JP2003043623A - 熱現像感光材料 - Google Patents
熱現像感光材料Info
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- JP2003043623A JP2003043623A JP2001234343A JP2001234343A JP2003043623A JP 2003043623 A JP2003043623 A JP 2003043623A JP 2001234343 A JP2001234343 A JP 2001234343A JP 2001234343 A JP2001234343 A JP 2001234343A JP 2003043623 A JP2003043623 A JP 2003043623A
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高湿環境下での現像処理でも画像線幅変動が
少なく、濃度ムラの発生も少ない、硬調でかつ最高濃度
が高い画像が得られる熱現像感光材料を提供すること。 【解決手段】 支持体上に少なくとも有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤およびバインダーを含
有し、且つ、少なくとも１層の画像形成層と該画像形成
層よりも支持体から遠い側に少なくとも１層の非感光性
層を有する熱現像感光材料において、画像形成層側に有
機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成
した層を少なくとも１層有しており、熱現像時の残存有
機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とす
る熱現像感光材料。
少なく、濃度ムラの発生も少ない、硬調でかつ最高濃度
が高い画像が得られる熱現像感光材料を提供すること。 【解決手段】 支持体上に少なくとも有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤およびバインダーを含
有し、且つ、少なくとも１層の画像形成層と該画像形成
層よりも支持体から遠い側に少なくとも１層の非感光性
層を有する熱現像感光材料において、画像形成層側に有
機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成
した層を少なくとも１層有しており、熱現像時の残存有
機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とす
る熱現像感光材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、特に、写真製版用に適したスキャナ
ー、イメージセッター用熱現像感光材料に関し、さらに
詳しくは、高湿度環境下での熱現像処理において、画像
線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラがなく硬調で最高
濃度の高い性能が得られる熱現像感光材料に関するもの
である。
するものであり、特に、写真製版用に適したスキャナ
ー、イメージセッター用熱現像感光材料に関し、さらに
詳しくは、高湿度環境下での熱現像処理において、画像
線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラがなく硬調で最高
濃度の高い性能が得られる熱現像感光材料に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】支持体上に感光性の画像形成層を有する
感光材料を、画像露光することで画像形成を行う画像形
成方法については、種々知られている。中でも、感光材
料を熱現像処理することによって画像を形成する方法
は、環境面保全に寄与し、さらに画像形成システムを簡
易化できる方法として知られている。近年、写真製版分
野においては環境保全や省スペースの観点から処理廃液
の減量が強く望まれるようになっている。そこで、レー
ザー・スキャナーまたはレーザー・イメージセッターに
より効率的に露光させることができ、かつ高解像度およ
び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができ
る写真製版用途の熱現像感光材料に関する技術開発が必
要とされている。このような熱現像感光材料によれば、
溶液系処理化学薬品を必要としない、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことが可能になる。
感光材料を、画像露光することで画像形成を行う画像形
成方法については、種々知られている。中でも、感光材
料を熱現像処理することによって画像を形成する方法
は、環境面保全に寄与し、さらに画像形成システムを簡
易化できる方法として知られている。近年、写真製版分
野においては環境保全や省スペースの観点から処理廃液
の減量が強く望まれるようになっている。そこで、レー
ザー・スキャナーまたはレーザー・イメージセッターに
より効率的に露光させることができ、かつ高解像度およ
び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができ
る写真製版用途の熱現像感光材料に関する技術開発が必
要とされている。このような熱現像感光材料によれば、
溶液系処理化学薬品を必要としない、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことが可能になる。
【０００３】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第３，１５２，９０４号明細書、同第３，４
５７，０７５号明細書、およびＤ．クロスタボーア（Kl
osterboer）による「熱によって処理される銀システム
（Thermally Processed Silver Systems）Ａ」（イメー
ジング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ（Imag
ing Processes and Materials）Neblette 第８版、Ｊ．
スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワーズ（Walwort
h）、Ａ．シェップ（Shepp）編集、第９章第２７９頁、
１９８９年）に記載されている。このような熱現像感光
材料は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀
塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、お
よび銀の還元剤を、通常、有機バインダーマトリックス
中に分散した状態で含有する。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後に高温（例えば、８０℃以上）に加熱し
たときに、還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と
還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。こ
の酸化還元反応は露光により形成された潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反
応によって生成した銀は黒色になり、非露光領域と対照
をなすことから画像の形成がなされる。
ば米国特許第３，１５２，９０４号明細書、同第３，４
５７，０７５号明細書、およびＤ．クロスタボーア（Kl
osterboer）による「熱によって処理される銀システム
（Thermally Processed Silver Systems）Ａ」（イメー
ジング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ（Imag
ing Processes and Materials）Neblette 第８版、Ｊ．
スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワーズ（Walwort
h）、Ａ．シェップ（Shepp）編集、第９章第２７９頁、
１９８９年）に記載されている。このような熱現像感光
材料は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀
塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、お
よび銀の還元剤を、通常、有機バインダーマトリックス
中に分散した状態で含有する。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後に高温（例えば、８０℃以上）に加熱し
たときに、還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と
還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。こ
の酸化還元反応は露光により形成された潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反
応によって生成した銀は黒色になり、非露光領域と対照
をなすことから画像の形成がなされる。
【０００４】この様な熱現像感光材料は、種々の材料を
溶媒に溶解することによって調製された塗布液を、支持
体上に塗布し、画像形成層を含む多層を形成することに
より、作製される。塗布液の溶媒としては、メチルエチ
ルケトンやアセトンなどの有機溶媒が用いられることが
ある。塗布液の溶媒として有機溶媒を用いた感光材料
は、現像温度変動や経時による濃度変動が生じることが
あるが、特開平６−３０１１４０号公報等に記載されて
いるように塗布後の残存溶媒量を一定にすることで、そ
の様な現象が発生するのを抑制することができる。
溶媒に溶解することによって調製された塗布液を、支持
体上に塗布し、画像形成層を含む多層を形成することに
より、作製される。塗布液の溶媒としては、メチルエチ
ルケトンやアセトンなどの有機溶媒が用いられることが
ある。塗布液の溶媒として有機溶媒を用いた感光材料
は、現像温度変動や経時による濃度変動が生じることが
あるが、特開平６−３０１１４０号公報等に記載されて
いるように塗布後の残存溶媒量を一定にすることで、そ
の様な現象が発生するのを抑制することができる。
【０００５】一方、印刷製版用としては硬調な画像を得
られる感光材料が必要であり、その硬調化技術として米
国特許第５，４５，５０５号明細書および同５，４６
４，７３８号明細書に記載されているようにヒドラジン
誘導体を使用することが知られているが、これらの硬調
化技術を採用すると、高湿度環境下での熱現像処理を行
った場合、画像線幅が詰まりやすく、かつ濃度ムラが発
生してしまうことがある。さらに、印刷製版用フィルム
はサイズが大きく、より濃度ムラを起こしやすいという
問題がある。このため、高湿度環境下での熱現像処理
で、画像線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラがなく硬
調で最高濃度の高い性能が得られる熱現像感光材料が望
まれていた。
られる感光材料が必要であり、その硬調化技術として米
国特許第５，４５，５０５号明細書および同５，４６
４，７３８号明細書に記載されているようにヒドラジン
誘導体を使用することが知られているが、これらの硬調
化技術を採用すると、高湿度環境下での熱現像処理を行
った場合、画像線幅が詰まりやすく、かつ濃度ムラが発
生してしまうことがある。さらに、印刷製版用フィルム
はサイズが大きく、より濃度ムラを起こしやすいという
問題がある。このため、高湿度環境下での熱現像処理
で、画像線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラがなく硬
調で最高濃度の高い性能が得られる熱現像感光材料が望
まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来技術の問
題点を考慮して、本発明は、特に、写真製版用、中でも
スキャナーまたはイメージセッター用熱現像感光材料に
おいて、高湿度環境下での熱現像処理で、画像線幅の詰
まりが少なく、かつ濃度ムラの発生が少なく硬調で、か
つ最高濃度が高い画像を形成可能な熱現像感光材料を提
供することを課題とした。
題点を考慮して、本発明は、特に、写真製版用、中でも
スキャナーまたはイメージセッター用熱現像感光材料に
おいて、高湿度環境下での熱現像処理で、画像線幅の詰
まりが少なく、かつ濃度ムラの発生が少なく硬調で、か
つ最高濃度が高い画像を形成可能な熱現像感光材料を提
供することを課題とした。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討を重
ねた結果、支持体上に有機溶媒を３０質量％以上含有す
る塗布液を塗布して画像形成層側の少なくとも一層を形
成し、残存有機溶媒量を特定の範囲内に制御することに
よって上記課題を解決できることを見出し、本発明に到
達した。
ねた結果、支持体上に有機溶媒を３０質量％以上含有す
る塗布液を塗布して画像形成層側の少なくとも一層を形
成し、残存有機溶媒量を特定の範囲内に制御することに
よって上記課題を解決できることを見出し、本発明に到
達した。
【０００８】すなわち本発明は、支持体上に少なくとも
有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤およ
びバインダーを含有し、且つ、少なくとも１層の画像形
成層と該画像形成層よりも支持体から遠い側に少なくと
も１層の非感光性層を有する熱現像感光材料において、
画像形成層側に有機溶媒を３０質量％以上含有する塗布
液を塗布して形成した層を少なくとも１層有しており、
熱現像時の残存有機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2、好
ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする
熱現像感光材料を提供する。
有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤およ
びバインダーを含有し、且つ、少なくとも１層の画像形
成層と該画像形成層よりも支持体から遠い側に少なくと
も１層の非感光性層を有する熱現像感光材料において、
画像形成層側に有機溶媒を３０質量％以上含有する塗布
液を塗布して形成した層を少なくとも１層有しており、
熱現像時の残存有機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2、好
ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする
熱現像感光材料を提供する。
【０００９】本発明の熱現像感光材料においては、有機
溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布してなる塗
布層が画像形成層であることが好ましい。また、本発明
の熱現像感光材料においては、非感光性層のバインダー
の５０質量％以上がセルロース誘導体、特にセルロース
アセテートブチレートであることが好ましい。本発明の
熱現像感光材料に含まれる硬調化剤は、下記式（１）で
表される置換アルケン誘導体、下記式（２）で表される
置換イソオキサゾール誘導体、および下記式（３）で表
される特定のアセタール誘導体からなる群から選ばれる
少なくとも一種の化合物であることが好ましい。
溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布してなる塗
布層が画像形成層であることが好ましい。また、本発明
の熱現像感光材料においては、非感光性層のバインダー
の５０質量％以上がセルロース誘導体、特にセルロース
アセテートブチレートであることが好ましい。本発明の
熱現像感光材料に含まれる硬調化剤は、下記式（１）で
表される置換アルケン誘導体、下記式（２）で表される
置換イソオキサゾール誘導体、および下記式（３）で表
される特定のアセタール誘導体からなる群から選ばれる
少なくとも一種の化合物であることが好ましい。
【００１０】
【化２】
【００１１】［式（１）においてＲ1、Ｒ2、Ｒ3は、そ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子吸
引性基またはシリル基を表す。式（１）においてＲ1と
Ｚ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＺは、互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。式（２）において
Ｒ4は、置換基を表す。 式（３）においてＸ、Ｙはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ＡおよびＢ
はそれぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ア
ニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式（３）において、ＸとＹ、お
よびＡとＢは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。］ 本発明の現像感光材料は、幅５５０〜６５０ｍｍおよび
長さ１〜６５ｍのシート状であるとともに、その一部ま
たは全部が円筒形状のコア部材に画像形成層を外側とし
て巻き取られていることが好ましい。
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子吸
引性基またはシリル基を表す。式（１）においてＲ1と
Ｚ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＺは、互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。式（２）において
Ｒ4は、置換基を表す。 式（３）においてＸ、Ｙはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ＡおよびＢ
はそれぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ア
ニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式（３）において、ＸとＹ、お
よびＡとＢは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。］ 本発明の現像感光材料は、幅５５０〜６５０ｍｍおよび
長さ１〜６５ｍのシート状であるとともに、その一部ま
たは全部が円筒形状のコア部材に画像形成層を外側とし
て巻き取られていることが好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の熱現像感光材料について
説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に
記載される数値をそれぞれ最小値および最大値として含
む範囲を示す。
説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に
記載される数値をそれぞれ最小値および最大値として含
む範囲を示す。
【００１３】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に少
なくとも有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調
化剤およびバインダーを含有し、少なくとも１層の画像
形成層とその画像形成層よりも支持体より遠い側に少な
くも１層の非感光性層を有するものである。その特徴
は、画像形成層側に有機溶媒を３０質量％以上含有する
塗布液を塗布して形成した層を少なくとも１層有してお
り、熱現像時の残存有機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2
である点にある。
なくとも有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調
化剤およびバインダーを含有し、少なくとも１層の画像
形成層とその画像形成層よりも支持体より遠い側に少な
くも１層の非感光性層を有するものである。その特徴
は、画像形成層側に有機溶媒を３０質量％以上含有する
塗布液を塗布して形成した層を少なくとも１層有してお
り、熱現像時の残存有機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2
である点にある。
【００１４】有機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液
を塗布して形成した層は、画像形成層側にあるいずれの
層であってもよい。ここでいう画像形成層側の層とは、
画像形成層が形成されている側の支持体面上に形成され
ている層をいう。例えば画像形成層や非感光性層を、有
機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成
してもよい。好ましいのは、有機溶媒を３０質量％以上
含有する塗布液を塗布することによって画像形成層を形
成した熱現像感光材料である。
を塗布して形成した層は、画像形成層側にあるいずれの
層であってもよい。ここでいう画像形成層側の層とは、
画像形成層が形成されている側の支持体面上に形成され
ている層をいう。例えば画像形成層や非感光性層を、有
機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成
してもよい。好ましいのは、有機溶媒を３０質量％以上
含有する塗布液を塗布することによって画像形成層を形
成した熱現像感光材料である。
【００１５】本発明の熱現像感光材料は、例えば、幅５
５０〜６５０ｍｍおよび長さ１〜６５ｍのシート状に形
成され、その一部または全部を円筒形状のコア部材に巻
き取られた形態で、熱現像システムに組み込まれること
が好ましい。画像形成層を外側として巻き取られている
のが好ましい。
５０〜６５０ｍｍおよび長さ１〜６５ｍのシート状に形
成され、その一部または全部を円筒形状のコア部材に巻
き取られた形態で、熱現像システムに組み込まれること
が好ましい。画像形成層を外側として巻き取られている
のが好ましい。
【００１６】本発明の熱現像感光材料を構成する有機銀
塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤、バインダ
ーについてそれぞれ詳細に説明する。併せて任意添加成
分についても説明する。本発明の熱現像感光材料は、還
元可能な有機銀塩銀を含有する。有機銀塩としては、脂
肪酸銀塩が好ましい。前記脂肪酸銀塩は、還元可能な銀
イオン源を含有する脂肪酸の銀塩であり、中でも、長鎖
（１０〜３０、好ましくは１５〜２５の炭素原子数）の
脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。好適な脂肪酸銀塩
の例は、Research Disclosure第１７０２９および２９
９６３に記載されており、例えば、シュウ酸、ベヘン
酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウ
リン酸等の脂肪酸の銀塩が挙げられる。特に、ベヘン酸
銀、アラキジン酸銀およびステアリン酸銀から選ばれる
少なくとも１種であるのが好ましい。
塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤、バインダ
ーについてそれぞれ詳細に説明する。併せて任意添加成
分についても説明する。本発明の熱現像感光材料は、還
元可能な有機銀塩銀を含有する。有機銀塩としては、脂
肪酸銀塩が好ましい。前記脂肪酸銀塩は、還元可能な銀
イオン源を含有する脂肪酸の銀塩であり、中でも、長鎖
（１０〜３０、好ましくは１５〜２５の炭素原子数）の
脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。好適な脂肪酸銀塩
の例は、Research Disclosure第１７０２９および２９
９６３に記載されており、例えば、シュウ酸、ベヘン
酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウ
リン酸等の脂肪酸の銀塩が挙げられる。特に、ベヘン酸
銀、アラキジン酸銀およびステアリン酸銀から選ばれる
少なくとも１種であるのが好ましい。
【００１７】前記有機酸銀塩は、水溶性銀化合物と、銀
と錯形成する脂肪酸とを混合することにより得られる
が、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２
７６４３号公報に記載されている様なコントロールドダ
ブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、脂肪
酸にアルカリ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなど）を加えて脂肪酸アルカリ金属塩ソープ
（例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウ
ムなど）を作製した後に、コントロールドダブルジェッ
トにより、前記ソープと硝酸銀などを添加して脂肪酸銀
塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在
させてもよい。
と錯形成する脂肪酸とを混合することにより得られる
が、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２
７６４３号公報に記載されている様なコントロールドダ
ブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、脂肪
酸にアルカリ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなど）を加えて脂肪酸アルカリ金属塩ソープ
（例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウ
ムなど）を作製した後に、コントロールドダブルジェッ
トにより、前記ソープと硝酸銀などを添加して脂肪酸銀
塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在
させてもよい。
【００１８】前記有機銀塩は、平板粒子であってもよ
い。該平板粒子の厚さは０．００５〜０．２μｍが好ま
しく、０．００５〜０．１５μｍがより好ましく、０．
００５〜０．１μｍが更に好ましい。また、下記で定義
される平板比率ＴＡが、２〜２００であるのが好まし
く、３〜１００であるのがより好ましい。ＴＡ＝Ｂ／Ｄ
（Ｂ：脂肪酸銀塩平板粒子の投影面積、Ｄ：脂肪酸銀塩
平板粒子の厚みを各々示す）また、有機銀塩粒子の全個
数のうち、平板比率２以上の平板粒子が５０％以上であ
るのが好ましく、５５％〜１００％であるのがより好ま
しく、６０〜１００％であるのがさらに好ましい。
い。該平板粒子の厚さは０．００５〜０．２μｍが好ま
しく、０．００５〜０．１５μｍがより好ましく、０．
００５〜０．１μｍが更に好ましい。また、下記で定義
される平板比率ＴＡが、２〜２００であるのが好まし
く、３〜１００であるのがより好ましい。ＴＡ＝Ｂ／Ｄ
（Ｂ：脂肪酸銀塩平板粒子の投影面積、Ｄ：脂肪酸銀塩
平板粒子の厚みを各々示す）また、有機銀塩粒子の全個
数のうち、平板比率２以上の平板粒子が５０％以上であ
るのが好ましく、５５％〜１００％であるのがより好ま
しく、６０〜１００％であるのがさらに好ましい。
【００１９】平板比率を所望の範囲にする方法として
は、例えば、有機酸（好ましくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶
液に硝酸銀を添加する際のｐＨ、温度、電位、速度など
をコントロールする方法、硝酸銀液に有機酸（好ましく
は脂肪酸）のＮａＯＨ溶液を添加する際のｐＨ、温度、
電位、速度などをコントロールする方法、有機酸（好ま
しくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶液と硝酸銀液を同時にコン
トロールドダブルジェット法で混合する際のｐＨ、温
度、電位、速度などをコントロールする方法、有機酸銀
塩形成後に反応容器中で熟成をする方法、有機酸銀塩形
成後に分散装置によりバインダーとともに分散する方法
などがあり、これらは単独または組み合わせることがで
きる。その中でも、有機銀塩形成後に分散装置によりバ
インダーや活性剤とともに分散して、有機酸銀塩の平板
粒子を形成することが好ましく用いられる。
は、例えば、有機酸（好ましくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶
液に硝酸銀を添加する際のｐＨ、温度、電位、速度など
をコントロールする方法、硝酸銀液に有機酸（好ましく
は脂肪酸）のＮａＯＨ溶液を添加する際のｐＨ、温度、
電位、速度などをコントロールする方法、有機酸（好ま
しくは脂肪酸）のＮａＯＨ溶液と硝酸銀液を同時にコン
トロールドダブルジェット法で混合する際のｐＨ、温
度、電位、速度などをコントロールする方法、有機酸銀
塩形成後に反応容器中で熟成をする方法、有機酸銀塩形
成後に分散装置によりバインダーとともに分散する方法
などがあり、これらは単独または組み合わせることがで
きる。その中でも、有機銀塩形成後に分散装置によりバ
インダーや活性剤とともに分散して、有機酸銀塩の平板
粒子を形成することが好ましく用いられる。
【００２０】前記有機酸銀塩粒子の平均粒径は、０．２
〜１．２μｍであるのが好ましく、０．３５〜１μｍで
あるのがより好ましい。ここでいう平均粒径とは上記の
粒子を無作為に３００個以上抽出して、レプリカ法等に
より個々の粒子の投影面積を測定して円換算した直径で
示し、それらの算術平均を求めて平均粒径とする。ま
た、前記有機酸銀塩の粒子は、単分散であることが好ま
しい。ここでいう単分散とは、後述するハロゲン化銀の
場合と同義であり、好ましくは単分散度が１〜３０であ
る。この範囲にすることで濃度が高く、かつ画像保存性
に優れた感光材料が得られる。
〜１．２μｍであるのが好ましく、０．３５〜１μｍで
あるのがより好ましい。ここでいう平均粒径とは上記の
粒子を無作為に３００個以上抽出して、レプリカ法等に
より個々の粒子の投影面積を測定して円換算した直径で
示し、それらの算術平均を求めて平均粒径とする。ま
た、前記有機酸銀塩の粒子は、単分散であることが好ま
しい。ここでいう単分散とは、後述するハロゲン化銀の
場合と同義であり、好ましくは単分散度が１〜３０であ
る。この範囲にすることで濃度が高く、かつ画像保存性
に優れた感光材料が得られる。
【００２１】前記平板状の有機酸銀塩とともに、針状有
機酸銀塩粒子を混在させることは処理後の透明性を保つ
ためには好ましくない。特に特開平９−６８７７２号公
報の実施例に記載されているような、長軸径が１μｍを
超える粒子が全粒子の５０％以上を占めるような場合は
処理後の透明性を著しく劣化させる場合がある。
機酸銀塩粒子を混在させることは処理後の透明性を保つ
ためには好ましくない。特に特開平９−６８７７２号公
報の実施例に記載されているような、長軸径が１μｍを
超える粒子が全粒子の５０％以上を占めるような場合は
処理後の透明性を著しく劣化させる場合がある。
【００２２】本発明の熱現像感光材料は、ハロゲン化銀
乳剤を含有する。前記乳剤に含有されるハロゲン化銀粒
子は光センサーとして機能するものである。前記ハロゲ
ン化銀粒子は、画像形成後の白濁を低減し、形成画像の
画質を向上させる観点から、平均粒子サイズが小さいも
のを用いるのが好ましく、平均粒子サイズが０．１μｍ
以下であるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍである
のがより好ましく、０．０２〜０．０８μｍであるのが
特に好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化
銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である
場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、
正常晶でない場合、例えば球状、棒状、あるいは平板状
の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球
を考えたときの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散
であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式
で求められる単分散度が４０％以下のことをいう。更に
好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜
２０％となる粒子である。 単分散度＝｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝
×１００
乳剤を含有する。前記乳剤に含有されるハロゲン化銀粒
子は光センサーとして機能するものである。前記ハロゲ
ン化銀粒子は、画像形成後の白濁を低減し、形成画像の
画質を向上させる観点から、平均粒子サイズが小さいも
のを用いるのが好ましく、平均粒子サイズが０．１μｍ
以下であるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍである
のがより好ましく、０．０２〜０．０８μｍであるのが
特に好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化
銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である
場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、
正常晶でない場合、例えば球状、棒状、あるいは平板状
の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球
を考えたときの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散
であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式
で求められる単分散度が４０％以下のことをいう。更に
好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜
２０％となる粒子である。 単分散度＝｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝
×１００
【００２３】前記ハロゲン化銀粒子の形状については特
に制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合
が高いものを使用するのが好ましく、この割合が５０％
以上、更には７０％以上、特に８０％以上であるのが好
ましい。ミラー指数〔１００〕面の比率は増感色素の吸
着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性
を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985)記載
の方法により求めることができる。
に制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合
が高いものを使用するのが好ましく、この割合が５０％
以上、更には７０％以上、特に８０％以上であるのが好
ましい。ミラー指数〔１００〕面の比率は増感色素の吸
着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性
を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985)記載
の方法により求めることができる。
【００２４】また、もう一つの好ましいハロゲン化銀の
形状は平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みｈμｍ
した場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が３〜５０であ
る。また粒径は０．１μｍ以下であることが好ましく、
さらに０．０１〜０．０８μｍが好ましい。これらは米
国特許第５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８
号、同５，３２０，９５８号等の各明細書に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本
発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、さらに
画像の鮮鋭性も向上する。
形状は平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みｈμｍ
した場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が３〜５０であ
る。また粒径は０．１μｍ以下であることが好ましく、
さらに０．０１〜０．０８μｍが好ましい。これらは米
国特許第５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８
号、同５，３２０，９５８号等の各明細書に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本
発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、さらに
画像の鮮鋭性も向上する。
【００２５】前記ハロゲン化銀乳剤のハロゲン組成とし
ては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、
臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本
発明に用いられる乳剤は、「Chimie et Physique Photo
graphique」（P.Glafkides著、Paul Montel社刊、１９
６７年）、「Photographic Emulsion Chemistry」（G.
F.Duffin著、The Focal Press刊、１９６６年）、「Mak
ing and Coating Photographic Emulsion」（V.L.Zelik
man et al著、The Focal Press刊、１９６４年）等に記
載された方法を用いて調製することができる。即ち、酸
性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また
可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩とを反応させる方法とし
ては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のい
ずれを用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法
で層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元
可能な銀源に近接するように配置する。また、ハロゲン
化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸
銀中の銀の一部または全部をハロゲン化銀に変換するこ
とによって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製
しておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加
してもよく、またはこれらの方法の組み合わせも可能で
あるが、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀
塩に対して０．７５〜３０質量％の量で含有することが
好ましい。
ては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、
臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本
発明に用いられる乳剤は、「Chimie et Physique Photo
graphique」（P.Glafkides著、Paul Montel社刊、１９
６７年）、「Photographic Emulsion Chemistry」（G.
F.Duffin著、The Focal Press刊、１９６６年）、「Mak
ing and Coating Photographic Emulsion」（V.L.Zelik
man et al著、The Focal Press刊、１９６４年）等に記
載された方法を用いて調製することができる。即ち、酸
性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また
可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩とを反応させる方法とし
ては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のい
ずれを用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法
で層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元
可能な銀源に近接するように配置する。また、ハロゲン
化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸
銀中の銀の一部または全部をハロゲン化銀に変換するこ
とによって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製
しておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加
してもよく、またはこれらの方法の組み合わせも可能で
あるが、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀
塩に対して０．７５〜３０質量％の量で含有することが
好ましい。
【００２６】前記ハロゲン化銀は、周期表の６族から１
１族に属する金属イオンを含有するのが好ましく、該金
属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ましい。
これらの金属イオンは、金属錯体または金属錯体イオン
の形でハロゲン化銀に導入できる。これらの金属錯体ま
たは金属錯体イオンとしては、下記一般式（Ｘ）で表さ
れる６配位金属錯体が好ましい。
１族に属する金属イオンを含有するのが好ましく、該金
属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ましい。
これらの金属イオンは、金属錯体または金属錯体イオン
の形でハロゲン化銀に導入できる。これらの金属錯体ま
たは金属錯体イオンとしては、下記一般式（Ｘ）で表さ
れる６配位金属錯体が好ましい。
【００２７】一般式（Ｘ）
〔ＭＬ6〕m
式中、Ｍは周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移
金属を表し、Ｌは配位子を表し、ｍは０、１−、２−、
３−または４−を表す。複数存在するＬは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。Ｍは、ロジウム（Ｒ
ｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イリジ
ウム（Ｉｒ）またはオスミウム（Ｏｓ）であるのが好ま
しい。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲン
化物（弗化物、塩化物、臭化物および沃化物）、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジドおよびアコの各配位子、
ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくは
アコ、ニトロシルおよびチオニトロシル等である。アコ
配位子が存在する場合には、アコ配位子の数は２以下で
あるのが好ましい。
金属を表し、Ｌは配位子を表し、ｍは０、１−、２−、
３−または４−を表す。複数存在するＬは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。Ｍは、ロジウム（Ｒ
ｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イリジ
ウム（Ｉｒ）またはオスミウム（Ｏｓ）であるのが好ま
しい。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲン
化物（弗化物、塩化物、臭化物および沃化物）、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジドおよびアコの各配位子、
ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくは
アコ、ニトロシルおよびチオニトロシル等である。アコ
配位子が存在する場合には、アコ配位子の数は２以下で
あるのが好ましい。
【００２８】以下に、前記一般式（Ｘ）で表される遷移
金属錯体イオンの具体例を示すが、本発明で用いること
ができる化合物はこれらに限定されるものではない。 １：〔ＲｈＣｌ6〕3- ２：〔ＲｕＣｌ6〕3- ３：〔ＲｅＣｌ6〕3- ４：〔ＲｕＢｒ6〕3- ５：〔ＯｓＣｌ6〕3- ６：〔ＩｒＣｌ6〕4- ７：〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ８：〔ＲｕＢｒ4（Ｈ2Ｏ）〕2- ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ2Ｏ）Ｃｌ4〕- １０：〔ＲｈＣｌ5（Ｈ2Ｏ）〕2- １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ5〕2- １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ4〕2- １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）2Ｃｌ4〕- １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ2Ｏ）Ｃｌ4〕- １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ5〕2- １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）6〕3- １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2- １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ5〕- ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ4（ＴｅＣＮ）〕2- ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2- ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ4（ＳｅＣＮ）〕2- ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）4〕2- ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2-
金属錯体イオンの具体例を示すが、本発明で用いること
ができる化合物はこれらに限定されるものではない。 １：〔ＲｈＣｌ6〕3- ２：〔ＲｕＣｌ6〕3- ３：〔ＲｅＣｌ6〕3- ４：〔ＲｕＢｒ6〕3- ５：〔ＯｓＣｌ6〕3- ６：〔ＩｒＣｌ6〕4- ７：〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ８：〔ＲｕＢｒ4（Ｈ2Ｏ）〕2- ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ2Ｏ）Ｃｌ4〕- １０：〔ＲｈＣｌ5（Ｈ2Ｏ）〕2- １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ5〕2- １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ4〕2- １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）2Ｃｌ4〕- １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ2Ｏ）Ｃｌ4〕- １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ5〕2- １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）6〕3- １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2- １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ5〕- ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ4（ＴｅＣＮ）〕2- ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2- ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ4（ＳｅＣＮ）〕2- ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）4〕2- ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕2- ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ5〕2-
【００２９】これらの金属イオン、金属錯体または金属
錯体イオンは一種類でもよいし、同種の金属および異種
の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属イオ
ン、金属錯体または金属錯体イオンの含有量としては、
一般的にはハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり１×１０-9〜１
×１０-2ｍｏｌが適当であり、好ましくは１×１０-8〜
１×１０-4ｍｏｌである。
錯体イオンは一種類でもよいし、同種の金属および異種
の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属イオ
ン、金属錯体または金属錯体イオンの含有量としては、
一般的にはハロゲン化銀１ｍｏｌ当たり１×１０-9〜１
×１０-2ｍｏｌが適当であり、好ましくは１×１０-8〜
１×１０-4ｍｏｌである。
【００３０】これらの金属を提供する化合物は、ハロゲ
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分割して
添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させ
ることもできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平
２−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７
６５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８
３号等の各公報に記載されている様に、粒子内に分布を
持たせて含有させることもできる。好ましくは粒子内部
に分布をもたせることである。
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分割して
添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させ
ることもできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平
２−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７
６５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８
３号等の各公報に記載されている様に、粒子内に分布を
持たせて含有させることもできる。好ましくは粒子内部
に分布をもたせることである。
【００３１】これらの金属化合物は、水あるいは適当な
有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコ
ール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して
添加することができる。例えば、金属化合物の粉末の水
溶液、または金属化合物とＮａＣｌもしくはＫＣｌとを
一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液
または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、ある
いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第
３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲ
ン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属
化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハ
ロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオン
をドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解
させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液
もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解
した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ま
しい。粒子表面に添加するときには、粒子形成直後また
は物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必
要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することも
できる。
有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコ
ール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して
添加することができる。例えば、金属化合物の粉末の水
溶液、または金属化合物とＮａＣｌもしくはＫＣｌとを
一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液
または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、ある
いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第
３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲ
ン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属
化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハ
ロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオン
をドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解
させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液
もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解
した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ま
しい。粒子表面に添加するときには、粒子形成直後また
は物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必
要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することも
できる。
【００３２】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。
【００３３】前記感光性ハロゲン化銀粒子は化学増感さ
れていることが好ましい。好ましい化学増感法としては
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イ
リジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いる
ことができる。
れていることが好ましい。好ましい化学増感法としては
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イ
リジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いる
ことができる。
【００３４】本発明において製版フィルム材料の失透を
防ぐためには、ハロゲン化銀および有機酸銀塩の総量
は、銀量に換算して１ｍ2当たり０．５ｇ〜２．２ｇで
あることが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像
が得られる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、
質量比で５０％以下、好ましくは２５％以下、更に好ま
しくは０．１〜１５％の間である。
防ぐためには、ハロゲン化銀および有機酸銀塩の総量
は、銀量に換算して１ｍ2当たり０．５ｇ〜２．２ｇで
あることが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像
が得られる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、
質量比で５０％以下、好ましくは２５％以下、更に好ま
しくは０．１〜１５％の間である。
【００３５】本発明の熱現像感光材料は、７００〜８５
０ｎｍの波長に対して感光性を有していることが好まし
い。前記波長域の光に対して感光性を発現するために、
前記ハロゲン化銀乳剤は、増感色素によって分光増感さ
れているのが好ましい。例えば、ＬＥＤ光源および赤外
半導体レーザー光源に対しては、特公昭４８−４２１７
２号、同５１−９６０９号、同５５−３９８１８号、特
開昭６２−２８４３４３号、特開平２−１０５１３５号
等の各公報に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半
導体レーザー光源に対しては特開昭５９−１９１０３２
号、特開昭６０−８０８４１号の各公報に記載されたト
リカルボシアニン類、特開昭５９−１９２２４２号公報
および特開平３−６７２４２号公報に記載の一般式（Ｉ
ＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）で表される４−キノリン核を含
有するジカルボシアニン類等が好ましく選択される。更
に赤外レーザー光源の波長が７５０ｎｍ以上更に好まし
くは８００ｎｍ以上である場合、このような波長域のレ
ーザーに対応する為には、特開平４−１８２６３９号、
同５−３４１４３２号、特公平６−５２３８７号、同３
−１０９３１号の各公報、米国特許第５，４４１，８６
６号明細書、特開平７−１３２９５号公報等に記載され
ている増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色
素は１種を単独で用いてもよく、また強色増感の目的で
２種以上を併用してもよい。また、増感色素とともに、
それ自身分光増感作用を持たない色素または可視光を実
質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を
含有させてもよい。
０ｎｍの波長に対して感光性を有していることが好まし
い。前記波長域の光に対して感光性を発現するために、
前記ハロゲン化銀乳剤は、増感色素によって分光増感さ
れているのが好ましい。例えば、ＬＥＤ光源および赤外
半導体レーザー光源に対しては、特公昭４８−４２１７
２号、同５１−９６０９号、同５５−３９８１８号、特
開昭６２−２８４３４３号、特開平２−１０５１３５号
等の各公報に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半
導体レーザー光源に対しては特開昭５９−１９１０３２
号、特開昭６０−８０８４１号の各公報に記載されたト
リカルボシアニン類、特開昭５９−１９２２４２号公報
および特開平３−６７２４２号公報に記載の一般式（Ｉ
ＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）で表される４−キノリン核を含
有するジカルボシアニン類等が好ましく選択される。更
に赤外レーザー光源の波長が７５０ｎｍ以上更に好まし
くは８００ｎｍ以上である場合、このような波長域のレ
ーザーに対応する為には、特開平４−１８２６３９号、
同５−３４１４３２号、特公平６−５２３８７号、同３
−１０９３１号の各公報、米国特許第５，４４１，８６
６号明細書、特開平７−１３２９５号公報等に記載され
ている増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色
素は１種を単独で用いてもよく、また強色増感の目的で
２種以上を併用してもよい。また、増感色素とともに、
それ自身分光増感作用を持たない色素または可視光を実
質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を
含有させてもよい。
【００３６】有用な感光色素、強色増感を示す色素の組
み合わせおよび強色増感を示す物質はリサーチ・ディス
クロージャ（Research Disclosure）１７６巻１７６４
３（１９７８年１２月発行）第２３頁ＩＶのＪ項、ある
いは特公昭４９−２５５００号、同４３−４９３３号、
特開昭５９−１９０３２号、同５９−１９２２４２号、
同６２−１２３４５４号、特開平３−１５０４９号、特
開平７−１４６５２７号等の各公報に記載されている。
み合わせおよび強色増感を示す物質はリサーチ・ディス
クロージャ（Research Disclosure）１７６巻１７６４
３（１９７８年１２月発行）第２３頁ＩＶのＪ項、ある
いは特公昭４９−２５５００号、同４３−４９３３号、
特開昭５９−１９０３２号、同５９−１９２２４２号、
同６２−１２３４５４号、特開平３−１５０４９号、特
開平７−１４６５２７号等の各公報に記載されている。
【００３７】本発明の熱現像感光材料には、現像を抑制
あるいは促進させて現像を制御することを目的として、
分光増感効率を向上させることを目的として、または現
像前後の保存性を向上させることを目的として、メルカ
プト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有
させることができる。前記メルカプト化合物としては、
下記式（４）および（５）で表される化合物が好まし
い。 式（４）： Ａｒ−ＳＭ 式（５）： Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ 式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａ
ｒは１個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたは
テルリウム原子を有する複素芳香環または縮合複素芳香
環を表す。
あるいは促進させて現像を制御することを目的として、
分光増感効率を向上させることを目的として、または現
像前後の保存性を向上させることを目的として、メルカ
プト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有
させることができる。前記メルカプト化合物としては、
下記式（４）および（５）で表される化合物が好まし
い。 式（４）： Ａｒ−ＳＭ 式（５）： Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ 式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａ
ｒは１個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたは
テルリウム原子を有する複素芳香環または縮合複素芳香
環を表す。
【００３８】Ａｒで表される複素芳香環としてははベン
ズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオ
キサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾー
ル、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリア
ゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、
ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリ
ン、キノリンおよびキナゾリノンが挙げられる。前記複
素芳香環は、例えば、ハロゲン（例えば、ＢｒおよびＣ
ｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル（例
えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素
原子を有するもの）およびアルコキシ（例えば、１個以
上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有する
もの）からなる置換基群から選択される置換基を有して
もよい。
ズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオ
キサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾー
ル、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリア
ゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、
ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリ
ン、キノリンおよびキナゾリノンが挙げられる。前記複
素芳香環は、例えば、ハロゲン（例えば、ＢｒおよびＣ
ｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル（例
えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素
原子を有するもの）およびアルコキシ（例えば、１個以
上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有する
もの）からなる置換基群から選択される置換基を有して
もよい。
【００３９】前記式（４）および（５）中の、Ａｒ−Ｓ
（メルカプト置換複素芳香族化合物）の具体例として
は、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、
６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２，
２’−ジチオビスベンゾチアゾール、３−メルカプト−
１，２，４−トリアゾール、４，５−ジフェニル−２−
イミダゾールチオール、２−メルカプトイミダゾール、
１−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾール、２−
メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、２−メル
カプト−４−（３Ｈ）キナゾリノン、７−トリフルオロ
メチル−４−キノリンチオール、２，３，５，６−テト
ラクロロ−４−ピリジンチオール、４−アミノ−６−ヒ
ドロキシ−２−メルカプトピリミジンモノヒドレート、
２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジ
ン、２−メルカプトピリミジン、４，６−ジアミノ−２
メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−メチルピ
リミジンヒドロクロリド、３−メルカプト−５−フェニ
ル−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４−
フェニルオキサゾール等が挙げられる。前記式（４）ま
たは（５）で表される化合物の添加量は、乳剤層中に銀
１ｍｏｌ当たり０．００１〜１．０ｍｏｌ添加するのが
好ましく、銀の１ｍｏｌ当たり０．０１〜０．３ｍｏｌ
添加するのがより好ましい。
（メルカプト置換複素芳香族化合物）の具体例として
は、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、
６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２，
２’−ジチオビスベンゾチアゾール、３−メルカプト−
１，２，４−トリアゾール、４，５−ジフェニル−２−
イミダゾールチオール、２−メルカプトイミダゾール、
１−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾール、２−
メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、２−メル
カプト−４−（３Ｈ）キナゾリノン、７−トリフルオロ
メチル−４−キノリンチオール、２，３，５，６−テト
ラクロロ−４−ピリジンチオール、４−アミノ−６−ヒ
ドロキシ−２−メルカプトピリミジンモノヒドレート、
２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジ
ン、２−メルカプトピリミジン、４，６−ジアミノ−２
メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−メチルピ
リミジンヒドロクロリド、３−メルカプト−５−フェニ
ル−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４−
フェニルオキサゾール等が挙げられる。前記式（４）ま
たは（５）で表される化合物の添加量は、乳剤層中に銀
１ｍｏｌ当たり０．００１〜１．０ｍｏｌ添加するのが
好ましく、銀の１ｍｏｌ当たり０．０１〜０．３ｍｏｌ
添加するのがより好ましい。
【００４０】本発明の熱現像感光材料には、ハレーショ
ン防止を目的として、７００〜９００ｎｍの赤外線吸収
化合物を含有させることができる。前記赤外線吸収化合
物としては、特開昭５９−６４８１号および同５９−１
８２４３６号の各公報、米国特許第４，２７１，２６３
号、同第４，５９４，３１２号、欧州特許公開第５３
３，００８号、同第６５２，４７３号の各明細書、特開
平２−２１６１４０号、同４−３４８３３９号、同７−
１９１４３２号、同７−３０１８９０号、同９−２３０
５３１号、同１０−１０４７７９号、同１０−１０４７
８５号、特表平９−５０９５０３号の各公報等に記載さ
れているポリメチン系染料、スクエアリリウム系染料等
を用いることができる。
ン防止を目的として、７００〜９００ｎｍの赤外線吸収
化合物を含有させることができる。前記赤外線吸収化合
物としては、特開昭５９−６４８１号および同５９−１
８２４３６号の各公報、米国特許第４，２７１，２６３
号、同第４，５９４，３１２号、欧州特許公開第５３
３，００８号、同第６５２，４７３号の各明細書、特開
平２−２１６１４０号、同４−３４８３３９号、同７−
１９１４３２号、同７−３０１８９０号、同９−２３０
５３１号、同１０−１０４７７９号、同１０−１０４７
８５号、特表平９−５０９５０３号の各公報等に記載さ
れているポリメチン系染料、スクエアリリウム系染料等
を用いることができる。
【００４１】ハレーション防止染料を添加する層は、特
に制限はないが、下引層が好ましく、画像形成層側に塗
設された下引層に添加することがより好ましい。下引層
が複数の層で構成されている場合には、画像形成層に最
も近い層に添加することが望ましい。添加量は所望の目
的により異なるが、一般的には０．１〜１０００ｍｇ／
ｍ2であり、好ましくは１〜２００ｍｇ／ｍ2である。
に制限はないが、下引層が好ましく、画像形成層側に塗
設された下引層に添加することがより好ましい。下引層
が複数の層で構成されている場合には、画像形成層に最
も近い層に添加することが望ましい。添加量は所望の目
的により異なるが、一般的には０．１〜１０００ｍｇ／
ｍ2であり、好ましくは１〜２００ｍｇ／ｍ2である。
【００４２】本発明の熱現像感光材料は、銀イオンを還
元するための還元剤を含有する。前記還元剤としては、
米国特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５
１２号、同第３，５９３，８６３号の各明細書、および
Research Disclosure 第１７０２９および２９９６３に
記載されているものが好ましく用いられる。具体的に
は、次のものが挙げられる。アミノヒドロキシシクロア
ルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−
２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆体としてアミノ
リダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）のエステル（例
えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテー
ト）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メ
チルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アルデヒドまた
はケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラセンアルデ
ヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミドフェノー
ル類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒドロキシベ
ンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−
ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノンおよび（２，
５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホン）；スル
フヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスルフヒドロキ
サム酸）；スルホンアミドアニリン類（例えば、４−
（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２−テトラ
ゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチル−５−
（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒドロキノ
ン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、１，２，
３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミドオキシン
類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；ポリヒド
ロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リ
ダクトンおよび／またはヒドラジン；ヒドロキサン酸
類；アジン類とスルホンアミドフェノール類の組み合わ
せ；α−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナフト
ールと１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わ
せ；５−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール還元
剤；２−フェニルインダン−１，３−ジオン等；クロマ
ン；１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６−ジ
メトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジヒド
ロピリジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス（２−
ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニ
ル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシト
ール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エチリデ
ン−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル）フェノ
ール）；紫外線感応性アスコルビン酸誘導体および３−
ピラゾリドン類等が挙げられる。中でも、還元剤として
は、ヒンダードフェノール類が特に好ましい。
元するための還元剤を含有する。前記還元剤としては、
米国特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５
１２号、同第３，５９３，８６３号の各明細書、および
Research Disclosure 第１７０２９および２９９６３に
記載されているものが好ましく用いられる。具体的に
は、次のものが挙げられる。アミノヒドロキシシクロア
ルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−
２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆体としてアミノ
リダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）のエステル（例
えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテー
ト）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メ
チルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アルデヒドまた
はケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラセンアルデ
ヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミドフェノー
ル類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒドロキシベ
ンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−
ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノンおよび（２，
５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホン）；スル
フヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスルフヒドロキ
サム酸）；スルホンアミドアニリン類（例えば、４−
（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２−テトラ
ゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチル−５−
（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒドロキノ
ン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、１，２，
３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミドオキシン
類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；ポリヒド
ロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リ
ダクトンおよび／またはヒドラジン；ヒドロキサン酸
類；アジン類とスルホンアミドフェノール類の組み合わ
せ；α−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナフト
ールと１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わ
せ；５−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール還元
剤；２−フェニルインダン−１，３−ジオン等；クロマ
ン；１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６−ジ
メトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジヒド
ロピリジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス（２−
ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニ
ル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシト
ール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エチリデ
ン−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル）フェノ
ール）；紫外線感応性アスコルビン酸誘導体および３−
ピラゾリドン類等が挙げられる。中でも、還元剤として
は、ヒンダードフェノール類が特に好ましい。
【００４３】還元剤として用いられるヒンダードフェノ
ール類としては、下記一般式（ａ）で表される化合物が
挙げられる。
ール類としては、下記一般式（ａ）で表される化合物が
挙げられる。
【００４４】
【化３】
【００４５】式中、Ｒa1およびＲa2は各々独立して、水
素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基（例え
ば、−Ｃ4Ｈ9、２，４，４−トリメチルペンチル基）を
表し、少なくとも一方は水素原子である。Ｒa3〜Ｒa6は
各々独立して水素原子または炭素原子数１〜５のアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基）を表し、Ｒa4およびＲa6が水素原子であり、且つＲ
a3およびＲa5が炭素原子数１〜５のアルキル基であるの
が好ましい。
素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基（例え
ば、−Ｃ4Ｈ9、２，４，４−トリメチルペンチル基）を
表し、少なくとも一方は水素原子である。Ｒa3〜Ｒa6は
各々独立して水素原子または炭素原子数１〜５のアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基）を表し、Ｒa4およびＲa6が水素原子であり、且つＲ
a3およびＲa5が炭素原子数１〜５のアルキル基であるの
が好ましい。
【００４６】前記一般式（ａ）で表される化合物の具体
例（例示化合物ａ−１〜７）を以下に示すが、本発明で
用いることができる化合物はこれらに限定されるもので
はない。
例（例示化合物ａ−１〜７）を以下に示すが、本発明で
用いることができる化合物はこれらに限定されるもので
はない。
【００４７】
【化４】
【００４８】
【化５】
【００４９】前記一般式（ａ）で表される還元剤を含
め、還元剤の使用量は銀１ｍｏｌ当り１×１０-2〜１０
ｍｏｌであるのが好ましく、１×１０-2〜１．５ｍｏｌ
であるのが好ましい。
め、還元剤の使用量は銀１ｍｏｌ当り１×１０-2〜１０
ｍｏｌであるのが好ましく、１×１０-2〜１．５ｍｏｌ
であるのが好ましい。
【００５０】本発明の熱現像感光材料の必須構成成分で
ある硬調化剤について説明する。前記硬調化剤として
は、下記式（１）で表わされる置換アルケン誘導体、下
記式（２）で表わされる置換イソオキサゾール誘導体、
および下記式（３）で表わされる特定のアセタール化合
物が好ましく用いられる。
ある硬調化剤について説明する。前記硬調化剤として
は、下記式（１）で表わされる置換アルケン誘導体、下
記式（２）で表わされる置換イソオキサゾール誘導体、
および下記式（３）で表わされる特定のアセタール化合
物が好ましく用いられる。
【００５１】
【化６】
【００５２】本発明で好ましく用いられる上記式（１）
〜（３）で表わされる化合物についてそれぞれ詳細に説
明する。
〜（３）で表わされる化合物についてそれぞれ詳細に説
明する。
【００５３】式（１）においてＲ1、Ｒ2、Ｒ3は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子吸引
性基またはシリル基を表す。 式（１）においてＲ1と
Ｚ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、或いはＲ3とＺは、互いに結
合して環状構造を形成していてもよい。式（２）におい
てＲ4は、置換基を表す。式（３）に於いてＸ、Ｙはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ、Ｂはそ
れぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキ
ルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニ
リノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式（３）においてＸとＹ、ある
いはＡとＢは、互いに結合して環状構造を形成していて
もよい。
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子吸引
性基またはシリル基を表す。 式（１）においてＲ1と
Ｚ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、或いはＲ3とＺは、互いに結
合して環状構造を形成していてもよい。式（２）におい
てＲ4は、置換基を表す。式（３）に於いてＸ、Ｙはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ、Ｂはそ
れぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキ
ルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニ
リノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘ
テロ環アミノ基を表す。式（３）においてＸとＹ、ある
いはＡとＢは、互いに結合して環状構造を形成していて
もよい。
【００５４】式（１）で表される置換アルケン誘導体に
ついて詳しく説明する。式（１）においてＲ1、Ｒ2、Ｒ
3は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚ
は電子吸引性基またはシリル基を表す。式（１）におい
てＲ1とＺ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、或いはＲ3とＺは、互
いに結合して環状構造を形成していてもよい。
ついて詳しく説明する。式（１）においてＲ1、Ｒ2、Ｒ
3は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚ
は電子吸引性基またはシリル基を表す。式（１）におい
てＲ1とＺ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、或いはＲ3とＺは、互
いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【００５５】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が置換基を表すとき、置換
基の例としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、ク
ロル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキル基
（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を
含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘ
テロ環基（Ｎ−置換の含窒素ヘテロ環基を含む）、４級
化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ
基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしく
はアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキ
ル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキル
もしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）
チオ基、アシルチオ基、（アルキルまたはアリール）ス
ルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基または
その塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エ
ステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げら
れる。
基の例としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、ク
ロル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキル基
（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を
含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘ
テロ環基（Ｎ−置換の含窒素ヘテロ環基を含む）、４級
化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ
基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしく
はアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキ
ル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキル
もしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）
チオ基、アシルチオ基、（アルキルまたはアリール）ス
ルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基または
その塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エ
ステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げら
れる。
【００５６】これら置換基は、これら置換基でさらに置
換されていてもよい。
換されていてもよい。
【００５７】式（１）においてＺで表される電子吸引性
基とは、ハメットの置換基定数σｐが正の値を取りうる
置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基（またはその塩）、スルホ基（ま
たはその塩）、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−１−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。
基とは、ハメットの置換基定数σｐが正の値を取りうる
置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基（またはその塩）、スルホ基（ま
たはその塩）、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−１−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。
【００５８】式（１）においてＺで表される電子吸引性
基は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基と
しては、式（１）のＲ1、Ｒ2、Ｒ3が置換基を表すとき
に有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
基は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基と
しては、式（１）のＲ1、Ｒ2、Ｒ3が置換基を表すとき
に有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
【００５９】式（１）においてＲ1とＺ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1
とＲ2、あるいはＲ3とＺは、互いに結合して環状構造を
形成していてもよいが、このとき形成される環状構造と
は、非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環であ
る。
とＲ2、あるいはＲ3とＺは、互いに結合して環状構造を
形成していてもよいが、このとき形成される環状構造と
は、非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環であ
る。
【００６０】次に式（１）で表される化合物の好ましい
範囲について述べる。式（１）に於いてＺで表されるシ
リル基として好ましくは、具体的にトリメチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、トリメチルシリルジメチルシリル基等である。
範囲について述べる。式（１）に於いてＺで表されるシ
リル基として好ましくは、具体的にトリメチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、トリメチルシリルジメチルシリル基等である。
【００６１】式（１）においてＺで表される電子吸引性
基として好ましくは、総炭素数０〜３０の以下の基、即
ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニ
トロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、イミノ基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル
基、ホルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチル
基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基またはカルバ
モイル基である。
基として好ましくは、総炭素数０〜３０の以下の基、即
ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニ
トロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、イミノ基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル
基、ホルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチル
基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基またはカルバ
モイル基である。
【００６２】式（１）においてＺで表される基は、電子
吸引性基であることがより好ましい。
吸引性基であることがより好ましい。
【００６３】式（１）においてＲ1、Ｒ2、およびＲ3で
表される置換基として好ましくは、総炭素数０〜３０の
基で、具体的には上述の式（１）のＺで表される電子吸
引性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキシ基
（またはその塩）、メルカプト基（またはその塩）、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環
アミノ基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げ
られる。
表される置換基として好ましくは、総炭素数０〜３０の
基で、具体的には上述の式（１）のＺで表される電子吸
引性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキシ基
（またはその塩）、メルカプト基（またはその塩）、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環
アミノ基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げ
られる。
【００６４】さらに式（１）においてＲ1は、好ましく
は電子吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコ
キシ基、またはアシルアミノ基、水素原子、またはシリ
ル基である。Ｒ1が電子吸引性基を表すとき、好ましく
は総炭素数０〜３０の以下の基、即ち、シアノ基、ニト
ロ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スル
ファモイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、
カルボキシ基（またはその塩）、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファモ
イル基、カルボキシ基（またはその塩）、または飽和も
しくは不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくは
シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環基である。
は電子吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコ
キシ基、またはアシルアミノ基、水素原子、またはシリ
ル基である。Ｒ1が電子吸引性基を表すとき、好ましく
は総炭素数０〜３０の以下の基、即ち、シアノ基、ニト
ロ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スル
ファモイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、
カルボキシ基（またはその塩）、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファモ
イル基、カルボキシ基（またはその塩）、または飽和も
しくは不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくは
シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環基である。
【００６５】Ｒ1がアリール基を表すとき、好ましくは
総炭素数６〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基
であり、置換基としては、任意の置換基が挙げられる
が、中でも電子吸引性の置換基が好ましい。
総炭素数６〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基
であり、置換基としては、任意の置換基が挙げられる
が、中でも電子吸引性の置換基が好ましい。
【００６６】式（１）においてＲ1は、より好ましくは
電子吸引性基またはアリール基である。
電子吸引性基またはアリール基である。
【００６７】式（１）においてＲ2およびＲ3で表される
置換基として好ましくは、具体的に、上述の式（１）の
Ｚで表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒ
ドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基（またはそ
の塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテ
ロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換の
フェニル基等である。
置換基として好ましくは、具体的に、上述の式（１）の
Ｚで表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒ
ドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基（またはそ
の塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテ
ロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換の
フェニル基等である。
【００６８】式（１）においてＲ2およびＲ3は、さらに
好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基
を表すときである。その置換基として好ましくは、アル
キル基、ヒドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基
（またはその塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基（特にパーフ
ルオロアルカンアミド基）、スルホンアミド基、置換も
しくは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であ
り、さらに好ましくはヒドロキシ基（またはその塩）、
メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であ
り、特に好ましくはヒドロキシ基（またはその塩）、ア
ルコキシ基、またはヘテロ環基である。
好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基
を表すときである。その置換基として好ましくは、アル
キル基、ヒドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基
（またはその塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基（特にパーフ
ルオロアルカンアミド基）、スルホンアミド基、置換も
しくは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であ
り、さらに好ましくはヒドロキシ基（またはその塩）、
メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であ
り、特に好ましくはヒドロキシ基（またはその塩）、ア
ルコキシ基、またはヘテロ環基である。
【００６９】式（１）においてＺとＲ1、或いはまたＲ2
とＲ3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは５員〜７員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は１〜４
０、さらには３〜３０が好ましい。
とＲ3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは５員〜７員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は１〜４
０、さらには３〜３０が好ましい。
【００７０】式（１）で表される化合物の中で、より好
ましいものの１つは、Ｚがシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカル
バモイル基を表し、Ｒ1が電子吸引性基またはアリール
基を表し、Ｒ2またはＲ3のどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基
（またはその塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物であ
る。さらにまた一般式（１）で表される化合物の中で特
に好ましいものの１つは、ＺとＲ1とが非芳香族の５員
〜７員の環状構造を形成していて、Ｒ2またはＲ3のどち
らか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基（またはそ
の塩）、メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環基を表す化合物である。このとき、Ｒ1と共に非芳香
族の環状構造を形成するＺとしては、アシル基、カルバ
モイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、ス
ルホニル基等が好ましく、またＲ1としては、アシル
基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボ
ニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイ
ミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好まし
い。
ましいものの１つは、Ｚがシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカル
バモイル基を表し、Ｒ1が電子吸引性基またはアリール
基を表し、Ｒ2またはＲ3のどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基
（またはその塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物であ
る。さらにまた一般式（１）で表される化合物の中で特
に好ましいものの１つは、ＺとＲ1とが非芳香族の５員
〜７員の環状構造を形成していて、Ｒ2またはＲ3のどち
らか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基（またはそ
の塩）、メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環基を表す化合物である。このとき、Ｒ1と共に非芳香
族の環状構造を形成するＺとしては、アシル基、カルバ
モイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、ス
ルホニル基等が好ましく、またＲ1としては、アシル
基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボ
ニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイ
ミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好まし
い。
【００７１】次に式（２）で表される置換イソオキサゾ
ール誘導体について説明する。式（２）においてＲ4は
置換基を表す。Ｒ4で表される置換基としては、式
（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基について説明したものと同じ
ものが挙げられる。
ール誘導体について説明する。式（２）においてＲ4は
置換基を表す。Ｒ4で表される置換基としては、式
（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基について説明したものと同じ
ものが挙げられる。
【００７２】Ｒ4で表される置換基は、好ましくは電子
吸引性基またはアリール基である。Ｒ4が電子吸引性基
を表すとき、好ましくは、総炭素数０〜３０の以下の
基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル基、ホルミル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、トリフルオロメチ
ル基、ホスホリル基、イミノ基、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、ヘテロ環基が好ましい。特に好ましく
はシアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、またはヘテロ環基である。
吸引性基またはアリール基である。Ｒ4が電子吸引性基
を表すとき、好ましくは、総炭素数０〜３０の以下の
基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル基、ホルミル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、トリフルオロメチ
ル基、ホスホリル基、イミノ基、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、ヘテロ環基が好ましい。特に好ましく
はシアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、またはヘテロ環基である。
【００７３】Ｒ4がアリール基を表すとき、好ましくは
総炭素数０〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基
であり、置換基としては、式（１）のＲ1，Ｒ2，Ｒ3が
置換基を表すときにその置換基として説明したものと同
じものが挙げられる。
総炭素数０〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基
であり、置換基としては、式（１）のＲ1，Ｒ2，Ｒ3が
置換基を表すときにその置換基として説明したものと同
じものが挙げられる。
【００７４】Ｒ4は、特に好ましくはシアノ基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ環基、また
は置換もしくは無置換のフェニル基であり、最も好まし
くはシアノ基、ヘテロ環基、またはアルコキシカルボニ
ル基である。
キシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ環基、また
は置換もしくは無置換のフェニル基であり、最も好まし
くはシアノ基、ヘテロ環基、またはアルコキシカルボニ
ル基である。
【００７５】次に式（３）で表される特定のアセタール
誘導体について詳しく説明する。式（３）においてＸ、
Ｙはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ、
Ｂはそれぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アニリノ基、ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、
またはヘテロ環アミノ基を表す。ＸとＹ、あるいはＡと
Ｂは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
誘導体について詳しく説明する。式（３）においてＸ、
Ｙはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ、
Ｂはそれぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アニリノ基、ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、
またはヘテロ環アミノ基を表す。ＸとＹ、あるいはＡと
Ｂは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【００７６】式（３）においてＸ、Ｙで表される置換基
としては、式（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基について説明し
たものと同じものが挙げられる。具体的には、アルキル
基（パーフルオロアルキル基、トリクロロメチル基等を
含む）、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、ホス
ホリル基、カルボキシ基（またはその塩）、スルホ基
（またはその塩）、ヒドロキシ基（またはその塩）、メ
ルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル基等が挙げ
られる。
としては、式（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基について説明し
たものと同じものが挙げられる。具体的には、アルキル
基（パーフルオロアルキル基、トリクロロメチル基等を
含む）、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、ホス
ホリル基、カルボキシ基（またはその塩）、スルホ基
（またはその塩）、ヒドロキシ基（またはその塩）、メ
ルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル基等が挙げ
られる。
【００７７】これらの基はさらに置換基を有していても
よい。またＸとＹは、互いに結合して環状構造を形成し
ていてもよく、この場合に形成される環状構造として
は、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっ
てもよい。
よい。またＸとＹは、互いに結合して環状構造を形成し
ていてもよく、この場合に形成される環状構造として
は、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっ
てもよい。
【００７８】式（３）においてＸ、Ｙで表される置換基
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。
【００７９】式（３）においてＸ、Ｙは、より好ましく
はシアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、ア
シルアミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ
基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフ
ルオロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニ
ル基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ
基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任
意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等である。
はシアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、ア
シルアミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ
基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフ
ルオロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニ
ル基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ
基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任
意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等である。
【００８０】ＸとＹが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。このとき、形成される環状構造は５員〜７
員環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、さらには３
〜３０が好ましい。環状構造を形成するＸおよびＹとし
ては、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル
基、チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原
子で置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチ
オ基等が好ましい。
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。このとき、形成される環状構造は５員〜７
員環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、さらには３
〜３０が好ましい。環状構造を形成するＸおよびＹとし
ては、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル
基、チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原
子で置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチ
オ基等が好ましい。
【００８１】式（３）においてＡ、Ｂはそれぞれ独立
に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。式（３）に於いてＡ、Ｂで表される基
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、さらに置換基を有していて
もよい。
に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。式（３）に於いてＡ、Ｂで表される基
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、さらに置換基を有していて
もよい。
【００８２】式（３）においてＡ、Ｂは、これらが互い
に結合して環状構造を形成している場合がより好まし
い。このとき形成される環状構造は５員〜７員環の非芳
香族のヘテロ環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、
さらには３〜３０が好ましい。この場合に、Ａ，Ｂが連
結した例（−Ａ−Ｂ−）を挙げれば、例えば−Ｏ−（Ｃ
Ｈ2）2−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2）3−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ
2）2−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ2）3−Ｓ−、−Ｓ−Ｐｈ−Ｓ
−、−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ3）
−（ＣＨ2）2−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｓ−、−Ｏ−
（ＣＨ2）3−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ3）−Ｐｈ−Ｏ−、−Ｎ
（ＣＨ3）−Ｐｈ−Ｓ−、−Ｎ（Ｐｈ）−（ＣＨ2）2−
Ｓ−等である。なお、ここにおいてＰｈはベンゼン環を
表す。
に結合して環状構造を形成している場合がより好まし
い。このとき形成される環状構造は５員〜７員環の非芳
香族のヘテロ環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、
さらには３〜３０が好ましい。この場合に、Ａ，Ｂが連
結した例（−Ａ−Ｂ−）を挙げれば、例えば−Ｏ−（Ｃ
Ｈ2）2−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2）3−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ
2）2−Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ2）3−Ｓ−、−Ｓ−Ｐｈ−Ｓ
−、−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ3）
−（ＣＨ2）2−Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｓ−、−Ｏ−
（ＣＨ2）3−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ3）−Ｐｈ−Ｏ−、−Ｎ
（ＣＨ3）−Ｐｈ−Ｓ−、−Ｎ（Ｐｈ）−（ＣＨ2）2−
Ｓ−等である。なお、ここにおいてＰｈはベンゼン環を
表す。
【００８３】本発明で用いる式（１）〜式（３）で表さ
れる硬調化剤化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する
吸着性の基が組み込まれていてもよい。こうした吸着基
としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素
基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第４，３８５，１０８号明細書、同
４，４５９，３４７号明細書、特開昭５９−１９５２３
３号公報、同５９−２００２３１号公報、同５９−２０
１０４５号公報、同５９−２０１０４６号公報、同５９
−２０１０４７号公報、同５９−２０１０４８号公報、
同５９−２０１０４９号公報、同６１−１７０７３３号
公報、同６１−２７０７４４号公報、同６２−９４８号
公報、同６３−２３４２４４号公報、同６３−２３４２
４５号公報、同６３−２３４２４６号公報に記載された
基が挙げられる。またこれらハロゲン化銀への吸着基
は、プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカ
ーサーとしては、特開平２ー２８５３４４号公報に記載
された基が挙げられる。
れる硬調化剤化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する
吸着性の基が組み込まれていてもよい。こうした吸着基
としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素
基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第４，３８５，１０８号明細書、同
４，４５９，３４７号明細書、特開昭５９−１９５２３
３号公報、同５９−２００２３１号公報、同５９−２０
１０４５号公報、同５９−２０１０４６号公報、同５９
−２０１０４７号公報、同５９−２０１０４８号公報、
同５９−２０１０４９号公報、同６１−１７０７３３号
公報、同６１−２７０７４４号公報、同６２−９４８号
公報、同６３−２３４２４４号公報、同６３−２３４２
４５号公報、同６３−２３４２４６号公報に記載された
基が挙げられる。またこれらハロゲン化銀への吸着基
は、プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカ
ーサーとしては、特開平２ー２８５３４４号公報に記載
された基が挙げられる。
【００８４】本発明で用いる式（１）〜式（３）で表さ
れる化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加
剤において常用されているバラスト基またはポリマーが
組み込まれているものでもよい。特にバラスト基が組み
込まれているものは本発明の好ましい例の１つである。
バラスト基は８以上の炭素数を有する、写真性に対して
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から
選ぶことができる。またポリマーとしては、例えば特開
平１−１００５３０号公報に記載のものが挙げられる。
れる化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加
剤において常用されているバラスト基またはポリマーが
組み込まれているものでもよい。特にバラスト基が組み
込まれているものは本発明の好ましい例の１つである。
バラスト基は８以上の炭素数を有する、写真性に対して
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から
選ぶことができる。またポリマーとしては、例えば特開
平１−１００５３０号公報に記載のものが挙げられる。
【００８５】本発明で用いる式（１）〜式（３）で表さ
れる化合物は、その中にカチオン性基（具体的には、４
級のアンモニオ基を含む基、または４級化された窒素原
子を含む含窒素ヘテロ環基等）、エチレンオキシ基もし
くはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、（ア
ルキル，アリール，またはヘテロ環）チオ基、あるいは
塩基により解離しうる解離性基（カルボキシ基、スルホ
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基等）が含まれていてもよい。特にエチレンオキシ
基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、あるいは（アルキル，アリール，またはヘテロ環）
チオ基が含まれているものは、本発明の好ましい例の１
つである。これらの基の具体例としては、例えば特開平
７ー２３４４７１号公報、特開平５−３３３４６６号公
報、特開平６−１９０３２号公報、特開平６−１９０３
１号公報、特開平５−４５７６１号公報、米国特許４９
９４３６５号明細書、米国特許４９８８６０４号明細
書、特開平３−２５９２４０号明細書、特開平７−５６
１０号公報、特開平７−２４４３４８号公報、独国特許
４００６０３２号明細書等に記載の化合物が挙げられ
る。
れる化合物は、その中にカチオン性基（具体的には、４
級のアンモニオ基を含む基、または４級化された窒素原
子を含む含窒素ヘテロ環基等）、エチレンオキシ基もし
くはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、（ア
ルキル，アリール，またはヘテロ環）チオ基、あるいは
塩基により解離しうる解離性基（カルボキシ基、スルホ
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基等）が含まれていてもよい。特にエチレンオキシ
基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、あるいは（アルキル，アリール，またはヘテロ環）
チオ基が含まれているものは、本発明の好ましい例の１
つである。これらの基の具体例としては、例えば特開平
７ー２３４４７１号公報、特開平５−３３３４６６号公
報、特開平６−１９０３２号公報、特開平６−１９０３
１号公報、特開平５−４５７６１号公報、米国特許４９
９４３６５号明細書、米国特許４９８８６０４号明細
書、特開平３−２５９２４０号明細書、特開平７−５６
１０号公報、特開平７−２４４３４８号公報、独国特許
４００６０３２号明細書等に記載の化合物が挙げられ
る。
【００８６】次に本発明で用いる式（１）〜式（３）で
表される硬調化剤化合物の具体例を以下に示す。ただ
し、本発明で用いることができる化合物は以下の化合物
に限定されるものではない。
表される硬調化剤化合物の具体例を以下に示す。ただ
し、本発明で用いることができる化合物は以下の化合物
に限定されるものではない。
【００８７】
【化７】
【００８８】
【化８】
【００８９】
【化９】
【００９０】
【化１０】
【００９１】
【化１１】
【００９２】
【化１２】
【００９３】
【化１３】
【００９４】
【化１４】
【００９５】
【化１５】
【００９６】
【化１６】
【００９７】
【化１７】
【００９８】本発明で用いる式（１）〜式（３）で表さ
れる硬調化剤化合物は、水または適当な有機溶媒、例え
ばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノー
ル、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、メチ
ルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いるこ
とができる。
れる硬調化剤化合物は、水または適当な有機溶媒、例え
ばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノー
ル、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、メチ
ルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いるこ
とができる。
【００９９】本発明で用いる式（１）〜式（３）で表さ
れる化合物は、支持体に対して画像記録層側の層、即ち
画像形成層あるいは他のどの層に添加してもよいが、画
像形成層あるいはそれに隣接する層に添加することが好
ましい。本発明で用いられる式（１）〜式（３）で表さ
れる化合物の添加量は、銀１ｍｏｌに対し１×１０-6〜
１ｍｏｌが好ましく、１×１０-5〜５×１０-1ｍｏｌが
より好ましく、２×１０-5〜２×１０-1ｍｏｌが最も好
ましい。
れる化合物は、支持体に対して画像記録層側の層、即ち
画像形成層あるいは他のどの層に添加してもよいが、画
像形成層あるいはそれに隣接する層に添加することが好
ましい。本発明で用いられる式（１）〜式（３）で表さ
れる化合物の添加量は、銀１ｍｏｌに対し１×１０-6〜
１ｍｏｌが好ましく、１×１０-5〜５×１０-1ｍｏｌが
より好ましく、２×１０-5〜２×１０-1ｍｏｌが最も好
ましい。
【０１００】式（１）〜式（３）で表される化合物は公
知の方法により容易に合成することができるが、例え
ば、米国特許５５４５５１５号明細書、米国特許５６３
５３３９号明細書、米国特許５６５４１３０号明細書、
国際特許ＷＯ−９７／３４１９６号明細書、或いは特開
平１１−１３３５４６号公報、特開平１１−９５３６５
号公報に記載の方法を参考に合成することができる。
知の方法により容易に合成することができるが、例え
ば、米国特許５５４５５１５号明細書、米国特許５６３
５３３９号明細書、米国特許５６５４１３０号明細書、
国際特許ＷＯ−９７／３４１９６号明細書、或いは特開
平１１−１３３５４６号公報、特開平１１−９５３６５
号公報に記載の方法を参考に合成することができる。
【０１０１】本発明の式（１）〜式（３）で表される化
合物は、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよ
い。また上記のものの他に、米国特許５５４５５１５
号、米国特許５６３５３３９号、米国特許５６５４１３
０号、国際特許ＷＯ−９７／３４１９６号、米国特許５
６８６２２８号の各明細書に記載の化合物、或いはまた
特開平１１−１１９３７２号公報、特開平１１―１３３
５４６号公報、特開平１１−１１９３７３号公報、特開
平１１−１０９５６４号公報、特開平１１−９５３６５
号公報、特開平１１−９５３６６号公報、特開平１１−
１４９１３６号公報に記載された化合物を併用して用い
てもよい。
合物は、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよ
い。また上記のものの他に、米国特許５５４５５１５
号、米国特許５６３５３３９号、米国特許５６５４１３
０号、国際特許ＷＯ−９７／３４１９６号、米国特許５
６８６２２８号の各明細書に記載の化合物、或いはまた
特開平１１−１１９３７２号公報、特開平１１―１３３
５４６号公報、特開平１１−１１９３７３号公報、特開
平１１−１０９５６４号公報、特開平１１−９５３６５
号公報、特開平１１−９５３６６号公報、特開平１１−
１４９１３６号公報に記載された化合物を併用して用い
てもよい。
【０１０２】本発明の熱現像感光材料においては、硬調
化剤としてヒドラジン誘導体を用いてもよく、さらには
上記硬調化剤化合物とヒドラジン誘導体を併用して用い
てもよい。その場合には下記のヒドラジン誘導体が好ま
しく用いられる。本発明に用いられるヒドラジン誘導体
はまた、下記の特許に記載された種々の方法により、合
成することができる。
化剤としてヒドラジン誘導体を用いてもよく、さらには
上記硬調化剤化合物とヒドラジン誘導体を併用して用い
てもよい。その場合には下記のヒドラジン誘導体が好ま
しく用いられる。本発明に用いられるヒドラジン誘導体
はまた、下記の特許に記載された種々の方法により、合
成することができる。
【０１０３】特公平６−７７１３８号公報に記載の（化
１）で表される化合物で、具体的には同公報３頁、４頁
に記載の化合物。特公平６−９３０８２号公報に記載の
一般式（Ｉ）で表される化合物で、具体的には同公報８
頁〜１８頁に記載の１〜３８の化合物。特開平６−２３
０４９７号公報に記載の一般式（４）、一般式（５）お
よび一般式（６）で表される化合物で、具体的には同公
報２５頁、２６頁に記載の化合物４−１〜化合物４−１
０、２８頁〜３６頁に記載の化合物５−１〜５−４２、
および３９頁、４０頁に記載の化合物６−１〜化合物６
−７。特開平６−２８９５２０号公報に記載の一般式
（１）および一般式（２）で表される化合物で、具体的
には同公報５頁〜７頁に記載の化合物１−１）〜１−１
７）および２−１）。特開平６−３１３９３６号公報に
記載の（化２）および（化３）で表される化合物で、具
体的には同公報６頁〜１９頁に記載の化合物。特開平６
−３１３９５１号に記載の（化１）で表される化合物
で、具体的には同公報３頁〜５頁に記載の化合物。特開
平７−５６１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される
化合物で、具体的には同公報５頁〜１０頁に記載の化合
物Ｉ−１〜Ｉ−３８。特開平７−７７７８３号公報に記
載の一般式（ＩＩ）で表される化合物で、具体的には同
公報１０頁〜２７頁に記載の化合物ＩＩ−１〜ＩＩ−１
０２。特開平７−１０４４２６号公報に記載の一般式
（Ｈ）および一般式（Ｈａ）で表される化合物で、具体
的には同公報８頁〜１５頁に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−
４４。特開平９−２２０８２号公報に記載の，ヒドラジ
ン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子
と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有すること
を特徴とする化合物で、特に一般式（Ａ）、一般式
（Ｂ）、一般式（Ｃ）、一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）、
一般式（Ｆ）で表される化合物で，具体的には同公報に
記載の化合物Ｎ−１〜Ｎ−３０。特開平９−２２０８２
号公報に記載の一般式（１）で表される化合物で、具体
的には同公報に記載の化合物Ｄ−１〜Ｄ−５５。さらに
１９９１年３月２２日発行の「公知技術（１〜２０７
頁）」（アズテック社刊）の２５頁から３４頁に記載の
種々のヒドラジン誘導体。特開昭６２−８６３５４号公
報（６頁〜７頁）の化合物Ｄ−２およびＤ−３９。
１）で表される化合物で、具体的には同公報３頁、４頁
に記載の化合物。特公平６−９３０８２号公報に記載の
一般式（Ｉ）で表される化合物で、具体的には同公報８
頁〜１８頁に記載の１〜３８の化合物。特開平６−２３
０４９７号公報に記載の一般式（４）、一般式（５）お
よび一般式（６）で表される化合物で、具体的には同公
報２５頁、２６頁に記載の化合物４−１〜化合物４−１
０、２８頁〜３６頁に記載の化合物５−１〜５−４２、
および３９頁、４０頁に記載の化合物６−１〜化合物６
−７。特開平６−２８９５２０号公報に記載の一般式
（１）および一般式（２）で表される化合物で、具体的
には同公報５頁〜７頁に記載の化合物１−１）〜１−１
７）および２−１）。特開平６−３１３９３６号公報に
記載の（化２）および（化３）で表される化合物で、具
体的には同公報６頁〜１９頁に記載の化合物。特開平６
−３１３９５１号に記載の（化１）で表される化合物
で、具体的には同公報３頁〜５頁に記載の化合物。特開
平７−５６１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される
化合物で、具体的には同公報５頁〜１０頁に記載の化合
物Ｉ−１〜Ｉ−３８。特開平７−７７７８３号公報に記
載の一般式（ＩＩ）で表される化合物で、具体的には同
公報１０頁〜２７頁に記載の化合物ＩＩ−１〜ＩＩ−１
０２。特開平７−１０４４２６号公報に記載の一般式
（Ｈ）および一般式（Ｈａ）で表される化合物で、具体
的には同公報８頁〜１５頁に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−
４４。特開平９−２２０８２号公報に記載の，ヒドラジ
ン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子
と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有すること
を特徴とする化合物で、特に一般式（Ａ）、一般式
（Ｂ）、一般式（Ｃ）、一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）、
一般式（Ｆ）で表される化合物で，具体的には同公報に
記載の化合物Ｎ−１〜Ｎ−３０。特開平９−２２０８２
号公報に記載の一般式（１）で表される化合物で、具体
的には同公報に記載の化合物Ｄ−１〜Ｄ−５５。さらに
１９９１年３月２２日発行の「公知技術（１〜２０７
頁）」（アズテック社刊）の２５頁から３４頁に記載の
種々のヒドラジン誘導体。特開昭６２−８６３５４号公
報（６頁〜７頁）の化合物Ｄ−２およびＤ−３９。
【０１０４】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
適当な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。
適当な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。
【０１０５】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
支持体に対して画像形成層側の該画像形成層あるいは他
のバインダー層のどの層に添加してもよいが、該画像形
成層あるいはそれに隣接するバインダー層に添加するこ
とが好ましい。本発明に用いられるヒドラジン誘導体の
添加量は、銀１ｍｏｌに対し１×１０ -6〜１×１０-2ｍ
ｏｌが好ましく、１×１０-5〜５×１０-3ｍｏｌがより
好ましく、２×１０-5〜５×１０-3ｍｏｌが最も好まし
い。
支持体に対して画像形成層側の該画像形成層あるいは他
のバインダー層のどの層に添加してもよいが、該画像形
成層あるいはそれに隣接するバインダー層に添加するこ
とが好ましい。本発明に用いられるヒドラジン誘導体の
添加量は、銀１ｍｏｌに対し１×１０ -6〜１×１０-2ｍ
ｏｌが好ましく、１×１０-5〜５×１０-3ｍｏｌがより
好ましく、２×１０-5〜５×１０-3ｍｏｌが最も好まし
い。
【０１０６】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用することが
できる。例えば、米国特許第５，５４５，５０５号明細
書に記載のアミン化合物、具体的にはＡＭ−１〜ＡＭ−
５、同５，５４５，５０７に記載のヒドロキサム酸類、
具体的にはＨＡ−１〜ＨＡ−１１、同５，５４５，５０
７に記載のアクリロニトリル類、具体的にはＣＮ−１〜
ＣＮ−１３、同５，５５８，９８３に記載のヒドラジン
化合物、具体的にはＣＡ−１〜ＣＡ−６、特開平９−２
９７３６８に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはＡ−１
〜Ａ−４２、Ｂ−１〜Ｂ−２７、Ｃ−１〜Ｃ−１４など
を用いることができる。これらの硬調化促進剤の合成方
法、添加方法、添加量等は、それぞれの前記引用特許に
記載されているように行うことができる。
前記の硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用することが
できる。例えば、米国特許第５，５４５，５０５号明細
書に記載のアミン化合物、具体的にはＡＭ−１〜ＡＭ−
５、同５，５４５，５０７に記載のヒドロキサム酸類、
具体的にはＨＡ−１〜ＨＡ−１１、同５，５４５，５０
７に記載のアクリロニトリル類、具体的にはＣＮ−１〜
ＣＮ−１３、同５，５５８，９８３に記載のヒドラジン
化合物、具体的にはＣＡ−１〜ＣＡ−６、特開平９−２
９７３６８に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはＡ−１
〜Ａ−４２、Ｂ−１〜Ｂ−２７、Ｃ−１〜Ｃ−１４など
を用いることができる。これらの硬調化促進剤の合成方
法、添加方法、添加量等は、それぞれの前記引用特許に
記載されているように行うことができる。
【０１０７】本発明の熱現像感光材料には、カブリ防止
剤を用いることができる。本発明で特に好ましく用いら
れるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物であり、例えば、
米国特許第３，８７４，９４６号明細書、同第４，７５
６，９９９号明細書、同第５，３４０，７１２号明細
書、同第５，３６９，０００号明細書、同第５，４６
４，７３７号明細書 、特開昭５０−１２０３２８号公
報、特開昭５０−１３７１２６号公報、同５０−８９０
２０号公報、同５０−１１９６２４号公報、同５９−５
７２３４号公報、特開平７−２７８１号公報、同７−５
６２１号公報、同９−１６０１６４号公報、同９−１６
０１６７号公報、同１０−１９７９８８号公報、同９−
２４４１７７号公報、同９−２４４１７８号公報、同９
−１６０１６７号公報、同９−３１９０２２号公報、同
９−２５８３６７号公報、同９−２６５１５０号公報、
同９−３１９０２２号公報、同１０−１９７９８９号公
報、同１１−２４２３０４号公報、特開２０００−２９
６３号公報、特開２０００−１１２０７０号公報、特開
２０００−２８４４１２号公報、特開２０００−２８４
３９９号公報、特開２０００−２８４４１０号公報、特
開２００１−３３９１１号公報、特開２００１−５１４
４号公報等に記載された化合物が挙げられる。これらの
中で、特に好ましい有機ハロゲン化物は、特開平７−２
７８１号公報に記載の２−トリブロモメチルスルホニル
キノリン、特開２００１−５１４４号公報に記載の２−
トリブロモメチルスルホニルピリジン、特開２０００−
１１２０７０号公報に記載のＰ−１〜Ｐ−３１の化合
物、特開２０００−２８４４１０号公報に記載のＰ−１
〜Ｐ−７３の化合物、特開２００１−３３９１１号公報
に記載のＰ−１〜Ｐ−２５、Ｐ’−１〜Ｐ’−２７の化
合物、特開２０００−２８４３９９号公報に記載のＰ−
１〜Ｐ−１１８の化合物、フェニルトリブロモメチルス
ルホン、２−ナフチルトリブロモメチルスルホンであ
る。有機ハロゲン化物の添加量は、Ａｇ１ｍｏｌに対す
るｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ）で示して、好ましく
は１×１０-5〜２ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ、より好ましくは
５×１０-5〜１ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ、さらに好ましくは
１×１０-4〜５×１０-1ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇである。こ
れらは１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。
剤を用いることができる。本発明で特に好ましく用いら
れるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物であり、例えば、
米国特許第３，８７４，９４６号明細書、同第４，７５
６，９９９号明細書、同第５，３４０，７１２号明細
書、同第５，３６９，０００号明細書、同第５，４６
４，７３７号明細書 、特開昭５０−１２０３２８号公
報、特開昭５０−１３７１２６号公報、同５０−８９０
２０号公報、同５０−１１９６２４号公報、同５９−５
７２３４号公報、特開平７−２７８１号公報、同７−５
６２１号公報、同９−１６０１６４号公報、同９−１６
０１６７号公報、同１０−１９７９８８号公報、同９−
２４４１７７号公報、同９−２４４１７８号公報、同９
−１６０１６７号公報、同９−３１９０２２号公報、同
９−２５８３６７号公報、同９−２６５１５０号公報、
同９−３１９０２２号公報、同１０−１９７９８９号公
報、同１１−２４２３０４号公報、特開２０００−２９
６３号公報、特開２０００−１１２０７０号公報、特開
２０００−２８４４１２号公報、特開２０００−２８４
３９９号公報、特開２０００−２８４４１０号公報、特
開２００１−３３９１１号公報、特開２００１−５１４
４号公報等に記載された化合物が挙げられる。これらの
中で、特に好ましい有機ハロゲン化物は、特開平７−２
７８１号公報に記載の２−トリブロモメチルスルホニル
キノリン、特開２００１−５１４４号公報に記載の２−
トリブロモメチルスルホニルピリジン、特開２０００−
１１２０７０号公報に記載のＰ−１〜Ｐ−３１の化合
物、特開２０００−２８４４１０号公報に記載のＰ−１
〜Ｐ−７３の化合物、特開２００１−３３９１１号公報
に記載のＰ−１〜Ｐ−２５、Ｐ’−１〜Ｐ’−２７の化
合物、特開２０００−２８４３９９号公報に記載のＰ−
１〜Ｐ−１１８の化合物、フェニルトリブロモメチルス
ルホン、２−ナフチルトリブロモメチルスルホンであ
る。有機ハロゲン化物の添加量は、Ａｇ１ｍｏｌに対す
るｍｏｌ量（ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ）で示して、好ましく
は１×１０-5〜２ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ、より好ましくは
５×１０-5〜１ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇ、さらに好ましくは
１×１０-4〜５×１０-1ｍｏｌ／ｍｏｌＡｇである。こ
れらは１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。
【０１０８】前記熱現像感光材料が含有するバインダー
は、透明または半透明で、一般的には、無色のポリマー
であるのが好ましい。前記ポリマーとしては、天然ポリ
マー、合成樹脂、合成ポリマーおよびコポリマー、その
他フィルムを形成する媒体等が挙げられる。具体低に
は、ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコー
ル）、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニル
ピロリドン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル
酸）、ポリ（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニ
ル）、ポリ（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水
マレイン酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリ
ル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニル
アセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）お
よびポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）
類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化
ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネ
ート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セルロースエス
テル類、ポリ（アミド）類がある。親水性でも疎水性で
もよいが、熱現像後のカブリを低減させるためには、疎
水性透明バインダーを使用することが好ましい。好まし
いバインダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリ
ウレタンなどが挙げられる。その中でもポリビニルブチ
ラール、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリエステルは特に好ましく用いられる。
は、透明または半透明で、一般的には、無色のポリマー
であるのが好ましい。前記ポリマーとしては、天然ポリ
マー、合成樹脂、合成ポリマーおよびコポリマー、その
他フィルムを形成する媒体等が挙げられる。具体低に
は、ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコー
ル）、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニル
ピロリドン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル
酸）、ポリ（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニ
ル）、ポリ（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水
マレイン酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリ
ル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニル
アセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）お
よびポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）
類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化
ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネ
ート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セルロースエス
テル類、ポリ（アミド）類がある。親水性でも疎水性で
もよいが、熱現像後のカブリを低減させるためには、疎
水性透明バインダーを使用することが好ましい。好まし
いバインダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリ
ウレタンなどが挙げられる。その中でもポリビニルブチ
ラール、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリエステルは特に好ましく用いられる。
【０１０９】本発明の熱現像感光材料は、支持体より遠
い側、すなわち画像形成層の上に少なくとも１層の非感
光層を有する。前記非感光性層の厚さは２．８〜８μｍ
以上であり、好ましくは３〜８μｍ、更に好ましくは
３．５〜７μｍである。この非感光性層に用いられるバ
インダーとしては、セルロースアセテート、セルロース
アセテートブチレートが好ましく、とりわけセルロース
アセテートブチレートが好ましい。非感光性層のバイン
ダー量としては、非感光性層の厚さとして２．８〜８μ
ｍを満たす量であればよく、具体的には２．６〜１０ｇ
／ｍ2、好ましくは３〜９ｇ／ｍ2であればよい。
い側、すなわち画像形成層の上に少なくとも１層の非感
光層を有する。前記非感光性層の厚さは２．８〜８μｍ
以上であり、好ましくは３〜８μｍ、更に好ましくは
３．５〜７μｍである。この非感光性層に用いられるバ
インダーとしては、セルロースアセテート、セルロース
アセテートブチレートが好ましく、とりわけセルロース
アセテートブチレートが好ましい。非感光性層のバイン
ダー量としては、非感光性層の厚さとして２．８〜８μ
ｍを満たす量であればよく、具体的には２．６〜１０ｇ
／ｍ2、好ましくは３〜９ｇ／ｍ2であればよい。
【０１１０】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために画像形成層のバインダー量が１．５〜１０ｇ／ｍ
2であることが好ましい。さらに好ましくは１．７〜８
ｇ／ｍ2である。１．５ｇ／ｍ2未満では未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
ために画像形成層のバインダー量が１．５〜１０ｇ／ｍ
2であることが好ましい。さらに好ましくは１．７〜８
ｇ／ｍ2である。１．５ｇ／ｍ2未満では未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【０１１１】本発明においては、画像形成層側にマット
剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき
防止のためには、熱現像感光材料の表面、すなわち前記
非感光性層にマット剤を配することが好ましく、そのマ
ット剤を、画像形成層側の全バインダーに対し、質量比
で０．５〜３０％含有することが好ましい。また、支持
体をはさみ画像形成層の反対側にバック層を設ける場合
は、バック層側の少なくとも１層中にマット剤を含有す
ることが好ましく、熱現像材料のすべり性や指紋付着防
止のためにも、表面にマット剤を配することが好まし
く、そのマット剤を画像形成層側の反対側のバック層の
全バインダーに対し、質量比で０．５〜４０％含有する
ことが好ましい。マット剤の形状は、定形、不定形どち
らでもよいが、好ましくは定形で、球形が好ましく用い
られる。
剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき
防止のためには、熱現像感光材料の表面、すなわち前記
非感光性層にマット剤を配することが好ましく、そのマ
ット剤を、画像形成層側の全バインダーに対し、質量比
で０．５〜３０％含有することが好ましい。また、支持
体をはさみ画像形成層の反対側にバック層を設ける場合
は、バック層側の少なくとも１層中にマット剤を含有す
ることが好ましく、熱現像材料のすべり性や指紋付着防
止のためにも、表面にマット剤を配することが好まし
く、そのマット剤を画像形成層側の反対側のバック層の
全バインダーに対し、質量比で０．５〜４０％含有する
ことが好ましい。マット剤の形状は、定形、不定形どち
らでもよいが、好ましくは定形で、球形が好ましく用い
られる。
【０１１２】前記非感光性層のマット剤としては、シリ
カが好ましく用いられる。シリカマット剤は、平均粒径
５μｍ以下、好ましくは０．５〜３．５μｍである。ま
た、粒子サイズの変動係数としては、３〜５０であるこ
とが好ましく、特に３〜３０％であることが好ましい。
ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表さ
れる値である。 （粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００（％）
カが好ましく用いられる。シリカマット剤は、平均粒径
５μｍ以下、好ましくは０．５〜３．５μｍである。ま
た、粒子サイズの変動係数としては、３〜５０であるこ
とが好ましく、特に３〜３０％であることが好ましい。
ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表さ
れる値である。 （粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００（％）
【０１１３】画像形成層に通過する光の量または波長分
布を制御するために、画像形成層と同じ側にフィルター
染料層および／または反対側にアンチハレーション染料
層、いわゆるバッキング層を形成してもよいし、画像形
成層に染料または顔料を含ませてもよい。また、所望に
より形成される非感光性層には、前記のバインダーやマ
ット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロキサ
ン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ剤
を含有してもよい。
布を制御するために、画像形成層と同じ側にフィルター
染料層および／または反対側にアンチハレーション染料
層、いわゆるバッキング層を形成してもよいし、画像形
成層に染料または顔料を含ませてもよい。また、所望に
より形成される非感光性層には、前記のバインダーやマ
ット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロキサ
ン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ剤
を含有してもよい。
【０１１４】また、前記熱現像感光材料には、塗布助剤
として各種の界面活性剤を用いることができる。その中
でもフッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑
点状の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
として各種の界面活性剤を用いることができる。その中
でもフッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑
点状の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
【０１１５】前記熱現像感光材料は、必要に応じて銀の
色調を抑制する色調剤を含有できる。好適な色調剤の例
はResearch Disclosure 第１７０２９号に開示されてい
る。
色調を抑制する色調剤を含有できる。好適な色調剤の例
はResearch Disclosure 第１７０２９号に開示されてい
る。
【０１１６】各種の添加剤は画像形成層、非感光性層、
またはその他の形成層のいずれに添加してもよい。前記
熱現像感光材料には、例えば、界面活性剤、酸化防止
剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用
いてもよい。これらの添加剤および上述したその他の添
加剤はResearch Disclosure Item１７０２９（１９７８
年６月ｐ．９〜１５）に記載されている化合物を好まし
く用いることができる。
またはその他の形成層のいずれに添加してもよい。前記
熱現像感光材料には、例えば、界面活性剤、酸化防止
剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用
いてもよい。これらの添加剤および上述したその他の添
加剤はResearch Disclosure Item１７０２９（１９７８
年６月ｐ．９〜１５）に記載されている化合物を好まし
く用いることができる。
【０１１７】前記熱現像感光材料の支持体は透明である
ことが好ましく、現像処理後に所定の光学濃度を得るた
め、および現像処理後の画像の変形を防ぐために、プラ
スチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルロ
ーストリアセテート、ポリエチレンナフタレート）であ
ることが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレー
ト（以下ＰＥＴと略す）およびシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体を含むプラスチック（以下Ｓ
ＰＳと略す）の支持体が好ましい。支持体の厚みとして
は５０〜３００μｍ程度が適当であり、好ましくは７０
〜１８０μｍである。また、熱処理したプラスチック支
持体を用いることもできる。採用するプラスチックとし
ては、前記のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処
理とはこれらの支持体を製膜後、画像形成層が塗布され
るまでの間に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高
い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度で、更に好ま
しくは４０℃以上高い温度で、かつ支持体の融点を超え
ない温度で加熱することがよい。
ことが好ましく、現像処理後に所定の光学濃度を得るた
め、および現像処理後の画像の変形を防ぐために、プラ
スチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルロ
ーストリアセテート、ポリエチレンナフタレート）であ
ることが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレー
ト（以下ＰＥＴと略す）およびシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体を含むプラスチック（以下Ｓ
ＰＳと略す）の支持体が好ましい。支持体の厚みとして
は５０〜３００μｍ程度が適当であり、好ましくは７０
〜１８０μｍである。また、熱処理したプラスチック支
持体を用いることもできる。採用するプラスチックとし
ては、前記のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処
理とはこれらの支持体を製膜後、画像形成層が塗布され
るまでの間に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高
い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度で、更に好ま
しくは４０℃以上高い温度で、かつ支持体の融点を超え
ない温度で加熱することがよい。
【０１１８】前記熱現像感光材料の帯電性を改良するた
めに、金属酸化物および／または導電性ポリマーなどの
導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これ
らはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引
層、バック層、画像形成層と下引層との間の層などに含
まれる。本発明においては米国特許第５，２４４，７７
３号明細書カラム１４〜２０に記載された導電性化合物
が好ましく用いられる。
めに、金属酸化物および／または導電性ポリマーなどの
導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これ
らはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引
層、バック層、画像形成層と下引層との間の層などに含
まれる。本発明においては米国特許第５，２４４，７７
３号明細書カラム１４〜２０に記載された導電性化合物
が好ましく用いられる。
【０１１９】次に、本発明の熱現像感光材料の構成につ
いて説明する。本発明の熱現像感光材料は、ハロゲン化
銀、有機酸銀塩、還元剤および硬調化剤を支持体上に塗
設することによって作製することができる。前記熱現像
感光材料は、好ましくは、ハロゲン化銀、有機酸銀塩、
還元剤および硬調化剤、さらにバインダーを含有する少
なくとも１層の画像形成層を支持体上に有する構成であ
るのが好ましい。また、前記熱現像感光材料は、画像形
成層の他に、保護層、下引層、フィルター層等の非感性
層を設けることができ、フィルター層は支持体上画像形
成層側に設けても画像形成層と反対側に設けてもよい。
前述した様に、いずれかの層は、有機溶媒を３０質量％
以上含有する塗布液を塗布してなる塗布層であり、好ま
しくは、前記画像形成層が溶媒として有機溶媒を３０質
量％以上含有する塗布液を塗布してなる塗布層である。
前記有機溶媒は、塗布液中に３０質量％〜９０質量％含
有されるのが好ましく、３０質量％〜８０質量％含有さ
れるのがより好ましい。前記有機溶媒については特に制
限はなく、単独でも複数でもよく、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
フェノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなど
脂肪族炭化水素、エーテル類、四塩化炭素、ジクロルメ
タン、ジクロルエタンなどのハロゲン化炭化水素などが
好ましい例として挙げられる。前記塗布液は水を含有し
ていてもよいが、水を含有する場合は２０質量％以下で
あるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ま
しい。
いて説明する。本発明の熱現像感光材料は、ハロゲン化
銀、有機酸銀塩、還元剤および硬調化剤を支持体上に塗
設することによって作製することができる。前記熱現像
感光材料は、好ましくは、ハロゲン化銀、有機酸銀塩、
還元剤および硬調化剤、さらにバインダーを含有する少
なくとも１層の画像形成層を支持体上に有する構成であ
るのが好ましい。また、前記熱現像感光材料は、画像形
成層の他に、保護層、下引層、フィルター層等の非感性
層を設けることができ、フィルター層は支持体上画像形
成層側に設けても画像形成層と反対側に設けてもよい。
前述した様に、いずれかの層は、有機溶媒を３０質量％
以上含有する塗布液を塗布してなる塗布層であり、好ま
しくは、前記画像形成層が溶媒として有機溶媒を３０質
量％以上含有する塗布液を塗布してなる塗布層である。
前記有機溶媒は、塗布液中に３０質量％〜９０質量％含
有されるのが好ましく、３０質量％〜８０質量％含有さ
れるのがより好ましい。前記有機溶媒については特に制
限はなく、単独でも複数でもよく、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
フェノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなど
脂肪族炭化水素、エーテル類、四塩化炭素、ジクロルメ
タン、ジクロルエタンなどのハロゲン化炭化水素などが
好ましい例として挙げられる。前記塗布液は水を含有し
ていてもよいが、水を含有する場合は２０質量％以下で
あるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ま
しい。
【０１２０】本発明の熱現像感光材料は、塗布、加熱処
理後の各構成層の残存有機溶媒の合計量が、熱現像感光
材料１ｍ2あたり５〜１５０ｍｇである。この範囲に残
存有機溶媒量があるときには、本発明の目的である高湿
度環境下での熱現像処理での画像線幅の詰まりが少な
く、濃度ムラが良好である。一方、残存有機溶媒量が熱
現像感光材料１ｍ２あたり５ｍｇ以下では十分な濃度が
出ないという問題が生じる。
理後の各構成層の残存有機溶媒の合計量が、熱現像感光
材料１ｍ2あたり５〜１５０ｍｇである。この範囲に残
存有機溶媒量があるときには、本発明の目的である高湿
度環境下での熱現像処理での画像線幅の詰まりが少な
く、濃度ムラが良好である。一方、残存有機溶媒量が熱
現像感光材料１ｍ２あたり５ｍｇ以下では十分な濃度が
出ないという問題が生じる。
【０１２１】前記熱現像感光材料中の含有溶媒量を測定
する方法は、対象となる感光材料を一定面積切り出し、
この面積を正確に測定する。これを細かく刻んで専用バ
イアル瓶に収納し、密閉する。これをヘッドスペースサ
ンプラー（ヒューレットパッカード社製ＨＰ７６９４）
にセットし、設定温度に加熱後ガスクロマトグラフィー
に導入し、目的の溶媒ピークの面積を測定することによ
り測定することができる。１回の注入では熱現像感光材
料中に含有される有機溶媒がすべて出きらないため、同
じ試料の注入を何回か繰り返して測定を行い、その積算
で測定する。
する方法は、対象となる感光材料を一定面積切り出し、
この面積を正確に測定する。これを細かく刻んで専用バ
イアル瓶に収納し、密閉する。これをヘッドスペースサ
ンプラー（ヒューレットパッカード社製ＨＰ７６９４）
にセットし、設定温度に加熱後ガスクロマトグラフィー
に導入し、目的の溶媒ピークの面積を測定することによ
り測定することができる。１回の注入では熱現像感光材
料中に含有される有機溶媒がすべて出きらないため、同
じ試料の注入を何回か繰り返して測定を行い、その積算
で測定する。
【０１２２】次に、前記熱現像感光材料を用いた画像形
成方法について詳細に説明する。前記熱現像感光材料
は、まず、７００〜８５０ｎｍの波長の光で露光される
ことが好ましい。露光に用いられる露光装置は露光時間
が１０-7秒以下の露光が可能な装置であればいずれでも
よいが、一般的にはレーザーダイオード（ＬＤ）、発光
ダイオード（ＬＥＤ）を光源に使用した露光装置が好ま
しく用いられる。特に、ＬＤは高出力、高解像度の点で
より好ましい。これらの光源は目的波長範囲の電磁波ス
ペクトルの光を発生することができるものであればいず
れでもよい。例えばＬＤであれば、色素レーザー、ガス
レーザー、固体レーザー、半導体レーザーなどを用いる
ことができる。印刷用途の場合は、非画像部の濃度がＵ
Ｖから可視域において低いことが好ましく、７００〜８
５０ｎｍに感光する材料が必要となる。
成方法について詳細に説明する。前記熱現像感光材料
は、まず、７００〜８５０ｎｍの波長の光で露光される
ことが好ましい。露光に用いられる露光装置は露光時間
が１０-7秒以下の露光が可能な装置であればいずれでも
よいが、一般的にはレーザーダイオード（ＬＤ）、発光
ダイオード（ＬＥＤ）を光源に使用した露光装置が好ま
しく用いられる。特に、ＬＤは高出力、高解像度の点で
より好ましい。これらの光源は目的波長範囲の電磁波ス
ペクトルの光を発生することができるものであればいず
れでもよい。例えばＬＤであれば、色素レーザー、ガス
レーザー、固体レーザー、半導体レーザーなどを用いる
ことができる。印刷用途の場合は、非画像部の濃度がＵ
Ｖから可視域において低いことが好ましく、７００〜８
５０ｎｍに感光する材料が必要となる。
【０１２３】本発明に用いられる画像形成方法におい
て、光源の光ビームをオーバーラップさせて、前記熱現
像感光材料を露光するのが好ましい。オーバーラップと
は副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オ
ーバーラップは、例えばビーム径をビーム強度の半値幅
（ＦＷＨＭ）で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ
幅（オーバーラップ係数）で定量的に表現することがで
きる。本発明ではこのオーバーラップ係数が０．２以上
であることが好ましい。
て、光源の光ビームをオーバーラップさせて、前記熱現
像感光材料を露光するのが好ましい。オーバーラップと
は副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オ
ーバーラップは、例えばビーム径をビーム強度の半値幅
（ＦＷＨＭ）で表わしたとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ
幅（オーバーラップ係数）で定量的に表現することがで
きる。本発明ではこのオーバーラップ係数が０．２以上
であることが好ましい。
【０１２４】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定されず、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、高出力が得られ、書き込み時間が短くなる
という点でレーザーヘッドを２機以上搭載するマルチチ
ャンネルが好ましい。特に、円筒外面方式の場合にはレ
ーザーヘッドを数機から数十機以上搭載するマルチチャ
ンネルが好ましく用いられる。
式は特に限定されず、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、高出力が得られ、書き込み時間が短くなる
という点でレーザーヘッドを２機以上搭載するマルチチ
ャンネルが好ましい。特に、円筒外面方式の場合にはレ
ーザーヘッドを数機から数十機以上搭載するマルチチャ
ンネルが好ましく用いられる。
【０１２５】本発明に好ましく使用される露光装置の光
源の走査方式はインナードラム方式（円筒内面走査方
式）である。露光は、レーザーダイオードから発生する
レーザー光がポリゴンミラー（プリズム）を介して、イ
ンナードラム部に搬送された熱現像感光材料面上に走査
されて行われる。主走査方向の露光時間は、ポリゴンミ
ラーの回転数とドラムの内径によって決定される。本発
明の熱現像感光材料面上での主走査速度は５００ｍ/秒
〜１５００ｍ/秒であることが好ましい。より好ましい
主走査速度は１１００ｍ/秒〜１５００ｍ/秒である。
源の走査方式はインナードラム方式（円筒内面走査方
式）である。露光は、レーザーダイオードから発生する
レーザー光がポリゴンミラー（プリズム）を介して、イ
ンナードラム部に搬送された熱現像感光材料面上に走査
されて行われる。主走査方向の露光時間は、ポリゴンミ
ラーの回転数とドラムの内径によって決定される。本発
明の熱現像感光材料面上での主走査速度は５００ｍ/秒
〜１５００ｍ/秒であることが好ましい。より好ましい
主走査速度は１１００ｍ/秒〜１５００ｍ/秒である。
【０１２６】露光の対象となる熱現像感光材料が、露光
時のヘイズが低い場合は、干渉縞が発生しやすい傾向に
あるので、これを防止することが好ましい。干渉縞の発
生を防止する技術としては、特開平５−１１３５４８号
公報などに開示されているレーザー光を感光材料に対し
て斜めに入光させる技術や、国際公開ＷＯ９５／３１７
５４号公報などに開示されているマルチモードレーザー
を利用する方法が知られており、これらの技術を用いる
ことが好ましい。
時のヘイズが低い場合は、干渉縞が発生しやすい傾向に
あるので、これを防止することが好ましい。干渉縞の発
生を防止する技術としては、特開平５−１１３５４８号
公報などに開示されているレーザー光を感光材料に対し
て斜めに入光させる技術や、国際公開ＷＯ９５／３１７
５４号公報などに開示されているマルチモードレーザー
を利用する方法が知られており、これらの技術を用いる
ことが好ましい。
【０１２７】本発明に用いられる画像形成方法におい
て、熱現像感光材料は露光され、潜像が形成された後、
予備加熱部、熱現像部および徐冷部を備えた熱現像機で
現像処理される。熱現像機による現像温度は、８０〜２
５０℃であるのが好ましく、１００〜１４０℃であるの
が好ましい。前記熱現像機によるトータルの現像時間は
１〜１８０秒であるのが好ましく、５〜９０秒であるの
がさらに好ましい。また、前記熱現像機による熱現像の
処理速度は、２０〜２００ｍｍ／秒であるのが好まし
く、２５〜２００ｍｍ／秒であるのがより好ましい。
て、熱現像感光材料は露光され、潜像が形成された後、
予備加熱部、熱現像部および徐冷部を備えた熱現像機で
現像処理される。熱現像機による現像温度は、８０〜２
５０℃であるのが好ましく、１００〜１４０℃であるの
が好ましい。前記熱現像機によるトータルの現像時間は
１〜１８０秒であるのが好ましく、５〜９０秒であるの
がさらに好ましい。また、前記熱現像機による熱現像の
処理速度は、２０〜２００ｍｍ／秒であるのが好まし
く、２５〜２００ｍｍ／秒であるのがより好ましい。
【０１２８】露光された熱現像感光材料は、まず、予備
加熱部で加熱される。予備加熱部は、熱現像時における
熱現像感光材料の寸法変化による処理ムラを防止する目
的で設けられる。予備加熱部における加熱は、熱現像温
度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度低く）、熱現像
感光材料中に残存する溶媒を蒸発させるのに十分な温度
および時間に設定することが望ましく、熱現像感光材料
の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高い温度で、
現像ムラが出ないように設定することが好ましい。一般
的には、８０℃以上１１５℃未満で、５秒以上加熱する
のが好ましい。
加熱部で加熱される。予備加熱部は、熱現像時における
熱現像感光材料の寸法変化による処理ムラを防止する目
的で設けられる。予備加熱部における加熱は、熱現像温
度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度低く）、熱現像
感光材料中に残存する溶媒を蒸発させるのに十分な温度
および時間に設定することが望ましく、熱現像感光材料
の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高い温度で、
現像ムラが出ないように設定することが好ましい。一般
的には、８０℃以上１１５℃未満で、５秒以上加熱する
のが好ましい。
【０１２９】予備加熱部で加熱された熱現像感光材料
は、引き続き熱現像部にて加熱される。本発明の画像形
成方法では、前記熱現像部は、搬送される熱現像感光材
料に対して、画像形成層側およびバック層側に加熱部材
を備えるとともに、画像形成層側のみに搬送ローラを備
える。例えば、熱現像感光材料が画像形成層を上側にし
て搬送される場合、熱現像感光材料の搬送方向に対し下
側（熱現像感光材料のバック層側）は搬送ローラがな
く、上側（熱現像感光材料の画像形成層側）のみに搬送
ローラがある構成である。本発明においては、熱現像部
を前記構成とすることにより、濃度ムラの発生および物
理的な変形を防止している。
は、引き続き熱現像部にて加熱される。本発明の画像形
成方法では、前記熱現像部は、搬送される熱現像感光材
料に対して、画像形成層側およびバック層側に加熱部材
を備えるとともに、画像形成層側のみに搬送ローラを備
える。例えば、熱現像感光材料が画像形成層を上側にし
て搬送される場合、熱現像感光材料の搬送方向に対し下
側（熱現像感光材料のバック層側）は搬送ローラがな
く、上側（熱現像感光材料の画像形成層側）のみに搬送
ローラがある構成である。本発明においては、熱現像部
を前記構成とすることにより、濃度ムラの発生および物
理的な変形を防止している。
【０１３０】熱現像部において、熱現像感光材料は加熱
ヒータ等の加熱部材によって加熱される。熱現像部にお
ける加熱温度は、熱現像に充分な温度であり、一般的に
は１１０℃〜１４０℃である。熱現像感光材料は、熱現
像部において、１１０℃以上の高温にさらされるため、
該材料中に含まれている成分の一部、あるいは熱現像に
よる分解成分の一部が揮発する場合がある。これらの揮
発成分は現像ムラの原因になったり、熱現像機の構成部
材を腐食させたり、温度の低い場所で析出し、異物とし
て画面の変形を引起こしたり、画面に付着した汚れとな
ったり、等の種々の悪い影響を及ぼすことが知られてい
る。これらの影響を除くための方法として、熱現像機に
フィルターを設置し、また熱現像機内の空気の流れを最
適に調整する方法が知られている。これらの方法は有効
に組み合わせて利用することができる。例えば、国際公
開ＷＯ９５／３０９３３号公報、同９７／２１１５０号
公報、特表平１０−５００４９６号公報には、結合吸収
粒子を有し揮発分を導入する第一の開口部と排出する第
二の開口部とを有するフィルターカートリッジを、フィ
ルムと接触して加熱する加熱装置に用いることが記載さ
れている。また、国際公開ＷＯ９６／１２２１３号公
報、特表平１０−５０７４０３号公報には、熱伝導性の
凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フィルターを組合せたフ
ィルターを用いることが記載されている。本発明ではこ
れらを好ましく用いることができる。また、米国特許第
４，５１８，８４５号明細書、特公平３−５４３３１号
公報には、フィルムからの蒸気を除去する装置とフィル
ムを伝熱部材へ押圧する加圧装置と伝熱部材を加熱する
装置とを有する構成が記載されている。また、国際公開
ＷＯ９８／２７４５８号明細書には、フィルムから揮発
するカブリを増加させる成分をフィルム表面から取り除
くことが記載されている。これらについても本発明では
好ましく用いることができる。
ヒータ等の加熱部材によって加熱される。熱現像部にお
ける加熱温度は、熱現像に充分な温度であり、一般的に
は１１０℃〜１４０℃である。熱現像感光材料は、熱現
像部において、１１０℃以上の高温にさらされるため、
該材料中に含まれている成分の一部、あるいは熱現像に
よる分解成分の一部が揮発する場合がある。これらの揮
発成分は現像ムラの原因になったり、熱現像機の構成部
材を腐食させたり、温度の低い場所で析出し、異物とし
て画面の変形を引起こしたり、画面に付着した汚れとな
ったり、等の種々の悪い影響を及ぼすことが知られてい
る。これらの影響を除くための方法として、熱現像機に
フィルターを設置し、また熱現像機内の空気の流れを最
適に調整する方法が知られている。これらの方法は有効
に組み合わせて利用することができる。例えば、国際公
開ＷＯ９５／３０９３３号公報、同９７／２１１５０号
公報、特表平１０−５００４９６号公報には、結合吸収
粒子を有し揮発分を導入する第一の開口部と排出する第
二の開口部とを有するフィルターカートリッジを、フィ
ルムと接触して加熱する加熱装置に用いることが記載さ
れている。また、国際公開ＷＯ９６／１２２１３号公
報、特表平１０−５０７４０３号公報には、熱伝導性の
凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フィルターを組合せたフ
ィルターを用いることが記載されている。本発明ではこ
れらを好ましく用いることができる。また、米国特許第
４，５１８，８４５号明細書、特公平３−５４３３１号
公報には、フィルムからの蒸気を除去する装置とフィル
ムを伝熱部材へ押圧する加圧装置と伝熱部材を加熱する
装置とを有する構成が記載されている。また、国際公開
ＷＯ９８／２７４５８号明細書には、フィルムから揮発
するカブリを増加させる成分をフィルム表面から取り除
くことが記載されている。これらについても本発明では
好ましく用いることができる。
【０１３１】予備加熱部および熱現像部における加熱の
温度分布は、各々、±１℃以下であるのが好ましく、±
０．５℃以下であるのがより好ましい。
温度分布は、各々、±１℃以下であるのが好ましく、±
０．５℃以下であるのがより好ましい。
【０１３２】熱現像部で加熱された熱現像感光材料は、
次に、徐冷部で冷却される。冷却は、熱現像感光材料が
物理的に変形しないように、徐々に行うのが好ましく、
冷却速度としては０．５〜１０℃／秒が好ましい。
次に、徐冷部で冷却される。冷却は、熱現像感光材料が
物理的に変形しないように、徐々に行うのが好ましく、
冷却速度としては０．５〜１０℃／秒が好ましい。
【０１３３】本発明に用いられる熱現像機の一構成例を
図１に示す。図１は熱現像機の概略側面図を示したもの
である。図１に示す熱現像機は、熱現像感光材料１０を
予備加熱するための予備加熱部Ａ、熱現像処理するため
の熱現像部Ｂおよび熱現像感光材料を冷却する徐冷部Ｃ
とから構成される。予備加熱部Ａは、搬入ローラ対１１
（上部ローラはシリコンゴムローラで、下部ローラがア
ルミ製のヒートローラ）を備える。熱現像部Ｂは、熱現
像感光材料１０の画像形成層が形成された側の面１０ａ
と接触する側に、複数のローラ１３を備え、その反対側
の熱現像感光材料１０のバック層側の面１０ｂと接触す
る側には、不織布（例えば芳香族ポリアミドやテフロン
（登録商標）から成る）等が貼り合わされた平滑面１４
を備える。ローラ１３と平滑面１４とのクリアランス
は、熱現像感光材料１０が搬送可能なクリアランスに適
宜調整される。一般的には、クリアランスは０〜１ｍｍ
程度である。さらに、熱現像部Ｂは、ローラ１３の上部
および平滑面１４の下部に、熱現像感光材料１０を画像
形成層側およびバック層側から加熱するための加熱ヒー
タ１５（板状ヒータ等）を備える。徐冷部Ｃは、熱現像
部Ｂから熱現像感光材料１０を搬出するための搬出ロー
ラ対１２とガイド板１６とを備える。
図１に示す。図１は熱現像機の概略側面図を示したもの
である。図１に示す熱現像機は、熱現像感光材料１０を
予備加熱するための予備加熱部Ａ、熱現像処理するため
の熱現像部Ｂおよび熱現像感光材料を冷却する徐冷部Ｃ
とから構成される。予備加熱部Ａは、搬入ローラ対１１
（上部ローラはシリコンゴムローラで、下部ローラがア
ルミ製のヒートローラ）を備える。熱現像部Ｂは、熱現
像感光材料１０の画像形成層が形成された側の面１０ａ
と接触する側に、複数のローラ１３を備え、その反対側
の熱現像感光材料１０のバック層側の面１０ｂと接触す
る側には、不織布（例えば芳香族ポリアミドやテフロン
（登録商標）から成る）等が貼り合わされた平滑面１４
を備える。ローラ１３と平滑面１４とのクリアランス
は、熱現像感光材料１０が搬送可能なクリアランスに適
宜調整される。一般的には、クリアランスは０〜１ｍｍ
程度である。さらに、熱現像部Ｂは、ローラ１３の上部
および平滑面１４の下部に、熱現像感光材料１０を画像
形成層側およびバック層側から加熱するための加熱ヒー
タ１５（板状ヒータ等）を備える。徐冷部Ｃは、熱現像
部Ｂから熱現像感光材料１０を搬出するための搬出ロー
ラ対１２とガイド板１６とを備える。
【０１３４】熱現像感光材料１０は搬入ローラ対１１か
ら搬出ローラ対１２へと搬送される間に熱現像される。
ら搬出ローラ対１２へと搬送される間に熱現像される。
【０１３５】熱現像感光材料１０は露光された後、予備
加熱部Ｂに搬入される。予備加熱部Ｂにおいて、熱現像
感光材料１０は、複数の搬入ローラ対１２によって平面
状に矯正され且つ予備加熱されて、熱現像部Ｂに搬入さ
れる。熱現像部Ｂに搬入された熱現像感光材料１０は、
複数のローラ１３と平滑面１４とのクリアランスに挿入
され、熱現像感光材料１０の表面１０ａに接触するロー
ラ１３の駆動により、バック層側の面１０ｂを平滑面１
４上に滑らせながら搬送される。搬送されている間、熱
現像感光材料１０は、画像形成層側およびバック層側の
双方から、加熱ヒータ１５によって熱現像に充分な温度
まで加熱され、露光によって形成された潜像が現像され
る。その後、熱現像感光材料１０は、徐冷部Ｃへ搬送さ
れ、搬出ローラ対１２によって平面状に矯正されて、熱
現像機２０から搬出される。
加熱部Ｂに搬入される。予備加熱部Ｂにおいて、熱現像
感光材料１０は、複数の搬入ローラ対１２によって平面
状に矯正され且つ予備加熱されて、熱現像部Ｂに搬入さ
れる。熱現像部Ｂに搬入された熱現像感光材料１０は、
複数のローラ１３と平滑面１４とのクリアランスに挿入
され、熱現像感光材料１０の表面１０ａに接触するロー
ラ１３の駆動により、バック層側の面１０ｂを平滑面１
４上に滑らせながら搬送される。搬送されている間、熱
現像感光材料１０は、画像形成層側およびバック層側の
双方から、加熱ヒータ１５によって熱現像に充分な温度
まで加熱され、露光によって形成された潜像が現像され
る。その後、熱現像感光材料１０は、徐冷部Ｃへ搬送さ
れ、搬出ローラ対１２によって平面状に矯正されて、熱
現像機２０から搬出される。
【０１３６】熱現像部Ｂのローラ１３の表面の材質およ
び平滑面１４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光
材料１０の搬送に支障がなければ特に制限はないが、ロ
ーラ１３の表面の材質はシリコンゴムであるのが好まし
く、平滑面１４の部材は芳香族ポリアミドまたはテフロ
ン（ＰＴＦＥ）製の不織布であるのが好ましい。加熱ヒ
ータ１５は、熱現像感光材料１０を熱現像するのに十分
な温度まで加熱するものであれば、その形状および数に
ついては特に制限されないが、それぞれの加熱温度が自
由に設定可能な構成であるのが好ましい。
び平滑面１４の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光
材料１０の搬送に支障がなければ特に制限はないが、ロ
ーラ１３の表面の材質はシリコンゴムであるのが好まし
く、平滑面１４の部材は芳香族ポリアミドまたはテフロ
ン（ＰＴＦＥ）製の不織布であるのが好ましい。加熱ヒ
ータ１５は、熱現像感光材料１０を熱現像するのに十分
な温度まで加熱するものであれば、その形状および数に
ついては特に制限されないが、それぞれの加熱温度が自
由に設定可能な構成であるのが好ましい。
【０１３７】なお、熱現像感光材料１０は、搬入ローラ
対１１を備える予備加熱部Ａと、加熱ヒータ１５を備え
る熱現像部Ｂで加熱されるが、予備加熱部Ａにおける加
熱は、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度
低く）、熱現像感光材料１０中の水分量を蒸発させるの
に十分な温度および時間に設定することが望ましく、熱
現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よ
りも高い温度で、現像ムラが出ないように設定すること
が好ましい。予備加熱部と熱現像処理部の温度分布とし
ては±１℃以下が好ましく、さらには±０．５℃以下が
好ましい。
対１１を備える予備加熱部Ａと、加熱ヒータ１５を備え
る熱現像部Ｂで加熱されるが、予備加熱部Ａにおける加
熱は、熱現像温度よりも低く（例えば１０〜３０℃程度
低く）、熱現像感光材料１０中の水分量を蒸発させるの
に十分な温度および時間に設定することが望ましく、熱
現像感光材料１０の支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）よ
りも高い温度で、現像ムラが出ないように設定すること
が好ましい。予備加熱部と熱現像処理部の温度分布とし
ては±１℃以下が好ましく、さらには±０．５℃以下が
好ましい。
【０１３８】徐冷部Ｃにおいて、熱現像感光材料１０が
急激に冷却され、変形してしまわないためには、ガイド
板１６は熱伝導率の低い素材を用いて構成するのが好ま
しい。
急激に冷却され、変形してしまわないためには、ガイド
板１６は熱伝導率の低い素材を用いて構成するのが好ま
しい。
【０１３９】本発明の熱現像感光材料は、プロッター、
オートキャリア、プロセサーのオンラインシステムで露
光、熱現像されることが好ましい。オートキャリアは露
光済みの熱現像感光材料をプロセサー（熱現像機）に自
動で搬送するものであり、搬送機構はベルトコンベア、
ローラー搬送などいずれの方式でもよいが、ローラー搬
送が好ましい。また、オートキャリアは熱現像機側から
プロッター側へ熱が入り込まないような機構を設けるこ
とが好ましく、例えばオートキャリア中心下部よりプロ
ッター及び熱現像機に風を送り込む方式などがある。
オートキャリア、プロセサーのオンラインシステムで露
光、熱現像されることが好ましい。オートキャリアは露
光済みの熱現像感光材料をプロセサー（熱現像機）に自
動で搬送するものであり、搬送機構はベルトコンベア、
ローラー搬送などいずれの方式でもよいが、ローラー搬
送が好ましい。また、オートキャリアは熱現像機側から
プロッター側へ熱が入り込まないような機構を設けるこ
とが好ましく、例えばオートキャリア中心下部よりプロ
ッター及び熱現像機に風を送り込む方式などがある。
【０１４０】予備加熱部と熱現像処理部との線速比率が
９５．０〜９９．０％となる条件で現像処理することが
好ましく、オートキャリアと予備加熱部との線速比率が
９０．０〜１００％となる条件で現像処理することが好
ましい。予備加熱部と熱現像処理部との線速比率が９
５．０％未満、および／または、オートキャリアと予備
加熱部との線速比率が９０．０％未満であると擦り傷や
ジャミングの発生などが起きて搬送性が悪くなり、か
つ、濃度ムラが発生しやすくなり好ましくない。
９５．０〜９９．０％となる条件で現像処理することが
好ましく、オートキャリアと予備加熱部との線速比率が
９０．０〜１００％となる条件で現像処理することが好
ましい。予備加熱部と熱現像処理部との線速比率が９
５．０％未満、および／または、オートキャリアと予備
加熱部との線速比率が９０．０％未満であると擦り傷や
ジャミングの発生などが起きて搬送性が悪くなり、か
つ、濃度ムラが発生しやすくなり好ましくない。
【０１４１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操
作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更する
ことができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す
具体例に制限されるものではない。
に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操
作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更する
ことができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す
具体例に制限されるものではない。
【０１４２】＜実施例１＞
１）下引済み支持体の作製
ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）下引
済み支持体の作製を以下の通り行った。
済み支持体の作製を以下の通り行った。
【０１４３】市販の２軸延伸熱固定済みの厚さ１３０μ
ｍのＰＥＴフィルムの両面に８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放
電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥
膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ
−１とし、又反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗
布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾
燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−１とした。
ｍのＰＥＴフィルムの両面に８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放
電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥
膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ
−１とし、又反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗
布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾
燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−１とした。
【０１４４】
《下引塗布液ａ−１》
ブチルアクリレート（３０質量％）、t-ブチルアクリレート（２０質量％）
スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量
％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ
下記（Ｃ−１） ０．６ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ
ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ
コロイダルシリカ（平均粒径９０μｍ） ０．１ｇ
水 総量が１リットルになる量
【０１４５】
《下引塗布液ｂ−１》
ＳｎＯ2／Ｓｂ（９／１の質量比、平均粒径０．１８μｍ）
２００ｍｇ／ｍ2になる量
ブチルアクリレート（４０質量％）、スチレン（２０質量％）、グリシジル
アクリレート（４０質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％）
２７０ｇ
上記（Ｃ−１） ０．６ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ
水 総量が１リットルになる量
【０１４６】上記下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の表面
上に８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１
の上には下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μ
ｍになる様に下引層Ａ−２として塗設し、又下引層Ｂ−
１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８
μｍになる様に帯電防止機能を持つ下引上層Ｂ−２とし
て塗設した。
上に８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１
の上には下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μ
ｍになる様に下引層Ａ−２として塗設し、又下引層Ｂ−
１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８
μｍになる様に帯電防止機能を持つ下引上層Ｂ−２とし
て塗設した。
【０１４７】
《下引上層塗布液ａ−２》
ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2になる質量
上記（Ｃ−１） ０．２ｇ
下記（Ｃ−２） ０．２ｇ
下記（Ｃ−３） ０．１ｇ
シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ
水 総量が１リットルになる量
【０１４８】
《下引上層塗布液ｂ−２》
下記（Ｃ−４） ６０ｇ
下記（Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ
硫酸アンモニウム ０．５ｇ
下記（Ｃ−６） １２ｇ
ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００） ６ｇ
水 総量が１リットルになる量
【０１４９】
【化１８】
【０１５０】
【化１９】
【０１５１】《支持体の熱処理》上記の下引済み支持体
を、１６０℃に設定した全長２００ｍの熱処理ゾーンに
入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ2、搬送速度２０ｍ／分で搬送
した。その後で、４０℃のゾーンに１５秒間通し、１０
ｋｇ／ｃｍ2の巻き取り張力で巻き取った。
を、１６０℃に設定した全長２００ｍの熱処理ゾーンに
入れ、張力２ｋｇ／ｃｍ2、搬送速度２０ｍ／分で搬送
した。その後で、４０℃のゾーンに１５秒間通し、１０
ｋｇ／ｃｍ2の巻き取り張力で巻き取った。
【０１５２】２）乳剤と溶液の調製
《ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》水９００ｍｌ中にイナー
トゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解し
て温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４
ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（６０／３８／２）のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウム及び
〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕塩を銀１ｍｏｌ当たり１×１０
-6ｍｏｌ、塩化イリジウム塩を銀１ｍｏｌ当たり１×１
０-5ｍｏｌ及び塩化ロジウム塩を銀１ｍｏｌ当たり１×
１０-6ｍｏｌ含む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．７に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加し
た。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデンを添加しＮａＯＨでｐＨを
８、ｐＡｇ６．５に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％の投影直径面
積の変動係数８％、〔１００〕面比率７９％の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール０．１ｇ
を加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲ
ン化銀乳剤を得た。
トゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解し
て温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４
ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（６０／３８／２）のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウム及び
〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕塩を銀１ｍｏｌ当たり１×１０
-6ｍｏｌ、塩化イリジウム塩を銀１ｍｏｌ当たり１×１
０-5ｍｏｌ及び塩化ロジウム塩を銀１ｍｏｌ当たり１×
１０-6ｍｏｌ含む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．７に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加し
た。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデンを添加しＮａＯＨでｐＨを
８、ｐＡｇ６．５に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％の投影直径面
積の変動係数８％、〔１００〕面比率７９％の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール０．１ｇ
を加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲ
ン化銀乳剤を得た。
【０１５３】《ベヘン酸ナトリウム溶液の調製》９４５
ｍｌの純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９
ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高
速で攪拌しながら１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム
水溶液９８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを
加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸
ナトリウム溶液を得た。
ｍｌの純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９
ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高
速で攪拌しながら１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム
水溶液９８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを
加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸
ナトリウム溶液を得た。
【０１５４】《ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤のプレフ
ォーム乳剤の調製》上記のベヘン酸ナトリウム溶液に、
前記ハロゲン化銀乳剤を添加し、水酸化ナトリウム溶液
でｐＨ８．１に調整した後に、１ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀溶
液１４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し
限外濾過により水溶性塩類を除去した。生成したベヘン
酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子
であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、
更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させ、プレフ
ォーム乳剤とした。
ォーム乳剤の調製》上記のベヘン酸ナトリウム溶液に、
前記ハロゲン化銀乳剤を添加し、水酸化ナトリウム溶液
でｐＨ８．１に調整した後に、１ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀溶
液１４７ｍｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し
限外濾過により水溶性塩類を除去した。生成したベヘン
酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子
であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、
更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させ、プレフ
ォーム乳剤とした。
【０１５５】《感光性乳剤Ａの調製》前記プレフォーム
乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール（平均分子
量３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）
５４４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した
後に、０．５ｍｍサイズのＺｒＯ2のビーズミルを用い
たメディア分散機で４０００ｐｓｉで３０℃、１０分間
の分散を行った。分散後、電子顕微鏡写真で有機銀粒子
を観察した。３００個の有機銀粒子の粒径と厚みを測定
した結果、２０５個がＡＲ３以上で分散度２５％の単分
散平板状有機銀であった。尚、平均粒径は０．７μｍで
あった。又塗布乾燥後も同様に有機銀粒子を観察したと
ころ、同じ粒子が確認できた。
乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール（平均分子
量３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）
５４４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した
後に、０．５ｍｍサイズのＺｒＯ2のビーズミルを用い
たメディア分散機で４０００ｐｓｉで３０℃、１０分間
の分散を行った。分散後、電子顕微鏡写真で有機銀粒子
を観察した。３００個の有機銀粒子の粒径と厚みを測定
した結果、２０５個がＡＲ３以上で分散度２５％の単分
散平板状有機銀であった。尚、平均粒径は０．７μｍで
あった。又塗布乾燥後も同様に有機銀粒子を観察したと
ころ、同じ粒子が確認できた。
【０１５６】３）バック層面側塗布
以下の組成のバック層塗布液を、押し出しコーターで上
記支持体の帯電防止加工した下引き層Ｂ−２面側にウェ
ット膜厚３０μｍになるように塗布し、６０℃、１５分
で乾燥した。
記支持体の帯電防止加工した下引き層Ｂ−２面側にウェ
ット膜厚３０μｍになるように塗布し、６０℃、１５分
で乾燥した。
【０１５７】
《バック層塗布液処方１》
セルロースアセテートブチレート（１０％メチルエチルケトン溶液）
１５ｍｌ／ｍ2
下記染料Ａ ３０ｍｇ／ｍ2
マット剤（単分散度１５％、平均粒子サイズ８μｍの単分散シリカ）
１５ｍｇ／ｍ2
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12Ｃ8Ｆ17 ５０ｍｇ／ｍ2
Ｃ9Ｆ19−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3Ｎａ １０ｍｇ／ｍ2
【０１５８】
【化２０】
【０１５９】４）画像形成層面側塗布
以下の組成の画像形成層塗布液（溶媒としては、メチル
エチルケトンが主成分で、有機溶媒を７５質量％含有）
とその上に非感光性層塗布液を、押し出しコーターで上
記支持体の下引き層Ａ−２面側に毎分２０ｍの速度で同
時重層塗布した。その際、塗布銀量が２．０ｇ／ｍ2に
なる様に調整して塗布した。その後、６０℃、１５分で
乾燥を行った。
エチルケトンが主成分で、有機溶媒を７５質量％含有）
とその上に非感光性層塗布液を、押し出しコーターで上
記支持体の下引き層Ａ−２面側に毎分２０ｍの速度で同
時重層塗布した。その際、塗布銀量が２．０ｇ／ｍ2に
なる様に調整して塗布した。その後、６０℃、１５分で
乾燥を行った。
【０１６０】
《画像形成層塗布液》
前記感光性乳剤Ａ ２４０ｇ
下記増感色素Ａ（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ
ピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液） ３ｍｌ
臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ
２，４−ジクロロベンゾイル安息香酸（１２％メタノール溶液）
９ｍｌ
２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍｌ
トリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液） ７ｍｌ
硬調化剤（表１に記載の硬調化剤） ０．３ｇ
フタラジン ０．６ｇ
４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ
テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ
平均粒径３μｍの炭酸カルシウム ０．１ｇ
１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
−２−メチルプロパン（２０％メタノール溶液） ２．５ｍｌ
１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
−３，５，５−トリメチルヘキサン（２０％メタノール溶液）
１５．５ｍｌ
イソシアネート化合物 ０．５ｇ
（モーベイ社製、Ｄｅｓｍｏｄｕｒ Ｎ３３００）
【０１６１】
【化２１】
【０１６２】
《非感光性層塗布液》
アセトン ５ｍｌ／ｍ2
メチルエチルケトン ２１ｍｌ／ｍ2
セルロースアセテートブチレート
表１に記載の乾燥後膜厚となる塗布量
メタノール ７ｍｌ／ｍ2
フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ2
マット剤：単分散度１０％、平均粒子ザイズ４μｍ単分散シリカ
５ｍｇ／ｍ2
ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2ＣＨ2ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ2ＳＯ2ＣＨ＝ＣＨ2
３５ｍｇ／ｍ2
フッ素系界面活性剤
Ｃ12Ｆ25（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｃ12Ｆ25 １０ｍｇ／ｍ2
Ｃ8Ｆ17−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3Ｎａ １０ｍｇ／ｍ2
【０１６３】５）露光処理
作製した熱現像感光材料を、幅５９０ｍｍおよび長さ５
９ｍのシート状とし、これを円筒状のコア部材に画像形
成層側を外向きにして巻き付け、ロール状のサンプルと
した。このロール状のサンプルを７８５ｎｍの半導体レ
ーザーを有する日本電気製ＦＴ−２８６Ｒにセットし
た。このプロッターと、図１に示す熱現像機とをそれぞ
れドッキングし、露光・熱現像処理した。
９ｍのシート状とし、これを円筒状のコア部材に画像形
成層側を外向きにして巻き付け、ロール状のサンプルと
した。このロール状のサンプルを７８５ｎｍの半導体レ
ーザーを有する日本電気製ＦＴ−２８６Ｒにセットし
た。このプロッターと、図１に示す熱現像機とをそれぞ
れドッキングし、露光・熱現像処理した。
【０１６４】６）熱現像処理
熱現像感光材料は、オンラインで、上記露光装置からオ
ートキャリアを経て、図１に示した熱現像機で、熱現像
処理を行った。熱現像処理部のローラー表面材質はシリ
コンゴム、平滑面はテフロン不織布にして、熱現像処理
部での搬送のラインスピードは２５ｍｍ／秒に設定し
た。予備加熱部１２．２秒（予備加熱部と熱現像処理部
の駆動系は独立しており、熱現像部との速度差は−０．
５％〜−１％に設定、オートキャリアの予備加熱部との
速度差は０％〜−１．０％に設定、各予熱部の金属ロー
ラーの温度設定、時間は第１ローラー温度６７℃、２．
０秒、第２ローラー温度８２℃、２．０秒、第３ローラ
ー温度９８℃、２．０秒、第４ローラー温度温度１０７
℃、２．０秒、第５ローラー温度１１５℃、２．０秒、
第６ローラー温度１２０℃、２．０秒にした）、熱現像
処理部１２０℃（熱現像感光材料面温度）で１７．２
秒、徐冷部 １３．６秒で熱現像処理を行った。なお、
幅方向の温度精度は±０．５℃であった。各ローラー温
度の設定は熱現像感光材料の幅（例えば幅６１ｃｍ）よ
りも両側それぞれ５ｃｍ長くして、その部分にも温度を
かけて、温度精度が出るようにした。なお、各ローラー
の両端部分は温度低下が激しいので、熱現像感光材料の
幅よりも５ｃｍ長くした部分はローラー中央部よりも１
〜３℃温度が高くなるように設定し、熱現像感光材料
（例えば幅６１ｃｍの中で）の画像濃度が均質な仕上が
りになるように留意した。
ートキャリアを経て、図１に示した熱現像機で、熱現像
処理を行った。熱現像処理部のローラー表面材質はシリ
コンゴム、平滑面はテフロン不織布にして、熱現像処理
部での搬送のラインスピードは２５ｍｍ／秒に設定し
た。予備加熱部１２．２秒（予備加熱部と熱現像処理部
の駆動系は独立しており、熱現像部との速度差は−０．
５％〜−１％に設定、オートキャリアの予備加熱部との
速度差は０％〜−１．０％に設定、各予熱部の金属ロー
ラーの温度設定、時間は第１ローラー温度６７℃、２．
０秒、第２ローラー温度８２℃、２．０秒、第３ローラ
ー温度９８℃、２．０秒、第４ローラー温度温度１０７
℃、２．０秒、第５ローラー温度１１５℃、２．０秒、
第６ローラー温度１２０℃、２．０秒にした）、熱現像
処理部１２０℃（熱現像感光材料面温度）で１７．２
秒、徐冷部 １３．６秒で熱現像処理を行った。なお、
幅方向の温度精度は±０．５℃であった。各ローラー温
度の設定は熱現像感光材料の幅（例えば幅６１ｃｍ）よ
りも両側それぞれ５ｃｍ長くして、その部分にも温度を
かけて、温度精度が出るようにした。なお、各ローラー
の両端部分は温度低下が激しいので、熱現像感光材料の
幅よりも５ｃｍ長くした部分はローラー中央部よりも１
〜３℃温度が高くなるように設定し、熱現像感光材料
（例えば幅６１ｃｍの中で）の画像濃度が均質な仕上が
りになるように留意した。
【０１６５】７）写真性能の評価
《濃度ムラの評価》上記の露光装置を用いて、２５℃、
相対湿度８０％環境で１６時間放置した熱現像感光材料
を、熱現像感光材料毎に光量を変えて１７５線／インチ
の５０％網点を描画し、２５℃、相対湿度８０％環境で
上記の熱現像処理を行い、目視にて網点画像の濃度ムラ
を評価した。全くムラがないものを５ランクとし、ムラ
が出るに従ってランクの数値が小さくなるように表示し
た。３ランク未満は実用に耐えない。
相対湿度８０％環境で１６時間放置した熱現像感光材料
を、熱現像感光材料毎に光量を変えて１７５線／インチ
の５０％網点を描画し、２５℃、相対湿度８０％環境で
上記の熱現像処理を行い、目視にて網点画像の濃度ムラ
を評価した。全くムラがないものを５ランクとし、ムラ
が出るに従ってランクの数値が小さくなるように表示し
た。３ランク未満は実用に耐えない。
【０１６６】《画像線幅変動の評価》現像環境湿度が変
化した場合の画像線幅変動については、２５℃、相対湿
度８０％の環境で１６時間放置した熱現像感光材料にそ
の環境下で上記露光で６０μｍの線幅露光を行って、熱
現像処理した場合と同一露光条件で２５℃、相対湿度４
０％環境下で１６時間放置した熱現像感光材料にその環
境下で露光、熱現像処理した場合との画像線幅の差で評
価した。
化した場合の画像線幅変動については、２５℃、相対湿
度８０％の環境で１６時間放置した熱現像感光材料にそ
の環境下で上記露光で６０μｍの線幅露光を行って、熱
現像処理した場合と同一露光条件で２５℃、相対湿度４
０％環境下で１６時間放置した熱現像感光材料にその環
境下で露光、熱現像処理した場合との画像線幅の差で評
価した。
【０１６７】《Ｄｍａｘ（最高濃度）の評価》２５℃、
相対湿度４０％環境下での画像のＤｍａｘ（最高濃度）
についても評価し、濃度測定はマクベスＴＤ９０４濃度
計（可視濃度）により行った。
相対湿度４０％環境下での画像のＤｍａｘ（最高濃度）
についても評価し、濃度測定はマクベスＴＤ９０４濃度
計（可視濃度）により行った。
【０１６８】《階調γの評価》上記の露光・熱現像処理
を用いて、レーザー強度を調節することで濃度Ｄ−露光
量ＬｏｇＥの特性曲線を作製した。この特性曲線で濃度
０．３と３．０の点を結び直線の傾き（Ｔａｎθ）を階
調γとして表示した。
を用いて、レーザー強度を調節することで濃度Ｄ−露光
量ＬｏｇＥの特性曲線を作製した。この特性曲線で濃度
０．３と３．０の点を結び直線の傾き（Ｔａｎθ）を階
調γとして表示した。
【０１６９】８）結果
作製した熱現像感光材料の各試料について上記評価を実
施した結果を表１に示す。
施した結果を表１に示す。
【０１７０】
【表１】
【０１７１】表１に示す結果から明らかなように、本発
明の構成を有する熱現像感光材料では、Ｄｍａｘ（最高
濃度）が高く硬調な画像が得られ、しかも高湿環境下で
熱現像した画像線幅変動が少なく、画像部には濃度ムラ
の発生もないことがわかった。
明の構成を有する熱現像感光材料では、Ｄｍａｘ（最高
濃度）が高く硬調な画像が得られ、しかも高湿環境下で
熱現像した画像線幅変動が少なく、画像部には濃度ムラ
の発生もないことがわかった。
【０１７２】＜実施例２＞実施例１で使用したサンプル
を日本電気製のＡ２サイズプロッターＦＴ−２８６Ｒ、
富士フイルム株式会社製のドライフイルムプロセサーＦ
ＤＳ−６１００Ｘおよびドライシステムオートキャリア
ＦＤＳ−Ｃ１０００を用いて、露光、熱現像処理を行
い、同様の評価を行なった。その結果、実施例１と同様
な結果が得られ、本発明の効果が明らかであった。
を日本電気製のＡ２サイズプロッターＦＴ−２８６Ｒ、
富士フイルム株式会社製のドライフイルムプロセサーＦ
ＤＳ−６１００Ｘおよびドライシステムオートキャリア
ＦＤＳ−Ｃ１０００を用いて、露光、熱現像処理を行
い、同様の評価を行なった。その結果、実施例１と同様
な結果が得られ、本発明の効果が明らかであった。
【０１７３】
【発明の効果】本発明の熱現像環境材料によって、高湿
環境下での現像処理でも画像線幅変動が少なく、濃度ム
ラの発生も少ない、硬調でかつ最高濃度が高い画像を提
供することができる。
環境下での現像処理でも画像線幅変動が少なく、濃度ム
ラの発生も少ない、硬調でかつ最高濃度が高い画像を提
供することができる。
【図１】 本発明の画像形成方法に用いられる熱現像機
の一構成例を示す概略側面図である。
の一構成例を示す概略側面図である。
１０ 熱現像感光材料
１１ 搬入ローラ対
１２ 搬出ローラ対
１３ ローラ
１４ 平滑面
１５ 加熱ヒータ
１６ ガイド板
Ａ 予備加熱部
Ｂ 熱現像部
Ｃ 徐冷部
Claims (6)
- 【請求項１】 支持体上に少なくとも有機銀塩、感光性
ハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤およびバインダーを含
有し、且つ、少なくとも１層の画像形成層と該画像形成
層よりも支持体から遠い側に少なくとも１層の非感光性
層を有する熱現像感光材料において、画像形成層側に有
機溶媒を３０質量％以上含有する塗布液を塗布して形成
した層を少なくとも１層有しており、熱現像時の残存有
機溶媒量が５〜１５０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とす
る熱現像感光材料。 - 【請求項２】 有機溶媒を３０質量％以上含有する塗布
液を塗布してなる塗布層が画像形成層であることを特徴
とする請求項１に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項３】 前記非感光性層のバインダーの５０質量
％以上がセルロース誘導体であることを特徴とする請求
項１または２に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項４】 前記非感光性層のバインダーの５０質量
％以上がセルロースアセテートブチレートであることを
特徴とする請求項３に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項５】 前記硬調化剤が、下記式（１）〜（３）
で表される化合物群から選ばれる少なくとも一種の化合
物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
載の熱現像感光材料。 【化１】 ［式（１）においてＲ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独
立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子吸引性基ま
たはシリル基を表す。式（１）においてＲ1とＺ、Ｒ2と
Ｒ3、Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＺは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよい。式（２）においてＲ4は、置
換基を表す。 式（３）においてＸおよびＹはそれぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、ＡおよびＢはそれ
ぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘテロ環
アミノ基を表す。式（３）において、ＸとＹ、およびＡ
とＢは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成してい
てもよい。］ - 【請求項６】 熱現像感光材料は、幅５５０〜６５０ｍ
ｍおよび長さ１〜６５ｍのシート状であるとともに、そ
の一部または全部が円筒形状のコア部材に画像形成層を
外側として巻き取られていることを特徴とする請求項１
〜５のいずれかに記載の熱現像感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001234343A JP2003043623A (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 熱現像感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001234343A JP2003043623A (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 熱現像感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043623A true JP2003043623A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19065967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001234343A Pending JP2003043623A (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 熱現像感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003043623A (ja) |
-
2001
- 2001-08-02 JP JP2001234343A patent/JP2003043623A/ja active Pending
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