JP2003029411A - Original plate for planographic printing plate and plate making method - Google Patents

Original plate for planographic printing plate and plate making method

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JP2003029411A
JP2003029411A JP2001212308A JP2001212308A JP2003029411A JP 2003029411 A JP2003029411 A JP 2003029411A JP 2001212308 A JP2001212308 A JP 2001212308A JP 2001212308 A JP2001212308 A JP 2001212308A JP 2003029411 A JP2003029411 A JP 2003029411A
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JP
Japan
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sensitive layer
acid
printing plate
upper heat
alkali
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Pending
Application number
JP2001212308A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihisa Oda
晃央 小田
Hirotetsu Onishi
弘哲 大西
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive original plate for a planographic printing plate for direct plate making adaptable to an IR laser recording system and excellent in scuffing resistance and to provide a plate making method. SOLUTION: The original plate has an underlayer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin and an upper heat sensitive layer containing a water- insoluble and alkali-soluble resin and an IR absorbing dye and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by heating in order on a hydrophilic support, the surface hardness of the upper heat sensitive layer is >=0.50 GPa and the original plate is imagewise exposed and then developed with an alkali developing solution.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ
型平版印刷版用原版の画像形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as an offset printing master, and more particularly to a so-called direct plate-making infrared laser positive type lithographic printing plate precursor for direct plate making from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to an image forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。
2. Description of the Related Art The development of lasers in recent years has been remarkable, especially solid-state lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared.
Semiconductor lasers have high output and small size can be easily obtained. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.

【0003】赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等
が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互
作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させ
る溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発
生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作
用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成
する。しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型
平版印刷版用原版では、様々な使用条件における未露光
部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部(非
画像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言えず、使
用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいと
いう問題があった。また、平版印刷版用原版の画像形成
能は、記録層表面の赤外線レーザ露光による発熱に依存
しているため、支持体近傍では、熱の拡散により画像形
成、即ち、記録層の可溶化に用いられる熱量が少なくな
り、露光未露光の差が小さくなってハイライト再現性が
不充分であるという問題もあった。
The positive type lithographic printing plate material for infrared laser is
An alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an IR dye that absorbs light to generate heat are essential components, and the IR dye dissolves in the unexposed area (image area) due to the interaction with the binder resin. It acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the property, and in the exposed area (non-image area) the heat generated weakens the interaction between the IR dye and the binder resin and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate. To do. However, in such a positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser, the dissolution resistance of the unexposed portion (image portion) to the developing solution and the solubility of the exposed portion (non-image portion) under various use conditions are The difference between the two is not yet sufficient, and there is a problem that overdevelopment or defective development is likely to occur due to changes in use conditions. Further, since the image forming ability of the lithographic printing plate precursor depends on the heat generated by infrared laser exposure on the surface of the recording layer, it is used for image formation by the diffusion of heat near the support, that is, for solubilizing the recording layer. There is also a problem that the amount of heat applied is small, the difference between exposure and non-exposure is small, and highlight reproducibility is insufficient.

【0004】例えば、現像ラチチュードについては、U
V露光により製版するポジ型平版印刷版用原版材料、す
なわち、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、オ
ニウム塩やキノンジアジド化合物類とを含み、このオニ
ウム塩やキノンジアジド化合物類が、未露光部(画像
部)でバインダー樹脂との相互作用により溶解阻止剤と
して働き、且つ、露光部(非画像部)では、光によって
分解して酸を発生し、溶解促進剤として働くという機能
を有する従来の平版印刷版用原版材料では殆ど問題とな
ってはいなかったが、リスフィルムを介して画像様にU
V露光を行い、光の回りこみが起こりやすいため、同様
にハイライト再現性が問題となっていた。
For example, for the development latitude, U
A positive-working lithographic printing plate precursor prepared by V-exposure, that is, containing an alkali aqueous solution-soluble binder resin and an onium salt or quinonediazide compound, and the onium salt or quinonediazide compound is contained in an unexposed area (image area). For the conventional lithographic printing plate, which functions as a dissolution inhibitor by interacting with the binder resin, and also functions as a dissolution accelerator by being decomposed by light to generate an acid in the exposed area (non-image area). Although it was not a problem with the original material, U
Since V light is apt to wrap around when V exposure is performed, highlight reproducibility is also a problem.

【0005】一方、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用
原版材料においては、赤外線吸収剤等は、未露光部(画
像部)の溶解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像
部)の溶解を促進するものではない。従って、赤外線レ
ーザ用ポジ型平版印刷版用原版材料において、未露光部
と露光部との溶解性の差を出すためには、バインダー樹
脂として、あらかじめアルカリ現像液に対する溶解性の
高いものを使用せざるを得ず、耐傷性に劣る、現像前の
状態が不安定なものとなるといった問題を抱えていた。
On the other hand, in the positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser, the infrared absorber only acts as a dissolution inhibitor for the unexposed area (image area) and dissolves the exposed area (non-image area). Does not promote Therefore, in the positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser, in order to obtain a difference in solubility between the unexposed area and the exposed area, a binder resin having a high solubility in an alkaline developer should be used in advance. Inevitably, there were problems such as poor scratch resistance and instability in the state before development.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記の問題を解決することであり、即ち、赤外線レ
ーザ記録方式に適合し、耐キズ性に優れるダイレクト製
版用のポジ型平版印刷版用原版及び製版方法を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems, that is, positive type lithographic printing for direct plate making which is suitable for an infrared laser recording system and is excellent in scratch resistance. It is to provide an original plate for plate and a plate making method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、感熱層の構成を下層
と上部感熱層との2層構造(重層型感光層)とし、該上
部感熱層の表面硬度が0.50GPa以上とすることに
より上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成
するに至ったものである。即ち本発明は以下の通りであ
る。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventor has constructed a heat-sensitive layer having a two-layer structure of a lower layer and an upper heat-sensitive layer (multilayer type photosensitive layer), The present invention has been completed by finding that the above problems can be solved by setting the surface hardness of the upper heat-sensitive layer to 0.50 GPa or more. That is, the present invention is as follows.

【0008】(1)親水性支持体上に、水不溶性且つア
ルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ
可溶性樹脂及び赤外線吸収染料を含有し、加熱によりア
ルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層と
を、順次積層して有し、前記上部感熱層の表面硬度が
0.50GPa以上であることを特徴とするポジ型平版
印刷版用原版。 (2)前記上部感熱層の表面硬度が0.60GPa以上
であることを特徴とする前記(1)に記載のポジ型平版
印刷版用原版。 (3)前記上部感熱層に赤外線吸収染料を10重量%以
上の範囲で含有することを特徴とする前記(1)又は
(2)に記載のポジ型平版印刷版用原版。 (4)前記上部感熱層にオニウム型溶解抑制剤を含有す
ることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれかに記
載のポジ型平版印刷版用原版。
(1) An upper heat-sensitive layer containing a lower layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, a water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared absorbing dye on a hydrophilic support, and increasing the solubility in an alkaline aqueous solution by heating. A positive planographic printing plate precursor, wherein the upper heat-sensitive layer has a surface hardness of 0.50 GPa or more. (2) The positive planographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the upper heat-sensitive layer has a surface hardness of 0.60 GPa or more. (3) The positive planographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the upper heat-sensitive layer contains an infrared absorbing dye in an amount of 10% by weight or more. (4) The positive-working lithographic printing plate precursor as described in any of (1) to (3) above, wherein the upper heat-sensitive layer contains an onium-type dissolution inhibitor.

【0009】(5)親水性支持体上に、水不溶性且つア
ルカリ可溶性樹脂を含む下と、水不溶性且つアルカリ可
溶性樹脂及び赤外線吸収染料を含み、加熱によりアルカ
リ性水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層とを順
次積層してなり、前記上部感熱層の表面硬度が0.50
GPa以上とした平版印刷版用原版を、画像様に露光し
た後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするポジ
型平版印刷版用原版の製版方法。 (6)前記アルカリ現像液が緩衝作用を有する有機化合
物と塩基とを主成分とするアルカリ現像液であることを
特徴とする前記(5)に記載の平版印刷版用原版の製版
方法。
(5) An upper heat-sensitive layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin on a hydrophilic support and a water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared absorbing dye on the hydrophilic support to increase solubility in an alkaline aqueous solution by heating. And are sequentially laminated, and the surface hardness of the upper heat-sensitive layer is 0.50.
A method for making a positive-working lithographic printing plate precursor, which comprises exposing a lithographic printing plate precursor having a GPa or more to imagewise and then developing with an alkali developer. (6) The plate making method of a lithographic printing plate precursor as described in (5) above, wherein the alkali developing solution is an alkaline developing solution containing an organic compound having a buffering action and a base as main components.

【0010】本発明のポジ型平版印刷版用原版及びその
製版方法の特徴の一つである前記上部感熱層の表面硬度
を規定する硬度の評価には特開平10-326406号公報でも
用いられているハイジトロン社製トライボスコープを用
いた。これはダイアモンドの三角錐圧子を試料に静電気
力を用いてサブミリニュートンオーダーの超微小荷重で
押し込み、その時の変位量(押し込み深さ)をリアルタ
イムで測定できるシステムである。そのため1ミクロン
以下の薄膜の硬度等の薄膜の材料係数等を求めるのに有
効な測定器である。但し、従来の様な規格化されたビッ
カース硬度等への換算は困難であり、新たな尺度で薄膜
の機械的特性を与えるものである。
One of the features of the positive type lithographic printing plate precursor of the present invention and the plate-making method thereof, which is one of the characteristics of the upper heat-sensitive layer, is also used in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 10-326406 for evaluation of hardness which defines the surface hardness. A triboscope manufactured by Heiditron was used. This is a system in which a diamond triangular pyramid indenter is pressed into a sample with an ultra-small load of sub-millinewton order using electrostatic force, and the displacement amount (pushing depth) at that time can be measured in real time. Therefore, it is an effective measuring instrument for determining the material coefficient of the thin film such as the hardness of the thin film of 1 micron or less. However, it is difficult to convert it into the standardized Vickers hardness as in the conventional case, and the mechanical properties of the thin film are given on a new scale.

【0011】上記表面硬度を達成する手段として、上部
感熱層の赤外線吸収染料の濃度を高くすることが有効で
ある。効果的に表面硬度を上げるためには少なくとも上
部感熱層の10重量%以上であることが重要である。好
ましくは15重量%以上である。単層型の感熱層に本方
法を適応すると感熱層の感度が著しく低下し現実的では
ないが、アルカリ可溶性樹脂を有する下層との組合せに
おいては、感度を低下させることなく上部感熱層の赤外
線吸収染料濃度を所定の濃度まで上げることが可能であ
る。また、その他の上記表面硬度を達成する手段とし
て、上部感熱層への溶解抑制剤の添加によっても行うこ
とが出来る。溶解抑制剤としては、ノボラックの溶解速
度を低下させる化合物であれば如何なる物でも使用でき
るが、効果的に表面硬度を上げるためにはオニウム系溶
解抑制剤が好ましい。更に好ましくはアンモニウム系溶
解抑制剤である。溶解抑制剤添加量は上部感熱層の1〜
15重量%、好ましくは3〜10重量%である。単層型
の感熱層に本方法を適応すると感熱層の感度が著しく低
下し現実的ではないが、アルカリ可溶性樹脂を有する下
層との組合せにおいては、感度を低下させることなく上
部感熱層へ所定の溶解抑制剤の添加を行うことが出来
る。但し、添加量が15重量%を超えると重層系におい
ても感度低下の懸念がある。以上の手段は単独で用いて
も良いし、組み合わせて用いても良い。
As a means for achieving the above surface hardness, it is effective to increase the concentration of the infrared absorbing dye in the upper heat sensitive layer. In order to effectively increase the surface hardness, it is important that the content is at least 10% by weight of the upper heat-sensitive layer. It is preferably at least 15% by weight. When this method is applied to a single-layer type heat-sensitive layer, the sensitivity of the heat-sensitive layer is significantly reduced, which is not realistic, but in combination with the lower layer having an alkali-soluble resin, the infrared absorption of the upper heat-sensitive layer is not reduced. It is possible to raise the dye concentration to a predetermined concentration. Further, as another means for achieving the above surface hardness, addition of a dissolution inhibitor to the upper heat-sensitive layer can be performed. As the dissolution inhibitor, any compound can be used as long as it is a compound that reduces the dissolution rate of novolak, but an onium-based dissolution inhibitor is preferable in order to effectively increase the surface hardness. More preferably, it is an ammonium-based dissolution inhibitor. The addition amount of the dissolution inhibitor is from 1 of the upper thermosensitive layer.
It is 15% by weight, preferably 3 to 10% by weight. When this method is applied to a single-layer type heat-sensitive layer, the sensitivity of the heat-sensitive layer is significantly reduced, which is not realistic, but in combination with a lower layer having an alkali-soluble resin, a predetermined amount can be applied to the upper heat-sensitive layer without decreasing the sensitivity. A dissolution inhibitor can be added. However, if the added amount exceeds 15% by weight, there is a concern that the sensitivity may be lowered even in a multilayer system. The above means may be used alone or in combination.

【0012】上記の構成と上部感熱層の表面硬度を0.
50GPa以上とすることにより、本発明の平版印刷版
用原版及び製版方法は、赤外線レーザ記録方式に適合
し、耐キズ性に優れた、即ち画像部の傷に起因する欠陥
の発生が抑制されたダイレクト製版用のポジ型平版印刷
版用原版を得ることができる。
With the above structure and the surface hardness of the upper heat-sensitive layer of 0.
When it is at least 50 GPa, the lithographic printing plate precursor and plate making method of the present invention are compatible with the infrared laser recording system and are excellent in scratch resistance, that is, generation of defects caused by scratches in the image area is suppressed. A positive planographic printing plate precursor for direct plate making can be obtained.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明のポジ型平版印刷版
用原版及び製版方法について詳細に説明する。本発明に
おけるポジ型感熱層は、積層構造を有し、表面(露光
面)に近い位置に設けられている上部感熱層と、支持体
に近い側に設けられているアルカリ可溶性樹脂を含有す
る下層とを有することを特徴とする。これらの層には、
いずれも水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有し、且
つ、上部に位置する上部感熱層には赤外線吸収染料を含
有することを要する。以下、本発明の製版方法が適用さ
れる平版印刷版用原版の各構成成分について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the positive type lithographic printing plate precursor and plate making method of the present invention will be described in detail. The positive heat-sensitive layer in the present invention has a laminated structure, and an upper heat-sensitive layer provided at a position close to the surface (exposed surface) and a lower layer containing an alkali-soluble resin provided on the side closer to the support. And having. These layers include
All of them must contain a water-insoluble and alkali-soluble resin, and the upper heat-sensitive layer located on the upper side must contain an infrared absorbing dye. Hereinafter, each component of the lithographic printing plate precursor to which the plate making method of the present invention is applied will be described.

【0014】[アルカリ可溶性高分子]本発明において、
上部感熱層及び下層に使用される水不溶性且つアルカリ
水溶性の高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性高
分子と称する)とは、高分子中の主鎖および/または側
鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体ま
たはこれらの混合物を包含する。従って、本発明に係る
高分子層は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特
性を有するものである。本発明の下層、及び上部感熱層
に使用されるアルカリ可溶性高分子は、従来公知のもの
であれば特に制限はないが、(1)フェノール性水酸
基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基のい
ずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物であるこ
とが好ましい。例えば以下のものが例示されるが、これ
らに限定されるものではない。
[Alkali-soluble polymer] In the present invention,
A water-insoluble and alkali-water-soluble polymer compound used in the upper heat-sensitive layer and the lower layer (hereinafter, appropriately referred to as an alkali-soluble polymer) means that the polymer contains an acidic group in its main chain and / or side chain. Homopolymers, copolymers thereof or mixtures thereof. Therefore, the polymer layer according to the present invention has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer. The alkali-soluble polymer used in the lower layer and the upper heat-sensitive layer of the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known polymer, but (1) phenolic hydroxyl group, (2) sulfonamide group, (3) activity It is preferable that the polymer compound has any functional group of an imide group in the molecule. For example, the following are exemplified, but the invention is not limited thereto.

【0015】(1)フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロー
ルアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有
する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール
性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。
(1) As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group, for example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m
-, P-, or m- / p-mixture may be used) Novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins. In addition to the above, the polymer compound having a phenolic hydroxyl group is preferably a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain. As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, or another polymerizable compound is added to the monomer. Examples thereof include polymer compounds obtained by copolymerizing monomers.

【0016】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate,
m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene,
m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate,
2- (3-Hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, etc. can be used conveniently. The resin having such a phenolic hydroxyl group may be used in combination of two or more kinds. Further, U.S. Pat. No. 4,123,279.
As described in the specification, even if a condensation polymer of phenol and formaldehyde having a C3-8 alkyl group as a substituent, such as t-butylphenolformaldehyde resin and octylphenolformaldehyde resin, is used in combination. Good.

【0017】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が
挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
(2) As the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group, a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the polymerizable monomer with another polymerizable monomer. Is mentioned. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include a sulfonamide group —NH—SO 2 — having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom in one molecule.
And a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound each having one or more polymerizable unsaturated bonds. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or mono-substituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.

【0018】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物は、活性イミド基を分子内に有するもの
が好ましく、この高分子化合物としては、1分子中に活
性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上
有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重
合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物が挙げられる。
(3) The alkali-soluble polymer compound having an active imide group is preferably one having an active imide group in the molecule, and this polymer compound is an unsaturated compound capable of polymerizing with the active imide group in one molecule. Examples thereof include a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound having one or more bonds, or by copolymerizing the polymerizable monomer with another polymerizable monomer.

【0019】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
Specific examples of such compounds include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-toluenesulfonyl) acrylamide etc. can be used conveniently.

【0020】更に、本発明のアルカリ可溶性高分子化合
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を
有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら
成分の配合重量比は50:50から5:95の範囲にあ
ることが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あることが特に好ましい。
Further, as the alkali-soluble polymer compound of the present invention, two or more kinds of the above-mentioned polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, and a polymerizable monomer having an active imide group are used. It is preferable to use a polymer compound obtained by polymerizing the above, or a polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer with these two or more polymerizable monomers. When a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group is copolymerized with a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or a polymerizable monomer having an active imide group, the blending weight ratio of these components is 50:50 to 5: 5. It is preferably in the range of 95, particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.

【0021】本発明において、アルカリ可溶性高分子が
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの
共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル
%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやす
く、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないこ
とがある。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is a copolymer of a polymerizable monomer having the above-mentioned phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group or a polymerizable monomer having an active imide group, and another polymerizable monomer. When it is a polymer, the content of the alkali-solubilizing monomer is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. When the content of the copolymerization component is less than 10 mol%, the alkali solubility tends to be insufficient, and the effect of improving the development latitude may not be sufficiently achieved.

【0022】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、下記(m1)〜(m12)に挙
げる化合物を例示することができるが、これらに限定さ
れるものではない。 (m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
The monomer components to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group are listed in the following (m1) to (m12). Examples of the compound include, but are not limited to, these. (M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (M2) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
Alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate and glycidyl acrylate. (M3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-
Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate, etc. (M4) acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N
-Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide.

【0023】(m5)エチルビニルエーテル、2−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。(m11)マレイミド、N−ア
クリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタ クリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N
−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽
和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (M6) vinyl acetate, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate. (M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene. (M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile,
Methacrylonitrile etc. (M11) maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N
Unsaturated imides such as-(p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (M12) An unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride or itaconic acid.

【0024】アルカリ水可溶性高分子化合物としては、
赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点
で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例え
ば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/
p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂
等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ま
しく挙げられる。
As the alkaline water-soluble polymer compound,
It is preferable to have a phenolic hydroxyl group from the viewpoint of excellent image formability upon exposure with an infrared laser or the like. For example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde. Resin, phenol / cresol (m-, p-, or m- /
Preference is given to novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallolacetone resins.

【0025】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水可溶性高分子化合物としては、更に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
As the alkaline water-soluble polymer compound having a phenolic hydroxyl group, further, as described in US Pat. No. 4,123,279,
Carbon number 3 ~, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin
Examples thereof include a condensation polymer of phenol and formaldehyde having the alkyl group of 8 as a substituent.

【0026】アルカリ水可溶性高分子化合物の共重合の
方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、
ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることが
できる。
As a method for copolymerizing the alkaline water-soluble polymer compound, a graft copolymerization method, which is conventionally known,
A block copolymerization method, a random copolymerization method, etc. can be used.

【0027】本発明においてアルカリ可溶性高分子が、
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体
の場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子
量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重
量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均
分子量が800〜250,000であり、分散度(重量
平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明においてアルカリ可溶性高分子がフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹
脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜
20,000であり、数平均分子量が200〜10,0
00のものが好ましい。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is
In the case of a homopolymer or a copolymer of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group, the weight average molecular weight is 2,000 or more and the number average is Those having a molecular weight of 500 or more are preferable. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. . In the present invention, when the alkali-soluble polymer is a resin such as phenol formaldehyde resin or cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to
20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,0.
00 is preferable.

【0028】下層で用いられるアルカリ可溶性高分子と
しては、アクリル樹脂が好ましい。さらに、このアクリ
ル樹脂としてスルホアミド基を有するものが特に好まし
い。また、上部上部感熱層で用いられるアルカリ可溶性
高分子としては、未露光部では強い水素結合性を生起
し、露光部においては、一部の水素結合が容易に解除さ
れる点においてフェノール性水酸基を有する樹脂が望ま
しい。更に好ましくはノボラック樹脂である。
The alkali-soluble polymer used in the lower layer is preferably an acrylic resin. Further, the acrylic resin having a sulfamide group is particularly preferable. Further, as the alkali-soluble polymer used in the upper upper heat-sensitive layer, a strong hydrogen bonding property is generated in the unexposed area, and a phenolic hydroxyl group is generated in the exposed area because some hydrogen bonds are easily released. A resin having is desirable. More preferably, it is a novolac resin.

【0029】これらアルカリ可溶性高分子化合物は、そ
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記感熱層全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性高分子の
添加量が30重量%未満であると感熱層の耐久性が悪化
し、また、99重量%を超えると感度、耐久性の両面で
好ましくない。
These alkali-soluble polymer compounds may be used either individually or in combination of two or more, and they are used in an amount of 30 to 99% by weight, preferably 40 to 95% by weight, especially 40 to 95% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer. Preferably 50-90
It is used in the addition amount of weight%. If the amount of the alkali-soluble polymer added is less than 30% by weight, the durability of the heat-sensitive layer deteriorates, and if it exceeds 99% by weight, it is not preferable in terms of sensitivity and durability.

【0030】〔赤外線吸収染料〕本発明において、上部
感熱層に用いられる赤外線吸収染料は、赤外光を吸収し
熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収
染料として知られる種々の染料を用いることができる。
[Infrared absorbing dye] In the present invention, the infrared absorbing dye used in the upper heat-sensitive layer is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various infrared absorbing dyes known as infrared absorbing dyes can be used. Dyes can be used.

【0031】本発明に係る赤外線吸収染料としては、市
販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協
会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが
利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染
料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロ
シアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、
メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本
発明において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近
赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発
光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
As the infrared absorbing dye according to the present invention, commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, "Handbook of Dyes" edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes,
Examples include dyes such as methine dyes and cyanine dyes. In the present invention, among these dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in a laser that emits infrared light or near infrared light.

【0032】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料としては例えば特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号等に記載されてい
るナフトキノン染料、 特開昭58−112792号等
に記載されているスクワリリウム色素、英国特許43
4,875号記載のシアニン染料等を挙げることができ
る。
Examples of such a dye that absorbs infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246.
JP-A-59-84356 and JP-A-59-2028.
29, JP-A-60-78787, and other cyanine dyes, JP-A-58-173696, and JP-A-5-173966.
8-181690, methine dyes described in JP-A-58-194595, and JP-A-58-112793.
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52.
940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, UK Patent 43
Examples thereof include cyanine dyes described in No. 4,875.

【0033】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポ
リン社製のEpolight III−178、Epoli
ght III−130、Epolight III−125等
が、特に好ましく用いられる。また、染料として特に好
ましい別の例として米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。
Also, as a dye, US Pat. No. 5,156,
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, JP-A-57-1.
No. 42645 (US Pat. No. 4,327,169), a trimethine thiapyrylium salt, JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363.
No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and the pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
Cyanine dye described in US Pat. No. 4,283,4
The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 75, the Japanese Patent Publication No. 513514, and the pyrylium compound disclosed in No. 5-19702 are commercially available products, such as Epolight III-178 manufactured by Eporin Co., Epoli
ght III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used. Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

【0034】これらの赤外線吸収染料は、上部感熱層の
みならず、下層にも添加することができる。下層に赤外
線吸収染料を添加することで下層も感熱層として機能さ
せることができる。下層に赤外線吸収染料を添加する場
合には、上部感熱層における赤外線吸収染料と互いに同
じ物を用いてもよく、また異なる物を用いてもよい。ま
た、これらの赤外線吸収染料は他の成分と同一の層に添
加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
別の層とする場合、感熱層に隣接する層へ添加するのが
望ましい。また、染料と前記アルカリ可溶性樹脂とは同
一の層に含まれるのが好ましいが、別の層でも構わな
い。添加量としては、上部感熱層組成物の全固形分に対
し10〜50重量%、好ましくは10〜20重量%の割
合で添加することができる。染料の添加量が10重量%
未満であると感度が低くなり、また50重量%を超える
と感度が著しく低下し、更に感熱層の均一性が失われ、
感熱層の耐久性が悪くなる。また、下層組成物の全固形
分に対し0〜10重量%、好ましくは0〜6重量%、さ
らに好ましくは0.1〜5重量%の割合で添加すること
ができる。染料の添加量が10重量%を超えると感度が
低下する。
These infrared absorbing dyes can be added not only to the upper heat-sensitive layer but also to the lower layer. The lower layer can also function as a heat-sensitive layer by adding an infrared absorbing dye to the lower layer. When the infrared absorbing dye is added to the lower layer, the same one as the infrared absorbing dye in the upper heat-sensitive layer may be used, or a different one may be used. Further, these infrared absorbing dyes may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided separately.
When it is formed as another layer, it is preferably added to the layer adjacent to the heat-sensitive layer. The dye and the alkali-soluble resin are preferably contained in the same layer, but they may be contained in different layers. The amount added may be 10 to 50% by weight, preferably 10 to 20% by weight, based on the total solid content of the upper thermosensitive layer composition. Addition amount of dye is 10% by weight
If it is less than 50% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the sensitivity is remarkably lowered, and further, the uniformity of the heat-sensitive layer is lost.
The durability of the heat sensitive layer becomes poor. Further, it may be added in an amount of 0 to 10% by weight, preferably 0 to 6% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight, based on the total solid content of the lower layer composition. If the amount of the dye added exceeds 10% by weight, the sensitivity will decrease.

【0035】表面硬度を0.50GPa以上にする手段
として、上部感熱層の赤外線吸収染料濃度を高濃度化す
ることにより可能である。効果的に表面硬度を上げるた
めには少なくとも上部感熱層10重量%以上であること
が重要である。好ましくは15重量%以上である。単層
型の感熱層に本方法を適応すると感熱層の感度が著しく
低下し現実的ではないが、アルカリ可溶性樹脂を有する
下層との組合せにおいては、感度を低下させることなく
上部感熱層の赤外線吸収染料濃度を所定の濃度まで上げ
ることが可能である。
As a means for increasing the surface hardness to 0.50 GPa or more, it is possible to increase the concentration of infrared absorbing dye in the upper heat-sensitive layer. In order to effectively increase the surface hardness, it is important that the upper heat-sensitive layer is at least 10% by weight or more. It is preferably at least 15% by weight. When this method is applied to a single-layer type heat-sensitive layer, the sensitivity of the heat-sensitive layer is significantly reduced, which is not realistic, but in combination with the lower layer having an alkali-soluble resin, the infrared absorption of the upper heat-sensitive layer is not reduced. It is possible to raise the dye concentration to a predetermined concentration.

【0036】〔その他の成分〕前記ポジ型感熱層又は下
層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発
明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じ
て、種々の添加剤を添加することができる。添加剤は下
層のみに含有させてもよいし、上部感熱層のみに含有さ
せてもよい。更に、両方の層に含有させてもよい。以下
に、添加剤の例を挙げて説明する。例えばオニウム塩、
o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳
香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分
解しない状態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解
性を実質的に低下させる物質を併用することは、画像部
の現像液への溶解阻止性の向上、及び表面硬度の向上を
図る点では好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム
塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
等を挙げることができる。
[Other Components] In forming the positive heat-sensitive layer or the lower layer, various additives are added, if necessary, in addition to the above-mentioned essential components unless the effects of the present invention are impaired. can do. The additive may be contained only in the lower layer or only in the upper heat-sensitive layer. Further, it may be contained in both layers. An example of the additive will be described below. For example onium salt,
The combined use of a substance that is thermally decomposable, such as an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, and an aromatic sulfonic acid ester compound, and that substantially reduces the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound when not decomposed, It is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developing solution and improving the surface hardness. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts and arsonium salts.

【0037】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng.,18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al,Macromolecule
s, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem.& Eng. News, Nov.28, p31 (1
988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049 号、
同第410,201号、特開平2-150848号、特開平2-296514号
に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, Polym
er J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.Org.C
hem.,43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、J. V. C
rivello et al,Polymer Bull., 14, 279(1985) 、J.V.
Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,1141(198
1)、J. V. Crivello etal, J. PolymerSci., Polymer C
hem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第370,693 号、
同233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、米国特許
第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,201 号、同33
9,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,833,
827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580 号、同
3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J. V. Crivello
et al,Macromorecules, 10(6),1307 (1977)、J. V. Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem.Ed., 1
7, 1047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen e
t al, Teh,Proc.Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo,
Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。
オニウム塩のなかでも、表面硬度の向上の点からジアゾ
ニウム塩及びアンモニウム塩が特に好ましい。また、特
に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−15823
0号公報記載のもの、特に好適なアンモニウム塩として
は特願2001-029890号記載のものがあげられる。
Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
l, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
Diazonium salt described in U.S. Pat. No. 4,069,055
No. 4,069,056, ammonium salts described in JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macromolecule
s, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Patent Nos. 4,069,055 and 4,069,056, JVCrivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1
988), European Patent 104,143, US Patent 339,049,
No. 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296514, iodonium salts described in JVCrivello et al, Polym
er J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.Org.C.
hem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), JVC
rivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985), JV
Crivello et al, Macromorecules, 14 (5), 1141 (198)
1), JV Crivello et al, J. PolymerSci., Polymer C
hem. Ed., 17, 2877 (1979), European Patent No. 370,693,
233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 3,902,114, 410,201, 33
9,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,
827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, and
JV Crivello, sulfonium salts described in 3,604,581
et al, Macromorecules, 10 (6), 1307 (1977), JV Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 1
7, 1047 (1979), selenonium salt, CS Wene
t al, Teh, Proc.Conf.Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo,
Examples include arsonium salts described in Oct (1988).
Among the onium salts, diazonium salts and ammonium salts are particularly preferable from the viewpoint of improving the surface hardness. Further, as a particularly preferable diazonium salt, JP-A-5-15823.
Examples of those described in Japanese Patent Application No. 0, particularly preferable ammonium salts include those described in Japanese Patent Application No. 2001-029890.

【0038】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Examples thereof include benzoyl-benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Among these, alkylaromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0039】表面硬度を0.50GPa以上にする手段
としてオニウム系溶解抑制剤、好ましくはアンモニウム
系溶解抑制剤を用いる場合、添加量は上部感熱層の1〜1
5重量%、好ましくは3〜10重量%である。単層型の感熱層
に本方法を適応すると感熱層の感度が著しく低下し現実
的ではないが、アルカリ可溶性樹脂を有する下層との組
合せにおいては、感度を低下させることなく上部感熱層
へ所定の溶解抑制剤の添加を行うことが出来る。但し、
添加量が15重量%を超えると重層系においても感度低下
の懸念がある。
When an onium-based dissolution inhibitor, preferably an ammonium-based dissolution inhibitor, is used as a means for increasing the surface hardness to 0.50 GPa or more, the addition amount is 1 to 1 of the upper heat-sensitive layer.
It is 5% by weight, preferably 3-10% by weight. When this method is applied to a single-layer type heat-sensitive layer, the sensitivity of the heat-sensitive layer is significantly reduced, which is not realistic, but in combination with a lower layer having an alkali-soluble resin, a predetermined amount can be applied to the upper heat-sensitive layer without decreasing the sensitivity. A dissolution inhibitor can be added. However,
If the amount added exceeds 15% by weight, there is a concern that the sensitivity may be lowered even in a multilayer system.

【0040】また、画像のディスクリミネーション(疎
水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵
抗力を強化する目的で、特開2000−187318号
公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20
のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)
アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用する
こと好ましい。このような化合物は、下層、上部感熱層
のどちらに含有させてもよいが、より効果的なのは上部
に位置する感熱層に含有させることである。添加量とし
ては、感熱層材料中に占める割合が0.1〜10重量%
が好ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
Further, as described in JP-A-2000-187318, for the purpose of strengthening image discrimination (hydrophobic / hydrophilic discrimination) and resistance to surface scratches, 3 to 20 carbon atoms in the molecule
Having 2 or 3 perfluoroalkyl groups of (meth)
It is preferable to use a polymer having an acrylate monomer as a polymerization component in combination. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper heat-sensitive layer, but it is more effective to contain it in the upper heat-sensitive layer. The amount of addition is 0.1 to 10% by weight in the heat-sensitive layer material.
Is preferable, and more preferably 0.5 to 5% by weight.

【0041】本発明における印刷版材料中には、キズに
対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低
下させる化合物を添加することもできる。具体的には、
US6117913号公報に用いられているような、長
鎖アルキルカルボン酸のエステルなどを挙げることが出
来る。このような化合物は、下層、上部感熱層のどちら
に含有させてもよいが、より効果的なのは上部に位置す
る上部感熱層に含有させることである。添加量として好
ましいのは、層を形成する材料中に占める割合が0.1
〜10重量%。より好ましくは0.5〜5重量%であ
る。
A compound that lowers the coefficient of static friction of the surface can be added to the printing plate material of the present invention for the purpose of imparting resistance to scratches. In particular,
Examples thereof include esters of long-chain alkylcarboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper heat-sensitive layer, but it is more effective that it is contained in the upper heat-sensitive layer located above. The preferable amount of addition is 0.1% in the material forming the layer.
-10% by weight. It is more preferably 0.5 to 5% by weight.

【0042】また、本発明における下層或いは上部感熱
層中には、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合
物を含んでもよい。酸性基としてはスルホン酸、カルボ
ン酸、リン酸基を挙げることが出来る。中でもスルホン
酸基を有する化合物が好ましい。具体的には、p−トル
エンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スル
ホン酸類や脂肪族スルホン酸類を挙げることが出来る。
このような化合物は、下層、上部感熱層のどちらに含有
させてもよい。添加量として好ましいのは、層を形成す
る材料中に占める割合が0.05〜5重量%。より好ま
しくは0.1〜3重量%である。5%より多いと各層の
現像液に対する溶解性が増加してしまい、好ましくな
い。
Further, the lower layer or the upper heat-sensitive layer in the present invention may optionally contain a compound having a low molecular weight acidic group. Examples of the acidic group include sulfonic acid, carboxylic acid and phosphoric acid groups. Of these, compounds having a sulfonic acid group are preferable. Specific examples thereof include aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, and aliphatic sulfonic acids.
Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper heat-sensitive layer. The amount of addition is preferably 0.05 to 5% by weight in the material forming the layer. It is more preferably 0.1 to 3% by weight. If it exceeds 5%, the solubility of each layer in the developing solution increases, which is not preferable.

【0043】また、本発明においては、下層或いは上部
感熱層の溶解性を調節、上部感熱層の表面硬度を上げる
目的で前述したもの以外の種々の溶解抑制剤を含んでも
よい。それら溶解抑制剤としては、特開平11−119
418号公報に示されるようなジスルホン化合物又はス
ルホン化合物が好適に用いられる。このような化合物
は、下層、上部感熱層のどちらに含有させてもよい。添
加量として好ましいのは、それぞれ層を構成する材料中
に占める割合が0.05〜20重量%。より好ましくは
0.5〜10重量%である。
Further, in the present invention, various dissolution inhibitors other than those mentioned above may be contained for the purpose of adjusting the solubility of the lower or upper heat-sensitive layer and increasing the surface hardness of the upper heat-sensitive layer. Examples of such dissolution inhibitors include JP-A 11-119.
A disulfone compound or a sulfone compound as disclosed in Japanese Patent No. 418 is preferably used. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper heat-sensitive layer. The preferable amount of addition is 0.05 to 20% by weight in the material constituting each layer. It is more preferably 0.5 to 10% by weight.

【0044】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の層を構成す
る材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好まし
くは0.1〜10重量%である。
Further, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids may be used in combination for the purpose of further improving the sensitivity. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride and tetrachlorophthalic anhydride described in U.S. Pat. No. 4,115,128. , Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenyl maleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic dianhydride, etc. can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-
Ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "
-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Examples thereof include tetramethyltriphenylmethane. Further, as organic acids, there are JP-A-60-88942 and JP-A-2.
-96755, sulfonic acids,
There are sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids and the like. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethylsulfuric acid, phenylphosphonic acid, Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like can be mentioned. The content of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the material constituting the layer is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and particularly preferably 0.1. It is 1 to 10% by weight.

【0045】本発明における下層或いは感熱層中には、
露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤
や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができ
る。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を
放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表として挙げることができる。具体的に
は、特開昭50−36209号、同53−8128号の
各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や、特開昭53−36223号、同54−74728
号、同60−3626号、同61−143748号、同
61−151644号及び同63−58440号の各公
報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロ
メチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリア
ジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明
瞭な焼き出し画像を与える。
In the lower layer or heat-sensitive layer of the present invention,
A print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure or a dye or pigment as an image colorant can be added. A typical example of the print-out agent is a combination of a compound that releases an acid when heated by exposure (photo-acid releasing agent) and an organic dye capable of forming a salt. Specifically, o-naphthoquinonediazide-4 described in JP-A Nos. 50-36209 and 53-8128 are disclosed.
-A combination of a sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye, and JP-A-53-36223 and 54-74728.
No. 60-3626, No. 61-143748, No. 61-151644, and No. 63-58440, and combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent stability over time and give a clear printout image.

【0046】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl. Violet (CI42535), ethyl violet, Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201).
5) etc. can be mentioned. In addition, JP-A-62-2
The dyes described in Japanese Patent No. 93247 are particularly preferable. These dyes are added in an amount of 0.
It can be added to the printing plate material in a proportion of 01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid. Oligomers and polymers are used.

【0047】本発明の方法が適用される平版印刷版用原
版の感熱層、下層は、通常上記各成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布することにより形成すること
ができる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−
2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることがで
きるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は
単独あるいは混合して使用される。
The heat-sensitive layer and lower layer of the lithographic printing plate precursor to which the method of the present invention is applied can be usually formed by dissolving each of the above components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-
2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N,
N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-
Examples thereof include methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene, but are not limited thereto. These solvents may be used alone or as a mixture.

【0048】また、塗布に用いる溶剤としては、上部感
熱層に用いるアルカリ可溶性高分子と下層に用いるアル
カリ可溶性高分子に対して溶解性の異なるものを選ぶこ
とが好ましい。つまり、下層を塗布した後、それに隣接
して上層である感熱層を塗布する際、最上層の塗布溶剤
として下層のアルカリ可溶性高分子を溶解させうる溶剤
を用いると、層界面での混合が無視できなくなり、極端
な場合、重層にならず均一な単一層になってしまう場合
がある。このように、隣接する2つの層の界面で混合が
生じたり、互いに相溶して均一層の如き挙動を示す場
合、2層を有することによる本発明の効果が損なわれる
虞があり、好ましくない。このため、上部の感熱層を塗
布するのに用いる溶剤は、下層に含まれるアルカリ可溶
性高分子に対する貧溶剤であることが望ましい。
The solvent used for coating is preferably selected from those having different solubilities in the alkali-soluble polymer used in the upper heat-sensitive layer and the alkali-soluble polymer used in the lower layer. In other words, when the lower layer is applied and then the upper heat-sensitive layer is applied adjacent thereto, if a solvent capable of dissolving the lower layer alkali-soluble polymer is used as the uppermost layer coating solvent, the mixing at the layer interface is ignored. In some extreme cases, it becomes impossible to form multiple layers and a uniform single layer is formed. As described above, when mixing occurs at the interface between two adjacent layers or when they are compatible with each other and behave like a uniform layer, the effect of the present invention due to having two layers may be impaired, which is not preferable. . Therefore, the solvent used for coating the upper heat-sensitive layer is preferably a poor solvent for the alkali-soluble polymer contained in the lower layer.

【0049】各層を塗布する場合の溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上
の感熱層の塗布量(固形分)は、用途によって異なる
が、感熱層は0.05〜1.0g/m2であり、下層は
0.3〜3.0g/m2であることが好ましい。感熱層
が0.05g/m2未満である場合には、画像形成性が
低下し、1.0g/m2を超えると感度が低下する可能
で入がでてくる。また、下層の塗布量は上記の範囲を外
れると少なすぎる場合も、多すぎる場合にも画像形成性
が低下する傾向がある。また、前記の2層の合計で0.
5〜3.0g/m2であることが好ましく、塗布量が
0.5g/m2未満であると被膜特性が低下し、3.0
g/m2を超えると感度が低下する傾向にある。塗布量
が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感
光膜の皮膜特性は低下する。
The concentration of the above-mentioned components (total solid content including additives) in the solvent when applying each layer is preferably 1-5.
It is 0% by weight. The coating amount (solid content) of the heat-sensitive layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but the heat-sensitive layer is 0.05 to 1.0 g / m 2 , and the lower layer is 0.3 to 3 It is preferably 0.0 g / m 2 . When the heat-sensitive layer is less than 0.05 g / m 2, the image forming property is lowered, sensitivity exceeds 1.0 g / m 2 comes out is ON can be reduced. Further, if the coating amount of the lower layer is out of the above range, the image forming property tends to be deteriorated when the amount is too small or too large. In addition, the total of the above two layers is 0.
Is preferably 5~3.0g / m 2, film properties is reduced and the amount of coating is less than 0.5g / m 2, 3.0
If it exceeds g / m 2 , the sensitivity tends to decrease. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate.

【0050】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。本発明における感熱層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1709
50号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、下層或い
は上部感熱層全固形分中0.01〜1重量%、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating and roll coating. You can In the heat-sensitive layer of the present invention, a surfactant for improving the coatability, for example, JP-A-62-1709.
Fluorine-based surfactants such as those described in Japanese Patent Publication No. 50 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight based on the total solid content of the lower layer or the upper heat-sensitive layer.

【0051】〔支持体〕本発明に使用される平版印刷版
用原版の支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた
寸度的に安定な板状物が挙げられ、例えば、紙、プラス
チック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、
アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム
(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき
金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプ
ラスチックフィルム等が含まれる。
[Support] The support of the lithographic printing plate precursor used in the present invention includes a dimensionally stable plate-like material having necessary strength and durability, such as paper, Paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg,
Aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate,
Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), a paper laminated with the above-mentioned metal, or vapor-deposited, or a plastic film.

【0052】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム
合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film in which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese,
Examples include copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight.

【0053】本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in terms of refining technology, and thus may contain slightly different elements. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0054】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
Prior to roughening the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. Roughening treatment of the surface of the aluminum plate,
Various methods are used, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution.
Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used. The thus roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to anodizing treatment if desired to enhance the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

【0055】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
The treatment conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used and cannot be unconditionally specified. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80 wt% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , printing durability may be insufficient, or the non-image area of the planographic printing plate may be easily scratched.
So-called "scratch stains" tend to occur in which ink adheres to the scratched portion during printing. After being subjected to anodizing treatment, the aluminum surface is optionally subjected to hydrophilic treatment. Examples of the hydrophilic treatment used in the present invention include US Pat.
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There are alkali metal silicate (eg sodium silicate aqueous solution) methods such as those disclosed in 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolyzed. In addition, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272 are disclosed. The method of treating with polyvinylphosphonic acid as described above is used.

【0056】本発明に適用される平版印刷版用原版は、
支持体上に少なくとも上部感熱層と下層の2層を積層し
て設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との
間に下塗層を設けることができる。下塗層成分としては
種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチ
ルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミ
ノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸な
どの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリ
ン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリ
ン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びト
リエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して
用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor applied to the present invention is
Although at least two layers of an upper heat-sensitive layer and a lower layer are laminated on the support, an undercoat layer may be provided between the support and the lower layer, if necessary. Various organic compounds are used as the undercoat layer component, and examples thereof include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent. , Naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, organic phosphonic acid such as methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, etc. Organic phosphoric acid, phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Has a hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

【0057】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied onto an aluminum plate and dried, and an organic solvent such as water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied. Is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved to adsorb the above compound, followed by washing with water or the like and drying to provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by weight of the above organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
And the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5
The temperature is 0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted within the range of 1 to 12 by using a basic substance such as triethylamine and potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid and phosphoric acid. Further, a yellow dye may be added to improve the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is appropriately 2 to 200 mg / m 2 , and preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same applies when the amount is larger than 200 mg / m 2 .

【0058】上記のようにして作成されたポジ型平版印
刷版用原版は、本発明に係る製版方法に従って画像様に
露光され、その後、現像処理を施される。像露光に用い
られる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、
X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、
i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザ
ービーム)も使用される。レーザービームとしてはヘリ
ウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトン
レーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザー等が挙げられる。本発明においては、近赤
外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体
レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
The positive-working lithographic printing plate precursor prepared as described above is imagewise exposed in accordance with the plate-making method of the present invention, and then developed. As a light source of actinic rays used for image exposure, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp,
There are carbon arc lamps. As radiation, electron beam,
There are X-rays, ion beams, far infrared rays, and the like. Also g line,
i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. Examples of the laser beam include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, and KrF excimer laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0059】本発明の方法において平版印刷版用原版の
現像に用いる現像液および補充液としては、従来から知
られている、緩衝作用を有する有機化合物と塩基とを主
成分とし、実質上、二酸化ケイ素を含有しないアルカリ
現像液を用いることを要する。本発明では、このような
現像液を以下、「非シリケート現像液」と称する。な
お、ここで「実質上」とは不可避の不純物及び副生成物
としての微量の二酸化ケイ素の存在を許容することを意
味する。本発明の画像形成方法において、前記平版印刷
版用原版の現像工程に、このような非シリケート現像液
を適用することで、傷の発生抑制効果は発現され、画像
部に欠陥のない、良好な平版印刷版を得ることができ
る。アルカリ水溶液としては、特にpH12.5〜1
3.5のものが好ましい。
In the method of the present invention, the developing solution and the replenishing solution used for the development of the lithographic printing plate precursor are composed mainly of a conventionally known organic compound having a buffering action and a base, and are substantially oxidized. It is necessary to use an alkaline developer that does not contain silicon. In the present invention, such a developing solution is hereinafter referred to as "non-silicate developing solution". Here, "substantially" means allowing the presence of inevitable impurities and a trace amount of silicon dioxide as a by-product. In the image forming method of the present invention, by applying such a non-silicate developer in the development step of the lithographic printing plate precursor, the effect of suppressing the occurrence of scratches is expressed, and there is no defect in the image area, which is good. A lithographic printing plate can be obtained. The pH of the alkaline aqueous solution is particularly 12.5-1.
3.5 is preferable.

【0060】本発明の製版方法に用いる「非シリケート
現像液」は、前記したように緩衝作用を有する有機化合
物と塩基とを主成分とするものである。緩衝作用を有す
る有機化合物としては、特開平8−220775号公報
に緩衝作用を有する化合物として記載されている糖類
(特に一般式(I)又は(II)で表されるもの)、オキ
シム類(特に一般式(III)で表されるもの)、フェノ
ール類(特に一般式(IV)で表されるもの)及びフッ素
化アルコール類(特に一般式(V)で表されるもの)等
が挙げられる。一般式(I)〜(V)で表される化合物
のなかでも、好ましいものは、一般式(I)又は(II)
で表される糖類、一般式(V)で表されるフェノール類
であり、さらに好ましくは一般式(I)又は(II)で表
される糖類のうち、サッカロース等の非還元糖又はスル
ホサリチル酸である。非還元糖には、還元基同士の結合
したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結
合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖アルコー
ル等が包含される。本発明ではこれらのいずれも好適に
用いられる。
The "non-silicate developer" used in the plate-making method of the present invention is composed mainly of an organic compound having a buffering action and a base as described above. Examples of the organic compound having a buffering action include saccharides (especially those represented by the general formula (I) or (II)) described in JP-A-8-220775 as a compound having a buffering action, and oximes (especially General formula (III)), phenols (particularly represented by general formula (IV)), fluorinated alcohols (particularly represented by general formula (V)) and the like. Among the compounds represented by the general formulas (I) to (V), preferable compounds are those represented by the general formula (I) or (II).
And a phenol represented by the general formula (V), more preferably a non-reducing sugar such as saccharose or a sulfosalicylic acid among the saccharides represented by the general formula (I) or (II). is there. The non-reducing sugars include trehalose-type oligosaccharides having reducing groups bound to each other, glycosides having reducing groups of saccharides bound to non-saccharides, sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing saccharides, and the like. In the present invention, any of these is preferably used.

【0061】前記トレハロース型少糖類としては、例え
ば、サッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖
体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖
体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコール
としては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キ
シリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニット、
D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、ア
ロズルシット等が挙げられる。さらには、二糖類の水素
添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得
られる還元体(還元水あめ)等も好適に挙げることがで
きる。
Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose, and examples of the glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides and the like. Examples of the sugar alcohol include, for example, D, L-arabite, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-annitol,
Examples thereof include D, L-idit, D, L-talit, zuricit, and alodulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reduced form (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can be preferably mentioned.

【0062】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが、適度なpH領域
に緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖
は、単独でも、二種以上を組合せてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30重量%が好ましく、
1〜20重量%がより好ましい。
Of the above, sugar alcohol and saccharose are preferable as the non-reducing sugar, and among them, D-sorbit, sucrose and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the proportion in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight,
1 to 20% by weight is more preferable.

【0063】前記緩衝作用を有する有機化合物には、塩
基としてアルカリ剤を、従来公知のものの中から適宜選
択して組合せることができる。前記アルカリ剤として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム等の無機
アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウム、
クエン酸ナトリウム等が挙げられる。さらに、モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソ
プロピルァミン、n−ブチルアミン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モ
ノイソプロパノールアミン、ジイソブロパノールアミ
シ、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の
有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。これらの
アルカリ剤は、単独で用いても、二種以上を組合わせて
用いてもよい。
An alkaline agent as a base may be appropriately selected and combined from the conventionally known compounds as the organic compound having a buffering action. Examples of the alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Inorganic alkaline agents such as potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate,
Sodium citrate and the like can be mentioned. Furthermore, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol. Preference is also given to organic alkali agents such as neuramis, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine and the like. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0064】なかでも、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量
を調整することにより、広いpH領域においてpH調整
が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、
リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等も
それ自身に緩衝作用があるので好ましい。
Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting the addition amount to the non-reducing sugar. Also, trisodium phosphate,
Tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering effect by themselves.

【0065】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版用原版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液および補充液に
は、現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版
画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々
の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活
性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系お
よび両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補
充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、
亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カ
リウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬
水軟化剤を加えることもできる。
Furthermore, in the case of developing using an automatic processor, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer.
It is known that a large amount of the lithographic printing plate precursor can be processed by replacing the developing solution in the developing tank for a long time without adding the developing solution to the developing solution. Also in the present invention, this replenishment system is preferably applied. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the development residue and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, in the developing solution and the replenishing solution, if necessary, hydroquinone, resorcin,
It is also possible to add a reducing agent such as sodium salt or potassium salt of an inorganic acid such as sulfurous acid or bisulfite, and further an organic carboxylic acid, an antifoaming agent or a water softener.

【0066】上記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
The printing plate developed using the above-mentioned developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-treatment when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, various combinations of these treatments can be used.

【0067】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate, each processing liquid tank and a spraying device, which conveys an exposed printing plate horizontally while pumping it up with each pump. The processing liquid is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing, it is possible to perform processing while supplementing each processing solution with a replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.

【0068】本発明に係る平版印刷版用原版において
は、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/
又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部
(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある
場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。こ
のような消去は、例えば特公平2−13293号公報に
記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、
そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより
行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号
公報に記載されているようなオプティカルファイバーで
導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像す
る方法も利用できる。
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, imagewise exposure, development, washing and / or rinsing and / or
Alternatively, when the planographic printing plate obtained by gumming has an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original image film), the unnecessary image portion is erased. For such erasing, for example, an erasing liquid as described in Japanese Patent Publication No. 2-13293 is applied to an unnecessary image portion,
It is preferable to carry out a process of leaving it as it is for a predetermined time and then washing it with water. However, as described in JP-A-59-174842, the unnecessary rays are irradiated with an actinic ray guided by an optical fiber and then developed. The method to do is also available.

【0069】以上のようにして本発明の製版方法により
得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布し
たのち、印刷工程に供することができるが、より一層の
高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理
が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。その方法としては、該整面液を浸み
込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布す
るか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗
布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用され
る。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージ
ローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ま
しい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained by the plate-making method of the present invention as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum, if desired. When it is desired to make a printing plate, a burning process is performed. When the planographic printing plate is burned, Japanese Patent Publication Nos. 61-2518 and 55-280 should be used before burning.
62, JP-A-62-31859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a leveling solution as described in JP-A-55. As the method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution, it is applied on the lithographic printing plate, or by immersing the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting solution, Application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results.

【0070】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The amount of the surface conditioning solution applied is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is suitable. The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then a burning processor (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “BP-130”).
0 ") and so on. The heating temperature and time in this case depend on the types of components forming the image,
The range of 180 to 300 ° C. and the range of 1 to 20 minutes are preferable.

【0071】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate which has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0072】[0072]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 〔支持体基板の作製〕Si:0. 06質量%、Fe:
0.30質量%、Cu:0. 014質量%、Mn:0.
001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.0
01質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はA
lと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調
製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500m
m、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表
面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、
550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下が
ったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧
延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500
℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmのアルミ
ニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅1030
mmにした後、以下に示す表面処理を連続的に行った。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The scope of the invention is not limited to these examples. [Preparation of support substrate] Si: 0.06 mass%, Fe:
0.30% by mass, Cu: 0.014% by mass, Mn: 0.
001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.0
01% by mass, Ti: 0.03% by mass, balance A
A molten metal was prepared by using 1 and aluminum alloy of unavoidable impurities, subjected to molten metal treatment and filtration, and then had a thickness of 500 m.
A m ingot having a width of 1200 mm was prepared by a DC casting method. After scraping the surface with an average thickness of 10 mm with a chamfer,
It was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., a rolled plate having a thickness of 2.7 mm was formed using a hot rolling mill. Further, heat treatment is performed for 500 times using a continuous annealing machine.
After being performed at 0 ° C., cold rolling was performed to finish an aluminum plate having a thickness of 0.24 mm. This aluminum plate has a width of 1030
After the thickness was adjusted to mm, the following surface treatment was continuously performed.

【0073】(a)機械的粗面化処理 比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨
スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しなが
ら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗
面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は
50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナ
イロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであっ
た。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒
に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3
本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200
mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブ
ラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラを
アルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kW
プラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はア
ルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転
数は200rpmであった。
(A) Mechanical roughening treatment A roller-shaped nylon brush that rotates while supplying a suspension of an abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to the surface of an aluminum plate. Was used to mechanically roughen the surface. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6.10 nylon, the bristle length was 50 mm, and the bristle diameter was 0.3 mm. The nylon brush was prepared by forming holes in a stainless steel cylinder having a diameter of 300 mm and densely implanting the bristles. 3 rotating brushes
I used this book. Two support rollers under the brush (φ200
mm) was 300 mm. As for the brush roller, the load of the drive motor that rotates the brush is 7 kW against the load before the brush roller is pressed against the aluminum plate.
Hold down until it becomes positive. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

【0074】(b)アルカリ剤によるエッチング処理 上記で得られた機械的粗面化処理後のアルミニウム板を
カセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃
度6.5質量%、温度70℃でスプレーによるエッチン
グ処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Etching treatment with alkaline agent The aluminum plate after the mechanical roughening treatment obtained above was sprayed at a caustic soda concentration of 2.6% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass and a temperature of 70 ° C. An etching treatment was performed to melt the aluminum plate at 6 g / m 2 .
Then, washing with water was performed by spraying.

【0075】(c)デスマット処理 温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイ
オンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマ
ット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を
用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment Desmutting treatment was carried out by spraying with a 1% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a temperature of 30 ° C., and thereafter, washing with water was carried out by spraying. As the nitric acid aqueous solution used for the desmut, a waste liquid from the step of electrochemically roughening the surface of the nitric acid aqueous solution using an alternating current was used.

【0076】(d)電気化学的粗面化処理 60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面
化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10g/L
水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウム
イオンを0.007質量%含む。)、温度80℃であっ
た。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、電気
量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で130C
/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の
5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行っ
た。
(D) Electrochemical surface roughening treatment Electrochemical surface roughening treatment was continuously carried out using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is 10 g / L of nitric acid.
The solution was an aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ion and 0.007 mass% of ammonium ion) at a temperature of 80 ° C. The current density is 30 A / dm 2 at the peak value of the current, and the quantity of electricity is 130 C as the total quantity of electricity when the aluminum plate is the anode.
/ Dm 2 . 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, washing with water was performed by spraying.

【0077】(e)アルカリエッチング処理 アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミ
ニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチ
ング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g
/m2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化
を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とす
るスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッ
ジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、
スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment An aluminum plate was subjected to a spray etching treatment at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to give 0.20 g of the aluminum plate.
/ M 2 melted and the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical roughening was performed using the alternating current in the previous stage was removed, and the edge portion of the generated pit was melted. To smooth the edges. afterwards,
It was washed with water by spraying.

【0078】(f)デスマット処理 温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行っ
た。
(F) Desmutting treatment Desmutting treatment was carried out by spraying with an aqueous 25% by weight sulfuric acid solution (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a temperature of 60 ° C., and then washing with water was carried out by spraying.

【0079】(g)陽極酸化処理 二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一および第二電
解部長各6m、第一および第二給電部長各3m、第一お
よび第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理
を行った。第一および第二電解部に供給した電解液とし
ては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度1
70g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%
含む。)、温度43℃であった。その後、スプレーによ
る水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2
であった。
(G) Anodizing treatment Anodizing device of the two-stage power feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section lengths each 6 m, first and second power feed section lengths 3 m, first and second power feed electrode lengths 2 each) .4 m) was used to perform anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis sections. The electrolytes are all sulfuric acid concentration 1
70 g / liter (0.5% by mass of aluminum ion)
Including. ) And the temperature was 43 ° C. Then, washing with water was performed by spraying. Final oxide film amount is 2.7 g / m 2
Met.

【0080】(h)アルカリ金属ケイ酸塩処理 陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度
30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中
へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩
処理(シリケート処理)を行った。その後、スプレーに
よる水洗を行った。
(H) Alkali Metal Silicate Treatment By immersing the aluminum support obtained by anodizing treatment in a treated layer of a 1% by mass aqueous solution of No. 3 sodium silicate at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. Alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed. Then, washing with water was performed by spraying.

【0081】(i)下塗層の形成 上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後
のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗液を塗布
し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥
後の塗膜の被覆量は15mg/m2 であった。
(I) Formation of Undercoat Layer An undercoat solution having the following composition was coated on the aluminum metal silicate-treated aluminum support obtained as described above, and dried at 80 ° C. for 15 seconds. A coating film was formed. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

【0082】 <下塗液組成> ・下記化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[0082] <Undercoat composition>   ・ The following compound 0.3g   ・ Methanol 100g   ・ Water 1g

【0083】[0083]

【化1】 [Chemical 1]

【0084】〔実施例1〕得られた基板に以下の下層用
塗布液を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布した
のち、TABAI社製、PERFECT OVEN P
H200にてWind Controlを7に設定して
140度で50秒間乾燥し、その後、感熱層用塗布液を
塗布量が0.15g/m2になるよう塗布したのち、1
20度で1分間乾燥し、平版印刷版用原版1を得た。
[Example 1] The following coating solution for lower layer was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 0.85 g / m 2, and then PERFECT OVEN P, manufactured by TABAI.
Wind Control is set to 7 in H200 and dried at 140 ° C. for 50 seconds, and then the heat-sensitive layer coating solution is applied at a coating amount of 0.15 g / m 2 and then 1
It was dried at 20 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor 1.

【0085】 (下層用塗布液) ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル (36/34/30:重量平均分子量50000、酸価2.65) 2.133g ・シアニン染料A(下記構造) 0.109g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート 0.030g ・エチルバイオレットの対イオンを 6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.10g ・メガファックF176、大日本インキ工業(株)社製 (塗布面状改良フッ素系界面活性剤) 0.035g ・メチルエチルケトン 25.38g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g ・γ−ブチロラクトン 13.2g[0085] (Coating liquid for lower layer) ・ N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /     Acrylonitrile / methyl methacrylate     (36/34/30: weight average molecular weight 50,000, acid value 2.65) 2.133 g ・ Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g * 4,4'-bishydroxyphenyl sulfone 0.126 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g -P-toluenesulfonic acid 0.008 g ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine     Hexafluorophosphate 0.030 g ・ Ethyl violet counter ion     Replaced with 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.10 g ・ Megafuck F176, manufactured by Dainippon Ink and Machinery Co., Ltd.   (Coating surface condition improving fluorinated surfactant) 0.035g ・ Methyl ethyl ketone 25.38 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 13.0 g -Γ-butyrolactone 13.2 g

【0086】[0086]

【化2】 [Chemical 2]

【0087】 〔上部感熱層用塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 4500、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.2846g ・シアニン染料A(上記構造) 0.075g ・メガファックF176(20%)、大日本インキ化学工業(株)製 (面状改良界面活性剤) 0.022g ・メガファックMCF−312(30%)、大日本インキ工業(株)社製〕 (画像形成改良フッ素系界面活性剤) 0.120g ・メチルエチルケトン 15.1g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g[0087] [Coating liquid for upper heat-sensitive layer] -M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight     4500, containing 0.8% by weight of unreacted cresol) 0.2846 g ・ Cyanine dye A (the above structure) 0.075 g ・ Megafuck F176 (20%), manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.         (Surface-improving surfactant) 0.022g ・ MegaFac MCF-312 (30%), manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.]         (Image forming improved fluorinated surfactant) 0.120 g ・ Methyl ethyl ketone 15.1 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 7.7 g

【0088】更に、表面硬度の測定を行うため以下のよ
うな実験を行った。平版印刷版用原版支持体としての処
理を施していない平滑なアルミニウムの表面に平版印刷
版用原版1で用いた感光層用塗液をそれぞれ感膜で下層
0.85g/m2、 上部感熱層0.15g/m2になる
よう順次塗布し、140℃50秒で乾燥した後、ハイジ
トロン社製トライボスコープを用いて超微小荷重による
上部感熱層の硬度を測定した。対頂角90度のダイヤモン
ド圧子を用い、30μNの押し込み荷重時の押し込み深
さは66nmであり、特開平10-326406号公報と同様の
算出方法により、硬度は0.64GPaと算出された。
Further, the following experiment was conducted to measure the surface hardness. On the smooth aluminum surface which has not been treated as a lithographic printing plate precursor support, the photosensitive layer coating liquid used in the lithographic printing plate precursor 1 is used as a photosensitive film in a lower layer of 0.85 g / m 2 and an upper heat sensitive layer. The coating was sequentially applied at 0.15 g / m 2 and dried at 140 ° C. for 50 seconds, and then the hardness of the upper heat-sensitive layer under an ultra small load was measured using a triboscope manufactured by Heiditron. Using a diamond indenter with an apex angle of 90 degrees, the indentation depth under an indentation load of 30 μN was 66 nm, and the hardness was calculated to be 0.64 GPa by the same calculation method as in JP-A-10-326406.

【0089】〔実施例2〕実施例1の上部感熱層塗布液
のシアニン色素Aを0.050gに変更した以外は実施
例1と同様にして平版印刷版用原版2を得た。更に実施
例1と同様に表面硬度を評価し、硬度は0.53GPa
と算出された。
[Example 2] A lithographic printing plate precursor 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the cyanine dye A in the coating solution for the upper heat-sensitive layer of Example 1 was changed to 0.050 g. Further, the surface hardness was evaluated in the same manner as in Example 1, and the hardness was 0.53 GPa.
Was calculated.

【0090】〔比較例1〕実施例1の上部感熱層塗布液
のシアニン色素Aを0.030gに変更した以外は実施
例1と同様にして平版印刷版用原版3を得た。更に実施
例1と同様に表面硬度を評価し、硬度は0.45GPa
と算出された。
Comparative Example 1 A lithographic printing plate precursor 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the cyanine dye A in the coating solution for the upper heat-sensitive layer of Example 1 was changed to 0.030 g. Further, the surface hardness was evaluated in the same manner as in Example 1, and the hardness was 0.45 GPa.
Was calculated.

【0091】〔実施例3)実施例1の上部感熱層塗布液
のシアニン色素Aを0.033gに変更し、新たにテト
ラブチルアンモニウムヘキサフルオロボーレートを0.
03g添加した以外は実施例1と同様にして平版印刷版
用原版4を得た。更に実施例1と同様に表面硬度を評価
し、硬度は0.57GPaと算出された。
[Example 3] The cyanine dye A in the coating solution for the upper heat-sensitive layer of Example 1 was changed to 0.033 g, and tetrabutylammonium hexafluoroborate was newly added.
A lithographic printing plate precursor 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 03 g was added. Further, the surface hardness was evaluated in the same manner as in Example 1, and the hardness was calculated to be 0.57 GPa.

【0092】〔実施例4〕実施例1の上部感熱層塗布液
のシアニン色素Aを0.033g、アゾジフェニルアミ
ンヘキサフルオロホスフェートを0.03g添加した以
外は実施例1と同様にして平版印刷版用原版5を得た。
更に実施例1と同様に表面硬度を評価し、硬度は0.6
2GPaと算出された。
Example 4 A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.033 g of cyanine dye A and 0.03 g of azodiphenylamine hexafluorophosphate were added to the coating solution for the upper heat-sensitive layer of Example 1. I got the original version 5.
Further, the surface hardness was evaluated in the same manner as in Example 1, and the hardness was 0.6
It was calculated to be 2 GPa.

【0093】〔平版印刷版用原版の評価〕 (耐キズ性テスト)得られた本発明の平版印刷版用原版
1,2及び4,5、比較例の平版印刷版用原版3をHEIDO
N社製引っかき試験機を用いてダイヤ(先端径1.0m
m)に荷重をかけてプレートを引っかき、その後、富士
写真フイルム(株)製現像液DT−1(希釈して、電導
度45mS/cmとしたもの)で現像し、傷が視認でき
る荷重を表示した。数値が大きいほど耐キズ性に優れて
いると評価する。現像液(DT−1)は主成分がソルビ
トールであり、非シリケート現像液である。耐キズ性評
価の結果を表1に示す。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor] (Scratch resistance test) Obtained lithographic printing plate precursor of the present invention
HEIDO 1, 2 and 4,5, the lithographic printing plate precursor 3 of the comparative example
Using a scratch tester manufactured by N company, diamond (tip diameter 1.0m
m) is applied with a load to scratch the plate, and then developed with Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-1 (diluted to have an electric conductivity of 45 mS / cm), and the load at which scratches are visible is displayed. did. It is evaluated that the larger the value is, the more excellent the scratch resistance is. The developing solution (DT-1) is a non-silicate developing solution whose main component is sorbitol. The results of the scratch resistance evaluation are shown in Table 1.

【0094】[0094]

【表1】 [Table 1]

【0095】表1に明らかなように、本発明の平版印刷
版用原版1、2,4及び5は、比較例の平版印刷版用原
版3に比較し、硬度が高く、良好な耐キズ性を示した。
なお、赤外吸収染料重量%は、上部感熱層組成物の全固
形分に対する配合量を示す。
As is clear from Table 1, the lithographic printing plate precursors 1, 2, 4 and 5 of the present invention have higher hardness and good scratch resistance than the lithographic printing plate precursor 3 of Comparative Example. showed that.
In addition, the infrared absorption dye weight% shows the compounding quantity with respect to the total solid content of the upper heat-sensitive layer composition.

【0096】[0096]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版及び製版方法
は、感熱層を二層構造とし、その上部感熱層の表面硬度
を0.50GPa以上とすることにより、赤外線レーザ
記録方式に適合し、耐キズ性に優れた、即ち画像部の傷
に起因する欠陥の発生が抑制されたダイレクト製版用の
ポジ型平版印刷版用原版を得ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The lithographic printing plate precursor and plate-making method of the present invention are adapted to the infrared laser recording system by forming the heat-sensitive layer into a two-layer structure and setting the surface hardness of the upper heat-sensitive layer to 0.50 GPa or more. It is possible to obtain a positive-working lithographic printing plate precursor for direct plate making which is excellent in scratch resistance, that is, in which generation of defects due to scratches in the image area is suppressed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AB03 AC08 AD03 CB52 CC11 DA36 DA40 FA10 FA17 2H096 AA06 BA09 CA03 CA20 EA04 EA23 GA08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H025 AA04 AB03 AC08 AD03 CB52                       CC11 DA36 DA40 FA10 FA17                 2H096 AA06 BA09 CA03 CA20 EA04                       EA23 GA08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性支持体上に、水不溶性且つアルカ
リ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶
性樹脂及び赤外線吸収染料を含有し、加熱によりアルカ
リ性水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層とを、
順次積層して有し、前記上部感熱層の表面硬度が0.5
0GPa以上であることを特徴とするポジ型平版印刷版
用原版。
1. An upper heat-sensitive layer comprising a hydrophilic support, a lower layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, and a water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared absorbing dye, the solubility of which is increased in an alkaline aqueous solution by heating. And
The upper heat-sensitive layer has a surface hardness of 0.5.
A positive-working lithographic printing plate precursor, which is 0 GPa or more.
【請求項2】 前記上部感熱層の表面硬度が0.60G
Pa以上であることを特徴とする請求項1に記載のポジ
型平版印刷版用原版。
2. The surface hardness of the upper heat-sensitive layer is 0.60 G.
The positive planographic printing plate precursor according to claim 1, which has a Pa value of at least Pa.
【請求項3】 前記上部感熱層に赤外線吸収染料を10
重量%以上の範囲で含有することを特徴とする請求項1
又は2に記載のポジ型平版印刷版用原版。
3. An infrared absorbing dye is added to the upper thermosensitive layer in an amount of 10%.
The content is in the range of weight% or more.
Alternatively, the positive planographic printing plate precursor as described in 2 above.
【請求項4】 前記上部感熱層にオニウム型溶解抑制剤
を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載のポジ型平版印刷版用原版。
4. The positive-working lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the upper heat-sensitive layer contains an onium-type dissolution inhibitor.
【請求項5】 親水性支持体上に、水不溶性且つアルカ
リ可溶性樹脂を含む下と、水不溶性且つアルカリ可溶性
樹脂及び赤外線吸収染料を含み、加熱によりアルカリ性
水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層とを順次積
層してなり、前記上部感熱層の表面硬度が0.50GP
a以上とした平版印刷版用原版を、画像様に露光した
後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするポジ型
平版印刷版用原版の製版方法。
5. An upper heat-sensitive layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin on a hydrophilic support, and an upper heat-sensitive layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared absorbing dye and having an increased solubility in an alkaline aqueous solution by heating. And the surface hardness of the upper heat-sensitive layer is 0.50 GP.
A method for making a positive type lithographic printing plate precursor, which comprises exposing the lithographic printing plate precursor a or more described above to imagewise and then developing with an alkali developer.
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