JP2003027159A - 銀−ニッケル系焼結接点材料 - Google Patents

銀−ニッケル系焼結接点材料

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JP2003027159A JP2001213230A JP2001213230A JP2003027159A JP 2003027159 A JP2003027159 A JP 2003027159A JP 2001213230 A JP2001213230 A JP 2001213230A JP 2001213230 A JP2001213230 A JP 2001213230A JP 2003027159 A JP2003027159 A JP 2003027159A
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Masahito Hidaka
将人 日高
Tsuguo Inasawa
嗣夫 稲澤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電気回路に使用される接点材料において、ポ
ーラスによる発熱防止効果と低接触抵抗の安定性に優れ
た焼結接点材料を目的とする。 【解決手段】 接点材料は、0.1〜20重量%のニッ
ケル(Ni)と、残部銀(Ag)の焼結合金、もしくは
0.1〜20重量%のニッケル(Ni)と0.1〜10
重量%の銅(Cu)、残部銀(Ag)の焼結合金で、前
記焼結合金中のNi粉3の粒径が100μm以下であ
り、かつポーラス(空孔)を設けることにより、発熱防
止効果や接触抵抗の安定性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】本発明は銀−ニッケル系の焼
結合金からなる焼結接点材料に関するものである。
【従来の技術】電気回路用の接点材料にはスリップリン
グ、スイッチなどがあり、その用途、電気回路に応じて
接触抵抗の安定性、耐アーク性、耐溶着性、耐消耗性な
どの諸特性が要求される。現在広く用いられている電気
接点材料は、いくつかの系統的材質に分類できる。一般
的には前記各諸特性の要求度合によって、適当な材料を
選択、組み合わせて使用される。例えば、中負荷以下の
電流域の電気接点材料には、高導電率に優れるAgを主
成分とした銀−ニッケル系、銀−炭素系、銀−銅系など
が多用される。しかし、従来の焼結接点材料としては、
特開平8−13065号公報に記載されたものが知られ
ており、焼結合金中に空孔が存在させないこととある特
定の材料を選択して接点部分の発熱を抑えるようにして
いる。しかし、従来の方法ではスリップリングのように
低速で回転摺動し電気伝導する接点材料では、接点材料
と摺動材料との接触による発熱やこの発熱による溶着や
黒化物が発生することがあった。また、低接触抵抗を維
持、つまり接点材料部分での電気損失を少なくすること
が課題であった。
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の課題を解決するものでありポーラスによる発熱防
止効果と接触抵抗の安定性、潤滑性・分散効果に優れた
焼結接点材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、0.1〜20重量%のニッケル(Ni)と
0〜10重量%の添加剤としてAu、Pt、Pd、R
h、Os、Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr,
Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Z
r、Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、Bi、
La、Sm、Gdの単元素または少なくとも2種類以上
の合金元素と、残部銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結
合金中のニッケル粒子の粒径が100μm以下であり、
かつポーラス(空孔)が存在することを特徴とし、もう
一つの発明の焼結接点材料は、0.1〜20重量%のニ
ッケル(Ni)と0.1〜10重量%の銅(Cu)と0
〜10重量%の添加剤としてAu、Pt、Pd、Rh、
Os、Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr,M
n、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、
Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、Bi、L
a、Sm、Gdの単元素または少なくとも2種類以上の
合金元素と、残部銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結合
金中のニッケル粒子と銅粒子の粒径が100μm以下で
あり、かつポーラス(空孔)が存在することを特徴とす
る。さらに、本発明の焼結接点材料は0.1〜20重量
%のニッケル(Ni)と、水アトマイズ法により0.1
〜10重量%の銅(Cu)粉と0〜10重量%の添加剤
としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、Ir、Mg、A
l、Si、Ti、V、Cr,Mn、Fe、Co、Cu、
Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Cd、In、S
b、Ta、W、Pb、Bi、La、Sm、Gdの単元素
または少なくとも2種類以上の合金元素と、残部銀(A
g)粉との均一な合金粉との焼結合金とし、前記焼結合
金中のニッケル粒子と銅−銀粒子の粒径が100μm以
下であり、かつポーラス(空孔)が存在することを特徴
とし、さらに水アトマイズ法により0.1〜10重量%
の銅(Cu)粉と、0.1〜20重量%のニッケル(N
i)との均一な合金粉と、水アトマイズ法により0.1
〜10重量%の銅(Cu)粉と、0〜10重量%の添加
剤としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、Ir、Mg、
Al、Si、Ti、V、Cr,Mn、Fe、Co、C
u、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Cd、In、
Sb、Ta、W、Pb、Bi、La、Sm、Gdの単元
素または少なくとも2種類以上の合金元素と、残部銀
(Ag)粉との均一な合金粉との焼結合金とし、前記焼
結合金中の銅−ニッケル粒子と銅−銀粒子の粒径が10
0μm以下であり、かつポーラス(空孔)が存在するこ
とを特徴とする。以上のような本発明の焼結接点材料で
は、ポーラスがあることにより接点材料と摺動材料との
接触による熱を全体に分散させることができ、ベース材
の銀にニッケルまたは銅を混ぜることで接点材料自体の
硬度を上げる効果があり、接点材料と摺動材料の溶着を
抑えることができる。また、ポーラスがあることにより
接触抵抗を安定させるために潤滑材などを接点材料に充
填することができて、保油性に優れた長期的に接触抵抗
の安定性を維持することができる。さらに、水アトマイ
ズ法によりニッケル−銀、銅−ニッケルもしくは銅−銀
を使用することで接点材料に銅相、ニッケル相を均一に
分散することができて低接触抵抗を維持できる。
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、0.1〜20重量%のニッケル(Ni)と0〜10
重量%の添加剤としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、
Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr,Mn、F
e、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、
Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、Bi、La、S
m、Gdの単元素または少なくとも2種類以上の合金元
素と、残部銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結合金中の
ニッケル粒子の粒径が100μm以下であり、かつポー
ラス(空孔)が存在することを特徴とする焼結接点材料
であり、発熱防止効果という作用を有する。請求項2に
記載の発明は、0.1〜20重量%のニッケル(Ni)
と0.1〜10重量%の銅(Cu)と0〜10重量%の
添加剤としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、Ir、M
g、Al、Si、Ti、V、Cr,Mn、Fe、Co、
Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Cd、I
n、Sb、Ta、W、Pb、Bi、La、Sm、Gdの
単元素または少なくとも2種類以上の合金元素と、残部
銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結合金中のニッケル粒
子と銅粒子の粒径が100μm以下であり、かつポーラ
ス(空孔)が存在することを特徴とする焼結接点材料で
あり、接触抵抗の安定性という作用を有する。請求項3
に記載の発明は、0.1〜20重量%のニッケル(N
i)と、水アトマイズ法により0.1〜10重量%の銅
(Cu)粉と0〜10重量%の添加剤としてAu、P
t、Pd、Rh、Os、Ir、Mg、Al、Si、T
i、V、Cr,Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、
Ge、Y、Zr、Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、
Pb、Bi、La、Sm、Gdの単元素または少なくと
も2種類以上の合金元素と、残部銀(Ag)粉との均一
な合金粉との焼結合金とし、前記焼結合金中のニッケル
粒子と銅−銀粒子の粒径が100μm以下であり、かつ
ポーラス(空孔)が存在することを特徴とする焼結接点
材料であり、発熱防止効果と接触抵抗の安定性という作
用を有する。請求項4に記載の発明は、水アトマイズ法
により0.1〜10重量%の銅(Cu)粉と、0.1〜
20重量%のニッケル(Ni)との均一な合金粉と、水
アトマイズ法により0.1〜10重量%の銅(Cu)粉
と0〜10重量%の添加剤としてAu、Pt、Pd、R
h、Os、Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr,
Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Z
r、Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、Bi、
La、Sm、Gdの単元素または少なくとも2種類以上
の合金元素と、残部銀(Ag)粉との均一な合金粉との
焼結合金とし、前記焼結合金中の銅−ニッケル粒子と銅
−銀粒子の粒径が100μm以下であり、かつポーラス
(空孔)が存在することを特徴とする焼結接点材料であ
り、発熱防止効果と接触抵抗の安定性という作用を有す
る。本発明の請求項5に記載の発明は、請求項1から4
のいずれか1項に記載の焼結接点材料を備えたスリップ
リングである。焼結合金中のNi粒子径が100μm以
下でかつポーラスが存在する焼結接点材料を備えたスリ
ップリングは、焼結接点材料のポーラスによる熱分散と
いう特徴によってスリップリングの発熱防止という特性
を優れたものにする。したがって長寿命という効果があ
る。焼結合金中のNi、Cu粒子径が100μm以下で
かつポーラスが存在する焼結接点材料を備えたスリップ
リングは、焼結接点材料の銅、ニッケルによる溶着防止
という特徴によってスリップリングの接触抵抗の安定性
という特性を優れたものにする。したがって損失低減と
いう効果がある。焼結合金中において100μm以下の
Ni粒子径と水アトマイズ法によるCu、Agの均一な
合金を含みかつポーラスが存在する焼結接点材料を備え
たスリップリングは、焼結接点材料の熱分散と溶着防止
という特徴によってスリップリングの発熱防止効果と接
触抵抗の安定性という特性を優れたものにする。したが
って長寿命かつ損失低減という効果がある。水アトマイ
ズ法によるCu、Niの均一な合金と水アトマイズ法に
よるCu、Agの均一な合金とを含みかつポーラスが存
在する焼結接点材料を備えたスリップリングは、焼結接
点材料の熱分散と溶着防止という特徴によってスリップ
リングの発熱防止効果と接触抵抗の安定性という特性を
優れたものにする。したがって長寿命かつ損失低減とい
う効果がある。
【実施例】本発明の実施例について、(表1)に焼結接
点材料の組成と実施結果を示す。Ag粉(平均粒径50
μm)、Ni粉(平均粒径20μm)、Cu粉(平均粒
径10μm)を混合させて、3ton/cm3の圧力で
圧粉成形した後、成形体を真空雰囲気中において約90
0℃で焼結した。これらの接点材料の特性を調べるため
に、焼結接点材料に摺動材料(接点ブラシ)を接触させ
て、接点材料を180度の24回転/分を外部駆動し、
120時間後の摺動面の表面観察状況(黒化物の生成の
有無)と接触抵抗の増減の有無を調べた。なお、試験番
号1、2は本発明の請求項1,2の実施例、試験番号3
はポーラスを有さない従来例、試験番号4はポーラスを
有さない請求項2の比較例である。また、表中、黒化物
の有無は無いことが望ましく、有るということは接点材
料とブラシ摺動材料において接触による発熱によって炭
化物が生成される。接触抵抗の増減は低接触抵抗を保つ
ことを示し、+10%以下であれば十分である。
【表1】 (実施例1)図1において接点材料は、Ag粉2(平均
粒径50μm)、Ni粉3(平均粒径20μm)から構
成されている焼結接点材料の顕微鏡写真を示す。前記構
成により、(表1)から接点材料とブラシ摺動材料との
発熱を抑えることができる。 (実施例2)図2において接点材料は、Ag粉2(平均
粒径50μm)、Ni粉3(平均粒径20μm)、Cu
粉(平均粒径10μm)から構成されている焼結接点材
料の顕微鏡写真を示す。そしてこの実施例によれば接点
材料とブラシ摺動材料との接触抵抗の変動を抑えること
ができる。また、図3において従来のAg粉2(平均粒
径50μm)、Ni粉3(平均粒径20μm)が構成さ
れ、かつポーラスの存在しない焼結接点材料の顕微鏡写
真を示す。前記構成にすると、接点材料と摺動材料の接
触による発熱の分散・拡散がほとんどできず、溶着をお
こす。さらに、熱による黒化物の発生により、接触抵抗
が増大し摺動部での損失が大きくなる。なお、以上の説
明では、接点材料にポーラスを有した銀粉とニッケル粉
(銅粉)で構成した例で説明したが、その他の水アトマ
イズ法による焼結接点材料4についても同様に実施可能
である。 (実施例3)図4において、本発明の焼結接点材料とブ
ラシ5(摺動材料)とシャフト6(軸)により構成され
たスリップリングを示す。この実施例によればシャフト
と本発明の焼結接点材料が低速から高速まで回転する
と、ブラシとの摺動熱はポーラスが存在することにより
熱を分散することができ、ブラシと焼結接点材料との接
触抵抗は長期にわたり安定することができる。
【発明の効果】上記実施例の記載から明らかなように、
請求項1記載の発明によれば、発熱防止という有利な効
果が得られ、請求項2記載の発明によれば、接触抵抗の
安定性という有利な効果が得られる。また、請求項3記
載の発明によれば、発熱防止効果と接触抵抗の安定性が
得られるものである。さらに、請求項4記載の発明によ
れば、発熱防止効果と接触抵抗の安定性という効果を奏
するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の顕微鏡写真
【図2】本発明の実施例2の顕微鏡写真
【図3】従来の焼結接点の拡大した顕微鏡写真
【図4】本発明の焼結接点材料を用いたスリップリング
を示す図
【符号の説明】
1 ポーラス(空孔) 2 Ag粉 3 Ni粉 4 焼結接点材料 5 ブラシ 6 シャフト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H01H 1/02 H01H 1/02 A Fターム(参考) 4K017 AA04 BA02 BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB11 BB12 BB16 BB18 EB00 EK01 4K018 AA02 BA01 BA02 BA03 BA04 BA08 BA09 BA10 BA20 BB04 CA11 DA11 DA32 KA22 KA34 5G050 AA01 AA13 AA29 BA04 EA02 FA10 5G301 AA01 AA02 AA03 AA06 AA07 AA08 AA09 AA10 AA13 AA14 AA15 AA16 AA17 AA18 AA19 AA21 AA22 AA24 AB04 AB11 AD04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 0.1〜20重量%のニッケル(Ni)
    と0〜10重量%の添加剤としてAu、Pt、Pd、R
    h、Os、Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr,
    Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Z
    r、Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、Bi、
    La、Sm、Gdの単元素または少なくとも2種類以上
    の合金元素と、残部銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結
    合金中のニッケル粒子の粒径が100μm以下であり、
    かつポーラス(空孔)が存在することを特徴とする焼結
    接点材料。
  2. 【請求項2】 0.1〜20重量%のニッケル(Ni)
    と0.1〜10重量%の銅(Cu)と0〜10重量%の
    添加剤としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、Ir、M
    g、Al、Si、Ti、V、Cr,Mn、Fe、Co、
    Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Cd、I
    n、Sb、Ta、W、Pb、Bi、La、Sm、Gdの
    単元素または少なくとも2種類以上の合金元素と、残部
    銀(Ag)の焼結合金で、前記焼結合金中のニッケル粒
    子と銅粒子の粒径が100μm以下であり、かつポーラ
    ス(空孔)が存在することを特徴とする焼結接点材料。
  3. 【請求項3】 0.1〜20重量%のニッケル(Ni)
    と、水アトマイズ法により0.1〜10重量%の銅(C
    u)粉と0〜10重量%の添加剤としてAu、Pt、P
    d、Rh、Os、Ir、Mg、Al、Si、Ti、V、
    Cr,Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ga、Ge、
    Y、Zr、Mo、Cd、In、Sb、Ta、W、Pb、
    Bi、La、Sm、Gdの単元素または少なくとも2種
    類以上の合金元素と、残部銀(Ag)粉との均一な合金
    粉との焼結合金で、前記焼結合金中のニッケル粒子と銅
    −銀粒子の粒径が100μm以下であり、かつポーラス
    (空孔)が存在することを特徴とする焼結接点材料。
  4. 【請求項4】 水アトマイズ法により0.1〜10重量
    %の銅(Cu)粉と、0.1〜20重量%のニッケル
    (Ni)との均一な合金粉と、水アトマイズ法により
    0.1〜10重量%の銅(Cu)粉と0〜10重量%の
    添加剤としてAu、Pt、Pd、Rh、Os、Ir、M
    g、Al、Si、Ti、V、Cr,Mn、Fe、Co、
    Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Cd、I
    n、Sb、Ta、W、Pb、Bi、La、Sm、Gdの
    単元素または少なくとも2種類以上の合金元素と、残部
    銀(Ag)粉との均一な合金粉との焼結合金で、前記焼
    結合金中の銅−ニッケル粒子と銅−銀粒子の粒径が10
    0μm以下であり、かつポーラス(空孔)が存在するこ
    とを特徴とする焼結接点材料。
  5. 【請求項5】 請求項1から4のいずれか1項に記載の
    焼結接点材料を備えたスリップリング。
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