JP2003046206A - 分割溝を有するセラミック基板及びその分割方法 - Google Patents

分割溝を有するセラミック基板及びその分割方法

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JP2003046206A JP2001235291A JP2001235291A JP2003046206A JP 2003046206 A JP2003046206 A JP 2003046206A JP 2001235291 A JP2001235291 A JP 2001235291A JP 2001235291 A JP2001235291 A JP 2001235291A JP 2003046206 A JP2003046206 A JP 2003046206A
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dividing
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Kenichi Nishimoto
健一 西本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】搬送工程中や各種加工工程中の振動等によって
分割溝に割れが発生することがなく、また分割した製品
部を位置決めピンに当接させて位置決めする際には欠け
や割れを生じることなく、精度良く当接させることが可
能な分割溝を有するセラミック基板を提供する。 【解決手段】セラミック基板1上に形成する製品部2と
ダミー部3を仕切る分割溝4の断面形状を、少なくとも
製品部側上面2aから延びるC面2bと、このC面2b
の終端よりセラミック基板1の板厚方向に延びる鉛直面
2cと、この鉛直面2cの終端より鋭角にダミー部側上
面3aに向かって延びるテーパ面3bとから構成し、か
つ上記鉛直面2cの長さLをセラミック基板1の板厚T
の20%以上で、かつ上記分割溝4の深さPをセラミッ
ク基板1の板厚Tの50%以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数個の電子部品
等を形成するための分割溝を有するセラミック基板とそ
の分割方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子部品用のセラミック基板には、厚膜
ハイブリッドIC基板、薄膜ハイブリッドIC基板、チ
ップレジスター基板等があり、これらのセラミック基板
に印刷法や液状感光剤法によって抵抗膜や導体膜を形成
することによって電子部品を製造するようになってい
る。そして、上記セラミック基板に印刷法や液状感光剤
法によって抵抗膜や導体膜を形成するにあたり、セラミ
ック基板を正確に保持するため、セラミック基板側面に
位置決めピンを当接させて行うようになっていた。
【0003】ところで、このような電子部品用のセラミ
ック基板を製造するには、多数個取りするため、分割溝
を有する大型のセラミック基板が用いられており、例え
ば、図7に示すように、セラミック基板31の上下に断
面形状がV字状をした分割溝33,34を形成したもの
が用いられていた(特開平11−163478号公
報)。
【0004】また、このような分割溝33を有するセラ
ミック基板31を製造するには、図8に示すように、上
パンチ35及び下パンチ37の先端面にそれぞれ設けら
れた、断面形状がV字状をした切込刃36,38をセラ
ミックグリーンシート40の上下面に圧入し、しかる
後、このセラミックグリーンシート40を焼成すること
により製作されていた。
【0005】また、このような分割溝33,34を有す
るセラミック基板31を分割するには、一辺側のセラミ
ック小基板群を板厚方向に押圧することにより分割溝3
3又は分割溝34に沿って短冊状基板を取り出し、次い
で短冊状基板を分割溝33又は分割溝34に沿って割る
ことで製品部となるセラミック小基板32を取り出すよ
うになっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示す分割溝33,34を有するセラミック基板31を製
造するにあたり、図8に示すように、上パンチ35の切
込刃36と下パンチ37の切込刃38の位置を正確に合
わせた状態でセラミックグリーンシート40の上下面に
圧入させることは難しく、上パンチ35の切込刃36に
より形成された分割溝33の先端と、下パンチ37の切
込刃38により形成された分割溝34の先端との間にず
れが発生すると、図9に示すように製品部となるセラミ
ック小基板32の端面がいびつな形状に形成されるとい
った課題がった。
【0007】その為、このセラミック小基板32に抵抗
膜や導体膜を形成するため、セラミック小基板32の端
面に位置決めピンを当接させると、欠けや割れが発生す
るといった課題があった。しかも、端面精度が悪いた
め、セラミック小基板32の端面に位置決めピンを当接
させると、セラミック小基板32が斜めに位置決めされ
ることがあり、この場合、セラミック小基板の所定領域
に抵抗膜や導体膜を形成することができず、不良品とな
ってしまうといった課題もあった。
【0008】また、セラミック基板31の上下面に形成
する分割溝33,34の深さがセラミック基板31の板
厚に対して深すぎると、搬送工程中や抵抗膜等の膜付け
工程中の振動等によって分割する前に分割溝33,34
に沿って割れてしまい、その後の工程での作業ができな
くなるといった不都合もあった。
【0009】
【課題を解決するための手段】そこで、上記課題に鑑
み、本発明の分割溝を有するセラミック基板は、製品部
とダミー部を仕切る分割溝の断面形状を、少なくとも製
品部側上面から延びるC面と、このC面の終端より上記
セラミック基板の板厚方向に延びる鉛直面と、この鉛直
面の終端より鋭角に上記ダミー部側上面に向かって延び
るテーパ面とから構成するとともに、上記鉛直面の長さ
を上記セラミック基板の板厚の20%以上とするととも
に、上記分割溝の深さを上記セラミック基板の板厚の5
0%以下としたことを特徴とする。
【0010】また、本発明は上記分割溝を有するセラミ
ック基板を分割するにあたり、セラミック基板のダミー
部上面端部を支点とし、かつ分割溝を挟んで上記ダミー
部に隣り合う製品部の上面とC面との交点より鉛直に引
いた線と上記製品部の下面との交点を作用点とし分割す
るようにしたことを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
【0012】図1は本発明の分割溝を有するセラミック
基板の一例を示す斜視図で、このセラミック基板1に
は、製品部2とダミー部3を仕切る縦横の複数の分割溝
4を有し、これら分割溝4を挟んで製品部2とダミー部
3とが交互に位置するようになっている。
【0013】また、各分割溝4の断面形状は、図2に示
すように、製品部2の上面2aから延びるC面2bと、
このC面2bの終端より上記セラミック基板1の板厚方
向に延びる鉛直面2cと、この鉛直面2cの終端より鋭
角に上記ダミー部3の上面3aに向かって延びるテーパ
ー面3bとからなり、上記鉛直面2cの長さLは、上記
セラミック基板1の板厚Tの20%以上とするととも
に、上記分割溝4の深さPは、上記セラミック基板1の
板厚Tの50%以下としてある。
【0014】ここで、鉛直面2cの長さLをセラミック
基板1の板厚Tの20%以上で、かつ分割溝4の深さP
を上記セラミック基板1の板厚Tの50%以下としたの
は、鉛直面2cの長さLをセラミック基板1の板厚Tの
20%未満となると、鉛直面2cの長さLが短いために
製品部2の側面が先細り状の突出部となり、分割した製
品部2に膜形成や素子の搭載等のため、製品部2の鉛直
面2cに位置決めピンを当接させると、欠けや割れを発
生させる恐れがあるからで、また、分割溝4の深さPが
セラミック基板1の板厚Tの50%を超えると、搬送工
程や各種加工工程の振動等によって分割溝4の先端より
クラックが進展し、分割する前に割れが発生するととも
に、後述する分割工程において、綺麗に分割することが
できず、鉛直面2cより突出する突起が形成されてしま
うからである。
【0015】また、製品部2の鉛直面2cの表面粗さ
は、最大高さ(Rmax)で6μm以下とすることが好
ましい。
【0016】なぜなら、製品部2の鉛直面2cの表面粗
さが最大高さ(Rmax)で6μmを超えると、分割し
た製品部2に膜形成や素子の搭載等を行うため、製品部
2の鉛直面2cに位置決めピンを当接させると、欠けや
割れが発生するためである。
【0017】かくして、本発明の分割溝を有するセラミ
ック基板1を用いれば、搬送工程中や各種加工工程中の
振動等によって分割溝4に沿って割れが発生するような
ことがなく、また、分割した製品部2に膜形成や素子の
搭載等のために製品部2の鉛直面2cに位置決めピンを
当接させれば、欠けや割れを生じることなく、また精度
良く当接させることができるため、製品部2への膜付け
精度や素子の搭載精度を高め歩留りを向上させることが
できる。
【0018】次に、本発明の分割溝を有するセラミック
基板1の製造方法について説明する。
【0019】本発明の分割溝を有するセラミック基板1
を製造するには、分割溝4を形成するための切込刃を用
いる。図3に切込刃の断面形状を示すように、この切込
刃11の刃先部12は片刃の形状をしており、その刃先
角度θは45度以下であるものが好ましく、刃先部12
を構成する鉛直面13の終端にはC面15を形成してあ
る。
【0020】そして、この切込刃11の鉛直面13が対
向するように配置したものを一組とし、パンチ16の先
端面に格子状に設置し、切込刃11をセラミックグリー
ンシート10に押し当てると、図4(a)に示すよう
に、セラミックグリーンシート10に切込刃11が圧入
され、さらに図4(b)に示すように、さらに深く圧入
しセラミックグリーンシート10の厚みtの約20%ま
で至った時点で切込刃11のC面15がセラミックグリ
ーンシート10にC面2bを形成し始める状態となるよ
うにする。最後に図4(c)に示すように、切込刃11
がセラミックグリーンシート10の厚みtの25%〜6
0%迄圧入されると、切込刃11のC面15によりセラ
ミックグリーンシート10にC面2bが形成されるよう
にする。このような状態でセラミックグリーンシート1
0から切込刃11を戻すことにより分割溝4を形成する
ことができ、上記切込刃11を用いて分割溝4を形成す
れば、切込刃11の鉛直面13が製品部2の鉛直面2c
を、切込刃11のC面15が製品部2のC面2bを、そ
して切込刃11のテーパー面14がダミー部3のテーパ
ー面3bをそれぞれ形成するようになっている。
【0021】しかる後、分割溝4を有するセラミックグ
リーンシート10を焼結させることができる温度で焼成
することにより得ることができる。
【0022】なお、本発明のセラミック基板1の製造に
あたり、グリーンシート10を製作するには、ドクター
ブレード法やロールコンパクション法を用いることがで
き、また、セラミック基板1を形成する材質としては、
特に限定するものではなく、アルミナ、ムライト、ジル
コニア、コージライト、窒化アルミニウム、窒化珪素、
炭化珪素、炭化硼素、ステアタイト、フォルステライト
等を主成分とするセラミック焼結体を用いれば良い。
【0023】また、上記セラミック焼結体を形成するた
めのセラミックグリーンシート10に分割溝4を形成す
るための切込刃11の材質は、超硬合金が好ましい。
【0024】次に、本発明の分割溝を有するセラミック
基板1の分割方法について説明する。
【0025】本発明の分割溝を有するセラミック基板1
を分割するには、図5に示すような断面形状が略コ字状
をした治具20を用いる。この治具20は、上部鍔部2
1と下部鍔部22の距離Sがセラミック基板1の板厚T
と略同等の長さを有するものを使用する。
【0026】そして、この治具20を用いて分割溝4を
有するセラミック基板1を分割するには、まず、図5
(a)に示すように、セラミック基板1のダミー部3を
囲むように治具20を挿入させる。この時、治具20の
上部鍔部21における先端がダミー部上面2aの端部
に、下部鍔部22における先端が、ダミー部3に分割溝
4を挟んで隣り合う製品部2の上面2aとC面2bとの
交点より鉛直に引いた線と製品部2の下面との交点にそ
れぞれ位置するように配置する。
【0027】この状態で図5(b)に示すように、治具
20を矢印の方向に移動させて分割すれば、図6に示す
ように、製品部2にC面2bと鉛直部2c及び分割によ
って形成された新たなC面2dを有する端面を形成する
ことができる。
【0028】即ち、本発明によれば、セラミック基板1
のダミー部3の上面端部を支点Mとし、かつ分割溝4を
挟んで上記ダミー部3に隣り合う製品部2の上面2aと
C面2bとの交点より鉛直に引いた線と製品部2の下面
との交点を作用点Nとし分割するようにしたことから、
鉛直面2cの終端より製品部2の上面2aとC面2bと
の交点より鉛直に引いた線と製品部2の下面との交点に
真っ直ぐに向かうクラックを発生させることができるた
め、鉛直面2cの終端より製品部2の上面2aとC面2
bとの交点より鉛直に引いた線と製品部2の下面との交
点に新たなC面2dを形成することができる。
【0029】その為、分割した製品部2には鉛直面2c
より突出する突起が形成されるようなことがなく、製品
部2の鉛直面2cに位置決めピンを当接させれば、正確
に位置決めすることができる。しかも、このような方法
により得られた新たなC面2dは、最大高さ(Rma
x)で6μm以下、さらには3μm以下と、滑らかな面
とすることができる。その為、製品部2を搬送容器等に
収納する際、確実に容器内に収納することができる。
【0030】なお、上記治具20を形成する材質として
は、特に限定するものではなく、モリブデン等の金属や
ポリエチレン系の硬質樹脂を用いれば良く、製品部2へ
の金属成分の付着を嫌う場合には硬質樹脂を用いること
が好ましい。
【0031】以上、本発明の実施形態について示した
が、本発明は上記実施形態だけに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で改良や変更したも
のに適用できることは言うまでもない。
【0032】
【実施例】以下、本発明の具体的について説明する。
【0033】切込刃11の刃先部12における刃先角度
θが35°で、セラミックグリーンシート10の厚みT
に対し20%圧入した段階から切込刃11のC面15の
形状となる切込刃11を超硬合金で製作し、金型のパン
チ16にセットした後、ドクターブレード法にて成形し
たアルミナ含有率96%のセラミックグリーンシート1
0にパンチ16の切込刃11を所定の深さまで圧入し、
次いで1600℃の温度で焼成することにより、製品部
2の上面2aから延びるC面2bと、このC面2bの終
端よりセラミック基板1の板厚方向に延びる鉛直面2c
と、この鉛直面2cの終端より鋭角に上記ダミー部3の
上面3aに向かって延びるテーパ面3bからなる分割溝
4を有し、板厚Tが0.64mmのアルミナ質焼結体か
らなるセラミック基板1を製作した。また、鉛直面2c
の長さLはセラミック基板1の板厚Tの20%以上でか
つ分割溝4の深さPはセラミック基板1の板厚Tの50
%以下の範囲内となるようにした。
【0034】次いで、図5(a)(b)に示すように、
デルリンと呼ばれるポリエチレン系の硬質樹脂からなる
治具20を用い、セラミック基板1のダミー部3の上面
端部を支点Mとし、かつ分割溝4を挟んで上記ダミー部
3に隣り合う製品部2の上面2aとC面2bとの交点よ
り鉛直に引いた線と上記製品部2の下面との交点を作用
点Nとし分割することにより、図6に示すような端面を
有する製品部2を切り出した。
【0035】そして、このようにして製作した50枚の
セラミック基板1よりそれぞれ切り出した一つの製品部
2のC面2bの長さ(t1)、C面2bの幅(−x
1)、鉛直面2cの長さ(t2)、新たなC面2dの長
さ(t2)、C面2dの幅(−x2)、鉛直面2cの最
大高さ(Rmax)をそれぞれ測定し、その平均値と標
準偏差を求め、製品バラツキを確認した。
【0036】結果は表1に示す通りである。
【0037】
【表1】
【0038】この結果、製品部2の端面に平坦な鉛直面
2cを形成することができるとともに、鉛直面2cの上
下には滑らかなC面2b,2dを形成することができる
ことが判る。また、本発明の分割溝4を有するセラミッ
ク基板1を用いれば、切り出した製品の寸法バラツキを
小さくできることが判る。
【0039】そこで、図8に示す分割溝33,34を有
する従来のセラミック基板31も用意し、分割溝33,
34に沿って割ることにより切り出した製品部の寸法を
実施例と同様の条件にて製品部の端面における表面粗さ
を測定した。なお、従来のセラミック基板31の板厚及
び製品寸法は本発明の分割溝4を有するセラミック基板
1と同寸法としたものを用いた。
【0040】結果は表2に示す通りである。
【0041】
【表2】
【0042】この結果、従来例のセラミック基板31よ
り切り出した製品部の端面の表面粗さは、最大高さ(R
max)で8.15μmと大きく、またばらつきも大き
いものであった。
【0043】これに対し、本発明の分割溝4を有するセ
ラミック基板1より切り出した製品部2の鉛直面2cの
表面粗さは、最大高さ(Rmax)で5.4μmと小さ
く、またばらつきも小さいものであった。
【0044】このことから、本発明の分割溝4を有する
セラミック基板1を用い、本発明の分割方法により製品
部2を切り出せば、寸法バラツキが少なく、平滑な鉛直
面を有する製品部2を切り出すことができ、その為、位
置決めピンにより正確に位置決めすることができるとと
もに、欠けや割れを生じることがないため、品質の高い
製品を歩留り良く製造することができる。
【0045】
【発明の効果】以上のように、本発明の分割溝を有する
セラミック基板によれば、製品部とダミー部を仕切る分
割溝の断面形状を、少なくとも製品部側上面から延びる
C面と、このC面の終端より上記セラミック基板の板厚
方向に延びる鉛直面と、この鉛直面の終端より鋭角に上
記ダミー部側上面に向かって延びるテーパ面とから構成
するとともに、上記鉛直面の長さを上記セラミック基板
の板厚の20%以上とするとともに、上記分割溝の深さ
を上記セラミック基板の板厚の50%以下としたことか
ら、搬送工程中や各種加工工程中の振動等によって分割
溝に割れが発生することがなく、また分割した製品部に
膜形状や素子の搭載等のため、製品部の鉛直面に位置決
めピンを当接させれば、欠けや割れを生じることなく、
また精度良く当接させることができるため、製品部への
膜付け精度や素子の搭載精度を高め歩留りを向上させる
ことができる。
【0046】また、本発明は、上記分割溝を有するセラ
ミック基板を分割するにあたり、セラミック基板のダミ
ー部上面端部を支点とし、かつ分割溝を挟んで上記ダミ
ー部に隣接する製品部上面とC面との交点より鉛直に引
いた線と製品部下面との交点を作用点とし分割するよう
にしたことから、分割した製品部には鉛直面より突出す
る突起が形成されるようなことがなく、製品部の鉛直面
に位置決めピンを当接させれば、正確に位置決めするこ
とができる。しかも、このような方法により得られた新
たなC面は、最大高さ(Rmax)で6μm以下、さら
には3μm以下と、滑らかな面とすることができるた
め、製品部を搬送容器等に収納する際、確実に容器内に
収納することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の分割溝を有するセラミック基板の一例
を示す斜視図である。
【図2】本発明の分割溝を有するセラミック基板に備え
る分割溝を示す拡大断面図である。
【図3】本発明の分割溝を有するセラミック基板に備え
る分割溝を形成するための切込刃を示す断面図である。
【図4】(a)〜(c)は本発明の分割溝を有するセラ
ミック基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図5】(a)(b)は本発明の分割溝を有するセラミ
ック基板の分割方法を説明するための断面図である。
【図6】本発明のセラミック基板を分割溝に沿って分割
した製品部の端面形状を示す断面図である。
【図7】従来の分割溝を有するセラミック基板の一例を
示す断面図である。
【図8】従来の分割溝を有するセラミック基板の分割方
法を説明するための断面図である。
【図9】図8の分割方法によって分割された製品部の端
面形状を示す断面図である。
【符号の説明】
1:セラミック基板 2:製品部 2a:上面 2b:C面 2c:鉛直面 2d:新たなC面 3:ダミー部 3a:上面 3b:テーパー面 4:分割溝 10:グリーンシート 11:切込刃 12:刃先部 13:鉛直面 14:テーパー面 15:C面 16:パンチ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】製品部とダミー部を仕切る分割溝を有する
    セラミック基板において、上記分割溝の断面形状は、少
    なくとも上記製品部側上面から延びるC面と、該C面の
    終端より上記セラミック基板の板厚方向に延びる鉛直面
    と、該鉛直面の終端より鋭角に上記ダミー部側上面に向
    かって延びるテーパ面とからなり、上記鉛直面の長さが
    上記セラミック基板の板厚の20%以上であるととも
    に、上記分割溝の深さが上記セラミック基板の板厚の5
    0%以下であることを特徴とする分割溝を有するセラミ
    ック基板。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の分割溝を有するセラミッ
    ク基板のダミー部上面端部を支点とし、かつ分割溝を挟
    んで上記ダミー部に隣り合う製品部の上面とC面との交
    点より鉛直に引いた線と上記製品部の下面との交点を作
    用点として分割するようにしたことを特徴とする分割溝
    を有するセラミック基板の分割方法。
JP2001235291A 2001-08-02 2001-08-02 分割溝を有するセラミック基板及びその分割方法 Withdrawn JP2003046206A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7189297B2 (en) * 2003-12-25 2007-03-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing ESD protection component
WO2015119302A1 (ja) * 2014-02-10 2015-08-13 日本碍子株式会社 多孔質板状フィラー集合体及びその製造方法、並びに多孔質板状フィラー集合体を含む断熱膜
JP2017061146A (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 日立金属株式会社 窒化珪素セラミックス集合基板の製造装置及び窒化珪素セラミックス集合基板の製造方法
JP2020192718A (ja) * 2019-05-28 2020-12-03 三星ダイヤモンド工業株式会社 セラミック成形体の分断方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7189297B2 (en) * 2003-12-25 2007-03-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing ESD protection component
WO2015119302A1 (ja) * 2014-02-10 2015-08-13 日本碍子株式会社 多孔質板状フィラー集合体及びその製造方法、並びに多孔質板状フィラー集合体を含む断熱膜
JPWO2015119302A1 (ja) * 2014-02-10 2017-03-30 日本碍子株式会社 多孔質板状フィラー集合体及びその製造方法、並びに多孔質板状フィラー集合体を含む断熱膜
US10392310B2 (en) 2014-02-10 2019-08-27 Ngk Insulators, Ltd. Porous plate-shaped filler aggregate, producing method therefor, and heat-insulation film containing porous plate-shaped filler aggregate
JP2017061146A (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 日立金属株式会社 窒化珪素セラミックス集合基板の製造装置及び窒化珪素セラミックス集合基板の製造方法
JP2020192718A (ja) * 2019-05-28 2020-12-03 三星ダイヤモンド工業株式会社 セラミック成形体の分断方法

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