JP2006170854A - 試料分析方法及び試料分析装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 照射するレーザ光についての光吸収率が比較的低い試料に対しても効率良くレーザアブレートすることができる試料分析方法を提供する。
【解決手段】 この試料分析方法によれば、レーザ光Lについての光吸収率が試料10より高い材料からなる膜20を試料10の一表面に形成するため、その膜20にレーザ光Lを照射することで、レーザ光Lの吸収率を高くすることができる。このとき、吸収されたレーザ光Lのエネルギは熱に変換され、その熱が試料10に伝わって試料10がレーザアブレートされるので、レーザ光Lについての光吸収率が比較的低い試料10に対しても効率良くレーザアブレートすることが可能になる。
【選択図】 図2
【解決手段】 この試料分析方法によれば、レーザ光Lについての光吸収率が試料10より高い材料からなる膜20を試料10の一表面に形成するため、その膜20にレーザ光Lを照射することで、レーザ光Lの吸収率を高くすることができる。このとき、吸収されたレーザ光Lのエネルギは熱に変換され、その熱が試料10に伝わって試料10がレーザアブレートされるので、レーザ光Lについての光吸収率が比較的低い試料10に対しても効率良くレーザアブレートすることが可能になる。
【選択図】 図2
Description
本発明は、レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化し、その試料の一部を分析する試料分析方法及び試料分析装置に関するものである。
従来の試料分析方法として、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化し、微粒子化された試料の一部をキャリアガスによってICP質量分析装置等に送って分析する方法が一般的に知られている(例えば、特許文献1参照)。
ところが、このような試料分析方法にあっては、照射するレーザ光についての光吸収率が比較的低い試料に対しては、効率良くレーザアブレートすることが困難である。例えば、照射するレーザ光の波長が266nmの場合において、試料が石英又はフッ化カルシウムからなるときには、図6に示されるように、光透過率が90%を超えるため(つまり、光吸収率が低いため)、試料を効率良くレーザアブレートすることができない。
そこで、光吸収率を高くして試料を効率良くレーザアブレートするために、照射するレーザ光の波長を試料の材質に応じて変更したり、サンドブラスト等で試料のレーザ光照射面を梨地状にしたりする方法がある。
特開平11−201945号公報
しかしながら、照射するレーザ光の波長を試料の材質に応じて変更する方法には、レーザアブレーション装置の構造の複雑化が伴うという問題がある。
また、サンドブラスト等で試料のレーザ光照射面を梨地状にする方法には、次のような問題がある。すなわち、試料のレーザ光照射面に形成された凹凸によりレーザ光の焦点がレーザ光照射面に一致しないため、レーザ光の吸収率が変化して、レーザアブレートされる試料の量が変動し易い。更には、試料のレーザ光照射面に形成された凹凸にブラスト材等の不純物が残存し易い。これらにより、ICP質量分析装置等における試料の分析に悪影響が出るおそれがある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、上述したような問題の発生を防止して、照射するレーザ光についての光吸収率が比較的低い試料に対しても効率良くレーザアブレートすることができる試料分析方法及び試料分析装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る試料分析方法は、レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化し、その試料の一部を分析する試料分析方法であって、レーザ光についての光吸収率が試料より高い材料からなる膜を試料の表面に形成する工程と、膜にレーザ光を照射する工程とを含むことを特徴とする。
この試料分析方法によれば、照射するレーザ光についての光吸収率が試料より高い材料からなる膜を試料の表面に形成するため、その膜にレーザ光を照射することで、試料に直接レーザ光を照射する場合に比べてレーザ光の吸収率を高くすることができる。このとき、吸収されたレーザ光のエネルギは熱に変換され、その熱が試料に伝わって試料がレーザアブレートされるので、照射するレーザ光についての光吸収率が比較的低い試料に対しても効率良くレーザアブレートすることが可能になる。
なお、「試料をレーザアブレートする」とは、レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化(気化等を含む)することを意味する。
また、所定の物質を測定対象として試料の一部を分析する場合において、材料は、所定の物質と異なる物質により構成されることが好ましい。これにより、ICP質量分析装置等において、膜の材料による影響を受けずに所定の物質を正確に測定することが可能になる。
また、膜のレーザ光照射面の中心線平均粗さが1μm以下となるように膜を試料の表面に形成することが好ましい。このとき、膜のレーザ光照射面はほぼ平滑といえ、そのレーザ光照射面にはレーザ光の焦点が一致するため、レーザ光の吸収率の変化を防止して、レーザアブレートされる試料の量を安定化させることができる。これにより、ICP質量分析装置等においては、試料の導入安定性を高く維持することが可能になる。
なお、中心線平均粗さ(Ra)とは、JIS規格(JIS B 0601)によって規定されている表面粗さの1つである。
また、本発明に係る試料分析装置は、レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化し、その試料の一部を分析する試料分析装置であって、レーザ光についての光吸収率が試料より高い材料からなる膜を試料の表面に形成する膜形成室と、膜にレーザ光を照射する試料室とを備えることを特徴とする。
本発明に係る試料分析方法及び試料分析装置によれば、照射するレーザ光についての光吸収率が比較的低い試料に対しても効率良くレーザアブレートすることができる。
以下、本発明に係る試料分析方法及び試料分析装置の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明に係る試料分析装置の一実施形態の構成図である。同図に示されるように、試料分析装置1は、レーザ光Lの照射により試料10の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置2と、その微粒子化された試料10の一部をプラズマPでイオン化して質量分析を行うICP質量分析装置3とを具備している。
レーザアブレーション装置2は、試料10が導入される試料室4を備えており、試料室4内には、試料10が載置される試料台5が設けられている。この試料室4には、レーザアブレートされて微粒子化された試料10の一部を運ぶためのキャリアガス(例えば、アルゴンガス等)を試料室4内に導入する導入管6、及び試料室4外に導出する導出管7が接続されている。
また、レーザアブレーション装置2は、所定の波長でレーザ光Lを出射するレーザユニット8を備えている。このレーザユニット8から出射されたレーザ光Lは、ミラー9,11により反射されて波長変換素子12に入射する。この波長変換素子12により波長が半減されたレーザ光Lは、波長変換素子13により更に波長が半減される。その後、レーザ光Lは、ミラー14,15,16により反射されてレンズ17を通り、ビームスプリッタ18により反射されて試料室4内に入射する。
一例として、波長1064nmのレーザ光Lを出射するNd−YAGレーザをレーザユニット8が搭載しているものとする。このとき、波長1064nmのレーザ光Lは、波長変換素子12により波長532nmのレーザ光L(2次高調波)に変換され、この波長532nmのレーザ光Lは、波長変換素子13により波長266nmのレーザ光L(3次高調波)に変換される。このように、レーザ光Lを短波長にすることで、種々の試料10をレーザアブレートすることが可能になる。なお、試料室4内に入射するレーザ光Lの波長は190nm〜1000nmであることが一般的である。
更に、レーザアブレーション装置2は、試料室4内を観察するためのCCDカメラ19を備えている。このCCDカメラ19は、ビームスプリッタ18を介して、例えば、試料室4内においてレーザ光Lが照射されている部分を撮像する。
ICP質量分析装置3は、レーザアブレーション装置2の導出管7に接続された導入管21と、この導入管21を介してキャリアガスにより運ばれてきた試料10の一部をイオン化するためのプラズマPを発生させるプラズマトーチ22と、このプラズマトーチ22の先端部近傍に位置するイオン導入部23を有する質量分析部24とを備えている。
プラズマトーチ22は3重管構造となっており、このプラズマトーチ22には、導入管21からキャリアガスが導入され、管25からプラズマP形成用のプラズマガスが導入され、管26からプラズマトーチ22の壁面を冷却するためのクーラントガスが導入される。なお、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスには、例えばアルゴンガス等が用いられる。
プラズマトーチ22の先端側には、高周波電源に接続された高周波コイル27が設けられている。そして、この高周波コイル27に電圧が印加されると、プラズマトーチ22の先端側の内部にプラズマPが形成される。
質量分析部24のイオン導入部23は、プラズマトーチ22の先端に対向する導入孔28を有しており、この導入孔28を介して、プラズマPからの光やイオンが筐体29内に導入される。なお、導入孔28の直径は、例えば1mm程度である。
筐体29内は、真空ポンプ31,32によって真空引きされ、イオン導入部23側が低真空室、その反対側が高真空室というように、真空度が異なる二室に仕切られている。この筐体29内においては、プラズマPからの光とイオンとがイオンレンズ33により分離されてイオンのみが通過させられ、質量多重極部34で特定のイオンのみが取り出されて検出器35で検出される。
そして、検出器35の検出結果に基づいて質量分析が行われる。具体的には、1種類又は複数種類の所定の物質(元素や化合物等)を測定対象として当該質量分析が行われる。当該所定の物質は、試料10を構成する物質である場合だけでなく、試料10を構成する物質と異なる物質である場合もある。
次に、本発明に係る試料分析方法の一実施形態について、図2を参照して説明する。
図2(a)に示されるように、試料10は、一辺が2cm〜3cm程度の直方体状に形成されている。この試料10は、照射するレーザ光L(すなわち、試料室4内に入射するレーザ光L)についての光吸収率が比較的低い材料(例えば、石英又はフッ化カルシウム等)からなる。なお、円柱状等、直方体状以外の形状に試料10を形成してもよい。
続いて、図2(b)に示されるように、試料10の一表面に、レーザ光照射面20aの中心線平均粗さが1μm以下(より好ましくは0.5μm)となるように厚さ5μm程度の膜20を形成する。この膜20は、照射するレーザ光Lについての光吸収率が試料10より高く、且つICP質量分析装置3で測定対象となる所定の物質と異なる物質により構成される材料(例えば、有機材料、金又は白金等)からなる。なお、膜20の形成には、スパッタリング、めっき、CVD、PVD或いは塗布等、種々の方法を採用することができる。一例として、色付のマジックインキ(登録商標)で試料10の一表面を塗り潰すだけでもよい。
続いて、膜20が形成された試料10をレーザアブレーション装置2の試料室4内の試料台5上に配置し、図2(c)に示されるように、膜20のレーザ光照射面20aにレーザ光Lを照射する。これにより、膜20で吸収されたレーザ光Lのエネルギが熱に変換され、その熱が試料10に伝わって試料10がレーザアブレートされる。
このとき、試料室4内には、導入管6を介してキャリアガスが導入される。そのため、微粒子化された試料10の一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管7を介してICP質量分析装置3に送られる。そして、上述した所定の物質を測定対象として、ICP質量分析装置3において質量分析が行われる。
以上説明した試料分析方法によれば、照射するレーザ光Lについての光吸収率が試料10より高い材料からなる膜20を試料10の一表面に形成するため、その膜20にレーザ光Lを照射することで、試料10に直接レーザ光Lを照射する場合に比べてレーザ光Lの吸収率を高くすることができる。このとき、吸収されたレーザ光Lのエネルギは熱に変換され、その熱が試料10に伝わって試料10がレーザアブレートされるので、照射するレーザ光Lについての光吸収率が比較的低い試料10に対しても効率良くレーザアブレートすることが可能になる。
しかも、ICP質量分析装置3では、所定の物質を測定対象として質量分析が行われるが、膜20の材料は、当該所定の物質と異なる物質により構成されているため、膜20の材料による影響を受けずに当該所定の物質を正確に測定することができる。
そして、このような試料分析方法によれば、照射するレーザ光Lの波長を試料10の材質に応じて変更する必要がないため、レーザアブレーション装置2の構造が複雑化するのを防止することができる。また、サンドブラスト等で試料10のレーザ光照射面を梨地状にする必要もないため、試料10のレーザ光照射面に形成された凹凸によりレーザ光の焦点がレーザ光照射面に一致せず、レーザ光Lの吸収率が変化して、レーザアブレートされる試料10の量が変動したり、更には、試料10のレーザ光照射面に形成された凹凸にブラスト材等の不純物が残存したりして、ICP質量分析装置3における試料10の質量分析に悪影響が出ることも防止することができる。
また、膜20のレーザ光照射面20aの中心線平均粗さが1μm以下(より好ましくは0.5μm)となるように膜20を試料10の一表面に形成するので、膜20のレーザ光照射面20aはほぼ平滑といえる。これにより、レーザ光照射面20aにはレーザ光Lの焦点が一致するため、レーザ光Lの吸収率の変化を防止して、レーザアブレートされる試料10の量を安定化させることができる。これにより、ICP質量分析装置3においては、試料10の導入安定性を高く維持することが可能になる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
例えば、試料10の一表面に形成される膜20の厚さは、レーザ光Lの出力等を考慮し、試料10に対するレーザアブレーションの際に試料10が十分にレーザアブレートされる程度の厚さに適宜設定すればよい。
また、試料分析装置1においては、図3に示されるように、レーザアブレーション装置2に試料室4の前室として膜形成室40を設け、この膜形成室40内において試料10の一表面に膜20を形成するようにしてもよい。
具体的には、図3に示されるように、このレーザアブレーション装置2は、互いに隣接する試料室4と膜形成室40とを備えている。試料室4の上壁には、レーザ光Lを透過させるためのレーザ光透過部材41が設けられている。このレーザ光透過部材41は、レーザ光Lについて光透過性を有する材料(例えば、石英等)からなる。また、膜形成室40の側壁には、外部と膜形成室40内とを隔てることが可能な開閉扉42が設けられている。更に、互いに隣接する試料室4と膜形成室40との間の側壁には、試料室4内と膜形成室40内とを隔てることが可能な開閉扉43が設けられている。
以上のように構成されたレーザアブレーション装置2においては、次のように複数の試料10が順次レーザアブレートされる。
まず、図4(a)に示されるように、開閉扉42が開けられて、膜形成室40内に試料10が導入され、膜形成室40内に設けられた試料台44上に配置される。続いて、図4(b)に示されるように、開閉扉42が閉じられて、導入管45を介して膜形成室40内にパージガス(例えば、アルゴンガス等)が導入される。これにより、試料10が導入される際に膜形成室40内に流入した大気が導出管45を介して膜形成室40外に排出され、膜形成室40内はパージガスで満たされることになる。そして、膜形成室40内において、試料10の一表面に膜20が形成される。
その後、図5(a)に示されるように、開閉扉43が開けられて、キャリアガスで満たされた試料室4内に膜形成室40内から試料10が搬送手段(例えば、試料把持機構を備えたアーム等)により搬送され、試料室4内の試料台5上に試料10が配置される。このとき、開閉扉42は閉じられているため、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部4への大気の流入が防止されつつ、膜形成室40内から試料室4内に試料10が搬送されることになる。
続いて、図5(b)に示されるように、試料室4内において、試料10の一表面に形成された膜20にレーザ光Lが照射されて試料10がレーザアブレートされると共に、導入管6を介して試料室4内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料10の一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管7を介してICP質量分析装置3に送られる。
一方、試料10がレーザアブレートされている最中には、開閉扉42が開けられて、膜形成室40内に新たな次位の試料10が導入され、膜形成室40内の試料台44上に配置される。続いて、開閉扉42が閉じられて、導入管45を介して膜形成室40内にパージガスが導入され、膜形成室40内がパージガスで満たされる。そして、膜形成室40内において、試料10の一表面に膜20が形成される。
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料10が順次レーザアブレートされる。
1…試料分析装置、4…試料室、10…試料、20…膜、20a…レーザ光照射面、40…膜形成室、L…レーザ光。
Claims (4)
- レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化し、その試料の一部を分析する試料分析方法であって、
前記レーザ光についての光吸収率が前記試料より高い材料からなる膜を前記試料の表面に形成する工程と、
前記膜に前記レーザ光を照射する工程とを含むことを特徴とする試料分析方法。 - 所定の物質を測定対象として前記試料の一部を分析する場合において、前記材料は、前記所定の物質と異なる物質により構成されることを特徴とする請求項1記載の試料分析方法。
- 前記膜のレーザ光照射面の中心線平均粗さが1μm以下となるように前記膜を前記試料の表面に形成することを特徴とする請求項1又は2記載の試料分析方法。
- レーザ光の照射により試料の一部を微粒子化し、その試料の一部を分析する試料分析装置であって、
前記レーザ光についての光吸収率が前記試料より高い材料からなる膜を前記試料の表面に形成する膜形成室と、
前記膜に前記レーザ光を照射する試料室とを備えることを特徴とする試料分析装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009069816A1 (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | University Of Yamanashi | イオン化方法ならびにイオン化方法を利用した質量分析方法および装置 |
JP2018508752A (ja) * | 2014-12-31 | 2018-03-29 | フリューダイム カナダ インコーポレイテッド | マスサイトメトリーによる分析用の構造化生体試料 |
JP7402471B2 (ja) | 2020-02-07 | 2023-12-21 | 富士フイルム株式会社 | 標準試料膜、標準試料膜の製造方法、標準試料、試料セット、定量分析方法、転写フィルム |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200663A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-05 | Shimadzu Corp | 有機物質のイオン化方法及び装置 |
JPH10148605A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-06-02 | Nkk Corp | レーザ気化分析方法 |
JPH11201945A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Jeol Ltd | レーザーアブレーション装置 |
JP2002148157A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | 表面分析方法 |
JP2004258001A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-16 | Central Glass Co Ltd | 透明物質の熱伝導率測定方法および装置 |
-
2004
- 2004-12-16 JP JP2004364890A patent/JP2006170854A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200663A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-05 | Shimadzu Corp | 有機物質のイオン化方法及び装置 |
JPH10148605A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-06-02 | Nkk Corp | レーザ気化分析方法 |
JPH11201945A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Jeol Ltd | レーザーアブレーション装置 |
JP2002148157A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | 表面分析方法 |
JP2004258001A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-16 | Central Glass Co Ltd | 透明物質の熱伝導率測定方法および装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009069816A1 (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | University Of Yamanashi | イオン化方法ならびにイオン化方法を利用した質量分析方法および装置 |
JP4929498B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2012-05-09 | 国立大学法人山梨大学 | イオン化方法ならびにイオン化方法を利用した質量分析方法および装置 |
JP2018508752A (ja) * | 2014-12-31 | 2018-03-29 | フリューダイム カナダ インコーポレイテッド | マスサイトメトリーによる分析用の構造化生体試料 |
US10847357B2 (en) | 2014-12-31 | 2020-11-24 | Fluidigm Canada Inc. | Structured biological samples for analysis by mass cytometry |
JP7402471B2 (ja) | 2020-02-07 | 2023-12-21 | 富士フイルム株式会社 | 標準試料膜、標準試料膜の製造方法、標準試料、試料セット、定量分析方法、転写フィルム |
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