JP2003043198A - Ｘ線発生方法及びその装置 - Google Patents
Ｘ線発生方法及びその装置Info
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- JP2003043198A JP2003043198A JP2001232038A JP2001232038A JP2003043198A JP 2003043198 A JP2003043198 A JP 2003043198A JP 2001232038 A JP2001232038 A JP 2001232038A JP 2001232038 A JP2001232038 A JP 2001232038A JP 2003043198 A JP2003043198 A JP 2003043198A
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- rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液体をターゲットとして空気中でレーザーを
集光照射することによりプラズマを発生させ連続Ｘ線を
発生させることができるＸ線発生方法およびその装置を
提供する。 【解決手段】 ＣｓＣｌ，ＲｂＣｌなどの高濃度電解質
水溶液をポンプ２で循環させ、ガラスノズル３によりジ
ェット状に噴出させたその高濃度電解質水溶液膜表面に
フェムト秒レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集
光照射することによりパルスＸ線を発生させることがで
きる。
集光照射することによりプラズマを発生させ連続Ｘ線を
発生させることができるＸ線発生方法およびその装置を
提供する。 【解決手段】 ＣｓＣｌ，ＲｂＣｌなどの高濃度電解質
水溶液をポンプ２で循環させ、ガラスノズル３によりジ
ェット状に噴出させたその高濃度電解質水溶液膜表面に
フェムト秒レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集
光照射することによりパルスＸ線を発生させることがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線発生方法及び
その装置に係り、特に、液体をターゲットとしてレーザ
ーを照射することにより発生するプラズマからのＸ線発
生方法及びその装置に関するものである。
その装置に係り、特に、液体をターゲットとしてレーザ
ーを照射することにより発生するプラズマからのＸ線発
生方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】パルスＸ線の物理化学への展開を考える
上で、光源の汎用化小型化は必須であるが、従来のパル
スＸ線発生の場合は、いずれも真空チャンバー内にある
金属箔や希ガスジェットをターゲットとする手法であっ
た。本願発明者らはこれらに代わり大気圧下で利用可能
なパルスＸ線光源の開発及びその利用をめざして実験を
行っている。
上で、光源の汎用化小型化は必須であるが、従来のパル
スＸ線発生の場合は、いずれも真空チャンバー内にある
金属箔や希ガスジェットをターゲットとする手法であっ
た。本願発明者らはこれらに代わり大気圧下で利用可能
なパルスＸ線光源の開発及びその利用をめざして実験を
行っている。
【０００３】既に光励起型Ｘ線管とレーザーにより発生
させたピコ秒パルスＸ線を励起光とした時の有機分子固
体の蛍光挙動に関して、Ｘ線励起に特徴的な元素依存性
を見い出している〔畑中他、光化学討論会２０００講演
要旨集、２Ａ２９（札幌２０００）〕。
させたピコ秒パルスＸ線を励起光とした時の有機分子固
体の蛍光挙動に関して、Ｘ線励起に特徴的な元素依存性
を見い出している〔畑中他、光化学討論会２０００講演
要旨集、２Ａ２９（札幌２０００）〕。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
のＸ線発生装置には真空系が付随していたり、真空封入
の状態で使用されることになり、真空環境が不可欠であ
った。
のＸ線発生装置には真空系が付随していたり、真空封入
の状態で使用されることになり、真空環境が不可欠であ
った。
【０００５】従来の固体をターゲットとするレーザープ
ラズマからのＸ線発生では、アブレーション現象のため
に長時間の安定なＸ線の発生ができなかった。また、タ
ーゲットの再利用も不可能であった。
ラズマからのＸ線発生では、アブレーション現象のため
に長時間の安定なＸ線の発生ができなかった。また、タ
ーゲットの再利用も不可能であった。
【０００６】本発明は、上記状況に鑑みて、液体をター
ゲットとして空気中でレーザーを集光照射することによ
りプラズマを発生させ連続Ｘ線を発生させることができ
るＸ線発生方法及びその装置を提供することを目的とす
る。
ゲットとして空気中でレーザーを集光照射することによ
りプラズマを発生させ連続Ｘ線を発生させることができ
るＸ線発生方法及びその装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔１〕Ｘ線発生方法において、大気中で電解質水溶液の
流れを作り、これにレーザー光を集光照射して前記電解
質水溶液中にプラズマを発生させ、おもに電子軌道がイ
オン核で曲げられる際のエネルギー損失による制動輻射
として連続Ｘ線を発生させることを特徴とする。
成するために、 〔１〕Ｘ線発生方法において、大気中で電解質水溶液の
流れを作り、これにレーザー光を集光照射して前記電解
質水溶液中にプラズマを発生させ、おもに電子軌道がイ
オン核で曲げられる際のエネルギー損失による制動輻射
として連続Ｘ線を発生させることを特徴とする。
【０００８】〔２〕上記〔１〕記載のＸ線発生方法にお
いて、レーザー光の強度を変化させることにより、Ｘ線
の発光強度を変えることを特徴とする。
いて、レーザー光の強度を変化させることにより、Ｘ線
の発光強度を変えることを特徴とする。
【０００９】〔３〕上記〔１〕記載のＸ線発生方法にお
いて、前記電解質水溶液の種類を変化させることによ
り、Ｘ線のスペクトル形状を変えることを特徴とする。
いて、前記電解質水溶液の種類を変化させることによ
り、Ｘ線のスペクトル形状を変えることを特徴とする。
【００１０】〔４〕上記〔１〕記載のＸ線発生方法にお
いて、前記電解質水溶液の濃度を変化させることによ
り、Ｘ線の発光強度ならびにスペクトル形状を変えるこ
とを特徴とする。
いて、前記電解質水溶液の濃度を変化させることによ
り、Ｘ線の発光強度ならびにスペクトル形状を変えるこ
とを特徴とする。
【００１１】〔５〕Ｘ線発生装置において、大気中で電
解質水溶液の流れを供給する手段と、前記電解質水溶液
の流れにレーザー光を集光照射する手段と、前記電解質
水溶液中にプラズマを発生させ、おもに電子軌道がイオ
ン核で曲げられる際のエネルギー損失による制動輻射と
して連続Ｘ線を発生させる手段とを具備することを特徴
とする。
解質水溶液の流れを供給する手段と、前記電解質水溶液
の流れにレーザー光を集光照射する手段と、前記電解質
水溶液中にプラズマを発生させ、おもに電子軌道がイオ
ン核で曲げられる際のエネルギー損失による制動輻射と
して連続Ｘ線を発生させる手段とを具備することを特徴
とする。
【００１２】〔６〕上記〔５〕記載のＸ線発生装置にお
いて、前記電解質水溶液がＣｓＣｌ、ＲｂＣｌであるこ
とを特徴とする。
いて、前記電解質水溶液がＣｓＣｌ、ＲｂＣｌであるこ
とを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明の実施例を示すＸ線発生装置
の模式図である。
の模式図である。
【００１５】この図において、１は電解質水溶液を入れ
る容器、２はその電解質水溶液を汲み上げるポンプ、３
はガラスノズル、４は溶液ジェット膜、５は電解質水溶
液を回収する漏斗、６はフェムト秒レーザーパルス（Ｃ
ｌａｒｋ ＭＸＲ.,ＣＰＡ−２００１）、１３０ｆｓ，
７７５ｎｍ，１ｋＨｚ，＜１ｍＪ／ｐｕｌｓｅ、７は対
物レンズ（ミツトヨＭ Ｐｌａｎ Ａｐｏ １０），Ｎ
Ａ＝０．２８、８はＧｅエネルギー分析器（ＥＧ＆Ｇ
Ｏｒｔｅｃ、ＧＬＰ−２５４４０−Ｓ、感度領域３ｋｅ
Ｖ以上）、９はコンピュータ、１０はＸ線イメージイン
テンシファイアー（浜松ホトニクス，Ｖ７７３９Ｐ）、
１１はＣＣＤカメラ（ソニー ＸＣ−７５００）、１２
はストリークカメラ（浜松ホトニクス，Ｃ２８３０）で
ある。
る容器、２はその電解質水溶液を汲み上げるポンプ、３
はガラスノズル、４は溶液ジェット膜、５は電解質水溶
液を回収する漏斗、６はフェムト秒レーザーパルス（Ｃ
ｌａｒｋ ＭＸＲ.,ＣＰＡ−２００１）、１３０ｆｓ，
７７５ｎｍ，１ｋＨｚ，＜１ｍＪ／ｐｕｌｓｅ、７は対
物レンズ（ミツトヨＭ Ｐｌａｎ Ａｐｏ １０），Ｎ
Ａ＝０．２８、８はＧｅエネルギー分析器（ＥＧ＆Ｇ
Ｏｒｔｅｃ、ＧＬＰ−２５４４０−Ｓ、感度領域３ｋｅ
Ｖ以上）、９はコンピュータ、１０はＸ線イメージイン
テンシファイアー（浜松ホトニクス，Ｖ７７３９Ｐ）、
１１はＣＣＤカメラ（ソニー ＸＣ−７５００）、１２
はストリークカメラ（浜松ホトニクス，Ｃ２８３０）で
ある。
【００１６】このように構成したＸ線発生装置を用い
て、ＣｓＣｌ，ＲｂＣｌなどの高濃度電解質水溶液をポ
ンプ２で循環させ、ガラスノズル３によりジェット状に
噴出させたその高濃度電解質水溶液膜表面にフェムト秒
レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集光照射する
ことによりパルスＸ線を発生させた。
て、ＣｓＣｌ，ＲｂＣｌなどの高濃度電解質水溶液をポ
ンプ２で循環させ、ガラスノズル３によりジェット状に
噴出させたその高濃度電解質水溶液膜表面にフェムト秒
レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集光照射する
ことによりパルスＸ線を発生させた。
【００１７】そこで、発生するパルスＸ線のエネルギー
スペクトルをＧｅエネルギー分析器８により測定したと
ころ、およそ４０ｋｅＶ以下のＸ線が発生していること
がすでに明らかとなっている。
スペクトルをＧｅエネルギー分析器８により測定したと
ころ、およそ４０ｋｅＶ以下のＸ線が発生していること
がすでに明らかとなっている。
【００１８】また、上記した電解質水溶液表面にフェム
ト秒レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集光照射
することにより、パルスＸ線を発生させ、そのパルスＸ
線のイメージをＸ線イメージインテンシファイアー１０
により撮影するとともに、ストリークカメラ１２により
可視・紫外光領域においてピコ秒時間分解発光分光測定
を行った。
ト秒レーザーパルス６を対物レンズ７を介して集光照射
することにより、パルスＸ線を発生させ、そのパルスＸ
線のイメージをＸ線イメージインテンシファイアー１０
により撮影するとともに、ストリークカメラ１２により
可視・紫外光領域においてピコ秒時間分解発光分光測定
を行った。
【００１９】この実施例によれば、大気中でのＸ線発生
を可能にするとともに、水溶液をポンプで循環すること
で常に清浄なターゲット表面を供給することができ、ま
た用いる水溶液も繰り返し利用することが可能となるこ
とで、長時間の安定なＸ線の発生が可能となった。
を可能にするとともに、水溶液をポンプで循環すること
で常に清浄なターゲット表面を供給することができ、ま
た用いる水溶液も繰り返し利用することが可能となるこ
とで、長時間の安定なＸ線の発生が可能となった。
【００２０】図２は本発明の実施結果を示す電解質の水
溶液面で発生するパルスＸ線の光源像ならびにストリー
ク像である。
溶液面で発生するパルスＸ線の光源像ならびにストリー
ク像である。
【００２１】図２（ａ）は低濃度の塩化鉄などの水溶液
の場合、図２（ｂ）は高濃度の塩化鉄などの水溶液の場
合、図２（ｃ）は波長に対する経過時間特性図である。
の場合、図２（ｂ）は高濃度の塩化鉄などの水溶液の場
合、図２（ｃ）は波長に対する経過時間特性図である。
【００２２】図２（ａ），図２（ｂ）から明らかなよう
に、電解質（塩化鉄など）の水溶液の濃度の増加に伴い
液面内部からのＸ線強度が低下しているが、これは金属
イオンなどによる再吸収がその原因と考えられる。ま
た、図２（ｃ）に示すように、発光挙動をみると、時間
の経過とともに発光ピーク波長が長波長側にシフトして
いくのが観測されている。これは制動放射に基づく発光
と考えられ、より早い時間域でＸ線が発生し、その後、
時間とともにプラズマ温度が低下していることを示唆す
る結果と考えられる。
に、電解質（塩化鉄など）の水溶液の濃度の増加に伴い
液面内部からのＸ線強度が低下しているが、これは金属
イオンなどによる再吸収がその原因と考えられる。ま
た、図２（ｃ）に示すように、発光挙動をみると、時間
の経過とともに発光ピーク波長が長波長側にシフトして
いくのが観測されている。これは制動放射に基づく発光
と考えられ、より早い時間域でＸ線が発生し、その後、
時間とともにプラズマ温度が低下していることを示唆す
る結果と考えられる。
【００２３】図３は本発明のレーザ強度に依存するＸ線
放射スペクトルを示す図である。
放射スペクトルを示す図である。
【００２４】この図においては、溶液６．５ｍｏｌ／Ｌ
（ここで、Ｌはリットルを示している）において、レー
ザ強度をａ：０．４６ｍＪ／パルス、ｂ：０．４１ｍＪ
／パルス、ｃ：０．３６ｍＪ／パルス、ｄ：０．３３ｍ
Ｊ／パルスの場合のＸ線放射カウントを示しており、ａ
の場合は電子温度Ｔｅ＝７．４ｋｅＶ、ｂの場合は電子
温度Ｔｅ＝４．３ｋｅＶ、ｃの場合は電子温度Ｔｅ＝
３．０ｋｅＶ、ｄの場合は電子温度Ｔｅ＝２．４ｋｅＶ
となっている。なお、電子温度Ｔｅが高いと、全体平均
としての電子のエネルギーが高い。
（ここで、Ｌはリットルを示している）において、レー
ザ強度をａ：０．４６ｍＪ／パルス、ｂ：０．４１ｍＪ
／パルス、ｃ：０．３６ｍＪ／パルス、ｄ：０．３３ｍ
Ｊ／パルスの場合のＸ線放射カウントを示しており、ａ
の場合は電子温度Ｔｅ＝７．４ｋｅＶ、ｂの場合は電子
温度Ｔｅ＝４．３ｋｅＶ、ｃの場合は電子温度Ｔｅ＝
３．０ｋｅＶ、ｄの場合は電子温度Ｔｅ＝２．４ｋｅＶ
となっている。なお、電子温度Ｔｅが高いと、全体平均
としての電子のエネルギーが高い。
【００２５】この図から明らかなように、レーザー光の
強度を変化させることにより、Ｘ線エネルギーの強度を
変えることができることがわかる。
強度を変化させることにより、Ｘ線エネルギーの強度を
変えることができることがわかる。
【００２６】図４は本発明の陽イオンＺ番号に依存する
Ｘ線放射スペクトルを示す図である。
Ｘ線放射スペクトルを示す図である。
【００２７】この図において、ａはＣｓＣｌの３．３ｍ
ｏｌ／Ｌ、ｂはＲｂＣｌの４．１ｍｏｌ／ＬでのＸ線強
度を示している。
ｏｌ／Ｌ、ｂはＲｂＣｌの４．１ｍｏｌ／ＬでのＸ線強
度を示している。
【００２８】この図から明らかなように、電解質水溶液
の種類を変化させることにより、Ｘ線エネルギーの強度
を変えることができることがわかる。
の種類を変化させることにより、Ｘ線エネルギーの強度
を変えることができることがわかる。
【００２９】図５は本発明の溶液の濃度に依存するＸ線
放射スペクトルを示す図である。
放射スペクトルを示す図である。
【００３０】この図において、ＣｓＣｌの濃度、つま
り、ａはＣｓＣｌ６．５ｍｏｌ／Ｌ，ｂは３．３ｍｏｌ
／Ｌに対するＸ線強度を示している。
り、ａはＣｓＣｌ６．５ｍｏｌ／Ｌ，ｂは３．３ｍｏｌ
／Ｌに対するＸ線強度を示している。
【００３１】この図から明らかなように、ＣｓＣｌ溶液
の濃度が高いとＸ線放射スペクトルは高く、ＣｓＣｌ溶
液の濃度が低いとＸ線放射スペクトルは低いことがわか
る。つまり、溶液の濃度を変化させると、Ｘ線エネルギ
ーの強度を変えることができることがわかる。
の濃度が高いとＸ線放射スペクトルは高く、ＣｓＣｌ溶
液の濃度が低いとＸ線放射スペクトルは低いことがわか
る。つまり、溶液の濃度を変化させると、Ｘ線エネルギ
ーの強度を変えることができることがわかる。
【００３２】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００３３】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、以下のような効果を奏することができる。
よれば、以下のような効果を奏することができる。
【００３４】（Ａ）大気中でのＸ線発生を可能にすると
ともに、長時間安定なパルスＸ線を供給することが可能
となることから、時間分解Ｘ線回析法など、時間を要す
る測定法のための光源として利用が考えられ、材料開発
や生物科学の分野に多大な貢献をすることができる。
ともに、長時間安定なパルスＸ線を供給することが可能
となることから、時間分解Ｘ線回析法など、時間を要す
る測定法のための光源として利用が考えられ、材料開発
や生物科学の分野に多大な貢献をすることができる。
【００３５】（Ｂ）３−４０ｋｅＶ程度の白色Ｘ線が得
られる。なお、従来のＸ線発生方法では特性Ｘ線ピーク
が混在するが、本発明では特性Ｘ線ピークが混在しない
エネルギー域で連続（白色）Ｘ線を得ることができる。
られる。なお、従来のＸ線発生方法では特性Ｘ線ピーク
が混在するが、本発明では特性Ｘ線ピークが混在しない
エネルギー域で連続（白色）Ｘ線を得ることができる。
【００３６】（Ｃ）点光源を得ることができる。
【００３７】（Ｄ）ターゲットの劣化が無視できる。
【００３８】（Ｅ）Ｘ線発生強度の時間安定性が高い。
【図１】本発明の実施例を示すＸ線発生装置の模式図で
ある。
ある。
【図２】本発明の実施結果を示す電解質の水溶液面で発
生するパルスＸ線の光源像ならびにストリーク像であ
る。
生するパルスＸ線の光源像ならびにストリーク像であ
る。
【図３】本発明のレーザ強度に依存するＸ線発光スペク
トルを示す図である。
トルを示す図である。
【図４】本発明の陽イオンＺ番号に依存するＸ線発光ス
ペクトルを示す図である。
ペクトルを示す図である。
【図５】本発明の溶液の濃度に依存するＸ線発光スペク
トルを示す図である。
トルを示す図である。
１ 電解質水溶液を入れる容器
２ ポンプ
３ ガラスノズル
４ 溶液ジェット膜
５ 電解質水溶液を回収する漏斗
６ フェムト秒レーザーパルス
７ 対物レンズ
８ Ｇｅ エネルギー分析器
９ コンピュータ
１０ Ｘ線イメージインテンシファイアー
１１ ＣＣＤカメラ
１２ ストリークカメラ
Claims (6)
- 【請求項１】 大気中で電解質水溶液の流れを作り、こ
れにレーザー光を集光照射して前記電解質水溶液中にプ
ラズマを発生させ、おもに電子軌道がイオン核で曲げら
れる際のエネルギー損失による制動輻射として連続Ｘ線
を発生させることを特徴とするＸ線発生方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線発生方法において、
レーザー光の強度を変化させることにより、Ｘ線の発光
強度を変えることを特徴とするＸ線発生方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のＸ線発生方法において、
前記電解質水溶液の種類を変化させることにより、Ｘ線
のスペクトル形状を変えることを特徴とするＸ線発生方
法。 - 【請求項４】 請求項１記載のＸ線発生方法において、
前記電解質水溶液の濃度を変化させることにより、Ｘ線
の発光強度ならびにスペクトル形状を変えることを特徴
とするＸ線発生方法。 - 【請求項５】（ａ）大気中で電解質水溶液の流れを供給
する手段と、（ｂ）前記電解質水溶液の流れにレーザー
光を集光照射する手段と、（ｃ）前記電解質水溶液中に
プラズマを発生させ、おもに電子軌道がイオン核で曲げ
られる際のエネルギー損失による制動輻射として連続Ｘ
線を発生させる手段とを具備することを特徴とするＸ線
発生装置。 - 【請求項６】 請求項５記載のＸ線発生装置において、
前記電解質水溶液がＣｓＣｌ、ＲｂＣｌであることを特
徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001232038A JP3866063B2 (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | Ｘ線発生方法及びその装置 |
| CA002452815A CA2452815A1 (en) | 2001-07-31 | 2002-03-14 | Method and apparatus for generating x-rays |
| PCT/JP2002/002413 WO2003013197A1 (en) | 2001-07-31 | 2002-03-14 | Method and apparatus for generating x-ray |
| US10/480,258 US7023961B2 (en) | 2001-07-31 | 2002-03-14 | Method and apparatus for generating X-ray |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001232038A JP3866063B2 (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | Ｘ線発生方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043198A true JP2003043198A (ja) | 2003-02-13 |
| JP3866063B2 JP3866063B2 (ja) | 2007-01-10 |
Family
ID=19064013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001232038A Expired - Fee Related JP3866063B2 (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | Ｘ線発生方法及びその装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7023961B2 (ja) |
| JP (1) | JP3866063B2 (ja) |
| CA (1) | CA2452815A1 (ja) |
| WO (1) | WO2003013197A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006527469A (ja) * | 2003-06-11 | 2006-11-30 | マックス プランク ゲゼルシャフト ツゥアー フェデルゥン デル ヴィッセンシャフテン エー フォー | シート状のターゲット材を用いたプラズマによるｘ線発生 |
| KR100759023B1 (ko) * | 2003-03-06 | 2007-09-17 | 한국과학기술원 | 고차 조화파 엑스선 발생장치 및 방법, 그리고 고차조화파 엑스선을 이용한 바늘구멍 에돌이 간섭계 |
| US7492867B1 (en) * | 1999-10-11 | 2009-02-17 | University Of Central Flordia Research Foundation, Inc. | Nanoparticle seeded short-wavelength discharge lamps |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100207038A1 (en) * | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Loughborough University | Apparatus and method for laser irradiation |
| HUP1000635A2 (en) * | 2010-11-26 | 2012-05-29 | Ge Hungary Kft | Liquid anode x-ray source |
| DE102014006063A1 (de) * | 2014-04-25 | 2015-10-29 | Microliquids GmbH | Strahlerzeugungsvorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Flüssigkeitsstrahls |
| DE102014226813A1 (de) * | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Siemens Aktiengesellschaft | Metallstrahlröntgenröhre |
| US11324103B2 (en) * | 2016-12-27 | 2022-05-03 | Research Instruments Corporation | Modular laser-produced plasma X-ray system |
| CN110859019B (zh) * | 2018-08-22 | 2021-08-24 | 中国科学院物理研究所 | 波荡器及包括其的激光等离子体x射线源 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02267895A (ja) | 1989-04-08 | 1990-11-01 | Seiko Epson Corp | Ｘ線発生装置 |
| JPH04110800A (ja) | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Shimadzu Corp | 標的物質の供給装置 |
| US5459771A (en) * | 1994-04-01 | 1995-10-17 | University Of Central Florida | Water laser plasma x-ray point source and apparatus |
| US6307913B1 (en) * | 1998-10-27 | 2001-10-23 | Jmar Research, Inc. | Shaped source of soft x-ray, extreme ultraviolet and ultraviolet radiation |
| US6831963B2 (en) * | 2000-10-20 | 2004-12-14 | University Of Central Florida | EUV, XUV, and X-Ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions |
-
2001
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7492867B1 (en) * | 1999-10-11 | 2009-02-17 | University Of Central Flordia Research Foundation, Inc. | Nanoparticle seeded short-wavelength discharge lamps |
| KR100759023B1 (ko) * | 2003-03-06 | 2007-09-17 | 한국과학기술원 | 고차 조화파 엑스선 발생장치 및 방법, 그리고 고차조화파 엑스선을 이용한 바늘구멍 에돌이 간섭계 |
| JP2006527469A (ja) * | 2003-06-11 | 2006-11-30 | マックス プランク ゲゼルシャフト ツゥアー フェデルゥン デル ヴィッセンシャフテン エー フォー | シート状のターゲット材を用いたプラズマによるｘ線発生 |
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