JP2003043206A - 防曇反射防止光学物品 - Google Patents
防曇反射防止光学物品Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 防曇効果と反射防止性を兼ね備えた防曇反射
防止光学物品を提供すること。 【構成】 光学物品の基材上に吸水性高分子を主成分と
する第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層と、
吸水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、前記
高屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のついた基
材を浸潰し、コートした後、焼成することにより形成さ
れ、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸潰により
高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層
の混在層により成る防曇反射防止光学物品において、前
記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の１組
を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の整数）
積層する。
防止光学物品を提供すること。 【構成】 光学物品の基材上に吸水性高分子を主成分と
する第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層と、
吸水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、前記
高屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のついた基
材を浸潰し、コートした後、焼成することにより形成さ
れ、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸潰により
高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層
の混在層により成る防曇反射防止光学物品において、前
記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の１組
を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の整数）
積層する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、フィルタ
ー、ミラー等の防曇反射防止光学物品に関するものであ
る。
ー、ミラー等の防曇反射防止光学物品に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、レンズ、フィルター、ミラー等の
曇り防止方法としては、表面に界面活性剤を塗布する方
法が一般的である。又、最近では、界面活性剤に代わっ
て吸水性の物質をレンズ、フィルター、ミラー等の基材
に塗布成膜することにより、曇り防止を行うことも知ら
れている。従来、吸水性の物質としては、天然高分子類
としてデンプン−アクリロニトリルグラフト重合体加水
分解物等のデンプン系、セルロース−アクリロニトリル
グラフト重合体等のセルロース系、合成高分子類として
ポリビニルアルコール架橋重合体等のポリビニルアルコ
ール系、ポリアクリル酸ナトリウム架橋体等のアクリル
系、ポリエチレングリコール・ジアクリレート架橋重合
体等のポリエーテル系等が知られている。
曇り防止方法としては、表面に界面活性剤を塗布する方
法が一般的である。又、最近では、界面活性剤に代わっ
て吸水性の物質をレンズ、フィルター、ミラー等の基材
に塗布成膜することにより、曇り防止を行うことも知ら
れている。従来、吸水性の物質としては、天然高分子類
としてデンプン−アクリロニトリルグラフト重合体加水
分解物等のデンプン系、セルロース−アクリロニトリル
グラフト重合体等のセルロース系、合成高分子類として
ポリビニルアルコール架橋重合体等のポリビニルアルコ
ール系、ポリアクリル酸ナトリウム架橋体等のアクリル
系、ポリエチレングリコール・ジアクリレート架橋重合
体等のポリエーテル系等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の防曇性光学物品には次のような課題がある。
来の防曇性光学物品には次のような課題がある。
【０００４】即ち、曇り防止として界面活性剤を用いた
場合、その効果の持続力は極めて短く、数時間若しくは
数日で再び界面活性剤を塗布しなければ、その効果を持
続することはできない。又、水等で光学物品の表面の汚
れを拭いた場合、界面活性剤の膜が取れてしまい、その
効果がなくなってしまう。
場合、その効果の持続力は極めて短く、数時間若しくは
数日で再び界面活性剤を塗布しなければ、その効果を持
続することはできない。又、水等で光学物品の表面の汚
れを拭いた場合、界面活性剤の膜が取れてしまい、その
効果がなくなってしまう。
【０００５】又、曇り防止として種々の吸水性物質を塗
布成膜して防曇膜とした場合、その効果の持続性は界面
活性剤の場合と比較して格段に向上する。
布成膜して防曇膜とした場合、その効果の持続性は界面
活性剤の場合と比較して格段に向上する。
【０００６】しかしながら、発明者等の検討によれば、
前記吸水性の物質を防曇膜として用いる場合、その膜上
に低屈折率物質層を反射防止効果を得るためにコートし
た場合、そのものの防曇性は損なわれる傾向にある。
又、前記吸水性層を薄膜化し、その光学膜厚を反射防止
対象波長の１／４の奇数倍に調整して反射防止膜とした
場合、吸水性膜の厚みが薄過ぎ、十分な防曇性を得られ
なくなる傾向にある。
前記吸水性の物質を防曇膜として用いる場合、その膜上
に低屈折率物質層を反射防止効果を得るためにコートし
た場合、そのものの防曇性は損なわれる傾向にある。
又、前記吸水性層を薄膜化し、その光学膜厚を反射防止
対象波長の１／４の奇数倍に調整して反射防止膜とした
場合、吸水性膜の厚みが薄過ぎ、十分な防曇性を得られ
なくなる傾向にある。
【０００７】上記課題を解決するために、発明者等は吸
水性膜上に屈折率の異なる膜を形成し反射防止膜を形成
することを提案している。
水性膜上に屈折率の異なる膜を形成し反射防止膜を形成
することを提案している。
【０００８】上記反射防止膜は高屈折率層と薄い吸水膜
層を組み合わすことにより反射防止効果を持たせる反射
防止効果を高くするためには、高屈折層を適切な厚みま
で厚くする必要がある。しかし、実際は高屈折層の膜厚
を厚くするに従い下層の吸水層への水分の透過が悪くな
る傾向にある。そして、その膜厚が８ｎｍ以上になると
急激に透水性を失って防曇性は消失する。
層を組み合わすことにより反射防止効果を持たせる反射
防止効果を高くするためには、高屈折層を適切な厚みま
で厚くする必要がある。しかし、実際は高屈折層の膜厚
を厚くするに従い下層の吸水層への水分の透過が悪くな
る傾向にある。そして、その膜厚が８ｎｍ以上になると
急激に透水性を失って防曇性は消失する。
【０００９】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、防曇効果と反射防止性を兼ね
備えた防曇反射防止光学物品を提供することにある。
で、その目的とする処は、防曇効果と反射防止性を兼ね
備えた防曇反射防止光学物品を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、光学物品の基材上に吸水性高分子を主成
分とする第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層
と、吸水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、
前記高屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のつい
た基材を浸潰し、コートした後、焼成することにより形
成され、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸潰に
より高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸
水層の混在層により成る防曇反射防止光学物品におい
て、前記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層
の１組を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の
整数）積層することを特徴とする。
め、本発明は、光学物品の基材上に吸水性高分子を主成
分とする第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層
と、吸水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、
前記高屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のつい
た基材を浸潰し、コートした後、焼成することにより形
成され、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸潰に
より高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸
水層の混在層により成る防曇反射防止光学物品におい
て、前記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層
の１組を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の
整数）積層することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て説明する。
て説明する。
【００１２】高屈折層の膜厚を厚くする際、金属酸化膜
だけでなく、金属酸化物と吸水層の混在層を間に挟むこ
とにより、透水性を失われず、高屈折層の膜厚を厚く積
層することができる（構成は表１の実施例１の構成図に
示す）。
だけでなく、金属酸化物と吸水層の混在層を間に挟むこ
とにより、透水性を失われず、高屈折層の膜厚を厚く積
層することができる（構成は表１の実施例１の構成図に
示す）。
【００１３】本発明の吸水性膜の原料となる吸水性高分
子としては、以下に示す従来公知の各種高分子が利用可
能である。
子としては、以下に示す従来公知の各種高分子が利用可
能である。
【００１４】即ち、天然高分子の誘導体としてはデンプ
ン−アクリルニトリルグラフト重合体加水分解物等のデ
ンプン系、セルロース−アクリルニトリルグラフト重合
体加水分解物等のセルロース系があり、合成高分子類と
してはポリビニールアルコール架橋重合体等のポリビニ
ールアルコール系、ポリアクリル酸ナトリウム架橋体等
のアクリル系、ポリエチレングリコール・ジアクリレー
ト架橋重合体等のポリエーテル系等がある。中でもポリ
アクリル酸類やポリビニールアルコール等の高吸水性物
質が好適に用いられる。
ン−アクリルニトリルグラフト重合体加水分解物等のデ
ンプン系、セルロース−アクリルニトリルグラフト重合
体加水分解物等のセルロース系があり、合成高分子類と
してはポリビニールアルコール架橋重合体等のポリビニ
ールアルコール系、ポリアクリル酸ナトリウム架橋体等
のアクリル系、ポリエチレングリコール・ジアクリレー
ト架橋重合体等のポリエーテル系等がある。中でもポリ
アクリル酸類やポリビニールアルコール等の高吸水性物
質が好適に用いられる。
【００１５】本発明に用いられるポリアクリル酸類とし
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
ルアミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポ
リアクリル酸ナトリウム等）が挙げられ、好ましくはポ
リアクリル酸及びポリメタクリル酸が用いられる。
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
ルアミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポ
リアクリル酸ナトリウム等）が挙げられ、好ましくはポ
リアクリル酸及びポリメタクリル酸が用いられる。
【００１６】ここで、第１の吸水膜の膜厚は吸水量を多
くし、防曇性を高める点で１μｍ以上が好ましい。又、
過度の吸水で吸水性膜の膨張が大きくなり過ぎないよ
う、２０μｍ以下の膜厚が好ましい。
くし、防曇性を高める点で１μｍ以上が好ましい。又、
過度の吸水で吸水性膜の膨張が大きくなり過ぎないよ
う、２０μｍ以下の膜厚が好ましい。
【００１７】又、上記金属アルコキシドとしては次式
（II），（III ）で示される化合物が挙げられる。
（II），（III ）で示される化合物が挙げられる。
【００１８】
Ｍ（ＯＲ）a …（II） 及びＭ（ＯＲ）n （Ｘ）a-n …（III ）
ここでのＭは、Ｓｉ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃａ，Ｆｅ，
Ｖ，Ｓｎ，Ｌｉ，Ｂｅ，Ｂ及びＰから成る群から選択さ
れる原子であり、Ｒはアルキル基であり、アルキル基、
官能基を有すアルキル基又はハロゲンであり、ａはＭの
原子価であり、ｎは１〜ａまでの整数である。
Ｖ，Ｓｎ，Ｌｉ，Ｂｅ，Ｂ及びＰから成る群から選択さ
れる原子であり、Ｒはアルキル基であり、アルキル基、
官能基を有すアルキル基又はハロゲンであり、ａはＭの
原子価であり、ｎは１〜ａまでの整数である。
【００１９】上記Ｘとしてはカルボニル基、カルボキシ
ル基、アミノ基、ビニル基又はエポキシ基を有するアル
キル基が好適である。
ル基、アミノ基、ビニル基又はエポキシ基を有するアル
キル基が好適である。
【００２０】特に好適な無機アルコキシドとしては、Ｓ
ｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 ，Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）
3 ，Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｔ−
Ｃ4 Ｈ 9 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｃａ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）2 ，Ｆｅ（ＯＣ2 Ｈ 5 ３，Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−
Ｃ3 Ｈ7 ）4 ，Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｌｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ），Ｂｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ，Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）
3 ，Ｐ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2，Ｐ（ＯＣＨ3 ）3 等が挙げら
れるが、防曇反射防止光学物品の反射率を低減するため
には、高屈折率薄膜の屈折率が１．６８以上であること
が好ましく、そのためには、特にＡｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
3 Ｈ7 ）3 ，Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7）4 ，Ｚｒ
（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）
4 ，Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 が好適である。
ｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 ，Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）
3 ，Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｔ−
Ｃ4 Ｈ 9 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｃａ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）2 ，Ｆｅ（ＯＣ2 Ｈ 5 ３，Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−
Ｃ3 Ｈ7 ）4 ，Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｌｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ），Ｂｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ，Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）
3 ，Ｐ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2，Ｐ（ＯＣＨ3 ）3 等が挙げら
れるが、防曇反射防止光学物品の反射率を低減するため
には、高屈折率薄膜の屈折率が１．６８以上であること
が好ましく、そのためには、特にＡｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
3 Ｈ7 ）3 ，Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7）4 ，Ｚｒ
（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 ，Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）
4 ，Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 が好適である。
【００２１】又、高屈折層は上記金属アルコキシドが溶
質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材を浸漬して引
き上げることにより溶液をコーティングした後、焼成す
ることにより得られるが、金属酸化物の層以外に金属ア
ルコキシドの吸水層への染み込みにより金属酸化物と吸
水膜の混在層を形成する。
質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材を浸漬して引
き上げることにより溶液をコーティングした後、焼成す
ることにより得られるが、金属酸化物の層以外に金属ア
ルコキシドの吸水層への染み込みにより金属酸化物と吸
水膜の混在層を形成する。
【００２２】浸漬時間の影響を発明者等が観察したとこ
ろ、先ず、２５℃において浸漬により６０秒以内に金属
アルコキシドが吸水層内１５ｎｍに達し、焼成後の金属
酸化膜換算でおよそ金属酸化物：吸水膜＝１：９の割合
になる。その後、浸漬時間１５分まで混合比が殆ど変化
せず、吸水層内４５ｎｍまで浸透する。
ろ、先ず、２５℃において浸漬により６０秒以内に金属
アルコキシドが吸水層内１５ｎｍに達し、焼成後の金属
酸化膜換算でおよそ金属酸化物：吸水膜＝１：９の割合
になる。その後、浸漬時間１５分まで混合比が殆ど変化
せず、吸水層内４５ｎｍまで浸透する。
【００２３】そして、浸漬時間１５分以上は吸水腹内へ
膜厚方向の浸透は小さくなり、混合比が上昇する。そし
て、浸漬時間３０分で焼成後の金属酸化膜換算でおよそ
金属酸化物：吸水膜＝１：４の割合（膜厚は５５ｎｍ）
に達し、それを超えると急激に透水性が失われて防曇性
がなくなる。
膜厚方向の浸透は小さくなり、混合比が上昇する。そし
て、浸漬時間３０分で焼成後の金属酸化膜換算でおよそ
金属酸化物：吸水膜＝１：４の割合（膜厚は５５ｎｍ）
に達し、それを超えると急激に透水性が失われて防曇性
がなくなる。
【００２４】高屈折層を厚くするために、金属酸化物の
層と吸水層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する
ように金属アルコキシド溶液と防曇性塗膜溶液を交互に
コートする（構成：表１の実施例１）。
層と吸水層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する
ように金属アルコキシド溶液と防曇性塗膜溶液を交互に
コートする（構成：表１の実施例１）。
【００２５】そのため、吸水層中に金属アルコキシドが
染み込み、焼成することにより、金属酸化膜と吸水膜の
混在層を形成するが、上記染み込みの挙動は、金属アル
コキシドの溶液を浸潰しコートする際における最外の吸
水層の膜厚により膜厚方向への金属アルコキシドの染み
込みを制限される以外は、ぼぼ同一の挙動を示す。
染み込み、焼成することにより、金属酸化膜と吸水膜の
混在層を形成するが、上記染み込みの挙動は、金属アル
コキシドの溶液を浸潰しコートする際における最外の吸
水層の膜厚により膜厚方向への金属アルコキシドの染み
込みを制限される以外は、ぼぼ同一の挙動を示す。
【００２６】従って、金属酸化物と吸水膜の割合が１：
４以下と制限される。混合腹中の金属酸化物の割合が多
い程、高屈折膜としての性能は向上するが、上記のよう
に金属酸化物と吸水膜の割合が上記のように１：４を超
えると急激に透水性がなくなって防曇特性が低下する。
４以下と制限される。混合腹中の金属酸化物の割合が多
い程、高屈折膜としての性能は向上するが、上記のよう
に金属酸化物と吸水膜の割合が上記のように１：４を超
えると急激に透水性がなくなって防曇特性が低下する。
【００２７】金属酸化物の層と金属酸化物と吸水膜の混
在層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する際、積
層された高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数をｋとした
場合、（ｋ−１）番目の金属酸化物の層とｋ番目の金属
酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の膜厚が５ｎ
ｍ〜５５ｎｍであることが望ましい。なぜならば、金属
酸化物と吸水層の混在層の膜厚が５５ｎｍを超えると、
高屈折層として膜厚を厚くする効果が殆どなくなり、反
射特性に与える影響が高屈折層１単位と殆ど変わらな
い。又、５ｎｍ以下の場合は透水性を失い、防曇特性が
低下する。
在層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する際、積
層された高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数をｋとした
場合、（ｋ−１）番目の金属酸化物の層とｋ番目の金属
酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の膜厚が５ｎ
ｍ〜５５ｎｍであることが望ましい。なぜならば、金属
酸化物と吸水層の混在層の膜厚が５５ｎｍを超えると、
高屈折層として膜厚を厚くする効果が殆どなくなり、反
射特性に与える影響が高屈折層１単位と殆ど変わらな
い。又、５ｎｍ以下の場合は透水性を失い、防曇特性が
低下する。
【００２８】又、上記金属酸化物の層は８ｎｍを超えた
ところで透水性が急激に悪くなることから、その膜厚が
８ｎｍ以下であることが望ましい。
ところで透水性が急激に悪くなることから、その膜厚が
８ｎｍ以下であることが望ましい。
【００２９】又、溶液の安定性を考慮した場合、用いる
金属アルコキシドが特にチタンテトライソプロポキシド
Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 であることが望まし
い。
金属アルコキシドが特にチタンテトライソプロポキシド
Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 であることが望まし
い。
【００３０】又、高屈折層は上記チタンテトライソプロ
ポキシドが溶質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材
を浸漬して引き上げることにより、溶液をコーティング
した後、焼成して得られるが、酸化チタンの層以外にチ
タンテトライソプロポキシドの吸水屑への染み込みによ
る金属酸化物と吸水膜の混在層を形成する。
ポキシドが溶質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材
を浸漬して引き上げることにより、溶液をコーティング
した後、焼成して得られるが、酸化チタンの層以外にチ
タンテトライソプロポキシドの吸水屑への染み込みによ
る金属酸化物と吸水膜の混在層を形成する。
【００３１】浸漬時間の影響を発明者等が観察したとこ
ろ、先ず、２５℃において浸漬により６０秒以内にチタ
ンテトライソプロポキシドが吸水層内１５ｎｍに達し、
焼成後の金属酸化膜換算でおよそ金属酸化物：吸水膜＝
１：９の割合になる。その後、浸漬時間１５分まで混合
比が殆ど変化せず、吸水屑内４５ｎｍまで浸透する。
ろ、先ず、２５℃において浸漬により６０秒以内にチタ
ンテトライソプロポキシドが吸水層内１５ｎｍに達し、
焼成後の金属酸化膜換算でおよそ金属酸化物：吸水膜＝
１：９の割合になる。その後、浸漬時間１５分まで混合
比が殆ど変化せず、吸水屑内４５ｎｍまで浸透する。
【００３２】そして、浸漬時間１５分以上は吸水膜内へ
膜厚方向の浸透は小さくなり、混合比が上昇する。そし
て、浸漬時間３０分で焼成後の金属酸化膜換算でおよそ
金属酸化物：吸水膜＝１：４の割合（膜厚は５５ｎｍ）
に達し、それを超えると急激に透水性が失われて防曇性
がなくなる。
膜厚方向の浸透は小さくなり、混合比が上昇する。そし
て、浸漬時間３０分で焼成後の金属酸化膜換算でおよそ
金属酸化物：吸水膜＝１：４の割合（膜厚は５５ｎｍ）
に達し、それを超えると急激に透水性が失われて防曇性
がなくなる。
【００３３】高屈折層を厚くするために、酸化チタンの
層と吸水層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する
ようにチタンテトライソプロポキシド溶液と防曇性塗膜
溶液を交互にコートする（構成：表２の実施例３）。
層と吸水層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する
ようにチタンテトライソプロポキシド溶液と防曇性塗膜
溶液を交互にコートする（構成：表２の実施例３）。
【００３４】そのため、吸水屑中にチタンテトライソプ
ロポキシドが染み込み、焼成することにより、酸化チタ
ンと吸水膜の混在層を形成するが、上記染み込みの挙動
は、チタンテトライソプロポキシドの溶液を浸潰しコー
トする際における最外の吸水層の膜厚により膜厚方向へ
のチタンテトライソプロポキシドの染み込みを制限され
る以外は、ぼぼ同一の挙動を示す。
ロポキシドが染み込み、焼成することにより、酸化チタ
ンと吸水膜の混在層を形成するが、上記染み込みの挙動
は、チタンテトライソプロポキシドの溶液を浸潰しコー
トする際における最外の吸水層の膜厚により膜厚方向へ
のチタンテトライソプロポキシドの染み込みを制限され
る以外は、ぼぼ同一の挙動を示す。
【００３５】従って、酸化チタンと吸水膜の割合が１：
４以下と制限される。混合膜中の酸化チタンの割合が多
い程、高屈折膜としての性能は向上するが、上記のよう
に酸化チタンと吸水膜の割合が上記のように１：４を超
えると急激に透水性がなくなり、防曇特性が低下する。
４以下と制限される。混合膜中の酸化チタンの割合が多
い程、高屈折膜としての性能は向上するが、上記のよう
に酸化チタンと吸水膜の割合が上記のように１：４を超
えると急激に透水性がなくなり、防曇特性が低下する。
【００３６】酸化チタンの層と酸化チタンと吸水膜の混
在層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する際、積
層された高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数をｋとした
場合、（ｋ−１）番目の酸化チタンの層とｋ番目の酸化
チタンの層と酸化チタンと吸水層の混在層の膜厚が５ｎ
ｍ〜５５ｎｍであることが望ましい。なぜならば、酸化
チタンと吸水層の混在層の膜厚が５５ｎｍを超えると、
高屈折層として膜厚を厚くする効果が殆どなくなり、反
射特性に与える影響が高屈折層１単位と殆ど変わらな
い。又、５ｎｍ以下の場合は透水性を失い、防曇特性が
低下する。
在層の構成を１単位としてｎ≧２単位で構成する際、積
層された高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数をｋとした
場合、（ｋ−１）番目の酸化チタンの層とｋ番目の酸化
チタンの層と酸化チタンと吸水層の混在層の膜厚が５ｎ
ｍ〜５５ｎｍであることが望ましい。なぜならば、酸化
チタンと吸水層の混在層の膜厚が５５ｎｍを超えると、
高屈折層として膜厚を厚くする効果が殆どなくなり、反
射特性に与える影響が高屈折層１単位と殆ど変わらな
い。又、５ｎｍ以下の場合は透水性を失い、防曇特性が
低下する。
【００３７】又、上記酸化チタンの層は８ｎｍを超えた
ところで透水性が急激に悪くなることから、その膜厚が
８ｎｍ以下であることが望ましい。
ところで透水性が急激に悪くなることから、その膜厚が
８ｎｍ以下であることが望ましい。
【００３８】このような手法を用いて作製した防曇反射
防止光学物品は防曇性を有し、且つ、反射防止性が向上
した。
防止光学物品は防曇性を有し、且つ、反射防止性が向上
した。
【００３９】又、本発明における防曇反射防止光学物品
は防曇性と優れた光透過性を備えたものであり、水分の
結露により曇りの発生する様々な光学物品に対してその
適用が可能となるものである． ［実施例１］ポリビニールアルコール（数平均重合度２
０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００
重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシメチロール
メラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸アンモ
ニウム０．０５重量部、２，’４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール１００重
量部に溶解した溶液を加え、室温で３０分撹拌した防曇
性塗膜溶液をディップコート法により厚さ１ｍｍのガラ
ス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、１５０℃で１
５分間、乾燥・硬化させた。
は防曇性と優れた光透過性を備えたものであり、水分の
結露により曇りの発生する様々な光学物品に対してその
適用が可能となるものである． ［実施例１］ポリビニールアルコール（数平均重合度２
０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００
重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシメチロール
メラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸アンモ
ニウム０．０５重量部、２，’４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール１００重
量部に溶解した溶液を加え、室温で３０分撹拌した防曇
性塗膜溶液をディップコート法により厚さ１ｍｍのガラ
ス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、１５０℃で１
５分間、乾燥・硬化させた。
【００４０】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に
溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた
溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．
７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０
秒間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３
０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼
成し、第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性
塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液
で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈
折層上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で
５分間で焼成し、１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折
層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デッ
プコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコー
トした後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層
を形成した。
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に
溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた
溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．
７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０
秒間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３
０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼
成し、第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性
塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液
で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈
折層上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で
５分間で焼成し、１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折
層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デッ
プコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコー
トした後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層
を形成した。
【００４１】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１１５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１１５ｎｍの膜厚に調整した。
【００４２】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝
１０：９０となっている（表１）。
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝
１０：９０となっている（表１）。
【００４３】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００４４】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
【００４５】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３４程にな
り、０．９％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３４程にな
り、０．９％程度の反射防止特性を有する。
【００４６】［実施例２］ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００４７】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソプチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に溶
かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶
液を加えて室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７
５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折
層上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で５
分間で焼成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層
形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップ
コート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコート
した後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を
形成した。
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソプチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に溶
かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶
液を加えて室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７
５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折
層上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で５
分間で焼成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層
形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップ
コート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコート
した後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を
形成した。
【００４８】そして、上記防曇性塗膜溶液をメタノール
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第２の高屈折層上にデップコート
法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１０
ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水
層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法により引き
上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で
５分間で焼成して第３の高屈折層を形成した。
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第２の高屈折層上にデップコート
法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１０
ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水
層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法により引き
上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で
５分間で焼成して第３の高屈折層を形成した。
【００４９】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１０５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１０５ｎｍの膜厚に調整した。
【００５０】膜構成の解析結果を1 番目と２番目と３番
目のＺｒＯ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水
膜の混在層の膜厚は２５ｎｍ、２番目、３番目の吸水膜
の混在層の膜厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺ
ｒＯ2 ：吸水膜＝１０：９０となっている（表１）。
目のＺｒＯ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水
膜の混在層の膜厚は２５ｎｍ、２番目、３番目の吸水膜
の混在層の膜厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺ
ｒＯ2 ：吸水膜＝１０：９０となっている（表１）。
【００５１】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００５２】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
【００５３】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２６程にな
り、１．４％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２６程にな
り、１．４％程度の反射防止特性を有する。
【００５４】＜比較例１＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３０分
撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚さ
１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、
１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３０分
撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚さ
１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、
１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００５５】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
実施例１と異なり、高屈折層形成溶液への浸漬時間を３
６０秒を４５分とした。
実施例１と異なり、高屈折層形成溶液への浸漬時間を３
６０秒を４５分とした。
【００５６】引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートし
た後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形
成した。
た後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形
成した。
【００５７】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１０５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１０５ｎｍの膜厚に調整した。
【００５８】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が９ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在層の
膜厚は３０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は１０
ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝１
１：８９となっている（表１）。
Ｏ2 層が９ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在層の
膜厚は３０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は１０
ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝１
１：８９となっている（表１）。
【００５９】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００６０】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
【００６１】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１４程にな
り、２．６％程度の反射防止特性を有する。 ［実施例３］ポリビニールアルコール（数平均重合度２
０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００
重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシメチロール
メラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸アンモ
ニウム０．０５重量部、２，２’，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール１０
０重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０分撹拌した
防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚さ１ｍｍの
ガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、１５０℃
で１５分間、乾燥・硬化させた。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１４程にな
り、２．６％程度の反射防止特性を有する。 ［実施例３］ポリビニールアルコール（数平均重合度２
０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００
重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキシメチロール
メラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸アンモ
ニウム０．０５重量部、２，２’，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール１０
０重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０分撹拌した
防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚さ１ｍｍの
ガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装し、１５０℃
で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００６２】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソプチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、デップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第１
の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼
成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法
により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、
１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成し
た。
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソプチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、デップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第１
の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼
成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法
により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、
１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成し
た。
【００６３】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１１５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て１１５ｎｍの膜厚に調整した。
【００６４】膜構成の解析結果を1 番目と２番目の酸化
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜
厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸
水膜＝１０：９０となっている（表２）。
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜
厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸
水膜＝１０：９０となっている（表２）。
【００６５】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００６６】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
【００６７】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２４程にな
り、１．６％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２４程にな
り、１．６％程度の反射防止特性を有する。
【００６８】チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
【００６９】［実施例４］ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００７０】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソプチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、デップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第１
の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼
成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法
により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、
１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成し
た。
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソプチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹絆し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、デップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第１
の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼
成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、デップコート法
により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、
１５０℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成し
た。
【００７１】そして、上記防曇性塗膜溶液をメタノール
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第２の高屈折層上にデップコート
法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１０
ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水
層を８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイティドジリコ
ニウム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢
酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ Ｈｃｌ
０．５ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に
溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた
溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．
７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を４５分
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
し、第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層
上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で５分
間で焼成し、１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形
成溶液に上記吸水層を４５分間浸漬した後、デップコー
ト法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした
後、１５０℃で５分間で焼成し、第２の高屈折層を形成
した。
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第２の高屈折層上にデップコート
法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１０
ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水
層を８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイティドジリコ
ニウム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢
酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ Ｈｃｌ
０．５ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に
溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた
溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．
７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を４５分
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
し、第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層
上にデップコート法により塗布した後、１５０℃で５分
間で焼成し、１０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形
成溶液に上記吸水層を４５分間浸漬した後、デップコー
ト法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした
後、１５０℃で５分間で焼成し、第２の高屈折層を形成
した。
【００７２】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て９０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て９０ｎｍの膜厚に調整した。
【００７３】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は５８ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝
２５：７５となっている（表１）。
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は５８ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
１０ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝
２５：７５となっている（表１）。
【００７４】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００７５】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇り、５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても５秒後に曇り始めた。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇り、５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても５秒後に曇り始めた。
【００７６】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２２程にな
り、１０８％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２２程にな
り、１０８％程度の反射防止特性を有する。
【００７７】＜比較例２＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００７８】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２ｎ ＨＣｌ０．
５ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に溶か
し、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液
を加えて室温でで２４時間撹拌し、加水分解率を０．７
５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコ−ト法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し、粘度６ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折
屑上にディップコート法により塗布した後、１５０℃で
５分間で焼成し、実施例１とは異なる６０ｎｍの膜厚に
調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第２の高屈折層を形成した。
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２ｎ ＨＣｌ０．
５ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中に溶か
し、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液
を加えて室温でで２４時間撹拌し、加水分解率を０．７
５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコ−ト法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗
膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で
希釈し、粘度６ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折
屑上にディップコート法により塗布した後、１５０℃で
５分間で焼成し、実施例１とは異なる６０ｎｍの膜厚に
調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒
間浸漬した後、デップコート法により引き上げ速度３０
ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成
して第２の高屈折層を形成した。
【００７９】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て８０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にデップ
コート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し
て８０ｎｍの膜厚に調整した。
【００８０】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、混在比ＺｒＯ2 ：吸水膜＝１０：
９０、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は６０ｎｍ表面に
近い２５ｎｍの混在比はＺｒＯ2 ：吸水膜＝１０：９
０、残りの３５ｎｍの混在比はＺｒＯ2 ：吸水膜＝１：
１００となっている（表１）。
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、混在比ＺｒＯ2 ：吸水膜＝１０：
９０、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は６０ｎｍ表面に
近い２５ｎｍの混在比はＺｒＯ2 ：吸水膜＝１０：９
０、残りの３５ｎｍの混在比はＺｒＯ2 ：吸水膜＝１：
１００となっている（表１）。
【００８１】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００８２】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
【００８３】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３６程にな
り、０．４％程度の反射防止特性となり、高屈折層が１
単位である場合と特性が殆ど変わらない。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３６程にな
り、０．４％程度の反射防止特性となり、高屈折層が１
単位である場合と特性が殆ど変わらない。
【００８４】＜比較例３＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０
分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚
さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタ
ノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で３０
分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により厚
さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００８５】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのｉ−トプロパノール中
に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜ
た溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を
０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３
６０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成して第１の高屈折層を形成した。そして、上記
防曇性塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜ
た溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１
の高屈折層上にディップコート法により塗布した後、１
５０℃で５分間で焼成して実施例１と異なり３ｎｍの膜
厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６
０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ速
度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間
で焼成して第２の高屈折層を形成した。
８．４ｇのテトラｎブチルオルトネイテイドジリコニウ
ム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂｕ：Ｃ4 Ｈ9 ］を酢酸イ
ソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．
５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのｉ−トプロパノール中
に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜ
た溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を
０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３
６０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成して第１の高屈折層を形成した。そして、上記
防曇性塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜ
た溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１
の高屈折層上にディップコート法により塗布した後、１
５０℃で５分間で焼成して実施例１と異なり３ｎｍの膜
厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６
０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ速
度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間
で焼成して第２の高屈折層を形成した。
【００８６】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１２０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１２０ｎｍの膜厚に調整した。
【００８７】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
３ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝１
０：９０となっている（表１）。
Ｏ2 層が２．３ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在
層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は
３ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 ：吸水膜＝１
０：９０となっている（表１）。
【００８８】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【００８９】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても６秒後に曇り始めた。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても６秒後に曇り始めた。
【００９０】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３１程にな
り、０．９％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３１程にな
り、０．９％程度の反射防止特性を有する。
【００９１】＜比較例４＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００９２】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
実施例１と異なり、２５．５ｇのテトラｎブチルオルト
ネイテイドジリコニウム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂ
ｕ：Ｃ 4 Ｈ9 ］を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶
液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水１．７５ｇを１０ｇ
のトプロパノール中に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し、加水分解率を０．７５に調整した高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート
法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした
後、１５０℃で５分間で焼成して第１の高屈折層を形成
した。そして、上記防曇性塗膜溶液をメタノール・水を
１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整
した溶液を上記第１の高屈折層上にディップコート法に
より塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し、１０ｎｍ
の膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を
３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上
げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５
分間で焼成して第２の高屈折層を形成した。
実施例１と異なり、２５．５ｇのテトラｎブチルオルト
ネイテイドジリコニウム［Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）4 Ｂ
ｕ：Ｃ 4 Ｈ9 ］を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶
液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水１．７５ｇを１０ｇ
のトプロパノール中に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し、加水分解率を０．７５に調整した高屈折層形成溶液
に上記吸水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート
法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした
後、１５０℃で５分間で焼成して第１の高屈折層を形成
した。そして、上記防曇性塗膜溶液をメタノール・水を
１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整
した溶液を上記第１の高屈折層上にディップコート法に
より塗布した後、１５０℃で５分間で焼成し、１０ｎｍ
の膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を
３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により引き上
げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５
分間で焼成して第２の高屈折層を形成した。
【００９３】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１０５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１０５ｎｍの膜厚に調整した。
【００９４】膜構成の解析結果を１番目と２番目のＺｒ
Ｏ2 層が９ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在層の
膜厚は３０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は１０
ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 Zr：吸水膜＝１
１：８９となっている（表１）。
Ｏ2 層が９ｎｍでＺｒＯ2 と１番目の吸水膜の混在層の
膜厚は３０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は１０
ｎｍとなり、混在比は両方ともＺｒＯ2 Zr：吸水膜＝１
１：８９となっている（表１）。
【００９５】防曇特性は、１．防曇特性は室温（３０
℃、８０％）の雰囲気中で息をかけて曇りを見る。２．
５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを見
る。で評価した。
℃、８０％）の雰囲気中で息をかけて曇りを見る。２．
５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを見
る。で評価した。
【００９６】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
【００９７】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１４程にな
り、２．６％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１４程にな
り、２．６％程度の反射防止特性を有する。
【００９８】＜比較例５＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【００９９】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
実施例３と異なり、高屈折層形成溶液への浸漬時間を３
６０秒を４５分とした。
実施例３と異なり、高屈折層形成溶液への浸漬時間を３
６０秒を４５分とした。
【０１００】７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド
［Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸
イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ
０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中
に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜ
た溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を
０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を４
５分間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ速
度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間
で焼成して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防
曇性塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた
溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の
高屈折層上にディップコート法により塗布した後、１５
０℃で５分間で焼成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、
高屈折層形成溶液に上記吸水層を４５分間浸漬した後、
ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎ
でコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高
屈折層を形成した。
［Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸
イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ
０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇのトプロパノール中
に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜ
た溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水分解率を
０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸水層を４
５分間浸漬した後、ディップコート法により引き上げ速
度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間
で焼成して第１の高屈折層を形成した。そして、上記防
曇性塗膜溶液をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた
溶液で希釈し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の
高屈折層上にディップコート法により塗布した後、１５
０℃で５分間で焼成して１０ｎｍの膜厚に調整し、又、
高屈折層形成溶液に上記吸水層を４５分間浸漬した後、
ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎ
でコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２の高
屈折層を形成した。
【０１０１】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１１０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１１０ｎｍの膜厚に調整した。
【０１０２】膜構成の解析結果を１番目と２番目の酸化
チタン層が３．３ｎｍで、酸化チタンと１番目の吸水膜
の混在層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の
膜厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：
吸水膜＝２６：７４となっている（表２）。
チタン層が３．３ｎｍで、酸化チタンと１番目の吸水膜
の混在層の膜厚は２５ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の
膜厚は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：
吸水膜＝２６：７４となっている（表２）。
【０１０３】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【０１０４】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇り、５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても５秒後に曇り始めた。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇り、５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても５秒後に曇り始めた。
【０１０５】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１７程にな
り、２．３％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０１７程にな
り、２．３％程度の反射防止特性を有する。
【０１０６】チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
【０１０７】＜比較例６＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温３
０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法により
厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗装
し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【０１０８】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソブチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２４ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／
ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第
１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液
をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈
し、６ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ィップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で
焼成し、実施例３とは異なる５５ｎｍの膜厚に調整し、
又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２
の高屈折層を形成した。
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソブチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２４ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／
ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第
１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液
をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈
し、６ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上にデ
ィップコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で
焼成し、実施例３とは異なる５５ｎｍの膜厚に調整し、
又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２
の高屈折層を形成した。
【０１０９】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して８０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して８０ｎｍの膜厚に調整した。
【０１１０】膜構成の解析結果を１番目と２番目の酸化
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ混在比酸化チタン：吸水膜＝１
０：９０、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は６０ｎｍと
なり、混在比は表面に近い方から２０ｎｍが酸化チタ
ン：吸水膜＝１０：９０、残り４０ｎｍの混在比は酸化
チタン：吸水膜＝０：１００の混在比となっている（表
２）。
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ混在比酸化チタン：吸水膜＝１
０：９０、２番目の吸水膜の混在層の膜厚は６０ｎｍと
なり、混在比は表面に近い方から２０ｎｍが酸化チタ
ン：吸水膜＝１０：９０、残り４０ｎｍの混在比は酸化
チタン：吸水膜＝０：１００の混在比となっている（表
２）。
【０１１１】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【０１１２】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
８０％）の雰囲気中で息をかけて特に変化はない。５℃
から室温（３０℃、８０％）に出しても特に変化はな
い。
【０１１３】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３３程にな
り、０．６％程度の反射防止特性となり、高屈折層が１
単位である場合と特性が殆ど変わらない。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０３３程にな
り、０．６％程度の反射防止特性となり、高屈折層が１
単位である場合と特性が殆ど変わらない。
【０１１４】チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
【０１１５】＜比較例７＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【０１１６】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソブチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／
ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第
１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液
をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈
し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上
にディップコート法により塗布した後、１５０℃で５分
間で焼成し、実施例３と異なり３ｎｍの膜厚に調整し、
又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２
の高屈折層を形成した。
７．５ｇのチタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7 ］を酢酸イソブチル１
３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ ＨＣｌ０．５０ｇと水
０．２５ｇを１０ｇのｉ−プロパノール中に溶かし、溶
液を更に１００ｇの酢酸イソブチルに混ぜた溶液を加え
て室温で２４時間撹拌し、加水分解率を０．７５に調整
した高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後、ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／
ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第
１の高屈折層を形成した。そして、上記防曇性塗膜溶液
をメタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈
し、粘度４ｃｐに調整した溶液を上記第１の高屈折層上
にディップコート法により塗布した後、１５０℃で５分
間で焼成し、実施例３と異なり３ｎｍの膜厚に調整し、
又、高屈折層形成溶液に上記吸水層を３６０秒間浸漬し
た後ディップコート法により引き上げ速度３０ｍｍ／ｍ
ｉｎでコートした後、１５０℃で５分間で焼成して第２
の高屈折層を形成した。
【０１１７】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１２０ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１２０ｎｍの膜厚に調整した。
【０１１８】膜構成の解析結果を１番目と２番目の酸化
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜
厚は３ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸水
膜＝１０：９０となっている（表２）。
チタン層が３．３ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の
混在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜
厚は３ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸水
膜＝１０：９０となっている（表２）。
【０１１９】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【０１２０】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても６秒後に曇り始めた。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても６秒後に曇り始めた。
【０１２１】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２４程にな
り、１．６％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．０２４程にな
り、１．６％程度の反射防止特性を有する。
【０１２２】＜比較例８＞ポリビニールアルコール（数
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１０重量
部を水１００重量部に加熱溶解し、それにヘキサメトキ
シメチロールメラニン０．５重量部、パラトルエンスル
ホン酸アンモニウム０．０５重量部、２，２’，４，
４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部を
メタノール１００重量部に溶解した溶液を加え、室温で
３０分撹拌した防曇性塗膜溶液をディップコート法によ
り厚さ１ｍｍのガラス（白板ガラス）のフィルターに塗
装し、１５０℃で１５分間、乾燥・硬化させた。
【０１２３】膜厚４μｍを吸収層を両面に形成した後、
実施例３と異なり、２２．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド［Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ
7 ］を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ
ＨＣｌ０．５０ｇと水１．７５ｇを１０ｇのｉ−プロ
パノール中に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブ
チルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水
分解率を０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸
水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により
引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０
℃で５分間で焼成して第１の高屈折層を形成した。
実施例３と異なり、２２．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド［Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ
7 ］を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、２Ｎ
ＨＣｌ０．５０ｇと水１．７５ｇを１０ｇのｉ−プロ
パノール中に溶かし、溶液を更に１００ｇの酢酸イソブ
チルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌し、加水
分解率を０．７５に調整した高屈折層形成溶液に上記吸
水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により
引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０
℃で５分間で焼成して第１の高屈折層を形成した。
【０１２４】そして、上記防曇性塗膜溶液をメタノール
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第１の高屈折層上にディップコー
ト法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１
０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸
水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により
引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０
℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成した。
・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、粘度４ｃｐ
に調整した溶液を上記第１の高屈折層上にディップコー
ト法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成して１
０ｎｍの膜厚に調整し、又、高屈折層形成溶液に上記吸
水層を３６０秒間浸漬した後、ディップコート法により
引き上げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０
℃で５分間で焼成して第２の高屈折層を形成した。
【０１２５】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液を
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１０５ｎｍの膜厚に調整した。
メタノール・水を１：１の割合で混ぜた溶液で希釈し、
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記高屈折層上にディッ
プコート法により塗布した後、１５０℃で５分間で焼成
して１０５ｎｍの膜厚に調整した。
【０１２６】膜構成の解析結果を１番目と２番目の酸化
チタン層が１０ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の混
在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚
は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸水
膜＝１１：８９となっている（表２）。
チタン層が１０ｎｍで酸化チタンと１番目の吸水膜の混
在層の膜厚は２０ｎｍ、２番目の吸水膜の混在層の膜厚
は１０ｎｍとなり、混在比は両方とも酸化チタン：吸水
膜＝１１：８９となっている（表２）。
【０１２７】防曇特性は、
１．防曇特性は室温（３０℃、８０％）の雰囲気中で息
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
をかけて曇りを見る。 ２．５℃から室温（３０℃、８０％）に出しても曇りを
見る。 で評価した。
【０１２８】上記サンプルは防曇特性は室温（３０℃、
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
８０％）の雰囲気中で息をかけて曇る。５℃から室温
（３０℃、８０％）に出しても３秒後に曇る。
【０１２９】反射防止性能は反射率が最低となる５００
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．００７程にな
り、３０３％程度の反射防止特性を有する。
ｎｍの波長付近の光に対して反射率が０．００７程にな
り、３０３％程度の反射防止特性を有する。
【０１３０】チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
−ｉｓｏ−Ｐｒ）4 Ｐｒ：Ｃ3 Ｈ7］／酢酸イソブチル
溶液は使用後、７日過ぎた後も溶液の劣化（白濁、黄変
等）はなかった。
【０１３１】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、光学物品の基材上に吸水性高分子を主成分とす
る第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層と、吸
水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、前記高
屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のついた基材
を浸漬し、コートした後、焼成することにより形成さ
れ、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸漬により
高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層
との混在層により成る防曇反射防止光学物品において、
前記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の１
組を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の整
数）積層するようにしたため、防曇効果と反射防止効果
を兼ね備えた防曇反射防止光学物品を得ることができ
る。
よれば、光学物品の基材上に吸水性高分子を主成分とす
る第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層と、吸
水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、前記高
屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のついた基材
を浸漬し、コートした後、焼成することにより形成さ
れ、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸漬により
高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層
との混在層により成る防曇反射防止光学物品において、
前記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の１
組を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の整
数）積層するようにしたため、防曇効果と反射防止効果
を兼ね備えた防曇反射防止光学物品を得ることができ
る。
【表１】
【表２】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2K009 AA03 BB02 CC03 CC22 DD02
DD06 EE02
4F100 AA17C AA17D AA21C AA21D
AA27 AG00 AK01B AK01E
AK21 AR00B AR00E AT00A
BA05 BA07 BA10A BA10E
BA13 EH46 EJ48 GB56 GB90
JA20C JA20D JD15B JD15D
JD15E JN06 JN18C JN18D
JN30 YY00C YY00D
4G059 AA11 AC21 EA01 EA04 EA18
EB07 FA13 FA25 FA28 FB06
GA02 GA04 GA16
Claims (8)
- 【請求項１】 光学物品の基材上に吸水性高分子を主成
分とする第１の吸水膜と、その外層に位置する高屈折層
と、吸水性高分子を主成分とする第２の吸水膜を有し、
前記高屈折層が、金属アルコキシド溶液に吸水膜のつい
た基材を浸潰し、コートした後、焼成することにより形
成され、前記吸水膜の金属アルコキシド溶液への浸潰に
より高屈折層の構成が金属酸化物の層と金属酸化物と吸
水層の混在層により成る防曇反射防止光学物品におい
て、 前記金属酸化物の層と金属酸化物と吸水層の混在層の１
組を１単位の高屈折層とし、ｎ単位（ｎは２以上の整
数）積層することを特徴とする防曇反射防止光学物品。 - 【請求項２】 前記高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数
をｋとした場合、（ｋ−１）番目の金属酸化物の層とｋ
番目の金属酸化物の層と金属酸化物と吸水屑の混在屑の
膜厚が５ｎｍ〜５５ｎｍであることを特徴とする請求項
１記載の防曇反射防止光学物品。 - 【請求項３】 前記金属酸化物と吸水層の混在層にお
いて金属酸化物と吸水屑の混合比率が１：４以下である
ことを特徴とする請求項１又は２記載の防曇反射防止光
学物品。 - 【請求項４】 前記金属酸化物の層の膜厚が２ｎｍ〜８
ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記
載の防曇反射防止光学物品。 - 【請求項５】 前記金属アルコキシドがチタンテトライ
ソプロポキシドであり、金属酸化物が酸化チタンである
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の防曇反
射防止光学物品。 - 【請求項６】 前記高屈折層においてｎ≧ｋ＞１の整数
をｋとした場合、（ｋ−１）番目の酸化チタンの層とｋ
番目の酸化チタンの層と酸化チタンと吸水層の混在層の
膜厚が５ｎｍ〜５５ｎｍであることを特徴とする請求項
５記載の防曇反射防止光学物品。 - 【請求項７】 前記酸化チタンと吸水層の混在層におい
て酸化チタンと吸水層の混合比率が１：４以下であるこ
とを特徴とする請求項５又は６記載の防曇反射防止光学
物品。 - 【請求項８】 前記酸化チタンの層の膜厚が２ｎｍ〜８
ｎｍであることを特徴とする請求項５〜７の何れかに記
載の防曇反射防止光学物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236533A JP2003043206A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 防曇反射防止光学物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236533A JP2003043206A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 防曇反射防止光学物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043206A true JP2003043206A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19067780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001236533A Withdrawn JP2003043206A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 防曇反射防止光学物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003043206A (ja) |
-
2001
- 2001-08-03 JP JP2001236533A patent/JP2003043206A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060201 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081007 |