JP2003047622A - 歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物 - Google Patents
歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物Info
- Publication number
- JP2003047622A JP2003047622A JP2001236531A JP2001236531A JP2003047622A JP 2003047622 A JP2003047622 A JP 2003047622A JP 2001236531 A JP2001236531 A JP 2001236531A JP 2001236531 A JP2001236531 A JP 2001236531A JP 2003047622 A JP2003047622 A JP 2003047622A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic frame
- dental
- core
- dental ceramic
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011351 dental ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 97
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 24
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 24
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 13
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000009661 fatigue test Methods 0.000 description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 6
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 210000000214 mouth Anatomy 0.000 description 4
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012669 compression test Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000000462 isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003103 lithium disilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910000601 superalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/225—Fastening prostheses in the mouth
- A61C13/26—Dentures without palates; Partial dentures, e.g. bridges
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス成分から成る接合材を使用することな
く、機械的強度に優れる歯科セラミックフレームを提供
すること。 【解決手段】 上記課題を解決する本発明の歯科セラミ
ックフレーム(10)は、直列する二以上のコアエレメント
(11,12,13)を備えた歯科セラミックフレームであって、
隣り合うコアエレメントが相互に接合して一体を成して
おり、それらコアエレメント間の接合部分(14,15)にお
けるガラス成分の含有率が１０wt％以下であることを特
徴とする。
く、機械的強度に優れる歯科セラミックフレームを提供
すること。 【解決手段】 上記課題を解決する本発明の歯科セラミ
ックフレーム(10)は、直列する二以上のコアエレメント
(11,12,13)を備えた歯科セラミックフレームであって、
隣り合うコアエレメントが相互に接合して一体を成して
おり、それらコアエレメント間の接合部分(14,15)にお
けるガラス成分の含有率が１０wt％以下であることを特
徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、歯科分野で利用
されるセラミック成形体に関し、詳しくは、歯科セラミ
ックフレーム及びその利用、並びに当該フレームの製造
技術に関する。
されるセラミック成形体に関し、詳しくは、歯科セラミ
ックフレーム及びその利用、並びに当該フレームの製造
技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】 虫歯等の疾患や事故で、天然歯の一部
が欠けたり或いは数本の天然歯が失われた場合に、いわ
ゆる歯科補綴物が利用される。例えば、歯の欠損部（修
復したい部分）の形状に応じて歯冠補綴物（以下単に
「クラウン」ということもある。）、橋義歯補綴物（以
下単に「ブリッジ」ということもある。）等が使用され
る。これらクラウン、ブリッジ等の歯科補綴物は、金、
白金、パラジウム等の貴金属製フレーム（コア）或いは
アルミナ、ジルコニア、二ケイ酸リチウムガラス等のセ
ラミック製フレーム（コア）を主体に構成されている。
そして、これらフレーム上に陶材（ポーセレン）やレジ
ンを歯の修復したい部分の形状に適合させつつ築盛し、
その築盛物を焼結又は硬化させることによって作製され
る。
が欠けたり或いは数本の天然歯が失われた場合に、いわ
ゆる歯科補綴物が利用される。例えば、歯の欠損部（修
復したい部分）の形状に応じて歯冠補綴物（以下単に
「クラウン」ということもある。）、橋義歯補綴物（以
下単に「ブリッジ」ということもある。）等が使用され
る。これらクラウン、ブリッジ等の歯科補綴物は、金、
白金、パラジウム等の貴金属製フレーム（コア）或いは
アルミナ、ジルコニア、二ケイ酸リチウムガラス等のセ
ラミック製フレーム（コア）を主体に構成されている。
そして、これらフレーム上に陶材（ポーセレン）やレジ
ンを歯の修復したい部分の形状に適合させつつ築盛し、
その築盛物を焼結又は硬化させることによって作製され
る。
【０００３】近年、審美性、生体親和性及び安全性の向
上の観点から、上記フレームの素材として、貴金属製の
ものよりもセラミック製のものが好まれるようになって
きている。そして、かかるセラミックフレームをさらに
普及させるために、セラミックフレームの機械的強度お
よび寸法精度（所望するサイズ通りの製品に仕上げるこ
と）をよりいっそう向上させることが要求されている。
かかる要求に関し、例えば特開平５−５８８３５号公
報、特開平５−１８６３１０号公報、特開平６−２８５
０９１号公報（特許第２６４５６８８号）及び特開平１
１−４７１５７号公報には、セラミック多孔質体にガラ
スを含浸させて強度向上を図ると共に焼成温度を低下さ
せることにより焼成体（セラミックフレーム）の焼結収
縮率を低減させ、結果的に当該焼成体の寸法精度を向上
させる技術が開示されている。また、特開２０００−１
３９９５９号公報には、セラミックフレーム（コア）を
形成するための材料であって、焼成温度が比較的低く且
つ低膨張係数の材料が記載されている。これら公報に記
載の技術によると、ある程度の寸法精度の向上及び機械
的強度の向上を実現し得る。しかし、ガラス成分が比較
的高率であることが支障となり、強度向上に限界があ
る。
上の観点から、上記フレームの素材として、貴金属製の
ものよりもセラミック製のものが好まれるようになって
きている。そして、かかるセラミックフレームをさらに
普及させるために、セラミックフレームの機械的強度お
よび寸法精度（所望するサイズ通りの製品に仕上げるこ
と）をよりいっそう向上させることが要求されている。
かかる要求に関し、例えば特開平５−５８８３５号公
報、特開平５−１８６３１０号公報、特開平６−２８５
０９１号公報（特許第２６４５６８８号）及び特開平１
１−４７１５７号公報には、セラミック多孔質体にガラ
スを含浸させて強度向上を図ると共に焼成温度を低下さ
せることにより焼成体（セラミックフレーム）の焼結収
縮率を低減させ、結果的に当該焼成体の寸法精度を向上
させる技術が開示されている。また、特開２０００−１
３９９５９号公報には、セラミックフレーム（コア）を
形成するための材料であって、焼成温度が比較的低く且
つ低膨張係数の材料が記載されている。これら公報に記
載の技術によると、ある程度の寸法精度の向上及び機械
的強度の向上を実現し得る。しかし、ガラス成分が比較
的高率であることが支障となり、強度向上に限界があ
る。
【０００４】また、米国特許第５０８０５８９号及び米
国特許第５１０６３０３号には、緻密化した高強度セラ
ミック焼結体から成るクラウン用セラミックフレーム及
びその製造方法が記載されている。しかし、これら米国
特許に係るセラミックフレームの製造技術は、焼成収縮
率を考慮した成形体を作製すること及び本焼成を行う前
に精密な加工が必要であること等の理由から、ブリッジ
用セラミックフレームのような複雑な構造物を製造する
ことに適用することは困難である。
国特許第５１０６３０３号には、緻密化した高強度セラ
ミック焼結体から成るクラウン用セラミックフレーム及
びその製造方法が記載されている。しかし、これら米国
特許に係るセラミックフレームの製造技術は、焼成収縮
率を考慮した成形体を作製すること及び本焼成を行う前
に精密な加工が必要であること等の理由から、ブリッジ
用セラミックフレームのような複雑な構造物を製造する
ことに適用することは困難である。
【０００５】一方、国際公開第ＷＯ９９／１３７９５号
には、緻密化した複数のセラミック焼結体を構成部材と
し、ガラス組成物を使用してそれら構成部材を相互に接
着することによって形成されたブリッジ用セラミックフ
レームが記載されている。特開２０００−１５７５６０
号公報にも同様の技術が記載されている。すなわち、こ
の公報には、隣接する二つの歯冠又はブリッジ要素が接
合部材を介して連結され、溶融ガラスを使用して当該接
続部材が歯冠又はブリッジ要素に固定されて成るブリッ
ジが記載されている。しかし、これら公報に記載のブリ
ッジ又はブリッジ用フレームは、いずれもガラス材を使
用して隣接する二つ以上の歯冠又はブリッジ要素を相互
に接合したものである。このため、当該接合部分（ガラ
ス接合層）の強度が当該歯冠又はブリッジ要素自体より
も格段に弱くなるうえに、いわゆる応力腐食も生じ易
い。
には、緻密化した複数のセラミック焼結体を構成部材と
し、ガラス組成物を使用してそれら構成部材を相互に接
着することによって形成されたブリッジ用セラミックフ
レームが記載されている。特開２０００−１５７５６０
号公報にも同様の技術が記載されている。すなわち、こ
の公報には、隣接する二つの歯冠又はブリッジ要素が接
合部材を介して連結され、溶融ガラスを使用して当該接
続部材が歯冠又はブリッジ要素に固定されて成るブリッ
ジが記載されている。しかし、これら公報に記載のブリ
ッジ又はブリッジ用フレームは、いずれもガラス材を使
用して隣接する二つ以上の歯冠又はブリッジ要素を相互
に接合したものである。このため、当該接合部分（ガラ
ス接合層）の強度が当該歯冠又はブリッジ要素自体より
も格段に弱くなるうえに、いわゆる応力腐食も生じ易
い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】 そこで本発明は、従
来から要望されていた歯科セラミックフレームの機械的
強度の向上を高い次元で実現すること、特に従来困難で
あったブリッジ用セラミックフレームの強度向上を課題
とし、そのような強度向上を実現した歯科セラミックフ
レームを提供することを目的とする。また、そのような
セラミックフレームを製造するための方法及び材料を提
供することを他の目的とする。また、そのようなセラミ
ックフレームを含むブリッジその他の歯科補綴物を提供
することを他の目的とする。また、かかるセラミックフ
レームの機械的強度向上と高い寸法精度とを共に実現す
ることをさらなる目的とする。
来から要望されていた歯科セラミックフレームの機械的
強度の向上を高い次元で実現すること、特に従来困難で
あったブリッジ用セラミックフレームの強度向上を課題
とし、そのような強度向上を実現した歯科セラミックフ
レームを提供することを目的とする。また、そのような
セラミックフレームを製造するための方法及び材料を提
供することを他の目的とする。また、そのようなセラミ
ックフレームを含むブリッジその他の歯科補綴物を提供
することを他の目的とする。また、かかるセラミックフ
レームの機械的強度向上と高い寸法精度とを共に実現す
ることをさらなる目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 本発明によって提供さ
れる一つの歯科セラミックフレームは、直列する二以上
のコアエレメントを備えた歯科セラミックフレームであ
って、隣り合うコアエレメントが相互に接合して一体を
成している。而して、それらコアエレメント間の接合部
分におけるガラスの含有率は１０wt％以下である。本明
細書において「歯科セラミックフレーム（コア）」と
は、歯科補綴物の骨格を成すセラミック成形体であって
当該補綴物に物理的強度を付与する主要な構成部材をい
う。典型的にはブリッジ等の歯科補綴物において、ポー
セレン、レジン等を築盛するベースとなる部材をいう。
また、本明細書において「コアエレメント」とは、歯科
セラミックフレームの主要構成部を指す用語であり、個
々のコアエレメントは口腔装着時における用途及び／又
は装着部位の相違によって明確に区別し得る。例えば、
いわゆる３冠ブリッジを構成するためのセラミックフレ
ームにおいては典型的には３つのコアエレメントが含ま
れ得、それらは左右の支台歯にそれぞれ装着されるエレ
メントとそれらの間でポンティックが形成されるエレメ
ントとに区分され得る。
れる一つの歯科セラミックフレームは、直列する二以上
のコアエレメントを備えた歯科セラミックフレームであ
って、隣り合うコアエレメントが相互に接合して一体を
成している。而して、それらコアエレメント間の接合部
分におけるガラスの含有率は１０wt％以下である。本明
細書において「歯科セラミックフレーム（コア）」と
は、歯科補綴物の骨格を成すセラミック成形体であって
当該補綴物に物理的強度を付与する主要な構成部材をい
う。典型的にはブリッジ等の歯科補綴物において、ポー
セレン、レジン等を築盛するベースとなる部材をいう。
また、本明細書において「コアエレメント」とは、歯科
セラミックフレームの主要構成部を指す用語であり、個
々のコアエレメントは口腔装着時における用途及び／又
は装着部位の相違によって明確に区別し得る。例えば、
いわゆる３冠ブリッジを構成するためのセラミックフレ
ームにおいては典型的には３つのコアエレメントが含ま
れ得、それらは左右の支台歯にそれぞれ装着されるエレ
メントとそれらの間でポンティックが形成されるエレメ
ントとに区分され得る。
【０００８】かかる構成の歯科セラミックフレームは、
隣接するコアエレメントが相互に接合して一体構造とな
っている。従って、高い機械的強度を発揮する。また、
接合部分のガラス成分含有率が従来のものよりも格段に
低い。このため、上述したようなガラス材で接合した部
分（即ちガラス成分の含有率が高いガラス接合層）にお
けるような応力腐食の発生がない。特に接合部分におい
て、ガラス成分としてＮａ、Ｋ、Ｌｉ及びＢを実質的に
含まないものが好ましい。これらは水中において応力腐
食に対する耐性が著しく小さいからである。
隣接するコアエレメントが相互に接合して一体構造とな
っている。従って、高い機械的強度を発揮する。また、
接合部分のガラス成分含有率が従来のものよりも格段に
低い。このため、上述したようなガラス材で接合した部
分（即ちガラス成分の含有率が高いガラス接合層）にお
けるような応力腐食の発生がない。特に接合部分におい
て、ガラス成分としてＮａ、Ｋ、Ｌｉ及びＢを実質的に
含まないものが好ましい。これらは水中において応力腐
食に対する耐性が著しく小さいからである。
【０００９】また、本発明の歯科セラミックフレームと
して好ましい他のものは、少なくとも上記接合部分にお
いて接合助長成分を含むものである。ここで「接合助長
成分」とは、セラミック組織内又はその表層部に存在す
る場合に、セラミック組織間の拡散接合（典型的には加
熱処理を伴う）を助長することが知られる金属酸化物を
いう。例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ニオブ及
び酸化ゲルマニウムが、かかる接合助長成分の典型例で
ある。従って、これら金属酸化物の１種又は２種以上を
含むものが本発明の歯科セラミックフレームとして好ま
しい。このような歯科セラミックフレームは、セラミッ
ク粉末を主体とし、そのセラミック粉末に対して１〜１
０wt％の含有率で接合助長剤（例えば酸化チタン、酸化
ケイ素、酸化ニオブ及び酸化ゲルマニウムのうちの１種
又は２種以上）を含む歯科セラミックフレーム形成材料
を使用して好適に製造することができる。
して好ましい他のものは、少なくとも上記接合部分にお
いて接合助長成分を含むものである。ここで「接合助長
成分」とは、セラミック組織内又はその表層部に存在す
る場合に、セラミック組織間の拡散接合（典型的には加
熱処理を伴う）を助長することが知られる金属酸化物を
いう。例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ニオブ及
び酸化ゲルマニウムが、かかる接合助長成分の典型例で
ある。従って、これら金属酸化物の１種又は２種以上を
含むものが本発明の歯科セラミックフレームとして好ま
しい。このような歯科セラミックフレームは、セラミッ
ク粉末を主体とし、そのセラミック粉末に対して１〜１
０wt％の含有率で接合助長剤（例えば酸化チタン、酸化
ケイ素、酸化ニオブ及び酸化ゲルマニウムのうちの１種
又は２種以上）を含む歯科セラミックフレーム形成材料
を使用して好適に製造することができる。
【００１０】本発明の歯科セラミックフレームとして
は、比較的硬い組成のセラミックスから構成されるもの
が好ましい。例えば、ジルコニア、アルミナ、ムライ
ト、スピネル等から構成されるセラミックフレームが好
ましい。これらのうちの二種以上が複合して成るセラミ
ック製のものが特に好ましい。また、より高い機械的強
度を実現するため、上記コアエレメントとコアエレメン
ト間の接合部分とが実質的に同じ組成であるセラミック
フレームが好ましい。コアエレメントの中心部分と接合
部分との間、例えば３冠ブリッジ用フレームで中央に位
置するコアエレメントの中心域とその左右両サイドの接
合部分に相当する区域との間において、ガラス質成分の
含有率が異ならないものが好適である。セラミックフレ
ーム全体に亘ってガラスの含有率が１０wt％以下である
ものが好ましい。かかる含有率が５wt％以下であるもの
が特に好ましい。また、上述の接合助長成分を含むセラ
ミックフレームである場合、その全体に亘って当該接合
助長成分を含有するものであってもよい。
は、比較的硬い組成のセラミックスから構成されるもの
が好ましい。例えば、ジルコニア、アルミナ、ムライ
ト、スピネル等から構成されるセラミックフレームが好
ましい。これらのうちの二種以上が複合して成るセラミ
ック製のものが特に好ましい。また、より高い機械的強
度を実現するため、上記コアエレメントとコアエレメン
ト間の接合部分とが実質的に同じ組成であるセラミック
フレームが好ましい。コアエレメントの中心部分と接合
部分との間、例えば３冠ブリッジ用フレームで中央に位
置するコアエレメントの中心域とその左右両サイドの接
合部分に相当する区域との間において、ガラス質成分の
含有率が異ならないものが好適である。セラミックフレ
ーム全体に亘ってガラスの含有率が１０wt％以下である
ものが好ましい。かかる含有率が５wt％以下であるもの
が特に好ましい。また、上述の接合助長成分を含むセラ
ミックフレームである場合、その全体に亘って当該接合
助長成分を含有するものであってもよい。
【００１１】また、本発明の歯科セラミックフレームを
製造する方法が提供される。この方法では、(a).二以上
のコア部材を個々に形成する工程と、(b).隣り合うコア
部材の向かい合う面の少なくとも一部が相互に密着する
ようにして、それら焼成コア部材を直列に配置する工程
と、(c).その直列に配置された二以上のコア部材を加熱
及び／又は加圧することにより、相互に接合して一体化
させる工程とを包含する。この方法によると、二以上の
コア部材をそれぞれコアエレメントとして備えるブリッ
ジ形状の歯科セラミックフレームを製造することができ
る。また、予め個々にコア部材を形成し（典型的には粉
末材料からの成形工程と、当該成形物の焼成工程とを包
含する）、その後にそれらを一体化させてセラミックフ
レームを形成することから、寸法精度の高いセラミック
フレームを製造することができる。
製造する方法が提供される。この方法では、(a).二以上
のコア部材を個々に形成する工程と、(b).隣り合うコア
部材の向かい合う面の少なくとも一部が相互に密着する
ようにして、それら焼成コア部材を直列に配置する工程
と、(c).その直列に配置された二以上のコア部材を加熱
及び／又は加圧することにより、相互に接合して一体化
させる工程とを包含する。この方法によると、二以上の
コア部材をそれぞれコアエレメントとして備えるブリッ
ジ形状の歯科セラミックフレームを製造することができ
る。また、予め個々にコア部材を形成し（典型的には粉
末材料からの成形工程と、当該成形物の焼成工程とを包
含する）、その後にそれらを一体化させてセラミックフ
レームを形成することから、寸法精度の高いセラミック
フレームを製造することができる。
【００１２】好ましい製造方法では、上記(b).工程の前
に、コア部材の相互に密着させる面を平滑化する処理が
行われ、及び／又は、その面に接合助長剤を付与する処
理が行われる。これら処理を施すことにより、上記(c).
工程における接合効率が向上し、機械的強度がより高い
一体形状のセラミックフレームを製造することができ
る。さらに、より低い温度での加熱処理で接合を行い得
るため、より寸法精度の高いフレームを製造することが
できる。熱収縮率を低減させ得るからである。また、
(a).工程において、各コア部材を上述の接合助長剤を含
むセラミック形成材料を使用して成形すると、接合部分
の機械的強度が良好で寸法精度の高いセラミックフレー
ムを製造することができる。また、上記(c).工程は、フ
レーム全体を加熱してもよく、接合したい部分を含む一
部分をスポット的に加熱及び／又は加圧してもよい。例
えば高周波の電磁波（マイクロ波）による加熱手段がか
かるスポット的加熱に好適である
に、コア部材の相互に密着させる面を平滑化する処理が
行われ、及び／又は、その面に接合助長剤を付与する処
理が行われる。これら処理を施すことにより、上記(c).
工程における接合効率が向上し、機械的強度がより高い
一体形状のセラミックフレームを製造することができ
る。さらに、より低い温度での加熱処理で接合を行い得
るため、より寸法精度の高いフレームを製造することが
できる。熱収縮率を低減させ得るからである。また、
(a).工程において、各コア部材を上述の接合助長剤を含
むセラミック形成材料を使用して成形すると、接合部分
の機械的強度が良好で寸法精度の高いセラミックフレー
ムを製造することができる。また、上記(c).工程は、フ
レーム全体を加熱してもよく、接合したい部分を含む一
部分をスポット的に加熱及び／又は加圧してもよい。例
えば高周波の電磁波（マイクロ波）による加熱手段がか
かるスポット的加熱に好適である
【００１３】本発明によると、本発明の歯科セラミック
フレームを主体に構成される歯科補綴物が提供される。
例えば、ブリッジは、本発明のセラミックフレーム上に
種々の陶材及び／又はレジンを付与して歯冠部等を形成
することにより構築され得る。
フレームを主体に構成される歯科補綴物が提供される。
例えば、ブリッジは、本発明のセラミックフレーム上に
種々の陶材及び／又はレジンを付与して歯冠部等を形成
することにより構築され得る。
【００１４】
【発明の実施の形態】 以下、本発明の好適な実施形態
を説明する。
を説明する。
【００１５】本発明の歯科セラミックフレームは、二以
上のセラミック製コアエレメントが直列に配置されて構
成されるものであり、隣接するコアエレメントが相互に
接合して一体形成されたフレームである。而して、その
接合部分におけるガラス成分の含有率が１０wt％以下
（好ましくは５wt％以下、更に好ましくは１wt％以下）
である限り、一定の組成や外形に限定されるものではな
い。例えば、図１に模式的に示すような下顎装着用３冠
ブリッジを構成するためのセラミックフレーム１０は、
本発明のセラミックフレームの一典型例である。なお、
この図は口腔外側からみたときのフレームの正面図であ
る。図１において、符号１１，１２および１３は、それ
ぞれ独立したコアエレメントを指す。左右のコアエレメ
ント１１，１３には、支台歯の対応する部分を嵌め込む
ための装着孔１６，１７が形成されている。中央のコア
エレメント１２が欠損歯（ポンティック）を形成するベ
ースとなる部分である。本発明の歯科セラミックフレー
ム１０では、各コアエレメントの境界に相当する接合部
分１４，１５が各コアエレメント１１，１２，１３と一
体を成している。また、接合部分にガラス成分を実質的
に含まないか又は含んでいてもその含有率が著しく低い
ため（１０wt％以下）、機械的強度に優れる。
上のセラミック製コアエレメントが直列に配置されて構
成されるものであり、隣接するコアエレメントが相互に
接合して一体形成されたフレームである。而して、その
接合部分におけるガラス成分の含有率が１０wt％以下
（好ましくは５wt％以下、更に好ましくは１wt％以下）
である限り、一定の組成や外形に限定されるものではな
い。例えば、図１に模式的に示すような下顎装着用３冠
ブリッジを構成するためのセラミックフレーム１０は、
本発明のセラミックフレームの一典型例である。なお、
この図は口腔外側からみたときのフレームの正面図であ
る。図１において、符号１１，１２および１３は、それ
ぞれ独立したコアエレメントを指す。左右のコアエレメ
ント１１，１３には、支台歯の対応する部分を嵌め込む
ための装着孔１６，１７が形成されている。中央のコア
エレメント１２が欠損歯（ポンティック）を形成するベ
ースとなる部分である。本発明の歯科セラミックフレー
ム１０では、各コアエレメントの境界に相当する接合部
分１４，１５が各コアエレメント１１，１２，１３と一
体を成している。また、接合部分にガラス成分を実質的
に含まないか又は含んでいてもその含有率が著しく低い
ため（１０wt％以下）、機械的強度に優れる。
【００１６】本発明の歯科セラミックフレームは、個々
にコアエレメントを構成するコア部材（典型的にはブリ
ッジにおける個々の歯冠のコアを構成する部材）を個別
に所定の形状に成形しておき、それらを接合して一体化
することにより製造される。典型的には拡散接合によ
る。以下、本発明の歯科セラミックフレームの好適な製
造方法を説明する。
にコアエレメントを構成するコア部材（典型的にはブリ
ッジにおける個々の歯冠のコアを構成する部材）を個別
に所定の形状に成形しておき、それらを接合して一体化
することにより製造される。典型的には拡散接合によ
る。以下、本発明の歯科セラミックフレームの好適な製
造方法を説明する。
【００１７】本発明の歯科セラミックフレーム（コア部
材）を形成するのに用いるセラミック粉末を主体とする
材料（セラミックフレーム形成材料）としては、従来か
ら歯科セラミックフレームを製造するのに用いられてい
た材料であれば特に制限なく使用することができる。ガ
ラス質成分の含有率が少ないもの、例えばＫ2Ｏ−Ａｌ2
Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−Ｓ
ｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−
ＳｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3
−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスを実質的に含まないもの
（含有率が１wt％以下）であるものが好ましい。セラミ
ックフレーム形成材料の主体たるセラミック粉末として
は、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、
マグネシア（ＭｇＯ）添加Ａｌ2Ｏ3、窒化ケイ素（Ｓｉ
3Ｎ4）、サイアロン(sialon)、窒化チタン（ＴｉＮ）、
炭化ケイ素（ＳｉＣ）等が挙げられる。また、セラミッ
クフレーム形成材料としてジルコニアを主体とする場
合、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化カルシウム（Ｃ
ａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化セリウム
（ＣｅＯ2）のような、焼成した際の高温相におけるセ
ラミック成形物の安定化剤として機能する化合物を数mo
l％程度の少量を添加することが好ましい。その他、従
来からセラミックフレーム形成材料に必要に応じて添加
されていた副次的成分、例えば、着色剤、粘度調整剤、
香料、界面活性剤、防腐剤、ｐＨ調整剤等を適当量配合
してもよい。
材）を形成するのに用いるセラミック粉末を主体とする
材料（セラミックフレーム形成材料）としては、従来か
ら歯科セラミックフレームを製造するのに用いられてい
た材料であれば特に制限なく使用することができる。ガ
ラス質成分の含有率が少ないもの、例えばＫ2Ｏ−Ａｌ2
Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−Ｓ
ｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−
ＳｉＯ2系ガラス、Ｋ2Ｏ−Ｎａ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3
−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスを実質的に含まないもの
（含有率が１wt％以下）であるものが好ましい。セラミ
ックフレーム形成材料の主体たるセラミック粉末として
は、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、
マグネシア（ＭｇＯ）添加Ａｌ2Ｏ3、窒化ケイ素（Ｓｉ
3Ｎ4）、サイアロン(sialon)、窒化チタン（ＴｉＮ）、
炭化ケイ素（ＳｉＣ）等が挙げられる。また、セラミッ
クフレーム形成材料としてジルコニアを主体とする場
合、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化カルシウム（Ｃ
ａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化セリウム
（ＣｅＯ2）のような、焼成した際の高温相におけるセ
ラミック成形物の安定化剤として機能する化合物を数mo
l％程度の少量を添加することが好ましい。その他、従
来からセラミックフレーム形成材料に必要に応じて添加
されていた副次的成分、例えば、着色剤、粘度調整剤、
香料、界面活性剤、防腐剤、ｐＨ調整剤等を適当量配合
してもよい。
【００１８】好ましいセラミックフレーム形成材料は、
上述した接合助長剤が添加されたものである。かかる接
合助長剤は、セラミック粉末から成る成形物の緻密化に
寄与し得ると共に、比較的低温度においてもいわゆる拡
散接合を促進し得る作用を有する化合物である。好まし
い接合助長剤としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）及び酸化
ゲルマニウム（ＧｅＯ2）が挙げられる。セラミック粉
末に対してほぼ１０wt％以下（典型的には１〜１０wt
％）の含有率でこれら接合助長剤が添加されているもの
が好ましい。例えば、ＺｒＯ2粉末を主体とするセラミ
ックフレーム形成材料であって、ＺｒＯ2粉末に対して
１〜１０wt％のＴｉＯ2粉末及び／又はＳｉＯ2粉末、あ
るいは１〜５wt％のＮｂ2Ｏ5粉末及び／又はＧｅＯ2粉
末を添加したものが好ましい。
上述した接合助長剤が添加されたものである。かかる接
合助長剤は、セラミック粉末から成る成形物の緻密化に
寄与し得ると共に、比較的低温度においてもいわゆる拡
散接合を促進し得る作用を有する化合物である。好まし
い接合助長剤としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）及び酸化
ゲルマニウム（ＧｅＯ2）が挙げられる。セラミック粉
末に対してほぼ１０wt％以下（典型的には１〜１０wt
％）の含有率でこれら接合助長剤が添加されているもの
が好ましい。例えば、ＺｒＯ2粉末を主体とするセラミ
ックフレーム形成材料であって、ＺｒＯ2粉末に対して
１〜１０wt％のＴｉＯ2粉末及び／又はＳｉＯ2粉末、あ
るいは１〜５wt％のＮｂ2Ｏ5粉末及び／又はＧｅＯ2粉
末を添加したものが好ましい。
【００１９】コア部材の形成は、種々の方法で行うこと
ができるが、緻密構造のセラミック成形体を得るには、
所定の型に上記形成材料（粉末）を充填して加圧成形す
るのがよい。例えば、静水圧プレスや片押し成形を行う
ことによって緻密構造のセラミック成形体（グリーン
体）を得ることができる。なお、セラミックフレームを
構成する全てのコア部材を同一の形成材料から形成する
必要はなく、例えば３冠ブリッジのフレームを製造する
場合において、左右のコアエレメントを構成するコア部
材をＡｌ2Ｏ3ベースの材料から形成し、中央のコアエレ
メントを構成するコア部材をＺｒＯ2ベースの材料又は
Ａｌ2Ｏ3とＺｒＯ2の複合材料から形成してもよい。従
って、本発明の歯科セラミックフレームには、Ｚｒ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ添加Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−Ｚｒ
Ｏ2複合体、Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−Ａｌ2ＴｉＯ5複合体、
Ａｌ2Ｏ3−スピネル（ＭｇＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：ｘは１以上
の数）複合体、Ｓｉ3Ｎ4、サイアロン、ＴｉＮ、及びＳ
ｉＣから成る群から選択される一種類又は二種類以上の
組み合わせから成るセラミック構造体が含まれる。
ができるが、緻密構造のセラミック成形体を得るには、
所定の型に上記形成材料（粉末）を充填して加圧成形す
るのがよい。例えば、静水圧プレスや片押し成形を行う
ことによって緻密構造のセラミック成形体（グリーン
体）を得ることができる。なお、セラミックフレームを
構成する全てのコア部材を同一の形成材料から形成する
必要はなく、例えば３冠ブリッジのフレームを製造する
場合において、左右のコアエレメントを構成するコア部
材をＡｌ2Ｏ3ベースの材料から形成し、中央のコアエレ
メントを構成するコア部材をＺｒＯ2ベースの材料又は
Ａｌ2Ｏ3とＺｒＯ2の複合材料から形成してもよい。従
って、本発明の歯科セラミックフレームには、Ｚｒ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ添加Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−Ｚｒ
Ｏ2複合体、Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−Ａｌ2ＴｉＯ5複合体、
Ａｌ2Ｏ3−スピネル（ＭｇＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：ｘは１以上
の数）複合体、Ｓｉ3Ｎ4、サイアロン、ＴｉＮ、及びＳ
ｉＣから成る群から選択される一種類又は二種類以上の
組み合わせから成るセラミック構造体が含まれる。
【００２０】加圧成形技法等によって所定の形状に成形
されたコア部材は、ブリッジのコアエレメントを形成す
るようにそのまま直列に配置してもよいが、好ましくは
焼結処理を施す。Ａｌ2Ｏ3やＺｒＯ2を主体とする成形
体の場合、典型的には、先ず、１０００〜１１００℃程
度の温度で１〜２時間程度の加熱（仮焼成）を行う。か
かる焼結後、精密なコア形状となるように、ダイヤモン
ド砥石等の工具を用いて研削・研磨処理を施すとよい。
その後、１３００〜１５００℃を最高焼成温度とする焼
成処理が行われる。
されたコア部材は、ブリッジのコアエレメントを形成す
るようにそのまま直列に配置してもよいが、好ましくは
焼結処理を施す。Ａｌ2Ｏ3やＺｒＯ2を主体とする成形
体の場合、典型的には、先ず、１０００〜１１００℃程
度の温度で１〜２時間程度の加熱（仮焼成）を行う。か
かる焼結後、精密なコア形状となるように、ダイヤモン
ド砥石等の工具を用いて研削・研磨処理を施すとよい。
その後、１３００〜１５００℃を最高焼成温度とする焼
成処理が行われる。
【００２１】得られた焼結体（コア部材）をそのまま直
列に配置してもよいが、好ましくは、ダイヤモンド砥石
等を使用して研削及び／又は研磨を行い、直列に配置し
た際に隣り合うコア部材の向かい合う面（直列配置時に
互いに接する面：以下「接触面」という）を平面化する
とよい。これにより、複数のコア部材を直列に配置した
際に、隣接する二つのコア部材の接触面（平面化処理さ
れた面）同士を容易に密着させる（密接状態で接触させ
る）ことができる。かかる平面化処理に代えて或いは当
該平面化処理に加えて、上記接合助長剤を接触面に付与
してもよい。例えば、粉末状の接合助長剤（ＴｉＯ
2等）を溶媒中に分散したもの或いは接合助長剤として
機能する有機金属化合物（例えばチタンのアルコキシド
溶液）を薄く塗布するとよい。これにより、拡散接合効
率を向上させることができる。
列に配置してもよいが、好ましくは、ダイヤモンド砥石
等を使用して研削及び／又は研磨を行い、直列に配置し
た際に隣り合うコア部材の向かい合う面（直列配置時に
互いに接する面：以下「接触面」という）を平面化する
とよい。これにより、複数のコア部材を直列に配置した
際に、隣接する二つのコア部材の接触面（平面化処理さ
れた面）同士を容易に密着させる（密接状態で接触させ
る）ことができる。かかる平面化処理に代えて或いは当
該平面化処理に加えて、上記接合助長剤を接触面に付与
してもよい。例えば、粉末状の接合助長剤（ＴｉＯ
2等）を溶媒中に分散したもの或いは接合助長剤として
機能する有機金属化合物（例えばチタンのアルコキシド
溶液）を薄く塗布するとよい。これにより、拡散接合効
率を向上させることができる。
【００２２】このようにして製造された二以上のコア部
材を接触面が互いに密着するようにして直列に配置し、
加熱及び／又は加圧処理を行う。本発明の実施にあたっ
ては、かかる加熱及び／又は加圧処理は、接触面間にお
いて接合が行われて各コア部材が連結・一体化すればよ
く、その処理方法や手順を特に限定するものではない。
典型的には、これらコア部材を直列に配置した状態で所
定の耐圧・耐熱性治具（例えばＳｉＣ製治具）にセット
し、拡散接合が誘発され得る温度域（例えばＡｌ2Ｏ3や
ＺｒＯ2を主体とするもので１３００〜１５００℃）、
及び／又は、拡散接合が誘発され得る圧力（例えば１０
〜５０ＭＰａ）をかけつつ１０分〜２時間程度の接合処
理を行う。例えばＺｒＯ2を主体とするものでは、好ま
しくは、１４００〜１５００℃、１０〜１５ＭＰａで処
理を行う。このことによって、二以上のコアエレメント
が相互に一体化されて成る本発明の歯科セラミックフレ
ームが製造され得る。
材を接触面が互いに密着するようにして直列に配置し、
加熱及び／又は加圧処理を行う。本発明の実施にあたっ
ては、かかる加熱及び／又は加圧処理は、接触面間にお
いて接合が行われて各コア部材が連結・一体化すればよ
く、その処理方法や手順を特に限定するものではない。
典型的には、これらコア部材を直列に配置した状態で所
定の耐圧・耐熱性治具（例えばＳｉＣ製治具）にセット
し、拡散接合が誘発され得る温度域（例えばＡｌ2Ｏ3や
ＺｒＯ2を主体とするもので１３００〜１５００℃）、
及び／又は、拡散接合が誘発され得る圧力（例えば１０
〜５０ＭＰａ）をかけつつ１０分〜２時間程度の接合処
理を行う。例えばＺｒＯ2を主体とするものでは、好ま
しくは、１４００〜１５００℃、１０〜１５ＭＰａで処
理を行う。このことによって、二以上のコアエレメント
が相互に一体化されて成る本発明の歯科セラミックフレ
ームが製造され得る。
【００２３】
【実施例】 以下に説明する実施例によって、本発明を
更に詳細に説明するが、本発明をかかる実施例に示すも
のに限定することを意図したものではない。
更に詳細に説明するが、本発明をかかる実施例に示すも
のに限定することを意図したものではない。
【００２４】＜実施例１＞３mol％のＹ2Ｏ3を含有する
ＺｒＯ2粉末を用いてコア部材を形成した。すなわち、
所定の型にＹ2Ｏ3含有ＺｒＯ2粉末を充填し、３０ＭＰ
ａでの片押し成形を行った。次いで、１００ＭＰａでの
冷間静水圧プレス成形を行った。得られたグリーン成形
体に対して１０００℃、１時間の仮焼成処理を行った。
続いて、得られた仮焼結体をダイヤモンド砥石を用いて
研削し、図２に示すような３つのコア部材２１，２２，
２３を作製した。なお、図示していないが、図面左右の
コア部材２１，２３には、支台歯の一部を嵌め込み得る
装着孔が形成されている。かかる研削処理後、１４００
℃、２時間の焼成処理を行った。これにより、相対密度
９９．８％以上の緻密構造のコア部材２１，２２，２３
が得られた。続いて、これらコア部材の接触面２４，２
５に対して、＃４００のダイヤモンド砥石を用いて研削
・研磨処理を施した。これにより、各コア部材の接触面
２４．２５をほぼ完全に平面化した（図２参照）。
ＺｒＯ2粉末を用いてコア部材を形成した。すなわち、
所定の型にＹ2Ｏ3含有ＺｒＯ2粉末を充填し、３０ＭＰ
ａでの片押し成形を行った。次いで、１００ＭＰａでの
冷間静水圧プレス成形を行った。得られたグリーン成形
体に対して１０００℃、１時間の仮焼成処理を行った。
続いて、得られた仮焼結体をダイヤモンド砥石を用いて
研削し、図２に示すような３つのコア部材２１，２２，
２３を作製した。なお、図示していないが、図面左右の
コア部材２１，２３には、支台歯の一部を嵌め込み得る
装着孔が形成されている。かかる研削処理後、１４００
℃、２時間の焼成処理を行った。これにより、相対密度
９９．８％以上の緻密構造のコア部材２１，２２，２３
が得られた。続いて、これらコア部材の接触面２４，２
５に対して、＃４００のダイヤモンド砥石を用いて研削
・研磨処理を施した。これにより、各コア部材の接触面
２４．２５をほぼ完全に平面化した（図２参照）。
【００２５】次いで、図２に示すように、各コア部材２
１，２２，２３の接触面２４，２５を相互に密着させつ
つ横方向に直列に配置した状態で、炉内に設置したクリ
ープ試験機付属のＳｉＣ治具１，２，３ａ，３ｂ，４
ａ，４ｂにセットした。次いで、炉を１４５０℃に加熱
した。炉内温度が一定になった後、１０ＭＰａの圧力で
２０分間保持した。その時間経過後、圧力を解除して炉
中で冷却した。図３に示すように、こうして得られたセ
ラミックフレーム２０の接触面を含む部分は、コア部材
（コアエレメント）と同じ組成で且つ一体化して構成さ
れた接合部分２６，２７を形成していた。かかるセラミ
ックフレーム２０を支台歯を模擬した治具５，６に装着
し、最大応力６００〜８００ＭＰａ、周波数２Ｈｚ、応
力比０の片振りにより、繰返し回数１０6回までの疲労
試験を行い、接合部分２６，２７の破断の有無を調べ
た。その結果、上記範囲中のいずれの応力レベルにおい
ても、１０6回まで接合部分の破断は生じなかった。
１，２２，２３の接触面２４，２５を相互に密着させつ
つ横方向に直列に配置した状態で、炉内に設置したクリ
ープ試験機付属のＳｉＣ治具１，２，３ａ，３ｂ，４
ａ，４ｂにセットした。次いで、炉を１４５０℃に加熱
した。炉内温度が一定になった後、１０ＭＰａの圧力で
２０分間保持した。その時間経過後、圧力を解除して炉
中で冷却した。図３に示すように、こうして得られたセ
ラミックフレーム２０の接触面を含む部分は、コア部材
（コアエレメント）と同じ組成で且つ一体化して構成さ
れた接合部分２６，２７を形成していた。かかるセラミ
ックフレーム２０を支台歯を模擬した治具５，６に装着
し、最大応力６００〜８００ＭＰａ、周波数２Ｈｚ、応
力比０の片振りにより、繰返し回数１０6回までの疲労
試験を行い、接合部分２６，２７の破断の有無を調べ
た。その結果、上記範囲中のいずれの応力レベルにおい
ても、１０6回まで接合部分の破断は生じなかった。
【００２６】なお、具体的なデータは示していないが、
上記ＳｉＣ治具１，２，３ａ，３ｂ，４ａ，４ｂに代え
て、Ｓｉ3Ｎ4、ムライト、Ａｌ2Ｏ3／ＧｄＡｌＯ3系や
Ａｌ2Ｏ3／ＹＡＧ系等のＭＧＣ材料、白金（Ｐｔ）又は
パラジウム（Ｐｄ）から構成された各種の治具を用い
て、大気中で同様の接合処理を行って得たセラミックフ
レームについても同様の結果が得られた。また、具体的
なデータは示していないが、上記ＳｉＣ治具１，２，３
ａ，３ｂ，４ａ，４ｂに代えて、グラファイト、タング
ステン（Ｗ）、コバルト（Ｃｏ）−クロム（Ｃｒ）合
金、ニッケル（Ｎｉ）超合金又はＮｉ−Ｃｒ合金から構
成された各種の治具を用いて、真空中又は不活性ガス雰
囲気中で同様の接合処理（１４５０℃、２０分）を行っ
て得たセラミックフレームについても同様の結果が得ら
れた。なお、Ｙ2Ｏ3の含有率が２〜６mol％である各種
のＺｒＯ2粉末、或いは安定化剤としてＹ2Ｏ3に代えて
ＣａＯ、ＭｇＯ若しくはＣｅＯ2を適当な含有率で含む
ＺｒＯ2粉末をそれぞれ使用して得られるセラミックフ
レームについても同様の結果が得られ得る。
上記ＳｉＣ治具１，２，３ａ，３ｂ，４ａ，４ｂに代え
て、Ｓｉ3Ｎ4、ムライト、Ａｌ2Ｏ3／ＧｄＡｌＯ3系や
Ａｌ2Ｏ3／ＹＡＧ系等のＭＧＣ材料、白金（Ｐｔ）又は
パラジウム（Ｐｄ）から構成された各種の治具を用い
て、大気中で同様の接合処理を行って得たセラミックフ
レームについても同様の結果が得られた。また、具体的
なデータは示していないが、上記ＳｉＣ治具１，２，３
ａ，３ｂ，４ａ，４ｂに代えて、グラファイト、タング
ステン（Ｗ）、コバルト（Ｃｏ）−クロム（Ｃｒ）合
金、ニッケル（Ｎｉ）超合金又はＮｉ−Ｃｒ合金から構
成された各種の治具を用いて、真空中又は不活性ガス雰
囲気中で同様の接合処理（１４５０℃、２０分）を行っ
て得たセラミックフレームについても同様の結果が得ら
れた。なお、Ｙ2Ｏ3の含有率が２〜６mol％である各種
のＺｒＯ2粉末、或いは安定化剤としてＹ2Ｏ3に代えて
ＣａＯ、ＭｇＯ若しくはＣｅＯ2を適当な含有率で含む
ＺｒＯ2粉末をそれぞれ使用して得られるセラミックフ
レームについても同様の結果が得られ得る。
【００２７】＜比較例１＞実施例１と同様にして作製し
た３つのコア部材２１，２２，２３の接触面２４，２５
に一般的なリチウムケイ酸系ガラス組成物を含むスラリ
ーを塗布し、当該ガラス組成物が溶融する温度まで加熱
して接合処理を行った。このようにして得られたセラミ
ックフレームについて、実施例１と同様の疲労試験（図
３参照）を行ったところ、最大応力６００ＭＰａでの試
験においてセラミックフレームは即座に破断した。
た３つのコア部材２１，２２，２３の接触面２４，２５
に一般的なリチウムケイ酸系ガラス組成物を含むスラリ
ーを塗布し、当該ガラス組成物が溶融する温度まで加熱
して接合処理を行った。このようにして得られたセラミ
ックフレームについて、実施例１と同様の疲労試験（図
３参照）を行ったところ、最大応力６００ＭＰａでの試
験においてセラミックフレームは即座に破断した。
【００２８】＜実施例２＞実施例１で作製したセラミッ
クフレームを用いて口腔内を模擬した環境での機械的特
性を評価した。すなわち、図３に示した治具５，６を用
いて、室温大気中および３７℃の生理食塩水中において
負荷速度０．００５ｍｍ／分での圧縮試験をそれぞれ行
い、接合部分２６，２７の機械的強度の比較を行った。
その結果、３７℃生理食塩水中での強度は、室温大気中
での強度の凡そ９５％レベルを維持していた。同様の条
件を比較例１に係るセラミックフレームを用いて行った
ところ、３７℃生理食塩水中での強度は、室温大気中で
の強度の凡そ８０％レベルにまで低下した。かかる実験
結果から、比較例１に係るセラミックフレームの接合部
分では、リチウムケイ酸系ガラス成分が多量に含まれる
結果、いわゆる応力腐食によって３７℃生理食塩水中で
の機械的強度が大幅に低下することが確かめられた。一
方、実施例１に係るセラミックフレームでは、接合部分
にガラス成分が多量に含まれていないために、かかる応
力腐食が生じず、結果、口腔内でも高い機械的強度が保
持されることが確かめられた。
クフレームを用いて口腔内を模擬した環境での機械的特
性を評価した。すなわち、図３に示した治具５，６を用
いて、室温大気中および３７℃の生理食塩水中において
負荷速度０．００５ｍｍ／分での圧縮試験をそれぞれ行
い、接合部分２６，２７の機械的強度の比較を行った。
その結果、３７℃生理食塩水中での強度は、室温大気中
での強度の凡そ９５％レベルを維持していた。同様の条
件を比較例１に係るセラミックフレームを用いて行った
ところ、３７℃生理食塩水中での強度は、室温大気中で
の強度の凡そ８０％レベルにまで低下した。かかる実験
結果から、比較例１に係るセラミックフレームの接合部
分では、リチウムケイ酸系ガラス成分が多量に含まれる
結果、いわゆる応力腐食によって３７℃生理食塩水中で
の機械的強度が大幅に低下することが確かめられた。一
方、実施例１に係るセラミックフレームでは、接合部分
にガラス成分が多量に含まれていないために、かかる応
力腐食が生じず、結果、口腔内でも高い機械的強度が保
持されることが確かめられた。
【００２９】＜実施例３＞実施例１で用いたＹ2Ｏ3含有
ＺｒＯ2粉末に対し接合助長剤としてＴｉＯ2を５wt％混
合した。この混合粉末材料を用いて、実施例１と同様の
処理を行い、相対密度が９９．８％以上のコア部材を作
製した。そして、これらコア部材を実施例１と同様に平
面化処理した後、１２００〜１４５０℃の温度範囲から
いくつかの温度条件を選択し、同一負荷条件にて実施例
１と同様の接合処理を行った。得られた同形状の各セラ
ミックフレームについて、実施例１と同様の疲労試験を
行った。すなわち、接合温度（１２００〜１４５０℃）
の異なる各セラミックフレームについて、最大応力６０
０ＭＰａで繰返し回数１０6回までの破断の有無を調べ
た。その結果、実施例１に係るセラミックフレームと比
較して、接合助長剤を含むセラミック材料から形成され
たセラミックフレームは、比較的低温で接合処理を行っ
たものでも機械的強度が高く、例えば１３５０℃で接合
したフレームについても繰返し回数１０6回まで破断が
生じなかった。この結果より、ＴｉＯ2等の接合助長剤
をセラミックフレーム形成材料に適量加えることによ
り、比較的低い温度域での接合処理（加熱・加圧処理）
でも高い機械的強度を実現する好適な拡散接合が生じ得
ることが確認された。
ＺｒＯ2粉末に対し接合助長剤としてＴｉＯ2を５wt％混
合した。この混合粉末材料を用いて、実施例１と同様の
処理を行い、相対密度が９９．８％以上のコア部材を作
製した。そして、これらコア部材を実施例１と同様に平
面化処理した後、１２００〜１４５０℃の温度範囲から
いくつかの温度条件を選択し、同一負荷条件にて実施例
１と同様の接合処理を行った。得られた同形状の各セラ
ミックフレームについて、実施例１と同様の疲労試験を
行った。すなわち、接合温度（１２００〜１４５０℃）
の異なる各セラミックフレームについて、最大応力６０
０ＭＰａで繰返し回数１０6回までの破断の有無を調べ
た。その結果、実施例１に係るセラミックフレームと比
較して、接合助長剤を含むセラミック材料から形成され
たセラミックフレームは、比較的低温で接合処理を行っ
たものでも機械的強度が高く、例えば１３５０℃で接合
したフレームについても繰返し回数１０6回まで破断が
生じなかった。この結果より、ＴｉＯ2等の接合助長剤
をセラミックフレーム形成材料に適量加えることによ
り、比較的低い温度域での接合処理（加熱・加圧処理）
でも高い機械的強度を実現する好適な拡散接合が生じ得
ることが確認された。
【００３０】なお、具体的なデータは示していないが、
上記ＴｉＯ2の含有率を１〜１０wt％の範囲内で変動さ
せていくつかのセラミックフレームを作製し、同様の疲
労試験を行ったところ、いずれのセラミックフレームに
ついても実施例３に係るセラミックフレームと同等の結
果を示した。また、具体的なデータは示していないが、
上記ＴｉＯ2に代えて１〜９wt％のＳｉＯ2、１〜５wt％
のＮｂ2Ｏ5又は１〜５wt％のＧｅＯ2を含むセラミック
フレーム形成材料を使用して実施例３と同様にセラミッ
クフレームを作製し、同様の疲労試験を行ったところ、
いずれのセラミックフレームについても実施例３に係る
セラミックフレームと同等の結果を示した。
上記ＴｉＯ2の含有率を１〜１０wt％の範囲内で変動さ
せていくつかのセラミックフレームを作製し、同様の疲
労試験を行ったところ、いずれのセラミックフレームに
ついても実施例３に係るセラミックフレームと同等の結
果を示した。また、具体的なデータは示していないが、
上記ＴｉＯ2に代えて１〜９wt％のＳｉＯ2、１〜５wt％
のＮｂ2Ｏ5又は１〜５wt％のＧｅＯ2を含むセラミック
フレーム形成材料を使用して実施例３と同様にセラミッ
クフレームを作製し、同様の疲労試験を行ったところ、
いずれのセラミックフレームについても実施例３に係る
セラミックフレームと同等の結果を示した。
【００３１】＜実施例４＞図４及び図５に示すような、
本発明の歯科セラミックフレームを含む３冠ブリッジ４
０を作製した。すなわち、実施例１と同様の処理を行
い、３冠ブリッジ用セラミックフレーム３０を作製し
た。このセラミックフレーム３０のコアエレメント３
１，３２，３３間の接合部分３４，３５は、各コアエレ
メント３１，３２，３３と同じ組成であり、一体に形成
されている。なお、両サイドのコアエレメント３１，３
３には、図示しない支台歯の一部分を装着するための装
着孔３６，３７が形成されている。このセラミックフレ
ーム３０の表面に、当該フレームと熱膨張性が適合する
ジルコニア用陶材を築盛して焼き付けた。すなわち、当
該フレーム３０を作業模型に装着した状態にしておき、
次の組成の陶材粉末：ＳｉＯ2６０〜７０wt％、Ａｌ2Ｏ
3９〜１３wt％、ＣａＯ０．５〜１．０wt％、ＭｇＯ
０．３〜０．６wt％、Ｋ2Ｏ６．０〜８．０wt％、Ｎａ2
Ｏ６．５〜８．０wt％、Ｌｉ2Ｏ０．１〜０．４wt％、
Ｂ2Ｏ3０．３〜０．５wt％、ＺｒＯ2０．５〜６．５wt
％及び顔料(pigment)０．１〜１．５wt％を一般的な練
和液（水）で練和した練和物を、筆を使用して当該フレ
ーム３０上に付着させつつ所望する形状（図５の符号４
１および４２参照）に築盛した。次いで、気泡等が入ら
ないようにするためにコンデンスを行いながら充填し
た。凝集後、セラミックフレーム３０を築盛物ごと作業
模型から取り外し、焼成炉内に移した。而して、ほぼ７
００℃で焼成することによって、図４および図５に示す
ようなセラミックフレーム３０とその表面に形成された
冠部４１，４２とから成る３冠ブリッジ４０が得られ
た。このブリッジ４０は、冠部４１，４２とフレーム３
０との熱膨張率がほぼ等しいため、寸法精度に優れる即
ち高精度に形成されている。
本発明の歯科セラミックフレームを含む３冠ブリッジ４
０を作製した。すなわち、実施例１と同様の処理を行
い、３冠ブリッジ用セラミックフレーム３０を作製し
た。このセラミックフレーム３０のコアエレメント３
１，３２，３３間の接合部分３４，３５は、各コアエレ
メント３１，３２，３３と同じ組成であり、一体に形成
されている。なお、両サイドのコアエレメント３１，３
３には、図示しない支台歯の一部分を装着するための装
着孔３６，３７が形成されている。このセラミックフレ
ーム３０の表面に、当該フレームと熱膨張性が適合する
ジルコニア用陶材を築盛して焼き付けた。すなわち、当
該フレーム３０を作業模型に装着した状態にしておき、
次の組成の陶材粉末：ＳｉＯ2６０〜７０wt％、Ａｌ2Ｏ
3９〜１３wt％、ＣａＯ０．５〜１．０wt％、ＭｇＯ
０．３〜０．６wt％、Ｋ2Ｏ６．０〜８．０wt％、Ｎａ2
Ｏ６．５〜８．０wt％、Ｌｉ2Ｏ０．１〜０．４wt％、
Ｂ2Ｏ3０．３〜０．５wt％、ＺｒＯ2０．５〜６．５wt
％及び顔料(pigment)０．１〜１．５wt％を一般的な練
和液（水）で練和した練和物を、筆を使用して当該フレ
ーム３０上に付着させつつ所望する形状（図５の符号４
１および４２参照）に築盛した。次いで、気泡等が入ら
ないようにするためにコンデンスを行いながら充填し
た。凝集後、セラミックフレーム３０を築盛物ごと作業
模型から取り外し、焼成炉内に移した。而して、ほぼ７
００℃で焼成することによって、図４および図５に示す
ようなセラミックフレーム３０とその表面に形成された
冠部４１，４２とから成る３冠ブリッジ４０が得られ
た。このブリッジ４０は、冠部４１，４２とフレーム３
０との熱膨張率がほぼ等しいため、寸法精度に優れる即
ち高精度に形成されている。
【００３２】＜実施例５＞次に、局所加熱によるコア部
材間の接合例を示す。すなわち、実施例１と同様の処理
を行い、３冠ブリッジのセラミックフレームを構築する
ための相対密度９９．８％以上の緻密構造のコア部材５
１，５２，５３を作製した。次に、これらコア部材の接
触面５４，５５に対して、＃４００のダイヤモンド砥石
を用いて研削・研磨処理を施した。これにより、各コア
部材の接触面５４．５５をほぼ完全に平面化した。次い
で、図６に示すように、各コア部材５１，５２，５３の
接触面５４，５５を相互に密着させつつ横方向に直列に
配置した状態で、マイクロ波加熱炉内に設置したアルミ
ナ製治具７にセットした。このとき、接触面が相互に圧
接される状態とした。また、かかる治具７と各コア部材
５１，５２，５３の間には、図示しない数μｍ程度の粒
径のアルミナ粗粒を充填し、これらコア部材５１，５
２，５３を治具７に固定した。
材間の接合例を示す。すなわち、実施例１と同様の処理
を行い、３冠ブリッジのセラミックフレームを構築する
ための相対密度９９．８％以上の緻密構造のコア部材５
１，５２，５３を作製した。次に、これらコア部材の接
触面５４，５５に対して、＃４００のダイヤモンド砥石
を用いて研削・研磨処理を施した。これにより、各コア
部材の接触面５４．５５をほぼ完全に平面化した。次い
で、図６に示すように、各コア部材５１，５２，５３の
接触面５４，５５を相互に密着させつつ横方向に直列に
配置した状態で、マイクロ波加熱炉内に設置したアルミ
ナ製治具７にセットした。このとき、接触面が相互に圧
接される状態とした。また、かかる治具７と各コア部材
５１，５２，５３の間には、図示しない数μｍ程度の粒
径のアルミナ粗粒を充填し、これらコア部材５１，５
２，５３を治具７に固定した。
【００３３】図６に模式的に示すように、この治具７の
上方にマイクロ波の照射源８を配置し、中央のコア部材
とその両側の接触面５４，５５を含む部分に２．４５Ｇ
Ｈｚのマイクロ波を照射し、当該部分を加熱した。この
部分的加熱処理により、両接触面５４，５５において拡
散接合が生じ、各コア部材が一体化したセラミックフレ
ーム５０が形成された。得られたセラミックフレーム５
０に対して、実施例１と同様、最大応力６００〜８００
ＭＰａ、周波数２Ｈｚ、応力比０の片振りにより繰返し
回数１０6回までの疲労試験を行ったところ、いずれの
応力レベルにおいても１０6回まで接合部分の破断は生
じなかった。
上方にマイクロ波の照射源８を配置し、中央のコア部材
とその両側の接触面５４，５５を含む部分に２．４５Ｇ
Ｈｚのマイクロ波を照射し、当該部分を加熱した。この
部分的加熱処理により、両接触面５４，５５において拡
散接合が生じ、各コア部材が一体化したセラミックフレ
ーム５０が形成された。得られたセラミックフレーム５
０に対して、実施例１と同様、最大応力６００〜８００
ＭＰａ、周波数２Ｈｚ、応力比０の片振りにより繰返し
回数１０6回までの疲労試験を行ったところ、いずれの
応力レベルにおいても１０6回まで接合部分の破断は生
じなかった。
【００３４】以上、本発明の具体例を詳細に説明した
が、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定する
ものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上
に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれ
る。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、
単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性
を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせ
に限定されるものではない。また、本明細書または図面
に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであ
り、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的
有用性を持つものである。
が、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定する
ものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上
に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれ
る。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、
単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性
を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせ
に限定されるものではない。また、本明細書または図面
に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであ
り、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的
有用性を持つものである。
【００３５】
【発明の効果】 以上の実施例からも明らかなように、
本発明によると、従来のガラス接合層を有するブリッジ
形状のセラミックフレームやガラス成分を含浸させた多
孔質セラミックから成るフレームと比べて、機械的強度
特性に優れた歯科セラミックフレームを提供することが
できる。また、本発明の歯科セラミックフレーム製造方
法では、予め個々のコア部材を形成しておくとともにそ
れらを直接的に接合する。このため、各コア部材間の寸
法が殆ど変化せず、高い寸法精度のセラミックフレーム
及び当該フレームを含む歯科補綴物を製造することがで
きる。特に、各コア部材とその接合部分の全体が同じ組
成となるようにセラミックフレーム形成材料を選択する
ことにより、高精度と高強度とを共に実現したセラミッ
クフレームを製造することができる。熱膨張係数の整合
性が良く、接合処理後の冷却過程での割れ等を防止し得
るからである。また、本発明の歯科セラミックフレーム
製造方法では、コア部材形成工程と、該工程で得られた
複数のコア部材を相互に接合して一つのフレームを構築
する工程とが別個であることから、効率よく低コストに
歯科セラミックフレームを製造することができる。
本発明によると、従来のガラス接合層を有するブリッジ
形状のセラミックフレームやガラス成分を含浸させた多
孔質セラミックから成るフレームと比べて、機械的強度
特性に優れた歯科セラミックフレームを提供することが
できる。また、本発明の歯科セラミックフレーム製造方
法では、予め個々のコア部材を形成しておくとともにそ
れらを直接的に接合する。このため、各コア部材間の寸
法が殆ど変化せず、高い寸法精度のセラミックフレーム
及び当該フレームを含む歯科補綴物を製造することがで
きる。特に、各コア部材とその接合部分の全体が同じ組
成となるようにセラミックフレーム形成材料を選択する
ことにより、高精度と高強度とを共に実現したセラミッ
クフレームを製造することができる。熱膨張係数の整合
性が良く、接合処理後の冷却過程での割れ等を防止し得
るからである。また、本発明の歯科セラミックフレーム
製造方法では、コア部材形成工程と、該工程で得られた
複数のコア部材を相互に接合して一つのフレームを構築
する工程とが別個であることから、効率よく低コストに
歯科セラミックフレームを製造することができる。
【図１】 一実施例に係る歯科セラミックフレームの外
形を示す正面図である。
形を示す正面図である。
【図２】 一実施例に係る歯科セラミックフレーム製造
方法における一工程を模式的に示す図である。
方法における一工程を模式的に示す図である。
【図３】 一実施例に係る歯科セラミックフレームの疲
労試験の実施状況を模式的に示す図である。
労試験の実施状況を模式的に示す図である。
【図４】 一実施例に係る歯科補綴物（ブリッジ）の外
形を示す正面図である。
形を示す正面図である。
【図５】 一実施例に係る歯科補綴物（ブリッジ）の内
部構成を示す断面図である。
部構成を示す断面図である。
【図６】 一実施例に係る歯科セラミックフレーム製造
方法における一工程を模式的に示す図である。
方法における一工程を模式的に示す図である。
１０，２０，３０，５０ セラミックフレーム
１１，１２，１３，２１，２２，２３，３１，３２，３
３，５１，５２，５３コア部材（コアエレメント） １４，１５，２６，２７，３４，３５ 接合部分 ２４，２５，５４，５５ 接触面 ４０ ブリッジ（歯科補綴物）
３，５１，５２，５３コア部材（コアエレメント） １４，１５，２６，２７，３４，３５ 接合部分 ２４，２５，５４，５５ 接触面 ４０ ブリッジ（歯科補綴物）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 榊原 肇男
愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36
号 株式会社ノリタケデンタルサプライ内
(72)発明者 安富 義幸
愛知県名古屋市熱田区六野２丁目４番１号
財団法人ファインセラミックスセンター
内
(72)発明者 瀧川 順庸
愛知県名古屋市熱田区六野２丁目４番１号
財団法人ファインセラミックスセンター
内
(72)発明者 阿部 浩也
愛知県名古屋市熱田区六野２丁目４番１号
財団法人ファインセラミックスセンター
内
Ｆターム(参考） 4C059 GG01 GG04 GG07 GG08 GG15
4C089 AA09 BA01 BA04 BA05 BA06
BA13 BA14 CA05
Claims (15)
- 【請求項１】 直列する二以上のコアエレメントを備え
た歯科セラミックフレームであって、 隣り合うコアエレメントが相互に接合して一体を成して
おり、 それらコアエレメント間の接合部分におけるガラス成分
の含有率が１０wt％以下である、歯科セラミックフレー
ム。 - 【請求項２】 前記接合部分のガラス成分として、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｌｉ及びＢを実質的に含まない、請求項１に記
載の歯科セラミックフレーム。 - 【請求項３】 少なくとも前記接合部分において接合助
長成分を含む、請求項１に記載の歯科セラミックフレー
ム。 - 【請求項４】 酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ニオブ及
び酸化ゲルマニウムから成る群から選択される１種又は
２種以上を前記接合助長成分として含む、請求項３に記
載の歯科セラミックフレーム。 - 【請求項５】 ジルコニア、アルミナ、ムライト及びス
ピネルから成る群から選択される一種又は二種以上のセ
ラミックスを主体に構成されている、請求項４に記載の
歯科セラミックフレーム。 - 【請求項６】 前記コアエレメントとコアエレメント間
の接合部分とが実質的に同じ組成である、請求項１〜５
のいずれかに記載の歯科セラミックフレーム。 - 【請求項７】 歯科セラミックフレームを形成するため
の材料であって、セラミック粉末を主体とし、そのセラ
ミック粉末に対してほぼ１０wt％以下の含有率で接合助
長剤を含む、歯科セラミックフレーム形成材料。 - 【請求項８】 前記接合助長剤が、酸化チタン、酸化ケ
イ素、酸化ニオブ及び酸化ゲルマニウムから成る群から
選択される１種又は２種以上である、請求項７に記載の
歯科セラミックフレーム形成材料。 - 【請求項９】 直列する二以上のセラミック製コア部材
を備えた歯科セラミックフレームを製造する方法であっ
て、以下の工程： (a).二以上のコア部材を個々に形成する工程； (b).それらコア部材を直列に配置する工程、ここで隣り
合うコア部材の向かい合う面の少なくとも一部を相互に
密着させる；および (c).その直列に配置された二以上のコア部材を加熱及び
／又は加圧することにより、相互に接合して一体化させ
る工程； を包含する、歯科セラミックフレーム製造方法。 - 【請求項１０】 前記(b).工程の前に、前記コア部材の
相互に密着させる面を平面化する処理が行われる、請求
項９に記載の歯科セラミックフレーム製造方法。 - 【請求項１１】 前記(b).工程の前に、前記コア部材の
相互に密着させる面に接合助長剤を付与する処理が行わ
れる、請求項９に記載の歯科セラミックフレーム製造方
法。 - 【請求項１２】 前記(a).工程において、各コア部材を
形成する材料として、セラミック粉末を主体とし、接合
助長剤が添加された材料が用いられる、請求項９に記載
の歯科セラミックフレーム製造方法。 - 【請求項１３】 前記接合助長剤が、酸化チタン、酸化
ケイ素、酸化ニオブ及び酸化ゲルマニウムから成る群か
ら選択される１種又は２種以上である、請求項１２に記
載の歯科セラミックフレーム製造方法。 - 【請求項１４】 請求項１〜６のいずれかに記載の歯科
セラミックフレームを含む歯科補綴物。 - 【請求項１５】 前記セラミックフレームに陶材及び／
又はレジンが付与されて人工歯冠が形成されている、請
求項１４に記載の歯科補綴物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236531A JP2003047622A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物 |
| EP20020751821 EP1413260A1 (en) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | Dental ceramic frame, preparation of the same and dental prosthesis comprising the same |
| PCT/JP2002/007847 WO2003013387A1 (en) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | Dental ceramic frame, preparation of the same and dental prosthesis comprising the same |
| US10/484,910 US20040197738A1 (en) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | Dental ceramic frame, preparation of the same and dental prosthesis comprising the frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236531A JP2003047622A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003047622A true JP2003047622A (ja) | 2003-02-18 |
Family
ID=19067778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001236531A Pending JP2003047622A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20040197738A1 (ja) |
| EP (1) | EP1413260A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003047622A (ja) |
| WO (1) | WO2003013387A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008515549A (ja) * | 2004-10-08 | 2008-05-15 | ペントロン・セラミックス・インコーポレイテッド | 高強度歯科修復物 |
| JP2008246131A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Gc Corp | ジルコニア製インプラントブリッジの作製方法 |
| JP2011513941A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-04-28 | ビタ ツァーンファブリク ハー．ラウター ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー | 歯科用焼結炉及びセラミック歯科要素の焼結方法 |
| KR101071554B1 (ko) | 2010-04-06 | 2011-10-10 | 주식회사 하스 | 세라믹 유치관 제조방법 및 이에 의해 제조된 세라믹 유치관 |
| JP2015137187A (ja) * | 2014-01-20 | 2015-07-30 | 株式会社ニッカトー | 歯科用ジルコニア質焼結体、クラウン用フレーム、ブリッジ用フレーム |
| JP2015227283A (ja) * | 2003-08-07 | 2015-12-17 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ | ケイ酸リチウム材料 |
| JP2018168059A (ja) * | 2018-05-24 | 2018-11-01 | クラレノリタケデンタル株式会社 | ジルコニア仮焼体及びジルコニア焼結体 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5054321B2 (ja) * | 2006-03-28 | 2012-10-24 | 日揮触媒化成株式会社 | 歯科用充填材、その製造方法および歯科用複合材料 |
| EP1870073A1 (de) * | 2006-06-23 | 2007-12-26 | Aepsilon Rechteverwaltungs GmbH | Material und Rohling für Zahnersatz |
| KR100837571B1 (ko) * | 2007-01-25 | 2008-06-11 | 박수강 | 치과용 코어 및 그 제조방법 |
| US20100083706A1 (en) * | 2008-04-11 | 2010-04-08 | James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| US9277971B2 (en) * | 2008-04-11 | 2016-03-08 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| US9241879B2 (en) | 2008-04-11 | 2016-01-26 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| US7892995B2 (en) * | 2008-04-11 | 2011-02-22 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances |
| US8867800B2 (en) | 2009-05-27 | 2014-10-21 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Method of designing and fabricating patient-specific restorations from intra-oral scanning of a digital impression |
| IN2014DN09498A (ja) * | 2012-05-11 | 2015-07-17 | Ivoclar Vivadent Ag | |
| CA2872146A1 (en) | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Harald Burke | Pre-sintered blank for dental purposes |
| WO2017182461A1 (de) * | 2016-04-18 | 2017-10-26 | Ivoclar Vivadent Ag | Zahnteilbogen sowie verfahren zur herstellung eines zahnteilbogens |
| US10172696B2 (en) * | 2016-06-15 | 2019-01-08 | Firas Khalid ALQARAWI | Method for producing a ceramic fixed partial denture |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3071095D1 (en) * | 1979-07-13 | 1985-10-24 | Corning Glass Works | Dental constructs and tools and production thereof |
| US4744757A (en) * | 1985-03-20 | 1988-05-17 | Corning Glass Works | Fixed partial dentures and method of making |
| EP0240643A1 (fr) * | 1986-04-11 | 1987-10-14 | Tyszblat Sadoun, Michèle | Procédé de fabrication de prothèses dentaires |
| SE8804588D0 (sv) * | 1988-12-20 | 1988-12-20 | Sandvik Ab | Artificiell tandkrona |
| SE464908B (sv) * | 1989-03-23 | 1991-07-01 | Nobelpharma Ab | Metod foer framstaellning av artificiella tandkronor av onlaytyp eller inlaegg |
| JPH05228161A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Olympus Optical Co Ltd | 歯科補綴物 |
| SE470346B (sv) * | 1992-06-23 | 1994-01-31 | Sandvik Ab | Metod för framställning av keramiska artificiella tandrestaurationer |
| CA2193322C (en) * | 1995-12-19 | 2000-03-28 | Arnold Wohlwend | Method for manufacturing dental crowns and/or dental bridges |
| SE507543C2 (sv) * | 1997-09-12 | 1998-06-22 | Sandvik Ab | Metod för framställning av keramiska artificiella tandbroar |
| US6362250B1 (en) * | 1998-03-17 | 2002-03-26 | Jeneric/Pentron Incorporated | Dental bridges comprising fiber reinforced frameworks with fiber or particulate reinforced veneers |
| US6187701B1 (en) * | 1998-05-29 | 2001-02-13 | Tokuyama Corporation | Dental porcelain |
| US6200136B1 (en) * | 1998-08-07 | 2001-03-13 | Jeneric/Pentron Incorporated | Fiber-reinforced dental bridge and method of manufacture thereof |
| DE19853949C2 (de) * | 1998-11-23 | 2003-01-09 | Ivoclar Vivadent Ag | Keramische Zahnrestauration |
-
2001
- 2001-08-03 JP JP2001236531A patent/JP2003047622A/ja active Pending
-
2002
- 2002-08-01 WO PCT/JP2002/007847 patent/WO2003013387A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2002-08-01 US US10/484,910 patent/US20040197738A1/en not_active Abandoned
- 2002-08-01 EP EP20020751821 patent/EP1413260A1/en not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015227283A (ja) * | 2003-08-07 | 2015-12-17 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ | ケイ酸リチウム材料 |
| JP2008515549A (ja) * | 2004-10-08 | 2008-05-15 | ペントロン・セラミックス・インコーポレイテッド | 高強度歯科修復物 |
| JP2008246131A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Gc Corp | ジルコニア製インプラントブリッジの作製方法 |
| JP2011513941A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-04-28 | ビタ ツァーンファブリク ハー．ラウター ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー | 歯科用焼結炉及びセラミック歯科要素の焼結方法 |
| KR101071554B1 (ko) | 2010-04-06 | 2011-10-10 | 주식회사 하스 | 세라믹 유치관 제조방법 및 이에 의해 제조된 세라믹 유치관 |
| WO2011126200A1 (ko) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 주식회사 하스 | 세라믹 유치관 제조방법 및 이에 의해 제조된 세라믹 유치관 |
| CN102843990A (zh) * | 2010-04-06 | 2012-12-26 | 哈斯有限公司 | 陶瓷乳牙冠制造方法及据此制造的陶瓷乳牙冠 |
| US9458062B2 (en) | 2010-04-06 | 2016-10-04 | Hass Co., Ltd. | Method of manufacturing ceramic primary crown and ceramic primary crown manufactured by the same |
| JP2015137187A (ja) * | 2014-01-20 | 2015-07-30 | 株式会社ニッカトー | 歯科用ジルコニア質焼結体、クラウン用フレーム、ブリッジ用フレーム |
| JP2018168059A (ja) * | 2018-05-24 | 2018-11-01 | クラレノリタケデンタル株式会社 | ジルコニア仮焼体及びジルコニア焼結体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20040197738A1 (en) | 2004-10-07 |
| WO2003013387A1 (en) | 2003-02-20 |
| EP1413260A1 (en) | 2004-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003047622A (ja) | 歯科セラミックフレーム及びその製造並びに該フレームを含む歯科補綴物 | |
| JP6198852B2 (ja) | 歯科用の素材 | |
| CA2504739C (en) | Strengthened ceramic restoration | |
| EP3059214B2 (en) | Preparation method for lithium silicate crystallized glass to be placed on upper end of zirconia, | |
| EP2403428B1 (en) | Process for the manufacture of zirconium dioxide based prostheses | |
| JP2019048179A (ja) | 歯科目的のための予備焼結ブランク | |
| US7691497B1 (en) | Pressable overlay material for veneering of zirconia and composites thereof | |
| JP4741162B2 (ja) | 圧縮可能なガラスセラミック、その製造方法、およびこのガラスセラミックを使用する歯科用補綴物の製造方法 | |
| EP2055259A1 (en) | Dental repair material, method of producing the same and porcelain paste for dental repair material | |
| JP2016522134A (ja) | 酸化セシウムを含有する、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびケイ酸リチウムガラス | |
| US6238601B1 (en) | Method for making ceramic artificial dental bridges | |
| WO2008063620A1 (en) | Graded glass/ceramic/glass structures for damage resistant ceramic dental and orthopedic prostheses | |
| KR100934595B1 (ko) | 치과용 보철물의 제조 방법 및 이에 사용하기 위한 키트 | |
| KR102381025B1 (ko) | 3d 프린터를 이용한 치과 보철물의 제조방법 | |
| US20090004630A1 (en) | Strengthened ceramic restoration | |
| Miyanaji et al. | A preliminary study of the graded dental porcelain ceramic structures fabricated via binder jetting 3D printing | |
| Wang et al. | Shrinkage and strength characterization of an alumina–glass interpenetrating phase composite for dental use | |
| EP1463456B1 (en) | Method for making ceramic artificial dental bridges | |
| EP1665889A2 (en) | Method of microwave processing ceramics and microwave hybrid heating system for same | |
| WO2014034736A1 (ja) | 歯冠材料及びその製造方法 | |
| JP6829066B2 (ja) | 靭性を向上させた歯科用補綴物 | |
| JP2006290854A (ja) | ウイスカー強化歯科用セラミックス及びその常圧製造法 | |
| Almoualimy et al. | Influence of Thermal Expansion on the Bond Strength of Nanozirconia and Veneering Ceramics | |
| ALmisawy et al. | SHEAR BOND STRENGTH OF GLASS CERAMIC TO TRANSLUCENT ZIRCONIA USING TWO VENEERING TECHNIQUES: AN IN VITRO STUDY |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050707 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050714 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050819 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050819 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050825 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050830 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050819 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051006 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051205 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060427 |