JP2003038514A - 超音波治療装置 - Google Patents
超音波治療装置Info
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- JP2003038514A JP2003038514A JP2001227759A JP2001227759A JP2003038514A JP 2003038514 A JP2003038514 A JP 2003038514A JP 2001227759 A JP2001227759 A JP 2001227759A JP 2001227759 A JP2001227759 A JP 2001227759A JP 2003038514 A JP2003038514 A JP 2003038514A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 治療部位から外れた正常な組織まで熱変性さ
せる不用な熱変性領域を作ることなく、安全で確実な治
療部位の熱変性部が得られるようにする。 【解決手段】 超音波照射体７から照射された反射波を
受波する超音波センサ９によって反射波の反射検出値に
基づき超音波照射体７の照射強度を順次弱めていき、反
射検出値が最終所定値に達した時、超音波照射体７の照
射を停止させることで、治療部位から外れた不用な熱変
性領域を作ることのない照射治療を行なう。
せる不用な熱変性領域を作ることなく、安全で確実な治
療部位の熱変性部が得られるようにする。 【解決手段】 超音波照射体７から照射された反射波を
受波する超音波センサ９によって反射波の反射検出値に
基づき超音波照射体７の照射強度を順次弱めていき、反
射検出値が最終所定値に達した時、超音波照射体７の照
射を停止させることで、治療部位から外れた不用な熱変
性領域を作ることのない照射治療を行なう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、生体内部に発生
した腫瘍等の照射治療に適する超音波治療装置に関す
る。
した腫瘍等の照射治療に適する超音波治療装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、生体内に発生した腫瘍等の治療部
位に対して超音波を照射し、その時に生じる発熱等の作
用を利用して治療を行なう超音波治療装置にあっては、
生体治療部の治療部位を特定する超音波プローブと、超
音波プローブによって特定された治療部位へ超音波を照
射する超音波照射体とを備えている。超音波照射体は、
焦点に向かって超音波が集められるよう断面円弧状に形
成される一方、その中央部位に前記超音波プローブが配
置された構造となっている。
位に対して超音波を照射し、その時に生じる発熱等の作
用を利用して治療を行なう超音波治療装置にあっては、
生体治療部の治療部位を特定する超音波プローブと、超
音波プローブによって特定された治療部位へ超音波を照
射する超音波照射体とを備えている。超音波照射体は、
焦点に向かって超音波が集められるよう断面円弧状に形
成される一方、その中央部位に前記超音波プローブが配
置された構造となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】超音波照射体は、体外
から体表面を通じて体内の治療部位へ超音波を照射する
ことで照射治療が行なわれるようになり、その説明図を
図４に示す。
から体表面を通じて体内の治療部位へ超音波を照射する
ことで照射治療が行なわれるようになり、その説明図を
図４に示す。
【０００４】即ち、超音波プローブ１０１によって特定
された治療部位１０３に対して超音波照射体１０５から
照射された超音波は焦点Ｐに集中し、熱変性１０７（点
々で示す）により照射治療が行なわれる。
された治療部位１０３に対して超音波照射体１０５から
照射された超音波は焦点Ｐに集中し、熱変性１０７（点
々で示す）により照射治療が行なわれる。
【０００５】超音波による照射治療は、体表面１０９か
ら治療部位１０３の焦点Ｐまで超音波が１００％確実に
透過することが臨まれるが、照射された超音波は治療部
位１０３へ向かう外に、矢印で示すように超音波照射体
１０５へ戻る反射波があり、この反射波は照射効率の悪
化を招く要因となっている。
ら治療部位１０３の焦点Ｐまで超音波が１００％確実に
透過することが臨まれるが、照射された超音波は治療部
位１０３へ向かう外に、矢印で示すように超音波照射体
１０５へ戻る反射波があり、この反射波は照射効率の悪
化を招く要因となっている。
【０００６】反射波が発生する要因としては、例えば、
腫瘍等の異組織と正常組織との境界、生体内の水分が超
音波の照射によって生じるキャビテーション等の気泡、
超音波照射体によって熱変性した部分がある。
腫瘍等の異組織と正常組織との境界、生体内の水分が超
音波の照射によって生じるキャビテーション等の気泡、
超音波照射体によって熱変性した部分がある。
【０００７】この内、特に重要となる熱変性による反射
であるが、図４点々で示すように熱変性部１０７が円で
示した正規の治療部位１０３にある時、大きな反射は起
こらず照射治療に何等悪影響は起きない。
であるが、図４点々で示すように熱変性部１０７が円で
示した正規の治療部位１０３にある時、大きな反射は起
こらず照射治療に何等悪影響は起きない。
【０００８】しかしながら、例えば、照射強度が強すぎ
たり、あるいは、治療部位１０３の超音波吸収特性が予
測よりも大きくなると、焦点Ｐから照射方向となる体表
面１０９へ向かって斜線で示すように治療部位１０３か
ら外れた熱変性領域１１１が広がるようになり、熱変性
していない周囲組織との境界で反射量が大きくなる特性
を示す。
たり、あるいは、治療部位１０３の超音波吸収特性が予
測よりも大きくなると、焦点Ｐから照射方向となる体表
面１０９へ向かって斜線で示すように治療部位１０３か
ら外れた熱変性領域１１１が広がるようになり、熱変性
していない周囲組織との境界で反射量が大きくなる特性
を示す。
【０００９】治療部位１０３から外れた熱変性領域１１
１が一旦発生すると、反射量及び透過時のエネルギー吸
収等によって焦点Ｐに届く超音波強度が小さくなって焦
点Ｐでの熱変性はほとんど進まなくなる。逆に熱変性領
域１１１での超音波吸収特性が進み、さらに熱変性領域
１１１が広がり正常組織まで熱変性させる結果となるた
め、照射を停止する手段を採っているのが現状である。
１が一旦発生すると、反射量及び透過時のエネルギー吸
収等によって焦点Ｐに届く超音波強度が小さくなって焦
点Ｐでの熱変性はほとんど進まなくなる。逆に熱変性領
域１１１での超音波吸収特性が進み、さらに熱変性領域
１１１が広がり正常組織まで熱変性させる結果となるた
め、照射を停止する手段を採っているのが現状である。
【００１０】この場合、照射の停止により、焦点Ｐから
照射方向へ向かって熱変性領域１１１が広がる拡大が避
けられても、必要な焦点Ｐでの熱変性が得られない問題
が残る。
照射方向へ向かって熱変性領域１１１が広がる拡大が避
けられても、必要な焦点Ｐでの熱変性が得られない問題
が残る。
【００１１】この問題の解消を図るために、例えば、一
旦熱変性した部分を避けて、別の角度から照射をするこ
とが考えられるが、構造が複雑になることと、コストア
ップにつながる等の新たな問題を招くようになる。
旦熱変性した部分を避けて、別の角度から照射をするこ
とが考えられるが、構造が複雑になることと、コストア
ップにつながる等の新たな問題を招くようになる。
【００１２】そこで、この発明は、構造の複雑化、コス
トアップを招くことなく安全で確実な照射治療が行なえ
るようにした超音波治療装置を提供することにある。
トアップを招くことなく安全で確実な照射治療が行なえ
るようにした超音波治療装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明の請求項１にあっては、生体治療部の治療
部位を特定する超音波プローブと、超音波プローブによ
って特定された治療部位に対して照射治療用の超音波を
照射する超音波照射体と、その超音波照射体から生体治
療部へ向け照射した超音波の反射波を受波する超音波セ
ンサとを備えた超音波治療装置において、前記超音波セ
ンサは、反射波の反射検出値に基づき超音波照射体の照
射強度を順次弱めていき、反射検出値が最終所定値に達
した時、超音波照射体の照射を停止させる制御手段を有
していることを特徴とする。
に、この発明の請求項１にあっては、生体治療部の治療
部位を特定する超音波プローブと、超音波プローブによ
って特定された治療部位に対して照射治療用の超音波を
照射する超音波照射体と、その超音波照射体から生体治
療部へ向け照射した超音波の反射波を受波する超音波セ
ンサとを備えた超音波治療装置において、前記超音波セ
ンサは、反射波の反射検出値に基づき超音波照射体の照
射強度を順次弱めていき、反射検出値が最終所定値に達
した時、超音波照射体の照射を停止させる制御手段を有
していることを特徴とする。
【００１４】これにより、超音波プローブにより特定さ
れた治療部位に対して超音波照射体から超音波を照射す
ることで、治療部位の組織が熱変性し治療が行なわれ
る。この照射治療時、照射強度を順次弱めながら反射検
出値が最終所定値に達するまで照射治療が行なえるた
め、十分な照射時間が確保できる。この結果、治療部位
から外れた正常組織まで熱変性させる不用な熱変性領域
を作ることなく安全で確実な治療部位の熱変性が得られ
るようになる。
れた治療部位に対して超音波照射体から超音波を照射す
ることで、治療部位の組織が熱変性し治療が行なわれ
る。この照射治療時、照射強度を順次弱めながら反射検
出値が最終所定値に達するまで照射治療が行なえるた
め、十分な照射時間が確保できる。この結果、治療部位
から外れた正常組織まで熱変性させる不用な熱変性領域
を作ることなく安全で確実な治療部位の熱変性が得られ
るようになる。
【００１５】また、この発明の請求項２によれば、生体
治療部の治療部位を特定する超音波プローブと、超音波
プローブによって特定された治療部位に対して照射治療
用の超音波を照射する超音波照射体と、その超音波照射
体から生体治療部へ向け照射した超音波の反射波を受波
する超音波センサとを備えた超音波治療装置において、
前記超音波センサは、初期照射時に超音波照射体から照
射される超音波の照射強度を規定された照射強度まで強
めていく第１の制御手段と、規定に達した照射強度を反
射波の反射検出値に基づき順次弱めていき、反射検出値
が最終所定値に達した時、超音波照射体の照射を停止さ
せる第２の制御手段とを有していることを特徴とする。
治療部の治療部位を特定する超音波プローブと、超音波
プローブによって特定された治療部位に対して照射治療
用の超音波を照射する超音波照射体と、その超音波照射
体から生体治療部へ向け照射した超音波の反射波を受波
する超音波センサとを備えた超音波治療装置において、
前記超音波センサは、初期照射時に超音波照射体から照
射される超音波の照射強度を規定された照射強度まで強
めていく第１の制御手段と、規定に達した照射強度を反
射波の反射検出値に基づき順次弱めていき、反射検出値
が最終所定値に達した時、超音波照射体の照射を停止さ
せる第２の制御手段とを有していることを特徴とする。
【００１６】これにより、超音波プローブにより特定さ
れた治療部位に対して超音波照射体から超音波を照射す
ることで、治療部位の組織が熱変性し治療が行なわれ
る。この照射治療の初期照射時、規定された照射強度ま
で強めていく照射治療となる。この結果、規定を越えた
照射強度での照射がなくなり、治療部位から外れた正常
な組織を熱変性させる不用な熱変性領域を作ることがな
くなる。また、照射強度を順次弱めながら反射検出値が
最終所定値に達するまで照射治療が行なえることと相俟
って、安全で確実な治療部位の熱変性が得られる。
れた治療部位に対して超音波照射体から超音波を照射す
ることで、治療部位の組織が熱変性し治療が行なわれ
る。この照射治療の初期照射時、規定された照射強度ま
で強めていく照射治療となる。この結果、規定を越えた
照射強度での照射がなくなり、治療部位から外れた正常
な組織を熱変性させる不用な熱変性領域を作ることがな
くなる。また、照射強度を順次弱めながら反射検出値が
最終所定値に達するまで照射治療が行なえることと相俟
って、安全で確実な治療部位の熱変性が得られる。
【００１７】また、この発明の請求項３によれば、超音
波センサを、温度センサとすることを特徴とする。
波センサを、温度センサとすることを特徴とする。
【００１８】これにより、温度値をみることで、反射波
の反射量を確実に知ることができると共に、しかも、耐
久性に優れ、安く入手することが可能となる。
の反射量を確実に知ることができると共に、しかも、耐
久性に優れ、安く入手することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図１と図２の図面を参照し
ながらこの発明の第１の実施形態について具体的に説明
する。
ながらこの発明の第１の実施形態について具体的に説明
する。
【００２０】図１はこの発明にかかる超音波治療装置１
の全体の概要説明図を示している。
の全体の概要説明図を示している。
【００２１】超音波治療装置１は、生体３内にできた腫
瘍等の治療部位１を特定する超音波プローブ５と、その
超音波プローブ５によって特定された治療部位１に対し
て超音波を照射する超音波照射体７と、超音波照射体７
から照射された超音波の反射波を受波する超音波センサ
９とを有し、前記超音波プローブ５は超音波照射体７の
ほぼ中央部位に配置されている。
瘍等の治療部位１を特定する超音波プローブ５と、その
超音波プローブ５によって特定された治療部位１に対し
て超音波を照射する超音波照射体７と、超音波照射体７
から照射された超音波の反射波を受波する超音波センサ
９とを有し、前記超音波プローブ５は超音波照射体７の
ほぼ中央部位に配置されている。
【００２２】超音波照射体７の全面及び前記超音波プロ
ーブ５は水袋１０より冷却されることで、照射のために
超音波照射体７に電力を加えることによる発熱上昇を抑
えると共に、治療部位１に照射された超音波の反射波が
蓄積される熱エネルギーによって破壊されるのを阻止さ
れるようになっている。水袋１０は、水冷却装置及び循
環装置から成る水処理ユニット１１と接続している。水
処理ユニット１１は、システムコントローラ部１３から
の指令信号に基づき水袋１０内の水の供給管理及び排水
管理を行なうようになっている。
ーブ５は水袋１０より冷却されることで、照射のために
超音波照射体７に電力を加えることによる発熱上昇を抑
えると共に、治療部位１に照射された超音波の反射波が
蓄積される熱エネルギーによって破壊されるのを阻止さ
れるようになっている。水袋１０は、水冷却装置及び循
環装置から成る水処理ユニット１１と接続している。水
処理ユニット１１は、システムコントローラ部１３から
の指令信号に基づき水袋１０内の水の供給管理及び排水
管理を行なうようになっている。
【００２３】システムコントローラ部１３には、操作部
１５の水処理ユニット操作スイッチ１７からの操作信号
が入力されることで水処理ユニット１１へ指令信号を出
力するようになっている。
１５の水処理ユニット操作スイッチ１７からの操作信号
が入力されることで水処理ユニット１１へ指令信号を出
力するようになっている。
【００２４】超音波照射体７は、超音波を発生する発生
素子がアプリケータ１９内に支持された構造となってい
て、アプリケータ１９を図示していない支持機構を介し
て手動にて動かすことで、水袋１０と一緒に超音波照射
体７は生体３の所定の場所へ移動可能となっている。こ
の場合、手動タイプに特定されず、動力タイプであって
もよい。
素子がアプリケータ１９内に支持された構造となってい
て、アプリケータ１９を図示していない支持機構を介し
て手動にて動かすことで、水袋１０と一緒に超音波照射
体７は生体３の所定の場所へ移動可能となっている。こ
の場合、手動タイプに特定されず、動力タイプであって
もよい。
【００２５】超音波照射体７は、駆動回路２１を介して
前記システムコントローラ部１３と接続している。超音
波照射体７の正面となる発射面７ａは、発射された超音
波が焦点Ｐに集まるよう円弧面に形成される一方、前記
水袋１０内に満たされた冷却水と接している。
前記システムコントローラ部１３と接続している。超音
波照射体７の正面となる発射面７ａは、発射された超音
波が焦点Ｐに集まるよう円弧面に形成される一方、前記
水袋１０内に満たされた冷却水と接している。
【００２６】超音波照射体７は、操作部１５の発射操作
スイッチ２３の操作信号が前記システムコントローラ部
１３に入力されることで、システムコントローラ部１３
から出力される指令信号に基づき駆動回路２１が働いて
超音波が発生し、焦点Ｐへ向けて発射させるようになっ
ている。
スイッチ２３の操作信号が前記システムコントローラ部
１３に入力されることで、システムコントローラ部１３
から出力される指令信号に基づき駆動回路２１が働いて
超音波が発生し、焦点Ｐへ向けて発射させるようになっ
ている。
【００２７】超音波プローブ５は、超音波を送受信する
ことで腫瘍等の治療部位１の照射位置を特定するもの
で、その特定領域の情報は、超音波診断装置２３を介し
て前記システムコントローラ部１３に入力され、その入
力信号に基づいてシステムコントローラ部１３はモニタ
２５に表示信号を出力し、モニタ２５をみることで特定
された照射位置がわかるようになっている。
ことで腫瘍等の治療部位１の照射位置を特定するもの
で、その特定領域の情報は、超音波診断装置２３を介し
て前記システムコントローラ部１３に入力され、その入
力信号に基づいてシステムコントローラ部１３はモニタ
２５に表示信号を出力し、モニタ２５をみることで特定
された照射位置がわかるようになっている。
【００２８】一方、超音波センサ９は、治療部位１に照
射された超音波の反射波が超音波プローブ５の周囲の特
に樹脂部材に吸収されることで熱をおびるところから、
その発熱温度をみることで反射量を監視する温度センサ
となっていて、超音波プローブ５の側方に配置され、温
度計測部２７を介して計算された温度情報が前記システ
ムコントローラ部１３に入力されるようになっている。
射された超音波の反射波が超音波プローブ５の周囲の特
に樹脂部材に吸収されることで熱をおびるところから、
その発熱温度をみることで反射量を監視する温度センサ
となっていて、超音波プローブ５の側方に配置され、温
度計測部２７を介して計算された温度情報が前記システ
ムコントローラ部１３に入力されるようになっている。
【００２９】システムコントローラ部１３は温度情報に
基づき超音波照射体７の照射強度を順次弱めていく制御
手段を有し、その具体例を図２に示す。
基づき超音波照射体７の照射強度を順次弱めていく制御
手段を有し、その具体例を図２に示す。
【００３０】図において、横軸は時間で、照射開始時刻
をｔ０とし、ｔ１，ｔ２，ｔ３，ｔ４は照射経過時間を
示している。縦軸は、照射強度と温度センサ４から計測
される温度を示している。照射開始時の温度をｔｐ０、
照射制御のために設定した温度閾値をｔｐ１，ｔｐ２，
ｔｐ３とする。照射強度をＳ０，Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３とす
る。Ｓ０は照射を停止している状態を示す。
をｔ０とし、ｔ１，ｔ２，ｔ３，ｔ４は照射経過時間を
示している。縦軸は、照射強度と温度センサ４から計測
される温度を示している。照射開始時の温度をｔｐ０、
照射制御のために設定した温度閾値をｔｐ１，ｔｐ２，
ｔｐ３とする。照射強度をＳ０，Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３とす
る。Ｓ０は照射を停止している状態を示す。
【００３１】一点鎖線で示すチャートは、本発明による
温度変化を示し、実線で示すチャートは従来例による温
度変化を示す。細い一点鎖線で示すチャートは、本発明
による照射強度の変化を示し、細い実線で示すチャート
は従来例による照射強度の変化を示す。
温度変化を示し、実線で示すチャートは従来例による温
度変化を示す。細い一点鎖線で示すチャートは、本発明
による照射強度の変化を示し、細い実線で示すチャート
は従来例による照射強度の変化を示す。
【００３２】一点鎖線で示す本発明のチャートは以下の
状況を示している。即ち、初めに、照射強度Ｓ３として
照射を開始し、ｔ１で温度閾値ｔｐ１に達すると、照射
強度をＳ２に弱めて照射を継続する。
状況を示している。即ち、初めに、照射強度Ｓ３として
照射を開始し、ｔ１で温度閾値ｔｐ１に達すると、照射
強度をＳ２に弱めて照射を継続する。
【００３３】照射が継続されｔ２で温度閾値ｔｐ２に達
すると、照射強度をＳ１に弱めて照射を継続する。さら
にｔ４で温度閾値ｔｐ３に達すると、照射を停止する制
御手段となっていて、これら一連の動作は照射記録とし
てモニタ２５に表示されるようになっている。
すると、照射強度をＳ１に弱めて照射を継続する。さら
にｔ４で温度閾値ｔｐ３に達すると、照射を停止する制
御手段となっていて、これら一連の動作は照射記録とし
てモニタ２５に表示されるようになっている。
【００３４】温度閾値ｔｐ３、超音波プローブ５の破壊
防止の目的で決められる温度と同じか、低い値に設定さ
れている。
防止の目的で決められる温度と同じか、低い値に設定さ
れている。
【００３５】なお、照射記録は、各照射強度とその照射
時間を数値で示す他に、各照射強度と照射時間の積算
値、即ち、一点鎖線で示すチャートと横軸で囲まれる面
積で示せば、他の照射との比較がし易くなる。
時間を数値で示す他に、各照射強度と照射時間の積算
値、即ち、一点鎖線で示すチャートと横軸で囲まれる面
積で示せば、他の照射との比較がし易くなる。
【００３６】一方、本発明と比較のために実線で示した
従来例のチャートは以下の状況を示している。即ち、初
めに、照射強度Ｓ３で照射を開始すると、ｔ３で温度閾
値ｔｐ３に達してしまい、温度閾値ｔｐ３で照射を停止
し、短時間の照射治療となっている。
従来例のチャートは以下の状況を示している。即ち、初
めに、照射強度Ｓ３で照射を開始すると、ｔ３で温度閾
値ｔｐ３に達してしまい、温度閾値ｔｐ３で照射を停止
し、短時間の照射治療となっている。
【００３７】このように構成された超音波治療装置１に
よれば、超音波プローブ５により特定された治療部位１
に対して超音波照射体７から超音波を照射することで、
治療部位１の組織が熱変性し照射治療が行なわれる。こ
の照射治療時、照射時間ｔ１で照射強度をＳ３からＳ２
に、照射時間ｔ２で照射強度をＳ２からＳ１に順次弱め
ていき、最終所定値となる温度閾値ｔｐ４に達するまで
図２斜線領域で示すように十分な照射時間に基づく照射
治療が行なわれる。この結果、治療部位１から外れた正
常な組織を熱変性させる不用な熱変性領域を作ることな
く、安全で確実な治療部位１の熱変性が得られる。
よれば、超音波プローブ５により特定された治療部位１
に対して超音波照射体７から超音波を照射することで、
治療部位１の組織が熱変性し照射治療が行なわれる。こ
の照射治療時、照射時間ｔ１で照射強度をＳ３からＳ２
に、照射時間ｔ２で照射強度をＳ２からＳ１に順次弱め
ていき、最終所定値となる温度閾値ｔｐ４に達するまで
図２斜線領域で示すように十分な照射時間に基づく照射
治療が行なわれる。この結果、治療部位１から外れた正
常な組織を熱変性させる不用な熱変性領域を作ることな
く、安全で確実な治療部位１の熱変性が得られる。
【００３８】図３は、超音波照射体７による照射治療の
第２の実施形態を示したものである。
第２の実施形態を示したものである。
【００３９】即ち、この第２の実施形態は照射治療の初
期照射時に特徴をもたせたもので、初期照射時におい
て、超音波照射体７から照射される超音波の照射強度
を、初めは規定された照射強度Ｓ３より弱いＳ２の照射
強度で行ない、照射時間ｔ１で規定された照射強度Ｓ３
まで強めていく第１の制御手段を有するようになってい
る。以下の制御は第１の実施形態と同様で、規定に達成
した照射強度Ｓ３を反射波の反射検出値に基づき照射強
度をＳ２，Ｓ１の順に弱めていき、反射検出値が最終所
定値となる温度閾値ｔｐ３に達した時に超音波照射体の
照射を停止させる第２の制御手段とを有するようになっ
ている。
期照射時に特徴をもたせたもので、初期照射時におい
て、超音波照射体７から照射される超音波の照射強度
を、初めは規定された照射強度Ｓ３より弱いＳ２の照射
強度で行ない、照射時間ｔ１で規定された照射強度Ｓ３
まで強めていく第１の制御手段を有するようになってい
る。以下の制御は第１の実施形態と同様で、規定に達成
した照射強度Ｓ３を反射波の反射検出値に基づき照射強
度をＳ２，Ｓ１の順に弱めていき、反射検出値が最終所
定値となる温度閾値ｔｐ３に達した時に超音波照射体の
照射を停止させる第２の制御手段とを有するようになっ
ている。
【００４０】したがって、この第２の実施形態によれ
ば、特に、照射治療の初期照射時において照射強度は、
規定された照射強度Ｓ３まで強めていく照射治療とな
る。この結果、規定を越えた照射強度での照射がなくな
り、治療部位１から外れた正常な組織まで熱変性させる
不用な熱変性領域を作ることなく、安全で確実な治療部
位１の熱変性が得られるようになる。
ば、特に、照射治療の初期照射時において照射強度は、
規定された照射強度Ｓ３まで強めていく照射治療とな
る。この結果、規定を越えた照射強度での照射がなくな
り、治療部位１から外れた正常な組織まで熱変性させる
不用な熱変性領域を作ることなく、安全で確実な治療部
位１の熱変性が得られるようになる。
【００４１】なお、温度センサ９は、超音波プローブ５
の温度検知も兼ねて、超音波プローブ５の近傍に配置し
たが、反射波を検知できる位置であれば、他所でも可能
である。また、温度変化による出力の低減は、ステップ
的に行ったが、連続的に行なつても良い。また、温度閾
値は、１個以上の任意の数にしても良い。
の温度検知も兼ねて、超音波プローブ５の近傍に配置し
たが、反射波を検知できる位置であれば、他所でも可能
である。また、温度変化による出力の低減は、ステップ
的に行ったが、連続的に行なつても良い。また、温度閾
値は、１個以上の任意の数にしても良い。
【００４２】
【発明の効果】以上、説明したようにこの発明の請求項
１によれば、十分な照射時間を確保することができると
共に、治療部位から外れた正常な組織まで熱変性させる
不用な熱変性領域を作ることなく安全で確実な治療部位
の熱変性を得ることができる。
１によれば、十分な照射時間を確保することができると
共に、治療部位から外れた正常な組織まで熱変性させる
不用な熱変性領域を作ることなく安全で確実な治療部位
の熱変性を得ることができる。
【００４３】また、この発明の請求項２によれば、特
に、照射治療の初期照射時において、規定を越えた強い
照射強度での照射がなくなるため、治療部位から外れた
正常な組織まで熱変性させる不用な熱変性領域を作るこ
とがなく、安全で、確実な治療部位の熱変性を得ること
ができる。
に、照射治療の初期照射時において、規定を越えた強い
照射強度での照射がなくなるため、治療部位から外れた
正常な組織まで熱変性させる不用な熱変性領域を作るこ
とがなく、安全で、確実な治療部位の熱変性を得ること
ができる。
【００４４】また、この発明の請求項３によれば、温度
値をみることで、反射波の反射量を確実に知ることがで
きると共に、しかも、耐久性に優れ、安く入手すること
ができる。
値をみることで、反射波の反射量を確実に知ることがで
きると共に、しかも、耐久性に優れ、安く入手すること
ができる。
【図１】この発明にかかる超音波治療装置全体の概要説
明図。
明図。
【図２】この発明にかかる温度と照射強度との関係を示
した説明図。
した説明図。
【図３】温度と照射強度との関係を示した第２の実施形
態の説明図。
態の説明図。
【図４】超音波照射体による超音波の照射状態を示した
従来の説明図。
従来の説明図。
１ 治療部位
３ 生体
５ 超音波プローブ
７ 超音波照射体
９ 超音波センサ
Ｐ 焦点
Claims (3)
- 【請求項１】 生体治療部の治療部位を特定する超音波
プローブと、超音波プローブによって特定された治療部
位に対して照射治療用の超音波を照射する超音波照射体
と、その超音波照射体から生体治療部へ向け照射した超
音波の反射波を受波する超音波センサとを備えた超音波
治療装置において、 前記超音波センサは、反射波の反射検出値に基づき超音
波照射体の照射強度を順次弱めていき、反射検出値が最
終所定値に達した時、超音波照射体の照射を停止させる
制御手段を有していることを特徴とする超音波治療装
置。 - 【請求項２】 生体治療部の治療部位を特定する超音波
プローブと、超音波プローブによって特定された治療部
位に対して照射治療用の超音波を照射する超音波照射体
と、その超音波照射体から生体治療部へ向け照射した超
音波の反射波を受波する超音波センサとを備えた超音波
治療装置において、 前記超音波センサは、初期照射時に超音波照射体から照
射される超音波の照射強度を規定された照射強度まで強
めていく第１の制御手段と、規定に達した照射強度を反
射波の反射検出値に基づき順次弱めていき、反射検出値
が最終所定値に達した時、超音波照射体の照射を停止さ
せる第２の制御手段とを有していることを特徴とする超
音波治療装置。 - 【請求項３】 超音波センサは、温度センサであること
を特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の超音波
治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001227759A JP2003038514A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 超音波治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001227759A JP2003038514A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 超音波治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003038514A true JP2003038514A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=19060371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001227759A Pending JP2003038514A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 超音波治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003038514A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014030509A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Hitachi Medical Corp | 超音波治療装置 |
| EP3366350A1 (en) * | 2017-02-23 | 2018-08-29 | Theraclion SA | A therapeutic treatment device, a method for defining a setup, a method for treating tissue and a computer program product |
-
2001
- 2001-07-27 JP JP2001227759A patent/JP2003038514A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014030509A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Hitachi Medical Corp | 超音波治療装置 |
| EP3366350A1 (en) * | 2017-02-23 | 2018-08-29 | Theraclion SA | A therapeutic treatment device, a method for defining a setup, a method for treating tissue and a computer program product |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050427 |
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| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050620 |