JP2003024877A - ソケットの洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
ソケットの洗浄方法及び洗浄装置Info
- Publication number
- JP2003024877A JP2003024877A JP2001215237A JP2001215237A JP2003024877A JP 2003024877 A JP2003024877 A JP 2003024877A JP 2001215237 A JP2001215237 A JP 2001215237A JP 2001215237 A JP2001215237 A JP 2001215237A JP 2003024877 A JP2003024877 A JP 2003024877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- socket
- end side
- porous body
- main surface
- contact pin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 80
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 238000002386 leaching Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 30
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 4
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020220 Pb—Sn Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
る。 【解決手段】 ソケットの洗浄方法において、一主面か
ら突出する接続部を有するソケットと、内部に薬液が染
み込んだ多孔質体とを準備する段階と、前記多孔質体の
内部から一主面に滲み出てくる薬液に前記ソケットの接
続部をつける段階とを具備する。
Description
術に関し、特に、ソケットのコンタクトピンの先端部分
に付着した異物を薬液によって除去する洗浄技術に適用
して有効な技術に関するものである。
hip Size Package又はChip ScalePackage )型と
呼称される半導体装置が知られている。このCSP型半
導体装置においては、種々なパッケージ構造のものが提
案され、製品化されているが、配線基板の一主面側に半
導体チップを配置し、配線基板の一主面と向かい合う他
の主面(裏面)側に外部接続用端子として複数のボール
状バンプを配置したパッケージ構造のものが最も普及し
ている。ボール状バンプは、加工性に優れ、熱に対する
信頼性が高い例えば鉛(Pb)−錫(Sn)組成の半田
材で形成されている。
般的に、最終検査として、正常に動作するか否かの電気
的な特性を評価する特性評価試験が含まれている。この
特性評価試験では、ソケットを仲介してCSP型半導体
装置とパフォーマンスボード(検査用配線基板)との電
気的な接続が行なわれている。
されるソケットは、ベース部材及び蓋部材で形成される
キャビティを備えたソケット本体と、ベース部材に設け
られた貫通孔と、蓋部材に設けられた貫通孔と、キャビ
ティの内部に位置し、一端側がベース部材の貫通孔を通
してソケット本体の外部に引き出され、一端側と向かい
合う他端側が蓋部材の貫通孔を通してソケット本体の外
部に引き出されたコンタクトピン(ポゴピン)とを有す
る構成になっている。ベース部材及び蓋部材の貫通孔、
並びにコンタクトピンは、CSP型半導体装置の外部接
続用端子の数に対応して複数設けられている。
が、例えば、筒状の筐体、2つの可動ピン(プランジ
ャ)、及び1つのスプリング等を有する構成となってい
る。一方の可動ピンは筐体の長さ方向に対して可動が可
能な状態で筐体の一端側に設けられている。他方の可動
ピンは筐体の長さ方向に対して可動が可能な状態で筐体
の一端側と向かい合う他端側に設けられている。一方及
び他方の可動ピンは互いに向かい合う一端側及び他端側
を有し、夫々の一端側は筐体の外部に引き出され、夫々
の他端側は筐体の内部に位置している。スプリングは、
一方の可動ピン及び他方の可動ピンの夫々の他端側を押
圧するように筐体の内部に設けられている。
通孔を通してソケット本体の外部に引き出され、他方の
可動ピンの一端側は蓋部材の貫通孔を通してソケット本
体の外部に引き出されている。一方の可動ピンの一端側
の先端部はCSP型半導体装置のボール状バンプが接続
される接続部として構成され、他方の可動ピンの一端側
の先端部はパフォーマンスボードの接続用端子が接続さ
れる接続部として構成されている。即ち、コンタクトピ
ンは、一端側及び他端側に可動ピンからなる接続部を有
する構成となっている。
CSP型半導体装置との電気的な接続は、コンタクトピ
ンの一端側の接続部(一方の可動ピンの一端側の先端
部)にボール状バンプを圧接することによって行なわれ
るため、ボール状バンプの半田カス等の異物がコンタク
トピンの一端側の接続部に付着する。一方、特性評価試
験では複数のソケットを繰り返し使用している。1つの
ソケットが1日に繰り返し使用される使用頻度は、半導
体装置の生産量やソケットの使用数によって異なるが、
例えば数百回にも及ぶ。即ち、ソケットの使用頻度に応
じてコンタクトピンの一端側の接続部にボール状バンプ
が繰り返し圧接されるため、コンタクトピンの一端側の
接続部にボール状バンプの半田カス等の異物が徐々に蓄
積される。
の接続部に蓄積されると、コンタクト抵抗の増加やコン
タクト不良を引き起こす原因となり、正確な特性評価試
験が行なえなくなるため、定期的にソケットを洗浄して
コンタクトピンの一端側の接続部に蓄積された異物を除
去する必要がある。ソケットの洗浄方法としては種々な
方法があるが、コンタクトピンの接続部は機械的強度が
低いため、ブラッシング等によって異物を機械的に除去
する方法ではコンタクトピンに曲がり、折れ等の損傷を
招く。また、異物はコンタクトピンの接続部に強固に付
着しているため、高圧空気等を吹き付ける方法では十分
に異物を除去することが困難である。
る異物を薬液で化学的に溶かして除去する薬液洗浄が有
効である。しかしながら、薬液洗浄においては、コンタ
クトピンの接続部(先端部)に薬液を選択的に供給でき
るかが重要なポイントになる。コンタクトピンの接続部
に薬液を供給する方法としては、薬液の中にソケットを
浸漬して供給する方法や、ノズルからコンタクトピンの
接続部に薬液を滴下して供給する方法等が考えられる
が、このような方法では、貫通孔の縁部分にも薬液が供
給されてしまうため、以下の問題が生じてしまう。
は、可動ピンの動きを妨げないように可動ピンの寸法よ
りも若干広い寸法になっているため、貫通孔と可動ピン
との間の極わずかな隙間から毛細管現象によってキャビ
ティの内部に薬液が浸入してしまう。キャビティの内部
に浸入した薬液は、水,温水等の洗浄液で洗い流すこと
が難しいため、キャビティの内部においてコンタクトピ
ンが薬液によって腐食され易くなる。コンタクトピンの
筐体は、一方の可動ピンと他方の可動ピンとを電気的に
接続する導通路として使用されているため、筐体に腐食
が生じると、コンタクトピンの電気抵抗が変化し、正確
な特性評価試験が行えなくなる。
の薬物が可動ピンの側面に付着し、可動ピンの動きが鈍
くなったり、動かなくなったりするといった不具合が生
じ易くなる。1つのCSP型半導体装置に設けられた複
数のボール状バンプの夫々の高さは必ずしも同一ではな
く、1つ1つのボール状バンプの高さにバラツキがあ
る。また、1つのソケットに設けられた複数のコンタク
トピンの夫々の一端側及び他端側がソケット本体から突
出する突出高さは必ずしも同一ではなく、1つ1つのコ
ンタクトピンの突出高さにバラツキがある。このような
バラツキによる寸法誤差を可動ピンの動きによって吸収
し、コンタクトピンの一端側の接続部(一方の可動ピン
の一端側の先端部)とボール状バンプとの接続、並びに
コンタクトピンの他端側の接続部(他方の可動ピンの一
端側の先端部)とパフォーマンスボードの外部接続用端
子との接続を確実に行なっているため、可動ピンの動き
が鈍くなったり、可動ピンが動かなくなったりすると、
コンタクト不良が生じ、正確な特性評価試験が行なえな
くなる。従って、薬液洗浄においては、コンタクトピン
の接続部(先端部)に薬液を選択的に供給する必要があ
る。
を選択的に供給することが可能な技術を提供することに
ある。また、本発明の他の目的は、薬液洗浄によるソケ
ットのコンタクトピンの腐食を抑制することが可能な技
術を提供することにある。また、本発明の他の目的は、
ソケットの長寿命化を図ることが可能な技術を提供する
ことにある。本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
一主面から突出する接続部を有するソケットと、内部に
薬液が滲み込んだ多孔質体とを準備する段階と、前記多
孔質体の内部から一主面に滲み出てくる薬液に前記ソケ
ットの接続部をつける段階とを具備する。
ットの洗浄方法において、前記多孔質体は、前記薬液と
同質の薬液に、前記薬液から前記多孔質体の一主面が露
出する状態で浸漬されている。
ットの洗浄方法において、前記多孔質体は、セラミック
焼結多孔質体である。
ットの洗浄方法において、前記ソケットは、ベース部材
及び蓋部材で形成されるキャビティを備えたソケット本
体と、前記ベース部材に設けられた第1の貫通孔と、前
記蓋部材に設けられた第2の貫通孔と、前記キャビティ
の内部に配置され、一端側が前記第1の貫通孔を通して
前記ソケット本体の外部に引き出され、前記一端側と向
かい合う他端側が前記第2の貫通孔を通して前記ソケッ
ト本体の外部に引き出されたコンタクトピンとを更に有
し、前記コンタクトピンの一端側、若しくは他端側は、
前記ソケットの接続部として構成されている。
体が滲み込んだ多孔質体と、前記多孔質体の内部から一
主面に滲み出てくる液体にソケットの接続部をつける手
段とを有する。
ら一主面に滲みでてくる薬液は極わずかなため、ソケッ
トの接続部に薬液を選択的に供給することができる。ま
た、ソケットの接続部に薬液を選択的に供給することが
できるため、貫通孔とコンタクトピンとの間の隙間を通
してキャビティの内部に浸入する薬液を抑制することが
できる。この結果、薬液によるコンタクトピンの腐食を
抑制することができる。また、薬液によるコンタクトピ
ンの腐食を抑制できるため、ソケットの長寿命化を図る
ことができる。
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
置の概略構成を示す模式的平面図、図2は、前記洗浄装
置の概略構成を示す模式的側面図、図3及び図4は、前
記洗浄装置の動作を説明するための模式的平面図、図5
及び図6は、前記洗浄装置の動作を説明するための模式
的断面図、図7は、前記洗浄装置の動作を説明するため
の模式的平面図、図8は、前記洗浄装置で処理されるソ
ケットの概略構成を示す模式的平面図、図9は、図8の
A−A線に沿う模式的断面図、図10は、図9の一部を
拡大した模式的断面図、図11は、前記ソケットのコン
タクトピンの概略構成を示す模式的断面図、図12は、
前記ソケットを使用して特性評価試験が施される半導体
装置の概略構成を示す模式的断面図である。
いて、図12を用いて説明する。図12に示すように、
CSP型半導体装置40は、主に、配線基板41と、配
線基板41の一主面側に配置された半導体チップ42
と、半導体チップ42の主面に配置された複数の電極パ
ッドと配線基板41の主面に配置された複数の電極パッ
ドとを夫々電気的に接続する複数のボンディングワイヤ
43と、配線基板41の主面側に形成され、かつ半導体
チップ42及びボンディングワイヤ43等を封止する樹
脂封止体44と、配線基板41の主面と向かい合う他の
主面側に外部接続用端子として配置された複数のボール
状バンプ45とを有する構成になっている。ボール状バ
ンプ45は、これに限定されないが、加工性に優れ、熱
に対する信頼性が高い例えばPb−Sn組成の半田材で
形成されている。半導体チップ42には、集積回路とし
て例えばDRAM(Dynamic Random Access Memor
y)回路が内蔵されている。
40の製造においては、エージング試験の後に、最終検
査として特性評価試験が含まれている。特性評価試験で
は、CSP型半導体装置40の集積回路が所望の動作を
行なうか否かの電気的な特性を評価し、良品、不良品、
動作周波数等の電気特性のグレードを判別する。
試験で使用されるソケットの概略構成について、図8乃
至図11を用いて説明する。図8乃至図10に示すよう
に、ソケット20は、主に、内部にキャビティ29を備
えたソケット本体20A、CSP型半導体装置40の外
部接続用端子であるボール状バンプ45の数に対応して
設けられた複数のコンタクトピン(ポゴピン)30等を
有する構成になっている。ソケット本体20A及びキャ
ビティ29は、主に、ベース部材21及び蓋部材23で
構成されている。
う一主面21X及び他の主面21Yと、他の主面21Y
から一主面21Xに向かって窪む凹部22と、凹部22
の底面から一主面21Xに向かって窪む凹部23と、凹
部23の底面から一主面21Xに向かって窪む凹部24
と、凹部24の底面から一主面21Xに亘って貫く貫通
孔25とを有する構成になっている。凹部24及び貫通
孔25は、コンタクトピン30の数に対応して複数設け
られている。ベース部材21、凹部22及び凹部23の
夫々の平面形状は方形状で形成され、ベース部材21の
一主面21X側における中央部は、その周囲における周
辺部よりも突出している。
主面26X及び他の主面26Yと、一主面26Xから他
の主面26Yに向かって窪む凹部27と、凹部27の底
面から他の主面26Yに亘って貫く貫通孔28とを有す
る構成になっている。貫通孔28は、コンタクトピン3
0の数に対応して複数設けられている。蓋部材26及び
凹部27の平面形状は方形状で形成され、凹部27は蓋
部材26の一主面26Xの中央部に設けられている。
底面と向かい合うようにして、かつ凹部23を覆う(塞
ぐ)ようにして凹部22の中に装着され、例えばネジに
よる固定手段によってベース部材21にネジ止め固定さ
れている。
に設けられた凹部23及び蓋部材26に設けられた凹部
27によって形成されている。即ち、キャビティ29
は、ベース部材21及び蓋部材26によって形成されて
いる。
29の内部に配置されている。コンタクトピン30は互
いに向かい合う一端側及び他端側を有し、コンタクトピ
ン30の一端側はベース部材21の貫通孔25を通して
ソケット本体20Aの外部に引き出され、コンタクトピ
ン30の他端側は蓋部材26の貫通孔28を通してソケ
ット本体20Aの外部に引き出されている。
いが、例えば、図11に示すように、筒状の筐体31、
2つの可動ピン(プランジャ)32,33、及び1つの
スプリング34等を有する構成となっている。可動ピン
32は筐体31の長さ方向に対して可動が可能な状態で
筐体31の一端側に設けられている。可動ピン33は筐
体31の長さ方向に対して可動が可能な状態で筐体31
の一端側と向かい合う他端側に設けられている。可動ピ
ン32及び33の夫々は互いに向かい合う一端側及び他
端側を有し、夫々の一端側は筐体31の外部に引き出さ
れ、夫々の他端側は筐体31の内部に位置している。ス
プリング34は、可動ピン32及び33の夫々の他端側
を押圧するように筐体31の内部に設けられている。
的な形状が例えば円柱形状で形成されている。可動ピン
32及び33は、一端側に位置する第1の部分(32
A,33A)と、他端側に位置する第2の部分(32
B,33B)とを有し、第1の部分(32A,33A)
における外径寸法φは、第2の部分(32B,33B)
における外径寸法φよりも若干小さくなっている。筐体
31は、第1の部分31Aと、この第1の部分31Aの
一端側及び他端側に位置する第2の部分31Bとを有
し、第2の部分31Bにおける内径寸法φは第1の部分
31Aにおける内径寸法φよりも若干小さくなってい
る。筐体31の第2の部分31Bにおける内径寸法φ
は、筐体31から可動ピン32及び33が脱落しないよ
うに、可動ピン32及び33の夫々の第2の部分(32
B,33B)の外径寸法φよりも小さくなっている。
ィ29の中に配置され、一端側がベース部材21の凹部
24の中に嵌め込まれている。凹部24の形状は筐体3
1の形状に合わせて例えば円柱形状で形成され、凹部2
4の内径寸法φは、筐体31の嵌め込み及び抜き取りを
容易に行うことができるように、筐体31の外径寸法φ
よりも若干大きくなっている。
A)は、ベース部材21の貫通孔25を通してソケット
本体20Aの外部に引き出され、可動ピン33の一端側
(第1の部分33A)は、蓋部材26の貫通孔27を通
してソケット本体20Aの外部に引き出されている。可
動ピン32の一端側の先端部はCSP型半導体装置40
のボール状バンプ48が接続される接続部として構成さ
れ、可動ピン33の一端側の先端部はパフォーマンスボ
ードの接続用端子が接続される接続部として構成されて
いる。即ち、コンタクトピン30は、一端側及び他端側
に可動ピンからなる接続部を有する構成となっている。
ピン32及び33の形状に合わせて例えば円柱形状で形
成されている。貫通孔25の内径寸法φは、可動ピン3
2の可動を妨げないように、可動ピン32の一端側にお
ける第1の部分32Aの外径寸法φよりも若干大きくな
っており、貫通孔28の内径寸法φは、可動ピン33の
可動を妨げないように、可動ピン33の一端側における
第1の部分33Aの外径寸法φよりも若干大きくなって
いる。
SP型半導体装置40の特性評価試験において使用され
る。特性評価試験では、ソケット20を仲介して、CS
P型半導体装置40とパフォーマンスボードとの電気的
な接続が行なわれている。この特性評価試験において、
ソケット20は繰り返し使用されるため、コンタクトピ
ン30の一端側の接続部にボール状バンプの半田カス等
の異物が徐々に蓄積される。
浄装置の概略構成について説明する。本実施形態の洗浄
装置は、ソケット20の接続部に付着する異物を薬液で
化学的に溶かして除去する薬液洗浄装置である。
は、主に、二つの待機部(2,3)と、一つの処理部4
と、一つの搬送部5とを有する構成になっている。
向)に上昇又は降下させるエレベータ機構を有し、各々
の台座6には所定の間隔を置いてZ方向に複数のキャリ
ア治具8を収納したカセット7が配置されている。
10が配置されている。液槽10には、薬液11及び多
孔質体12が入れられている。多孔質体12は、図6に
示すように、その一主面12Aが薬液11の液面よりも
上方に位置する状態で薬液11に浸漬されている。
方向)、Y方向(前後方向)及びZ方向に移動させる移
動機構を有し、搬送アーム13によって待機部(2,
3)のカセット7から処理部4、若しくは処理部4から
待機部(2,3)のカセット7にキャリア治具8を搬送
する。
された複数のソケット20が行列状に収納されている。
キャリア治具8は、図5に示すように、キャリア本体1
5と、キャリア本体15の一主面から深さ方向に向かっ
て窪む凹部16と、凹部16の底面からキャリア本体1
5の一主面と向かい合う他の主面に亘って貫く貫通孔1
7と、キャリア本体15の互いに向かい合う一対の側面
に夫々設けられた取っ手部18とを有する構成になって
いる。凹部16は行列状に複数配置され、各凹部16の
中にソケット20が収納されている。ソケット20は、
コンタクトピン30の一端側がキャリア本体15の他の
主面から突出するように収納されている。
一主面12Aが薬液11の液面よりも上方に位置する状
態で薬液11に浸漬されているため、多孔質体12の内
部には薬液11が染み込んでおり(浸透しており、)、
多孔質体12の内部に染み込んだ薬液11は、図6に示
すように、液体の表面張力によって多孔質体12の一主
面に滲み出てくる(浮き出てくる)。薬液11として
は、除去する異物に対して溶解性を有するものを用い
る。本実施形態において、CSP型半導体装置40のボ
ール状バンプ45はPb−Sn組成の半田材で形成され
ている。従って、コンタクトピン30の一端側の接続部
に蓄積された異物は大部分が錫と鉛で占められているた
め、これに限定されないが、例えば有機酸系の薬液を用
いている。多孔質体12としては、例えばセラミック焼
結多孔質体を用いている。
粉末の原料を磁器質結合材(ビトリファイドボンド)で
焼結した多孔質体であり、一般的に気体、液体のフィル
ターや断熱版などとして多く使用されているものであ
る。このセラミック焼結多孔質体には、アルミナ質と炭
化珪素質の二種類があり、本実施形態では炭化珪素質の
ものを使用している。炭化珪素質は、耐熱性が800〜
900℃、熱膨張係数が4〜5×10−6/℃の特性を
有し、更に硫酸や塩酸に強い特性を有しているため、フ
ッ酸、濃アルカリ液を除く薬品に使用できる。
装置1の動作と共に説明する。まず、図1に示す位置か
ら、図3に示すように、搬送アーム13を待機部2に移
動させ、カセット7の最上段に収納されたキャリア治具
8を搬送アーム13に移し換える。このキャリア治具8
の移し換えは、キャリア治具8の取っ手部18の下に搬
送アーム13を一旦挿入し、その後、搬送アーム13を
上昇させて取っ手部18を搬送アーム13に乗せること
によって行われる。
ーム13にキャリア治具8を乗せた状態で待機部2から
処理部3に搬送アーム13を移動させ、その後、搬送ア
ーム13を降下させて、図6に示すように、多孔質体1
2の一主面12Aに滲み出た薬液11に、ソケット20
の接続部であるコンタクトピン30の一端側の接続部
(可動ピン32の一端側の先端部)をつける。この時、
コンタクトピン30の一端側の接続部に蓄積された異物
にも薬液11がつく。
2Aに滲み出てくる薬液11は、極わずかであるため、
異物が蓄積されたコンタクトピン30の一端側の接続部
に薬液11を選択的に供給することができる。また、薬
液11が滲み出た多孔質体12の一主面12A上にソケ
ット20を置くことによって、異物が蓄積されたコンタ
クトピン30の一端側の接続部に薬液11を供給するた
め、複数のコンタクトピン30の一端側の接続部に一括
して薬液11を供給することができる。
後、処理部3から待機部2に搬送アーム13を移動させ
て、キャリア治具8をカセット7の元の場所に戻す。
アーム13を移動させ、その後、台座6を上昇させ、そ
の後、搬送アーム13を待機部2に移動させて、カセッ
ト7の次段(最上段から数えて2番目)に収納されたキ
ャリア治具8を搬送アーム13に移し換える。この後、
前述に示した一連の動作を順次繰り返し、待機部2のカ
セット7に収納されたソケット20の接続部(コンタク
トピン30の一端側の接続部)に薬液11を選択的に供
給する。
移動させ、その後、前述に示した一連の動作を順次繰り
返して、待機部3のカセット7に収納されたソケット2
0の接続部(コンタクトピン30の一端側の接続部)に
薬液11を選択的に供給する。
続部に蓄積された異物は、前述の方法で選択的に供給さ
れた薬液11によって溶解するが、異物を完全に溶解さ
せるためには、塗布後の放置時間と、薬液11の供給量
を選定する必要がある。塗布後の放置時間においては、
適正な放置時間を設定する。薬液11の供給量において
は、一回の供給で不足する場合は、多孔質体12の一主
面12Aに滲み出た薬液11に、ソケット20の接続部
であるコンタクトピン30の一端側の接続部をつける動
作を複数回繰り返す。但し、異物を薬液11で溶かすた
めには反応時間が必要なため、一つのソケット20を連
続して処理するのではなく、所定の放置時間後に繰り返
すことが望ましい。
装置1からカセット7を取り出し、その後、ソケット2
0を水,温水等の洗浄液で洗い流すことにより、コンタ
クトピン30の一端側の接続部に蓄積された異物を除去
することができる。
Aに滲み出る薬液11の量は、多孔質体12の気孔径や
薬液11の粘性によって異なるため、適正な気孔径の選
定が必要である。気孔径(単位μm)とは、セラミック
同士の隙間のことである。
果が得られる。多孔質体12の内部から一主面12Aに
滲み出てくる薬液11にソケット20の接続部(コンタ
クトピン30の一端側の接続部)をつける。これによ
り、多孔質体12の内部から一主面12Aに滲みでてく
る薬液11は極わずかなため、ソケット20の接続部に
薬液11を選択的に供給することがてきる。
選択的に供給することができるため、貫通孔25とコン
タクトピン30との間の隙間を通してキャビティ29の
内部に浸入する薬液11を抑制することができる。この
結果、薬液11によるコンタクトピン30の腐食を抑制
することができる。また、薬液11によるコンタクトピ
ン30の腐食を抑制できるため、ソケット20の長寿命
化を図ることができる。
一主面12A上にソケット20を置くことによって、異
物が蓄積されたコンタクトピン30の一端側の接続部に
薬液11を供給するため、複数のコンタクトピン30の
一端側の接続部に一括して薬液11を供給することがで
きる。
一主面12A上にソケット20を置くことによって、ソ
ケット20の接続部であるコンタクトピン30の一端側
の接続部に同量の薬液11を繰り返し供給することがで
きる。
前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論で
ある。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。本発明によれば、ソケットの接続部
に薬液を選択的に供給することが可能となる。本発明に
よれば、薬液洗浄によるソケットのコンタクトピンの腐
食を抑制することが可能となる。本発明によれば、ソケ
ットの長寿命化を図ることが可能となる。
を示す模式的平面図である。
ある。
面図である。
面図である。
面図である。
面図である。
面図である。
を示す模式的平面図である。
示す模式的断面図である。
れる半導体装置の概略構成を示す模式的断面図である。
部、6,9…台座、7…カセット、8…キャリア治具、
10…薬液槽、11…薬液、12…多孔質体、20…ソ
ケット、20A…ソケット本体、21…ベース部材、2
2…蓋部材、25…貫通孔、29…キャビティ、30…
コンタクトピン、40…CSP型半導体装置。
Claims (5)
- 【請求項1】 一主面から突出する接続部を有するソケ
ットと、内部に薬液が染み込んだ多孔質体とを準備する
段階と、 前記多孔質体の内部から一主面に滲み出てくる薬液に前
記ソケットの接続部をつける段階とを具備することを特
徴とするソケットの洗浄方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載のソケットの洗浄方法に
おいて、 前記多孔質体は、前記薬液と同質の薬液に、前記薬液の
液面よりも前記多孔質体の一主面が上方に位置する状態
で浸漬されていることを特徴とするソケットの洗浄方
法。 - 【請求項3】 請求項1に記載のソケットの洗浄方法に
おいて、 前記多孔質体は、セラミック焼結多孔質体であることを
特徴とするソケットの洗浄方法。 - 【請求項4】 請求項1に記載のソケットの洗浄方法に
おいて、 前記ソケットは、ベース部材及び蓋部材で形成されるキ
ャビティを備えたソケット本体と、前記ベース部材に設
けられた第1の貫通孔と、前記蓋部材に設けられた第2
の貫通孔と、前記キャビティの内部に配置され、一端側
が前記第1の貫通孔を通して前記ソケット本体の外部に
引き出され、前記一端側と向かい合う他端側が前記第2
の貫通孔を通して前記ソケット本体の外部に引き出され
たコンタクトピンとを更に有し、 前記コンタクトピンの一端側は、前記ソケットの接続部
として構成されていることを特徴とするソケットの洗浄
方法。 - 【請求項5】 内部に液体が滲み込んだ多孔質体と、 前記多孔質体の内部から一面に滲み出てくる液体に、ソ
ケットの一主面から突出する接続部をつける手段とを有
することを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001215237A JP2003024877A (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | ソケットの洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001215237A JP2003024877A (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | ソケットの洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003024877A true JP2003024877A (ja) | 2003-01-28 |
Family
ID=19049916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001215237A Pending JP2003024877A (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | ソケットの洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003024877A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101892447B1 (ko) * | 2018-01-15 | 2018-10-04 | 최병찬 | 소켓 세척장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6279590U (ja) * | 1985-11-02 | 1987-05-21 | ||
JPH06289057A (ja) * | 1993-04-01 | 1994-10-18 | Kirihara Mekki Kogyo Kk | 電気回路テスト用プローブ |
JPH11290790A (ja) * | 1998-04-13 | 1999-10-26 | Narutomi Shigeki | 清掃具 |
JP2001018765A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-01-23 | Senshiyaki Service:Kk | 車両拭き取り装置及び車両洗車・拭き取り装置 |
-
2001
- 2001-07-16 JP JP2001215237A patent/JP2003024877A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6279590U (ja) * | 1985-11-02 | 1987-05-21 | ||
JPH06289057A (ja) * | 1993-04-01 | 1994-10-18 | Kirihara Mekki Kogyo Kk | 電気回路テスト用プローブ |
JPH11290790A (ja) * | 1998-04-13 | 1999-10-26 | Narutomi Shigeki | 清掃具 |
JP2001018765A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-01-23 | Senshiyaki Service:Kk | 車両拭き取り装置及び車両洗車・拭き取り装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101892447B1 (ko) * | 2018-01-15 | 2018-10-04 | 최병찬 | 소켓 세척장치 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100854267B1 (ko) | 포고핀의 제조방법과, 이를 이용한 테스트 소켓 | |
US8213184B2 (en) | Method of testing using a temporary chip attach carrier | |
US7417447B2 (en) | Probe cards employing probes having retaining portions for potting in a retention arrangement | |
JP4328145B2 (ja) | 集積回路テストプローブ | |
US10001510B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
JP4197659B2 (ja) | 電子部品用コンタクタ及びこれを用いた試験方法 | |
KR101145886B1 (ko) | 전기적 접속체 및 그 전기적 접속체를 포함한 테스트 소켓 | |
US20070066094A1 (en) | Package having balls designed to reduce contact resistance, test apparatus for testing the package, and method of manufacturing the package | |
JP2002231399A (ja) | 半導体装置試験用コンタクタ及びその製造方法 | |
JP2012532313A (ja) | 検査用探針装置 | |
WO2006085573A1 (ja) | インターポーザ、プローブカードおよびインターポーザの製造方法 | |
JP2003203941A (ja) | 半導体装置と配線基板との実装体 | |
KR101311752B1 (ko) | 반도체 테스트용 콘텍터 및 그 제조방법 | |
JP2003024877A (ja) | ソケットの洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP4365351B2 (ja) | バンプ | |
JP2001035577A (ja) | 電気コネクタ及びその製造方法 | |
KR101398550B1 (ko) | 컨택트 프로브 및 그 제조방법 | |
JP2002367748A (ja) | ソケット | |
KR100555714B1 (ko) | 반도체 패키지 검사용 소켓의 컨택가이드 필름 제조방법 | |
KR101678366B1 (ko) | 컨택터 제조방법 | |
JP4768213B2 (ja) | 電気素子、電気素子装置、および電気素子装置の製造方法 | |
US6367763B1 (en) | Test mounting for grid array packages | |
JP2005127961A (ja) | テスト用基板及びそれを使用したテスト装置 | |
KR102664541B1 (ko) | 반도체 소자 테스트용 러버 소켓 | |
JP2002008804A (ja) | 半導体装置の電気的特性試験装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060914 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061215 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080516 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100630 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101027 |