JP2003031643A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板をボートに保持して処理を行う基板処理装
置に於いて、ボートの位置を検出し、ボートが正常な状
態に載置されなかった場合に生じる不具合を事前に防止
する。 【解決手段】ボート２８，３４に基板２３を載置した状
態で反応室４１で基板を処理する基板処理装置１に於い
て、ボートを反応室に装入する為にボートが載置される
第１の位置５７と、ボートに基板が挿入出される為にボ
ートが載置される第２の位置２９と、前記第１の位置と
第２の位置との間でボートを移動させる手段と、少なく
ともボートが第１の位置に載置された際に、該第１の位
置に於けるボートの位置ずれを検出する手段とを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は基板処理装置、特に
処理される基板を保持するボートの位置を検出する機能
を具備する基板処理装置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】縦型ＣＶＤ拡散装置等、縦型反応炉で基
板を処理する基板処理装置では、多数の基板をボートに
より保持し、該ボートを前記反応炉内にボートエレベー
タにより装入して基板の処理を行っている。 【０００３】又、ボートにより基板を保持して処理する
基板処理装置で、スループットを向上させる為の２ボー
ト仕様の基板処理装置がある。該基板処理装置は、２つ
のボートを具備し、一方のボートで基板の処理を行って
いる時に他方のボートに対して基板の移載を行い、一方
のボートで基板の処理が完了した場合、他方のボートと
交換し、効率よく処理を行うものである。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記した２ボート仕様
の基板処理装置では、ボートエレベータにボートを載せ
換える動作があり、ボートが正常な位置に載置されない
可能性があった。 【０００５】ボートの位置が正常でない場合、反応炉内
にボートを装入する際に、反応炉内面と接触することが
ある。接触することで、反応炉、ボート、基板を傷つ
け、更に最悪な場合は転倒することも考えられる。 【０００６】又、接触しない場合でも、ボートを反応炉
内で回転させる形式のものでは、ボートが偏心して回転
する為、成膜膜厚が均一にならないという問題があっ
た。 【０００７】本発明は斯かる実情に鑑み、ボートの位置
を検出し、ボートが正常な状態に載置されなかった場合
に生じる不具合を事前に防止するものである。 【０００８】 【課題を解決するための手段】本発明は、ボートに基板
を載置した状態で反応室で基板を処理する基板処理装置
に於いて、ボートを反応室に装入する為にボートが載置
される第１の位置と、ボートに基板が挿入出される為に
ボートが載置される第２の位置と、前記第１の位置と第
２の位置との間でボートを移動させる手段と、少なくと
もボートが第１の位置に載置された際に、該第１の位置
に於けるボートの位置ずれを検出する手段とを有する基
板処理装置に係るものである。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。 【００１０】先ず、図１に於いて、基板処理装置につい
て説明する。 【００１１】図１〜図９は２ボート仕様の基板処理装置
を示している。以下、本発明の実施の形態を説明する。 【００１２】基板処理装置１は筐体２を有し、該筐体２
の前面に開口部４２が設けられ、該開口部４２の外側下
部にカセット授受ステージ４３が設けられ、該カセット
授受ステージ４３には基板収納カセット４４が２個載置
可能である。該基板収納カセット４４はプラスチック製
の密閉可能な容器であり、該基板収納カセット４４の内
部には例えば２５枚の基板が多段に装填されている。 【００１３】前記開口部４２に対向してカセットローダ
４５が設置されている。該カセットローダ４５は進退且
つ横行可能であると共に昇降可能であり、前記基板収納
カセット４４を後述するカセットオープナ４６、カセッ
ト収納棚５２に搬送することができる。 【００１４】前記カセットローダ４５の前記開口部４２
とは反対側に前記カセットオープナ４６が設けられてい
る。該カセットオープナ４６は前記筐体２の幅方向一側
面４７側に偏心して位置している。 【００１５】前記カセットオープナ４６は昇降テーブル
４８を有し、該昇降テーブル４８に前記基板収納カセッ
ト４４を上段及び下段に載置可能であり、又前記カセッ
トオープナ４６は扉開閉機構４９を有し、該扉開閉機構
４９により載置された基板収納カセット４４の扉５１が
開かれる様になっている。 【００１６】前記カセットオープナ４６の上方に回転式
の前記カセット収納棚５２が設けられ、該カセット収納
棚５２に前記基板収納カセット４４が前記カセットロー
ダ４５により搬送される様になっている。 【００１７】前記カセットオープナ４６の前記カセット
ローダ４５とは反対側に基板移載機２４が設置されてい
る。該基板移載機２４も前記カセットオープナ４６と同
様に前記幅方向一側面４７側に偏心して位置している。
前記基板移載機２４はツイーザ５３を有し、該ツイーザ
５３は進退すると共に回転可能であり、前記基板移載機
２４は基板移載機用エレベータ５４により昇降可能にな
っている。 【００１８】前記カセットオープナ４６と前記基板移載
機２４との間にノッチ合せ装置５５が設置され、該ノッ
チ合せ装置５５は前記筐体２の幅方向他側面５６側に近
接して位置し、前記基板収納カセット４４内の基板２３
を整列する様になっている。 【００１９】前記基板移載機用エレベータ５４の背面側
にボートエレベータ３５が設けられている。該ボートエ
レベータ３５も前記幅方向一側面４７に近接して位置し
ており、前記ボートエレベータ３５は昇降アーム３６を
有し、該昇降アーム３６は昇降駆動用モータ３９により
昇降可能である。 【００２０】図８に示す様に、前記昇降アーム３６の先
端部に炉口キャップ５８が設けられ、該炉口キャップ５
８は所要高さのボート台５９を有し、該ボート台５９が
最も降下された位置がボート授受位置となり、該ボート
台５９に第１ボート２８が底部円形穴４０に於いて同心
に載置される。前記第１ボート２８は石英製の柱３０を
３本有し、該柱３０のスロットに１００枚〜１５０枚の
前記基板２３が装填できる様になっている。 【００２１】反応室、ヒータにより構成される反応炉４
１が前記炉口キャップ５８の上方に設けられ、前記反応
炉４１は下部に炉口（図示せず）を有し、該炉口の下方
がロード／アンロード位置５７となり、前記炉口に前記
第１ボート２８又は第２ボート３４が交互にロード／ア
ンロードされ、且つ前記炉口に前記炉口キャップ５８が
嵌合し、該炉口キャップ５８により前記反応炉４１が気
密に閉塞される様になっている。該反応炉４１は図示し
ないヒータを有し、前記反応炉４１により反応ガスの存
在下に前記基板２３がプロセス処理される様になってい
る。 【００２２】前記ボートエレベータ３５の近傍であって
前記幅方向他側面５６に近接してボート交換装置６０が
設置されている。該ボート交換装置６０を図３〜図５に
於いて説明する。 【００２３】フレーム６１は上板６２、底板６３及び側
板６４により形成され、前記筐体２の側面と平行に設け
られている。前記上板６２と前記底板６３との間にガイ
ドシャフト６５が設けられている。上アーム用ボールネ
ジ６７は前記ガイドシャフト６５と平行に配設され、前
記上アーム用ボールネジ６７の上端部は前記上板６２に
回転自在に支持され、下端部は支持部材６８に回転可能
に支持され、該支持部材６８は前記側板６４に固着され
ている。前記支持部材６８の下側には上アーム用モータ
７１が固着され、該上アーム用モータ７１はカップリン
グ６９を介して前記上アーム用ボールネジ６７に連結さ
れいてる。 【００２４】前記ガイドシャフト６５に上スライドブロ
ック６６が摺動可能に嵌合し、該上スライドブロック６
６に前記上アーム用ボールネジ６７が螺合している。 【００２５】前記上スライドブロック６６の側面に上ア
ーム用サポート７２が固着されている。該上アーム用サ
ポート７２はＬ字状であり、該上アーム用サポート７２
の水平部に上アーム用回転装置７３が設けられ、該上ア
ーム用回転装置７３には例えばダイレクトドライブモー
タが用いられている。前記上アーム用回転装置７３の上
アーム用回転軸７４は上向きであり、該上アーム用回転
軸７４に上アーム７５が固着されている。該上アーム７
５はクランク形状をしており、上水平部に於いて前記上
アーム用回転軸７４に固着され、垂直部は所要の長さを
有し、下水平部は半円弧状の第２ボート受座７６となっ
ている。 【００２６】該第２ボート受座７６の内周縁部はフラン
ジ状に座刳られ、この座刳り部分に、ボート支持突起７
７が突設され、該ボート支持突起７７を介して前記第２
ボート受座７６に前記第２ボート３４が載置される様に
なっている。 【００２７】前記上アーム７５は前記上アーム用回転装
置７３により前記上アーム用回転軸７４を回転中心８０
として１８０°回転可能であり、前記第２ボート受座７
６の回転移動軌道の一端（回転角度０°）が前記基板移
載機２４と最も近接しボート側基板移載位置２９とな
り、該ボート側基板移載位置２９に移載用ボート載置台
７８が設置されている。 【００２８】前記第２ボート受座７６の回転移動軌道の
中間（回転角度９０°）が前記ボート授受位置３１であ
り、前記第２ボート受座７６の回転移動軌道の他端（回
転角度１８０°）がボート待機位置７９である。該ボー
ト待機位置７９に待機用ボート載置台８１が設置されて
いる。 【００２９】前記ガイドシャフト６５に下スライドブロ
ック８２が摺動可能に嵌合されている。該下スライドブ
ロック８２は前記上スライドブロック６６の下方に位置
し、前記下スライドブロック８２は下アーム用ボールネ
ジ８３に螺合している。該下アーム用ボールネジ８３は
下端部に於いて前記底板６３に回転可能に支持されてい
る。前記下アーム用ボールネジ８３の上部は支持部材８
４により回転可能に支持され、該支持部材８４は前記側
板６４に固着されている。前記下アーム用ボールネジ８
３の上端部はカップリング８５を介して下アーム用モー
タ８６に連結されている。 【００３０】前記下スライドブロック８２の側面にＬ字
状の下アーム用サポート８７が固着され、該下アーム用
サポート８７の水平部に下アーム用回転装置８８が設け
られ、該下アーム用回転装置８８にもダイレクトドライ
ブモータが用いられている。前記下アーム用回転装置８
８の下アーム用回転軸８９は上向きであり、該下アーム
用回転軸８９は前記上アーム用回転軸７４と同心に位置
し且つ少なくとも９０°回転することができ、前記下ア
ーム用回転軸８９に下アーム９１が固着されている。 【００３１】該下アーム９１はクランク状であり、上水
平部に於いて前記下アーム用回転軸８９に連結され、前
記下水平部は半円弧状の第１ボート受座９２となってい
る。。該第１ボート受座９２は前記第２ボート受座７６
と対称な形状であり、切欠かれた部分が相互に対向し得
る様になっている。前記第１ボート受座９２の内周縁部
はフランジ状に座刳られ、この座刳られた部分の所要位
置にボート支持突起９３が突設され、該ボート支持突起
９３を介して前記第１ボート受座９２に前記第１ボート
２８が載置される様になっている。 【００３２】前記下アーム９１は前記下アーム用回転装
置８８により前記下アーム用回転軸８９を回転中心９４
として９０°回転可能であり、前記第１ボート受座９２
の回転移動軌道の一端（回転角度０°）が前記ボート側
基板移載位置２９となる。 【００３３】前記第１ボート受座９２の回転移動軌道の
他端部（回転角度９０°）が前記ボート授受位置３１と
なっている。 【００３４】前記第１ボート受座９２と前記第２ボート
受座７６とは相互に干渉しない様、前記下アーム９１と
前記上アーム７５の垂直部長さが設定されている。 【００３５】前記第１ボート受座９２にＬ字状のセンサ
取付け金具４を介してＸ軸センサ５を取付け、又Ｌ字状
のセンサ取付け金具６を介してＹ軸センサ７を取付け
る。 【００３６】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７はレーザ
光線等のビーム光線を媒体とする非接触の位置検出セン
サであり、前記Ｘ軸センサ５の光軸は前記第１ボート受
座９２の中心を通り、前記筐体２の前後方向と平行であ
り、前記Ｙ軸センサ７の光軸は前記Ｘ軸センサ５の光軸
と直交している。 【００３７】又、前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７の光
軸は同一の水平面内にあり、該水平面は前記第１ボート
受座９２にボートが載置された状態で、ボートの下部円
筒面を横切る高さである。ここで、ボート下部円筒面と
しては、ボートの下部に位置する筒状のボートキャッ
プ、或はボート下端の底板がある。 【００３８】又、前記センサ取付け金具４、Ｘ軸センサ
５及びセンサ取付け金具６、Ｙ軸センサ７の高さは、前
記上アーム７５と干渉しないものとなっている。 【００３９】図１０に於いて、前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸
センサ７は直交する２方向のボートの位置検出を行う。
該Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７について略述する。尚、
Ｘ軸センサ５とＹ軸センサ７は同一構成である。 【００４０】図中、８は光源９の駆動回路であり、光源
９より発せられた光束は投光レンズ１０により平行光束
とされ、被測定物１３（ボート）に照射され、該被測定
物１３からの反射光は受光レンズ１１を通って受光素子
１４上に集光される。該受光素子１４は受光状態が電気
信号に変換され、電気信号は増幅器１２により増幅さ
れ、後述するセンサコントローラ１９に出力される。 【００４１】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７に於い
て、投光光軸１５は被測定物１３に対して所要角度で入
射しており、該被測定物１３が近接離反すると、前記受
光素子１４に入射する受光光軸１６の角度が変化する。
前記受光素子１４により受光位置を検出することで、前
記受光光軸１６の角度変化が、即ち前記被測定物１３の
変位が検出される。 【００４２】図１１に於いて、前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸
センサ７の制御について説明する。 【００４３】本体制御部１８からの指令によりセンサコ
ントローラ１９が制御され、該センサコントローラ１９
は前記本体制御部１８からの指令に基づき前記Ｘ軸セン
サ５、Ｙ軸センサ７の駆動を制御する。 【００４４】即ち、前記本体制御部１８はシーケンスプ
ログラムに従い、前記カセットローダ４５、ボートエレ
ベータ３５、基板移載機２４、ボート交換装置６０等の
駆動を制御するが、前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７に
よる測定時期も制御し、測定開始時期を前記センサコン
トローラ１９に出力する。 【００４５】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７からの受
光結果は前記センサコントローラ１９に送出され、該セ
ンサコントローラ１９では受光結果より、Ｘ軸、Ｙ軸２
方向の変位を演算し、演算結果を表示部２０に表示する
と共に前記本体制御部１８にフィードバックする。 【００４６】以下、作用について説明する。 【００４７】第１ボート２８はボート側基板移載位置２
９にあり、前記第１ボート２８は移載用ボート載置台７
８に載置され、又第２ボート３４はボート待機位置７９
にあり、前記第２ボート３４は待機用ボート載置台８１
に載置されている（図８参照）。 【００４８】図示しない外部搬送装置により基板収納カ
セット４４がカセット授受ステージ４３に載置される。
前記基板収納カセット４４の内部には２５枚の基板２３
が上下に所要ピッチで装填されている。前記基板収納カ
セット４４は密閉容器である為、該基板収納カセット４
４の外部からのパーティクル浸入を防止し、前記基板収
納カセット４４が筐体２の外部にあった場合でも、パー
ティクルの汚染が防止される。 【００４９】前記基板収納カセット４４はカセットロー
ダ４５によりカセットオープナ４６に載置され、或はカ
セット収納棚５２に搬送される。昇降テーブル４８上の
基板収納カセット４４は扉開閉機構４９により扉５１が
開かれる。 【００５０】基板移載機用エレベータ５４により基板移
載機２４が所定の高さに昇降され、ツイーザ５３が前進
され、該ツイーザ５３により前記基板収納カセット４４
内部の基板２３が把持され、前記ツイーザ５３が後退さ
れ、該ツイーザ５３により前記基板２３が搬出される。 【００５１】前記ツイーザ５３は回転し、更に高さ調整
された後前記第１ボート２８に進入し、前記基板２３が
前記第１ボート２８に水平姿勢で装填される。 【００５２】以上の操作が繰返され、前記第１ボート２
８の内部に基板２３が所要枚数、例えば１５０枚装填さ
れる。 【００５３】前記第１ボート２８が移載用ボート載置台
７８上に載置されているので、前記基板２３が１２イン
チの大口径の場合でも、前記第１ボート２８及び前記基
板２３の重量は前記移載用ボート載置台７８により安定
して支持される為、前記上アーム７５、下アーム９１の
撓みの影響がなくなり、前記第１ボート２８は傾くこと
がなく、前記基板２３が前記第１ボート２８の柱３０に
接触する虞れがなく、前記基板２３の移載は安全に行え
る。又、微妙な撓みによる上下方向の位置変化を考慮す
ることがないので、前記基板２３の移載時のティーチン
グ作業が容易になり、作業時間が短縮される。 【００５４】下アーム用モータ８６により下アーム用ボ
ールネジ８３が回転されると、下スライドブロック８２
がガイドシャフト６５に沿って上昇されると共に下アー
ム９１も上昇され、該下アーム９１が前記移載用ボート
載置台７８と干渉しないレベルとなり、前記第１ボート
受座９２が未処理基板２３を保持した前記第１ボート２
８を受載する。前記下アーム用モータ８６が回転され、
前記下アーム９１及び第１ボート２８が９０°回転し、
ボート授受位置３１に至る。 【００５５】該ボート授受位置３１はロード／アンロー
ド位置５７の下方にあり、前記ボート台５９は前記第１
ボート受座９２の下方に位置している。該第１ボート受
座９２が降下されると、前記第１ボート２８が前記ボー
ト台５９上に載置される。 【００５６】前記第１ボート２８が前記ボート台５９に
完全に載置された時点で、前記本体制御部１８から前記
センサコントローラ１９に前記第１ボート２８の位置測
定指令が発せられる。 【００５７】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７はＸ軸、
Ｙ軸の２方向から前記第１ボート２８の位置測定を行
う。 【００５８】該第１ボート２８を前記ボート台５９に載
置した時点では、該ボート台５９と前記第１ボート受座
９２とは同心である様に位置調整されているので、前記
第１ボート２８の前記第１ボート受座９２に対する位置
ずれは即ち前記ボート台５９に対する位置ずれとなる。 【００５９】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７からの信
号は、前記センサコントローラ１９に入力され、該セン
サコントローラ１９に於いて測定値が演算され、演算結
果は前記表示部２０に表示されると共に前記本体制御部
１８に入力される。又、該本体制御部１８では測定結果
が基準値、即ち前記第１ボート２８が前記ボート台５９
に正しく載置された場合の測定値、或は設計上求めた数
値に等しいかどうかの判断が成される。尚、Ｘ軸、Ｙ軸
の２方向で位置測定を行っているので、前記第１ボート
２８がどの方向にずれていても正確な位置測定が行え
る。 【００６０】前記第１ボート２８が前記ボート台５９に
傾いて置かれたり、傾斜していると、前記Ｘ軸センサ
５、Ｙ軸センサ７の測定値は基準値に対して偏差を生じ
る。前記本体制御部１８は基準値に対する偏差を演算
し、この偏差が一定値（閾値）を越えると、警告灯の点
滅、ブザーを鳴らす等の警告をし、偏差値が大きい場合
には、シーケンス動作を停止する等の措置を講ずる。 【００６１】尚、閾値としては、反復精度誤差、設置精
度誤差等を考慮し、±約１mm以下とする。 【００６２】尚、上記ボートは石英製で透明体であり、
又処理が繰返されると表面に反応生成物が付着堆積し鏡
面となり、更に洗浄すると腐食により梨地状となり、経
時的に被測定物の表面性状が変化するが、前記Ｘ軸セン
サ５、Ｙ軸センサ７は反射光量を検出しているのではな
いので、バッチ処理を開始する時点で前記増幅器１２の
増幅率を調整する等することで、測定には支障ない。 【００６３】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７による前
記第１ボート２８の位置測定が正常と判断されると更に
シーケンス動作を続行する。 【００６４】前記第１ボート受座９２が更に降下され、
該第１ボート受座９２が前記第１ボート２８から離間す
る。前記下アーム９１が前記と逆の方向に９０°回転さ
れると前記第１ボート受座９２は前記ボート側基板移載
位置２９に戻る。 【００６５】前記ボートエレベータ３５に於いて昇降駆
動用モータ３９が駆動され、前記昇降アーム３６を介し
前記炉口キャップ５８、ボート台５９及び前記第１ボー
ト２８が上昇し、該第１ボート２８が前記反応炉４１に
ロードされ、前記基板２３がプロセス処理される。 【００６６】前記上アーム用モータ７１により前記上ア
ーム用ボールネジ６７が回転されると、前記上スライド
ブロック６６がガイドシャフト６５に沿って上昇され、
前記上アーム７５が前記移載用ボート載置台７８及び待
機用ボート載置台８１と干渉しないレベルとなると共に
前記上アーム７５、第２ボート受座７６を介し前記第２
ボート３４が上昇される。前記上アーム用回転軸７４が
回転され、前記上アーム７５及び第２ボート３４が１８
０°回転し、前記第２ボート受座７６及び第２ボート３
４が前記ボート側基板移載位置２９に至る。 【００６７】前記第２ボート受座７６が降下されると、
前記移載用ボート載置台７８上に前記第２ボート３４が
載置される。前記第２ボート受座７６が更に降下される
と該第２ボート受座７６が前記第２ボート３４から離間
する。前記上アーム７５が前記と逆の方向に１８０°回
転されると、前記第２ボート受座７６はボート待機位置
７９に戻る。 【００６８】プロセス処理と並行し、前記ボート側基板
移載位置２９に於いて次バッチ処理の為に、前記第２ボ
ート３４に前述の第１ボート２８と同様の基板移載が行
われる。前記第２ボート３４が前記移載用ボート載置台
７８の上に載置されているので、前記基板２３が１２イ
ンチの大口径の場合でも、前記第２ボート３４及び前記
基板２３の重量は前記移載用ボート載置台７８により安
定して支持される為、基板の移載は安全且つ迅速に行え
る。 【００６９】前記反応炉４１の内部でプロセス処理され
た後、前記第１ボート２８が前記ボートエレベータ３５
によりアンロードされ、処理済の基板２３を保持する前
記第１ボート２８が前記ボート授受位置３１迄降下され
る。 【００７０】前記上アーム７５が前記ボート授受位置３
１迄９０°回転し、前記上アーム７５が上昇し、前記第
２ボート受座７６を介して処理済基板２３が装填された
前記第１ボート２８を受載し、前記上アーム７５が前記
上アーム用回転装置７３により前記ボート授受位置３１
から前記ボート待機位置７９迄９０°回転される。前記
第１ボート２８は待機状態となる。 【００７１】前記下アーム９１が上昇し、前記第１ボー
ト受座９２を介して次バッチ処理の基板２３を保持した
前記第２ボート３４が持上げられ、前記下アーム９１が
９０°回転され、前記第２ボート３４が前記ボート授受
位置３１に至り、前記第１ボート受座９２が降下される
と前記第２ボート３４が前記ボート台５９に載置され
る。 【００７２】この時点で、前記Ｘ軸センサ５、前記Ｙ軸
センサ７による前記第２ボート３４の位置測定が行われ
る。位置測定、測定後の処理については上記した第１ボ
ート２８と同様である。 【００７３】測定結果、前記第２ボート３４の載置状態
が正常であると、前記第１ボート受座９２が更に降下さ
れ、該第１ボート受座９２が前記第２ボート３４から離
間する。前記下アーム９１が前記と逆の方向に９０°回
転され、前記第１ボート受座９２は、前記ボート側基板
移載位置２９に戻る。 【００７４】前記ボートエレベータ３５により、前記昇
降アーム３６を介し前記炉口キャップ５８、ボート台５
９及び前記第２ボート３４が上昇し、該第２ボート３４
が前記反応炉４１にロードされ、前記基板２３がプロセ
ス処理される。 【００７５】プロセス処理と並行し、前記上アーム７５
が前記第２ボート受座７６を介し、処理済の基板２３を
保持する前記第１ボート２８を、前記ボート側基板移載
位置２９迄移動し、前記第１ボート２８を前記移載用ボ
ート載置台７８に載置する。載置後、前記上アーム７５
が前記と逆の方向に１８０°回転され、前記第２ボート
受座７６はボート待機位置７９に戻る。 【００７６】前記第１ボート２８が前記移載用ボート載
置台７８に載置された状態で処理済基板２３が前記基板
移載機２４により前記基板収納カセット４４に払出さ
れ、払出しが完了すると、別の基板収納カセット４４か
ら更に次のバッチ分の未処理基板２３が前記第１ボート
２８に装填される。 【００７７】前記第２ボート３４のプロセス処理が完了
すると、該第２ボート３４が前記反応炉４１から引出さ
れ、前記ボート授受位置３１迄降下される。前記上アー
ム７５が前記ボート授受位置３１迄９０°回転し、前記
上アーム７５に前記第２ボート３４が載置される。前記
上アーム７５が前記と逆の回転をし、前記第２ボート３
４は前記ボート待機位置７９に移動される。 【００７８】前記下アーム９１が前記第１ボート受座９
２を介し、前記第１ボート２８を支持した状態で９０°
回転し、該第１ボート２８を前記ボート授受位置３１に
移動し、前記第１ボート２８が前記ボート台５９に載置
される。 【００７９】前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７により前
記第１ボート２８のＸ軸センサ５に対する位置測定が行
われる。位置測定、測定後の処理については上記したと
同様である。 【００８０】前記第１ボート２８の載置位置が正常の場
合、該第１ボート２８の載置後、前記下アーム９１が前
記と逆の方向に回転され、前記第１ボート受座９２は前
記ボート側基板移載位置２９に戻る。前記ボートエレベ
ータ３５により、前記昇降アーム３６を介し前記炉口キ
ャップ５８、ボート台５９及び前記第１ボート２８が上
昇し、該第１ボート２８が前記反応炉４１にロードさ
れ、前記基板２３がプロセス処理される。 【００８１】プロセス処理と並行し、前記上アーム７５
が前記第２ボート受座７６を介し、前記第２ボート３４
を支持した状態で１８０°回転し、前記ボート待機位置
７９から前記第２ボート３４を前記ボート側基板移載位
置２９迄移動し、前記第２ボート３４を前記移載用ボー
ト載置台７８に載置する。載置後、前記上アーム７５が
前記と逆の方向に１８０°回転され、前記第２ボート受
座７６は前記ボート待機位置７９に戻る。前記第２ボー
ト３４が前記移載用ボート移載台７８に載置された状態
で処理済基板２３が前記基板移載機２４により前記基板
収納カセット４４に払出され、払出しが完了すると、別
の基板収納カセット４４から未処理基板２３が前記第２
ボート３４に装填される。 【００８２】以上の操作が繰返されることにより、前記
基板２３が効率よくプロセス処理される。 【００８３】又、上記説明の様に、本実施の形態では、
シーケンス動作の工程中にボート２８，３４の位置測定
が組込まれている。 【００８４】該ボート２８，３４を前記ボート台５９に
載置する動作は、前記下アーム９１によって行われ、又
前記Ｘ軸センサ５、Ｙ軸センサ７は前記下アーム９１の
第１ボート受座９２に設けられ、前記ボート２８，３４
がボート台５９に載置される度に、前記ボート２８，３
４の位置測定が行われる。 【００８５】又、該ボート２８，３４の位置ずれ、傾き
は前記反応炉４１に対する影響が最も大きく、位置ずれ
が所定値を越えると、反応室内面と接触したり、成膜処
理が均一に行えないという障害が生じる。 【００８６】従って、上記実施の形態では、前記ボート
台５９に前記ボート２８，３４が載置される度に、該ボ
ート２８，３４の位置測定を行っているので、最も効果
的に而も最小限の測定作業となっている。又、センサは
２組の位置検出センサでよく、構成も簡単である。 【００８７】尚、位置センサとしては、実用上、測定精
度が０．１mm以下であればよく、超音波センサ等の非接
触式のセンサを使用することができる。 【００８８】 【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ボート
に基板を載置した状態で反応室で基板を処理する基板処
理装置に於いて、ボートを反応室に装入する為にボート
が載置される第１の位置と、ボートに基板が挿入出され
る為にボートが載置される第２の位置と、前記第１の位
置と第２の位置との間でボートを移動させる手段と、少
なくともボートが第１の位置に載置された際に、該第１
の位置に於けるボートの位置ずれを検出する手段とを有
するので、ボートが反応室内での位置ずれが事前に検出
でき、処理品質の低下を防止すると共に歩留りの向上を
図ることができ、或はボートが反応室に接触して起こる
破損事故を防止できるという優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置の概略
斜視図である。 【図２】該基板処理装置の要部平面図である。 【図３】該基板処理装置のボート交換装置の斜視図であ
る。 【図４】該ボート交換装置の側面図である。 【図５】図４のＡ−Ａ矢視図である。 【図６】図４のＢ−Ｂ矢視図である。 【図７】図４のＢ−Ｂ矢視図である。 【図８】本発明の実施の形態に於けるボート載置台の正
面図である。 【図９】該ボート載置台の側面図である。 【図１０】位置検出センサの説明図である。 【図１１】本発明の実施の形態の概略ブロック図であ
る。 【符号の説明】 １ 基板処理装置 ５ Ｘ軸センサ ７ Ｙ軸センサ １３ 被測定物 １８ 本体制御部 １９ センサコントローラ ２０ 表示部 ２８ 第１ボート ２９ ボート側基板移載位置 ３１ ボート授受位置 ３４ 第２ボート ４１ 反応炉 ５７ ロード／アンロード位置 ６０ ボート交換装置 ７５ 上アーム ７８ 移載用ボート載置台 ７９ ボート待機位置 ８１ 待機用ボート載置台 ９１ 下アーム ９２ 第１ボート受座

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ボートに基板を載置した状態で反応室で
   基板を処理する基板処理装置に於いて、ボートを反応室
   に装入する為にボートが載置される第１の位置と、ボー
   トに基板が挿入出される為にボートが載置される第２の
   位置と、前記第１の位置と第２の位置との間でボートを
   移動させる手段と、少なくともボートが第１の位置に載
   置された際に、該第１の位置に於けるボートの位置ずれ
   を検出する手段とを有することを特徴とする基板処理装
   置。