JP2003027090A - 洗浄液組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄剤の再利用が可能であり、かつ、十分な
洗浄特性を有する洗浄液を提供する。 【解決手段】 本発明による洗浄液組成物は、炭素数５
〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量
％含有し、炭素数１０〜１２、好ましくは１０〜１１の
芳香族炭化水素化合物を主成分とする芳香族化合物成分
を９０〜４０重量％含有するものである。特に、洗浄剤
組成物の５％留出温度が１９０〜２１５℃であり、９５
％留出温度が２２０〜２５０℃であり、かつ、５％留出
温度と９５％留出温度の差が３５℃以下であることが好
ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電気・電子部品、
光学部品などの精密部品を洗浄するための洗浄液組成物
に関し、特には、蒸留再生可能な洗浄液組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】電気・電子部品、光学部品などの精密部
品の製造においては、加工にともないその表面には、ア
スファルトピッチ、ワックス、松脂、油脂、機械油、グ
リース、フラックス、フォトレジスト、接着剤などの汚
れが付着するため、洗浄工程が必要となる。従来、この
ような洗浄には、フロン系溶剤、あるいはトリクロロエ
タン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系
溶剤が洗浄剤として使用されている。しかし、特定フロ
ン溶剤やトリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質と
して、１９９５年末にその製造が禁止され、また、一般
に塩素系溶剤は毒性が高く、使用時には大気、水質汚染
防止に関する法規制も厳しい。

【０００３】界面活性剤や無機アルカリを添加した水系
洗浄剤、リン酸塩類などの水溶液系洗浄剤の利用も検討
されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きな
スペースを必要とし経済性の面から好ましくない。炭化
水素系洗浄剤も検討されているが、洗浄特性が十分でな
い、また、引火性などの点から取り扱いが難しい。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題を解決するもので、洗浄剤の再利用が可能であり、
かつ、十分な洗浄特性を有する洗浄液を提供するもので
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明による洗浄液組成
物は、炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを
１０〜８０重量％含有し、炭素数１０〜１２、好ましく
は１０〜１１の芳香族炭化水素化合物を主成分とする芳
香族化合物成分を９０〜４０重量％含有するものであ
る。特に、洗浄剤組成物の５％留出温度が１９０〜２１
５℃であり、９５％留出温度が２２０〜２５０℃であ
り、かつ、５％留出温度と９５％留出温度の差が３５℃
以下であることが好ましい。また、また、本発明による
洗浄方法は、上述の洗浄液組成物を用いて洗浄を行い、
その後、洗浄液組成物を蒸留再生するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の洗浄液組成物は、芳香族
炭化水素化合物を４０〜９０重量％含有するものであ
り、含有量が４０〜８５重量％、特には５０〜８０重量
％であることが好ましい。この芳香族炭化水素化合物
は、炭素数１０〜１２、好ましくは炭素数１０または１
１の芳香族炭化水素化合物であり、アルキルベンゼン、
ナフタレンまたはメチルナフタレンを主成分とする。炭
素数９以下、または、炭素数１２以上の芳香族炭化水素
化合物を多く含むと、蒸留再生時の効率が低下すること
となるため、炭素数１０および１１の芳香族炭化水素化
合物以外の炭化水素化合物の含有量は、１０重量％未
満、特には５重量％未満であることが好ましい。

【０００７】具体的な化合物を例示すれば、炭素数１０
のアルキルベンゼンとして、イソブチルベンゼン、ｓｅ
ｃ−ブチルベンゼン、１，３−ジエチルベンゼン、１−
メチル−３−ｎ−プロピルベンゼン、１，４−ジエチル
ベンゼン、１，３−ジメチル−５−エチルベンゼン、
１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、メチルインダ
ン、テトラリンなどが、炭素数１１のアルキルベンゼン
として、ペンチルベンゼン、トリメチルエチルベンゼ
ン、ジエチルメチルベンゼン、ジメチルインダン、エチ
ルインダンなどが、そして、炭素数１１のアルキルナフ
タレンとして、メチルナフタレンがあげられる。これら
の化合物を単独で用いても必要に応じて２種以上を混合
して用いても差し支えない。また、これらの芳香族炭化
水素化合物を含有する石油留分などを用いることもでき
る。

【０００８】炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエス
テルとしてはマロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グ
ルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジ
メチルがあげられる。これらを単独で用いても、必要に
応じて２種以上を混合して用いても差し支えない。

【０００９】本発明の洗浄液組成物は、炭素数５〜９の
ジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有
するものであり、含有量が１５〜６０重量％、特には２
０〜５０重量％であることが好ましい。含有量が、この
範囲を超えると、洗浄対象を構成する材料自体が影響を
受ける場合があり、また、蒸留再生が困難となる場合が
ある。この範囲未満では洗浄特性が十分でない。この洗
浄液組成物の蒸留性状は、５％留出温度が１９０〜２１
５℃、好ましくは１９５〜２１０℃であり、９５％留出
温度が２２０〜２５０℃、好ましくは２２０〜２４０℃
であり、かつ、５％留出温度と９５％留出温度の差が３
５℃以下であることが洗浄液の蒸留再生には好ましい。
なお、本明細書における蒸留性状は、蒸留試験はＪＩＳ
Ｋ ２２５４（石油製品−蒸留試験方法）に準拠して
測定するものである。

【００１０】本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的
を損なわない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、ア
ルコール類、ケトン類、ラクタム類などの配合成分や、
界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの
慣用の添加剤を含めることができる。これらの成分を多
く含むと蒸留再生時の効率が低下することとなるため、
これらの成分の含有量は合計で、１０重量％未満、特に
は２重量％未満であることが好ましい。

【００１１】界面活性剤としては非イオン性界面活性剤
が好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド
付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加
物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルア
ミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトールおよびソ
ルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シ
リコン系、フッ素系などいずれのものも使用できる。

【００１２】また、紫外線吸収剤および酸化防止剤とし
ては、洗浄液の長期保存などにおける安定性の向上に役
立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール
系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系などを使用
でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン
系、硫黄系、リン系など、本発明の洗浄液組成物に溶解
するものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止
剤を、５０〜１０００ｐｐｍ添加することが特に好まし
い。

【００１３】本発明の洗浄方法において、洗浄液組成物
と接触させる方法は特に制限されるものでなく、公知の
いずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含
浸したスポンジなどによる拭き取り、洗浄液組成物への
浸漬、スプレーなどにより接触させることが好ましい。
浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、
同時に攪拌、揺動、超音波、エアバブリングなどを組み
合わせることが更に好ましい。この場合、超音波の使用
条件は、例えば発振周波数：２０〜１００ｋＨｚ、洗浄
液１Ｌ当りの発振出力：１０〜２００Ｗが好ましい。エ
アバブリングでは、微細な気泡を、好ましくはガス：洗
浄液の体積比を１：１〜５：１で通気することにより、
洗浄液組成物に溶解しない汚れを気泡と共に上昇させ、
分離できる。スプレーによる洗浄において、その圧力
は、例えば０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ ² Ｇが好ましい。い
ずれの場合も洗浄時間は、１５秒間〜２時間、特には３
０秒間〜２０分間が好ましい。この範囲未満では洗浄が
不十分で、汚れを十分に除去できない。一方、この範囲
を超えても洗浄効果は格別に向上しない。洗浄温度は、
２０〜１２０℃が好ましく、６０〜１２０℃で処理する
ことにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。

【００１４】洗浄対象物となる精密部品としては、電子
・電気部品、光学部品、精密機械部品などがあげられ
る。対象となる電気・電子部品としては、プリント配線
基板、セラミック配線基板などの配線基板、リードフレ
ームなどの半導体パッケージ部材、リレー、コネクター
などの接点部材、液晶、プラズマディスプレイなどの表
示部品、ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッドなどの磁
気記憶部品、水晶振動子などの圧電部品、モータ、ソレ
ノイドなどの電動機部品、センサー部品があげられる。
光学部品としては、めがね、カメラ用などのレンズ、そ
の筐体があげられる。精密機械部品としては、ＶＴＲな
どに用いられる精密ベアリングなどの部品があげられ
る。特に、構成材料としてプラスチックを含んだ精密部
品の洗浄に好ましく用いられる。

【００１５】洗浄対象物に付着している汚れとしては、
アスファルトピッチ、ワックス、松脂、油脂、機械油、
グリース、フラックス、フォトレジスト、接着剤などが
あげられるが、特に、本発明は、アスファルトピッチ、
シアノ系などの接着剤、硬化前の合成樹脂などの汚れの
洗浄に適している。このようなアスファルトピッチを具
体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとして
のストレートアスファルト系、ブローンアスファルト
系、ウッド系などのピッチがあげられる。

【００１６】洗浄対象の汚れとなる接着剤として、具体
的には紫外線硬化樹脂系接着剤やシアノ系接着剤が例示
され、特に、本発明はシアノ系接着剤の汚れに効果的で
ある。紫外線硬化樹脂系接着剤は、紫外線を照射された
部分のみが硬化し、接着強度を有することとなる接着剤
であり、加熱が困難でかつ接着スピードが要求される分
野に、例えばレンズ、プリズムなどの光学部品の張り合
わせをはじめ、液晶ディスプレイのシールや補強、プリ
ント基板のコーティングなどによく用いられる接着剤で
ある。

【００１７】紫外線硬化樹脂系接着剤としては、例え
ば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエステルアクリレートと単官能、多官能アクリレート
モノマーとの組み合わせ（ラジカル重合型）、分子末端
にアリール基やアクリロイル基を有するオリゴマーとポ
リチオールの組み合わせ（チオール・エン付加型）、あ
るいは、紫外線カチオン開始剤を光分解して例えば生成
するルイス酸をカチオン反応の触媒として作用させて、
エポキシ、ビニルエーテルを有する樹脂を重合、固化
（硬化）するもの（カチオン重合型）などがあげられ
る。

【００１８】シアノ系接着剤は、アルキルシアノアクリ
レートなどのシアノ系化合物を主成分とする接着剤であ
り、迅速な作業を必要とする用途、例えば組立途中の仮
止め、模型の制作や、無色透明な仕上がりと高い接着強
さを併せ要求される場合、例えば貴金属、宝石、高級機
器などの接着に用いられる。シアノ系接着剤は、メチル
−α−シアノアクリレート、エチル−α−シアノアクリ
レートなどに代表されるアルキルシアノアクリレートを
モノマーとする接着剤であり、空気中の、または被着体
表面に存在する水分によって速やかに重合する性質を有
している。

【００１９】硬化前の合成樹脂としては、硬化前のエポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂などの硬化性樹脂が例示さ
れる。本発明の洗浄液組成物は、このような硬化前樹脂
原料組成物に対して硬化促進作用がない。また、各樹脂
の物性に悪影響を及ぼすこともない。エポキシ樹脂とし
ては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポ
キシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、
多塩基酸のポリグリシジルエステル、３，（３，４‐エ
ポキシシクロヘキサン）カルボキシレート、ビニルシク
ロヘキセンジエポキサイド、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、ヒダントイン環を有するエポキシ樹脂など
があげられる。

【００２０】一度洗浄に用いられた本発明の洗浄液組成
物は、蒸留再生により再利用することができる。蒸留再
生装置としては、減圧蒸留装置が、好ましく用いられ
る。好ましい蒸留再生の圧力条件は、減圧であり、具体
的には圧力１０〜５０Ｔｏｒｒであるが、これに限られ
るものではない。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定して
解釈されるものではない。

【００２２】［洗浄液の調製］ 芳香族化合物成分とし
て芳香族成分１および２を用意した。他の炭化水素成分
として、ナフテン系成分として日本石油製ナフテゾール
Ｈ、パラフィン系成分として日鉱石油化学製ＮＳ２３０
も用意した。これらの性状を表１にまとめる。

【００２３】

【表１】

【００２４】芳香族成分１は、炭素数１１のアルキルベ
ンゼン３８重量％、炭素数１０のアルキルベンゼン３６
重量％、メチルインダン１５重量％、ナフタレン６重量
％含有する。したがって、炭素数１０の芳香族炭化水素
化合物を５７重量％、炭素数１１の芳香族炭化水素化合
物を３８重量％を含有し、その合計は９５重量％であ
る。

【００２５】芳香族成分２は、炭素数１１のアルキルベ
ンゼン２６重量％、メチルナフタレン２３重量％、ナフ
タレン１４重量％、炭素数１２のアルキルベンゼン１３
重量％、炭素数１０のアルキルベンゼン１０重量％、メ
チルインダン６重量％、炭素数１１のアルキルインダン
５重量％含有する。したがって、炭素数１０の芳香族炭
化水素化合物を２４重量％、炭素数１１の芳香族炭化水
素化合物を６０重量％を含有し、その合計は８４重量％
である。

【００２６】炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエス
テルは、コハク酸ジメチル１６重量％、グルタル酸ジメ
チル６２重量％、アジピン酸ジメチル２２重量％を含有
するものを用いた。

【００２７】芳香族成分１、２に炭素数５〜９のジカル
ボン酸ジメチルエステルを２０重量％、５０重量％配合
して、洗浄液１、２の新液を調製した。この性状を表２
に示す。ナフテン系成分、パラフィン系成分に炭素数５
〜９のジカルボン酸ジメチルエステルをそれぞれ２０、
５０重量％配合して洗浄液を調製しようとしたが、２相
に分離してしまうため、洗浄液を調製することができな
かった。

【００２８】

【表２】

【００２９】［ピッチ洗浄性評価］ ピッチ洗浄性の評
価では、ピッチ（九重電気（株）製、Ｋ級３号）を溶解
した３０％濃度トルエン溶液に直径５０ｍｍの光学ガラ
スを浸し、室温で乾燥することで、均一なピッチを付着
させたものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物
を２００ｃｍ^３の洗浄液が充填された洗浄槽において液
温３０℃で超音波照射下に２分間洗浄を行った。洗浄槽
から取りだした洗浄対象物を、１０分間立てて静置後、
温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾燥した。洗浄後に、
肉眼によりピッチの痕跡が全く認められないものを〇、
微かにでも痕跡のあるものを×として評価し、表１、２
に併せて示した。この結果から、洗浄液１、２は高いピ
ッチ洗浄性を示すことがわかる。

【００３０】［接着剤洗浄性評価］ 接着剤洗浄性の評
価では、スライドガラス（７６×２６×１ｍｍ）にシア
ノ系接着剤、ロックタイト４１７（日本ロックタイト
製）を１滴たらし、その上からカバーガラス（２２×２
２×０．１５ｍｍ）を置き、指圧で圧着した。接着剤に
よる汚れを作るためにカバーガラスの表面中央にも１滴
たらした。室温で放置後、１分後にガラス同士は接着し
ていたが、そのまま１０分以上放置して洗浄対象物とし
て用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ^３の洗浄液が充
填された洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に３
０秒間洗浄を行った後、７０℃の温風で乾燥した。カバ
ーガラス上の汚れおよび圧着により縁部からはみ出して
いる接着剤を目視にて観察し、汚れおよび接着剤の痕跡
が全く認められないものを〇、微かにでも痕跡のあるも
のを×として評価し、表１、２に併せて示した。この結
果から、洗浄液１、２は高い接着剤洗浄性を示すことが
わかる。

【００３１】［再生性評価］ 洗浄液１、２について、
蒸留再生性の評価を行った。上述のピッチ洗浄性評価お
よび接着剤洗浄性評価をそれぞれ１０枚ずつ行った洗浄
液を３０Ｔｏｒｒの減圧下で蒸留再生し、９８容量％を
回収した。この再生液を洗浄液として用いて、上述のピ
ッチ洗浄性評価および接着剤洗浄性評価を行い評価し
た。また、その性状を評価して、表２に併せて示した。
この結果から、蒸留再生しても、蒸留性状、密度には変
化がなく、新液と同等の洗浄性を保つことがわかる。

【００３２】

【発明の効果】本発明の洗浄液は、炭素数５〜９のジカ
ルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有し、
炭素数１０〜１２の芳香族炭化水素化合物を主成分とす
る芳香族化合物成分を９０〜２０重量％含有するもので
あり、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品などの
精密部品の洗浄に優れた性能を有し、かつ、洗浄液の再
生利用が可能であるので、環境上の問題もない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 DD12 EE00 4H003 DA14 DA15 DA16 EB09 ED03 ED32 FA01 FA03 FA46

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエ
   ステルを１０〜８０重量％含有し、炭素数１０〜１２の
   芳香族炭化水素化合物を９０〜２０重量％含有する洗浄
   液組成物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の洗浄剤組成物の５％留出
   温度が１９０〜２１５℃であり、９５％留出温度が２２
   ０〜２５０℃であり、かつ、５％留出温度と９５％留出
   温度の差が３５℃以下である請求項１記載の洗浄液組成
   物。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の洗浄液組成物を
   用いて洗浄を行い、その後、洗浄液組成物を蒸留再生す
   ることを特徴とする洗浄方法。