液体としての水およびその水に含まれた気体としての酸
素よりなる被処理液を処理して酸素と水に分離する場合
に用いられる。その気液分離装置1は,上下方向に伸び
る軸線a1 を持つ円筒形容器2を有し,その容器2は有
底筒形本体20 と,その上部開口を閉鎖する頂壁4とよ
りなる。有底筒形本体20 において,その底壁5から有
底筒形本体全長のほぼ5分の1位置に隔壁板6が設けら
れ,この隔壁板6により円筒形容器2内は上部の分離処
理室7と下部の排液室8とに区画されている。
【0009】有底筒形本体20 の周壁3において,分離
処理室7の上,下方向ほぼ二等分位置に,その分離処理
室7内に被処理液を導入する円形の導入口9aが設けら
れ,その導入口9aに導入管9が接続されている。導入
口9aの内径dは分離処理室7の内半径rのほぼ2分の
1であり,また導入管9の軸線(導入口9aの中心線)
2 は,前記内半径rの,外周側からほぼ4分の1位置
でその内半径rに交差する。つまり,導入管9の軸線a
2 は分離処理室7の接線近傍に在って,その接線と平行
する。
【0010】頂壁4に排気口10aが設けられ,その排
気口10aに排気管10が接続されている。隔壁板6に
二つの方形邪魔板11,12が立設され,それら方形邪
魔板11,12の一方の縦辺部は分離処理室7の内周面
に接触している。一方の邪魔板11近傍から他方の邪魔
板12近傍に至る隔壁板6の半周部に3つの円弧状連通
孔13が形成されており,それら連通孔13により分離
処理室7と排液室8とが連通する。また有底筒形本体2
0 の底壁5に,排液室8に連なる排液口14aが設けら
れ,その排液口14aに排液管14が接続されている。
さらに頂壁4に,液体供給口15aが設けられ,その液
体供給口15aに液体供給管15が接続されている。
【0011】導入管9は水電解装置16の排水口17に
導管18を介して接続され,また排液管14は電磁弁1
9を備えた導管20を介して水電解装置16の給水口2
1に接続される。さらに液体供給管15は導管22を介
して給水源23に接続され,また排気管10は導管24
を介してタンク等の酸素貯蔵器25に接続される。
【0012】円筒形容器2に,その内部の液面を検出す
る手段としての公知の静電容量式水位検出装置26が付
設されており,その装置26は次のように構成されてい
る。即ち,周壁3において,分離処理室7の上部および
排液室8の中間部にコ字形連通部材27の両端部がそれ
ぞれ配置され,その連通孔28内は分離処理室7および
排液室8にそれぞれ連通する。連通孔28の鉛直孔部2
9にロッド状センサ30が挿入されており,そのセンサ
30の上端部側は導電部材31を介して水位検出装置本
体32に接続されている。
【0013】水電解装置16から排出された酸素および
水よりなる被処理液の処理に当っては,その被処理液
を,所定の圧力を以て導入管9を通じ分離処理室7内に
その接線方向から導入する。これにより被処理液は分離
処理室7の内周面に沿って回転するので,液面sは,図
4に示すように逆円錐状になると共に遠心力により水と
酸素との分離が行われる。酸素は逆円錐状液面sからそ
の内側の空間33内に水を含むことなく集合し,次いで
排気口10aおよび排気管10を経て酸素貯蔵器25に
導入されてそこに貯蔵される。一方,水は,自重により
漸次下降して,両邪魔板11,12に衝突することによ
り流れを弱められ,次いで,各連通孔13から排液室8
に流下し,その後排液管14および開状態の電磁弁19
を経て水電解装置16に戻される。
【0014】水位検出装置26は,逆円錐状水面sの最
大深さをhとしたとき,その最深部からほぼ2h/3の
位置を水位Lとして検出し,その水位Lが所定の位置よ
り低い場合は電磁弁19を閉じてその水位Lを上昇さ
せ,一方,水位Lが所定の位置より高い場合は電磁弁1
9を開いて水位Lを下降させる。水位Lが所定の位置よ
りも高すぎると酸素に水が混じるおそれがあり,一方,
水位Lが所定の位置より低すぎると水に酸素が混じるお
それがある。
【0015】水電解装置16への水の補給は,給水源2
3より液体供給管15,分離処理室7,排液室8および
電磁弁19を経て行われる。
【0016】表1および図5は,水温10〜80℃にお
ける水位Lと電流出力との関係を示す。この場合,水位
Lはセンサ下端面から前記位置2h/3までの距離であ
る。
【0017】
【表1】
【0018】センサ30の下端面の位置を水位ゼロと
し,そこから10mm刻みに水位150mmまで測定するこ
とができる。例えば,水温20℃で電流出力が12.5
5DCmAであれば,水位Lは80mmとなる。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば,前記のように構成する
ことによって気体と液体とを確実に分離することがで
き,また円筒形容器の内部構造を簡素化し,さらに占有
設置面積を減少させた気液分離装置を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】気液分離装置の縦断正面図で,図2の1−1線
断面図に相当する。
【図2】図1の2−2矢視図である。
【図3】隔壁板の平面図で,図1の3−3矢視図に相当
する。
【図4】気液分離処理の説明図である。
【図5】水位Lと電流出力との関係を示すグラフであ
る。
【符号の説明】
1……………気液分離装置 2……………円筒形容器 3……………周壁 4……………頂壁 5……………底壁 9a…………導入口 10a………排気口 11…………邪魔板 12…………邪魔板 14a………排液口 16…………水電解装置 26…………水位検出装置(液面を検出する手段) a1 …………軸線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田口 聡 埼玉県和光市中央1丁目4番1号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 判田 圭 埼玉県和光市中央1丁目4番1号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 三輪 和也 埼玉県和光市中央1丁目4番1号 株式会 社本田技術研究所内 Fターム(参考) 4D011 AA04 AC01 AC06 AD06 4D037 AA01 AB11 AB18 BA23 BB01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液体およびその液体に含まれた気体より
    なる被処理液を処理して気体と液体とに分離する気液分
    離装置において,上下方向に伸びる軸線(a 1 )を持つ
    円筒形容器(2)と,その円筒形容器(2)の頂壁
    (4)に設けられて,分離後の気体を排出する排気口
    (10a)と,前記円筒形容器(2)の底壁(5)に設
    けられて,分離後の液体を排出する排液口(14a)
    と,前記円筒形容器(2)内周面に沿う前記被処理液の
    回転により逆円錐状液面(s)を形成して気液分離を行
    うべく,前記円筒形容器(2)の周壁(3)に設けられ
    て,その円筒形容器(2)内に前記被処理液を導入する
    導入口(9a)とを有することを特徴とする気液分離装
    置。
  2. 【請求項2】 前記円筒形容器(2)内の下部に,回転
    する前記液体と衝突する,少なくとも1つの邪魔板(1
    1,12)が配置されている,請求項1記載の気液分離
    装置。
  3. 【請求項3】 前記円筒形容器(2)に,その内部の液
    面を検出する手段(26)が設けられている,請求項1
    または2記載の気液分離装置。
  4. 【請求項4】 前記被処理液は,水電解装置(16)か
    ら排出された,酸素および水素の一方を含む水である,
    請求項1,2または3記載の気液分離装置。
JP2002178340A 2001-07-06 2002-06-19 気液分離装置 Pending JP2003047804A (ja)

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