JP2003021893A - 湿し液なしの平版印刷法 - Google Patents

湿し液なしの平版印刷法

Info

Publication number
JP2003021893A
JP2003021893A JP2002176967A JP2002176967A JP2003021893A JP 2003021893 A JP2003021893 A JP 2003021893A JP 2002176967 A JP2002176967 A JP 2002176967A JP 2002176967 A JP2002176967 A JP 2002176967A JP 2003021893 A JP2003021893 A JP 2003021893A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
coating
printing plate
acid
printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002176967A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003021893A5 (ja
Inventor
Eric Verschueren
エリク・ベルシユエレン
Rudi Goedeweeck
ルデイ・ゴーデベーク
Joan Vermeersch
ジヨアン・ベルメールシユ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JP2003021893A publication Critical patent/JP2003021893A/ja
Publication of JP2003021893A5 publication Critical patent/JP2003021893A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1075Mechanical aspects of on-press plate preparation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3035Imagewise removal using liquid means from printing plates fixed on a cylinder or on a curved surface; from printing cylinders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1025Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials using materials comprising a polymeric matrix containing a polymeric particulate material, e.g. hydrophobic heat coalescing particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平版印刷版前駆体において行うことができ、
電子及び光学部品の近くの損傷もしくは汚染の危険が最
少にされている湿式処理法を提供すること。 【解決手段】 (i)支持体及び感熱性もしくは感光性
コーティングを含む平版印刷版前駆体を準備し; (ii)コーティングを熱又は光に画像−通りに露出
し; (iii)段階(ii)もしくは(iv)の前に、湿し
系及びインキ供給系を含む印刷機の印刷装置内に平版印
刷版前駆体を搭載し; (iv)湿し系によりコーティングに処理液を供給する
ことによって現像し、それにより平版印刷版を得; (v)平版印刷版にインキ供給系によって単−流体イン
キもしくはドライオグラフィーインキを供給することに
より印刷する段階を含む印刷法を開示する。この方法は
湿式処理を必要とする印刷版材料のオン−プレス処理を
可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、平版印刷版前駆体が印刷機内
に搭載されている間に処理液を用いて該版前駆体を現像
する平版印刷法に関する。
【0002】
【発明の背景】平版印刷機は、印刷機の胴上に搭載され
る印刷版のようないわゆる印刷マスターを用いる。マス
ターはその表面上に平版印刷画像を保有しており、該画
像にインキを適用し、次いでインキをマスターから典型
的には紙である受容材料上に転写することによりプリン
トが得られる。通常のいわゆる「湿式」平版印刷の場
合、インキならびに水性湿し液(aqueous fo
untain solution)(湿し液(damp
ening liquid)とも呼ばれる)が、親油性
(又は疎水性、すなわちインキ−受容性、水−反発性)
領域ならびに親水性(又は疎油性、すなわち水−受容
性、インキ−反発性)領域から成る平版印刷画像に供給
される。いわゆる「ドライオグラフィー」印刷の場合、
平版印刷画像はインキ−受容性及びインキ−忌避性(i
nk−abhesive)(インキ−反発性)領域から
成り、ドライオグラフィー印刷の間にはインキのみがマ
スターに供給される。
【0003】印刷マスターは一般にいわゆるコンピュー
ター−ツウ−フィルム法(computer−to−f
ilm method)により得られ、その方法では活
字書体選択、走査、色分解、スクリーニング、トラッピ
ング、レイアウト及び組付けのような種々のプリ−プレ
ス段階がデジタル的に行われ、各色選択がイメージ−セ
ッターを用いてグラフィックアートフィルムに転写され
る。処理の後、版前駆体と呼ばれる画像形成材料の露出
のためのマスクとしてフィルムを用いることができ、版
の処理の後、マスターとして用いることができる印刷版
が得られる。
【0004】近年、いわゆる「ダイレクト刷版(com
puter−to−plate)」(CTP)法が多く
の興味を得てきた。「ダイレクト刷版(direct−
to−plate)」とも呼ばれるこの方法は、デジタ
ル文書がいわゆるプレート−セッターにより版前駆体に
直接転移されるので、フィルムの作成を迂回する。特殊
な型のCTPは、版前駆体を、印刷機の版胴上に搭載さ
れている間に、印刷機内に組み込まれたプレート−セッ
ターにより露出することを含む。この方法は「ダイレク
ト印刷(computer−to−press)」とも
呼ばれることができ、組み込まれたプレート−セッター
を有する印刷機はデジタル印刷機と呼ばれることがあ
る。デジタル印刷機の概覧はProceedings
of the Imaging Science &
Technology’s 1997 Interna
tional Conference on Digi
tal Printing Technologies
(Non−ImpactPrinting 13)に示
されている。ダイレクト印刷法は例えばEP−A770
495、EP−A 770 496、WO 9400
1280、EP−A 580 394及びEP−A 7
74 364に記載されている。多−色印刷機における
版の直接の見当合わせの他に、ダイレクト印刷法は、露
出及び処理の後に版を取り扱う必要がなく、結果とし
て、現像された版を指紋又は他の汚染に対して保護する
ためにいわゆる減感コーティング(ゴム層)を適用する
必要がないという追加の利益を与える。
【0005】特に、熱又は赤外光に対して感受性である
感熱版(thermal plates)は、それらの
昼光安定性の故にダイレクト刷版及びダイレクト印刷法
において広く用いられている。そのような感熱材料は好
ましくは吸収される光を熱に転換する化合物を含んでい
る。画像−通りに露出されると発生する熱が(物理−)
化学的プロセス、例えば融蝕、重合、ポリマーの架橋に
よる不溶化、分解又は熱可塑性ポリマーラテックスの粒
子凝析を開始させ、任意の処理の後に平版印刷画像が得
られる。ダイレトク印刷法で多くの場合に用いられる感
熱版材料は熱−誘導融蝕に基づいている。融蝕性の版に
伴う問題は、除去が困難であり且つ印刷プロセスを撹乱
し得るか、又は組み込まれたイメージ−セッターの露出
光学素子を汚染し得る破壊屑の発生である。結果として
そのような融蝕性版は、露出された材料から破壊屑を除
去するための処理段階を必要とする。
【0006】湿し液及びインキを用いて現像され得る非
−融蝕性版がEP−B 770 494に記載されてい
る。後者の特許明細書は、親水性結合剤の画像−記録
層、光を熱に転換できる化合物及び疎水性熱可塑性ポリ
マー粒子を含む画像形成材料を画像−通りに露出し、そ
れによって露出された領域を、印刷マスターの印刷領域
を区画する疎水性相に転換する方法を開示している。印
刷機運転の間に胴に供給される湿し液及びインキとの相
互作用により層が現像されるので、追加の処理なしで露
出の直後に印刷機運転を開始することができる。従って
これらの材料の湿式化学的処理は使用者に「隠されて」
おり、印刷機の最初の運転の間に行われる。そのような
非−融蝕性の隠された処理用材料(hidden−pr
ocessing materials)に伴う問題は
版の短いランレングスである。
【0007】他の感熱版、例えばAgfaのTherm
ostarTM又はKodak Polychrome
GraphicsからのElectraTMはより長いラ
ンレングスを与えるが、アルカリ性液を用いる湿式処理
を必要とし、それは組み込まれたイメージ−セッターの
エレクトロニクス及び光学素子ならびにデジタル印刷機
の他の装置を損なうか、又は汚染し得る。UV−感受性
版も、それらが可視もしくは黄色光中において安定であ
る可能性のためにCTPに非常に適している。さらに、
通常はフィルムマスクを介する密着露出に用いられるほ
とんどの通常のUV−感受性のいわゆるプレセンシタイ
ズド(pre−sensitized)(「PS」)版
は、高い感度、印刷機の化学品に対する抵抗性及び典型
的な感熱版より優れた、例えばスクラッチングに対する
物理的抵抗性のような他の利益に加えて、非常に長いラ
ンレングスを可能にする。しかしながら、そのようなP
S版もアルカリ性処理を必要とし、それがそれらをダイ
レクト印刷法において必要なオン−プレス処理にあまり
適していないものとしている。従ってそのような版は通
常専用の処理装置で現像され、次いで印刷機に搭載され
る。これは版の搭載及び見当合わせの間にかなりの版の
取り扱いを必要とし、従って平版印刷画像のスクラッ
チ、指紋又は他の損傷もしくは汚染の危険を含む。
【0008】従って、電子−光学部品の近くの損傷もし
くは汚染の危険なく、画像形成材料が印刷機中に搭載さ
れている間に行うことができる湿式処理法が必要であ
る。そのような処理法は湿式処理を必要とする版にダイ
レクト印刷システムを解放するが、他方、長いランレン
グス又は昼光安定性のような利益に特徴付けられる。
【0009】
【発明の概略】本発明の目的は、平版印刷版前駆体にお
いて行うことができ、電子及び光学部品の近くの損傷も
しくは汚染の危険が最少にされている湿式処理法を提供
することである。この目的は請求項1の方法により実現
され、好ましい態様は従属クレイム中に定義される。本
発明の方法に従うと、湿式平版印刷のためのいずれの印
刷機にも存在する湿し系によって処理液を供給すること
により、平版印刷版前駆体をオン−プレスで処理する。
処理の後、通常通りに印刷を開始するが、油性のインキ
及び水性湿し液を版に供給する代わりに、インキ供給系
によってドライオグラフィーインキもしくは単−流体イ
ンキを版に供給する。印刷の間のドライオグラフィーイ
ンキもしくは単−流体インキの使用は、湿式もしくはア
ルカリ性処理さえ必要とする版材料のオン−プレス現像
のための処理系として、湿しローラーを用いることを可
能にする。この方法は、処理液が印刷段階の間に供給さ
れるインキを汚染し得ないという追加の利点を与え、そ
れは印刷の間に湿し系を働かせる(engage)必要
がないからである。
【0010】ドライオグラフィーインキは、シリコーン
又はフッ素化ポリマーを含有する表面により非−画像領
域が区画されている版からの印刷のために特に最適化さ
れている。そのような領域は高度に疎油性であり、湿し
液を用いずに親油性画像−領域からの印刷が可能であ
る。ドライオグラフィーインキは粘着力及び粘度の両方
が、好ましくは広い温度範囲に及んで高い。
【0011】単−流体インキは一般に極性相中のインキ
相のエマルション、あるいはその逆のインキ相中の極性
相のエマルションであるインキとして理解される。単−
流体インキは、湿し液の適用なしで湿式平版印刷のため
の通常の印刷マスターを用いる印刷を可能にする。イン
キ相は印刷マスター上の疎水性領域上に吸着し、極性相
は親水性領域を湿らせ、それにより別の湿し液を供給す
る必要なく平版印刷画像の非−印刷部分上におけるイン
キ成分の吸着を妨げる。
【0012】本発明に従うと、オン−もしくはオフ−プ
レスで平版印刷版前駆体を露出することができる。後者
の態様では、版前駆体をプレート−セッターにおいて露
出し、次いで印刷機上に搭載し、続いて湿し系を介して
処理液を供給することによって現像する。より好ましく
は、未露出の版前駆体を印刷機上に搭載し、次いで組み
込まれたプレート−セッターにより露出し、続いて湿し
系を介して処理液を供給することによって現像する。
【0013】本発明の他の目的及び好ましい態様を下記
で議論する。
【0014】
【発明の詳細な記述】平版印刷版前駆体 本発明で用いられる平版印刷版前駆体は、支持体及び感
熱性もしくは感光性コーティングを含む画像形成材料で
あり、コーティングは支持体上に設けられた1つもしく
はそれより多い層から成ることができる。材料は画像−
通りに露出されると潜像を形成し、好ましくはコーティ
ングを実質的に融蝕しない、すなわち湿式現像段階の前
に、有用な画像を形成するのに十分な量の物質を、露出
の間に融蝕によってコーティングから除去しない。潜像
は、コーティングにおいて物質がそこから処理液により
除去され得る領域及び現像段階にこれらの物質がそこか
ら除去されない他の領域から成る。
【0015】好ましい画像形成材料は、インキ又はイン
キ−忌避性流体に対して反対の親和性を有する2組の領
域(すなわち親水性領域と疎水性領域又は親油性領域と
疎油性領域)から成る平版印刷画像を形成することがで
きる平版印刷版前駆体である。そのような平版印刷画像
は、インキもしくはインキ−忌避性流体に対して第1の
親和性を有する層を材料から除去し、それによりインキ
もしくはインキ−忌避性流体に対して反対の親和性を有
する他の層又は支持体を露出せしめる湿式現像段階の後
に得られ得る。本発明の方法は、露出された印刷版前駆
体から融蝕屑を除去するのに適しており、その場合処理
液として水を用いるのが十分であり得る。より好ましい
態様の場合、印刷版前駆体は非−融蝕性であり、すなわ
ち材料は露出された時に1つもしくはそれより多い層の
実質的融蝕を示さない。「実質的融蝕がない(No s
ubstantial ablation)」は、露出
の後に層の融蝕的除去によって有用な平版印刷画像が形
成されないことを意味する。代わりに、本発明で用いら
れる好ましい版前駆体は、湿式現像段階によってコーテ
ィングの露出されたもしくは露出されない領域を除去し
た後に初めて、有用な平版印刷画像を形成する。
【0016】画像形成材料は支持体上に設けられた少な
くとも1つの画像−記録層を含む。好ましくは1つだけ
の画像形成層が支持体上に設けられる。材料はネガティ
ブもしくはポジティブ作用性であることができ、すなわ
ちそれぞれ露出された領域において又は露出されない領
域においてインキ−受容領域を形成することができる。
好ましいポジティブ作用性の態様の場合、材料は、イン
キ−受容性であって露出の前には処理液によって除去さ
れ得ず且つ露出されると除去可能にされる層を含有して
おり、露出された領域においては、下にある親水性層も
しくは支持体が処理の後に現れる。好ましいネガティブ
作用性の態様の場合、材料は、露出されない領域におい
て現像段階により除去可能であり且つ露出によって除去
不可能な状態に転換される層を含有し、露出されない領
域においては、下にある親水性層又は親水性支持体が現
像段階によって現れ、露出された領域においては、処理
の後にインキ−受容性層が残る。「除去される」又は
「除去可能」という用語は、処理液の供給により物質が
液中に溶解することによって又は液中における該物質の
懸濁液、分散液もしくはエマルションの形成によって、
該物質がコーティングから除去されるか又は除去され得
ることを示す。
【0017】適した画像形成材料の非常に好ましいが制
限ではない態様は、親水性支持体及びその上に設けられ
たコーティングを含有し、コーティングは疎水性である
か又は露出されると疎水性状態に転換される。そのよう
な材料は、支持体が印刷機又はプレート−セッター中に
搭載されている間に支持体上に画像−記録層をコーティ
ング、スプレー噴霧又は噴射することにより与えられ得
る。あるいは末端−使用者が版の製造者により供給され
る既製の画像形成材料を印刷機又はプレート−セッター
上に搭載し、次いでそれを本発明の方法に従って露出
し、現像することができる。
【0018】そのような画像形成材料のさらに特定的な
態様をここで議論する。 支持体 印刷版前駆体の支持体はシート−様材料、例えば版であ
ることができるか、あるいはそれは印刷機のプリントシ
リンダー(print cylinder)の回りで滑
らせることができるスリーブのような円筒状の要素であ
ることができる。あるいはまた、支持体はプリントシリ
ンダー自身であることもできる。後者の選択肢の場合、
例えば上記で示したオン−プレススプレー噴霧により画
像−記録層をプリントシリンダー上に設ける。支持体は
好ましくは親水性支持体又は親水性層が設けられた支持
体である。好ましくは支持体はアルミニウム又はステン
レススチールのような金属支持体である。
【0019】特に好ましい親水性支持体は電気化学的に
研磨され且つ陽極酸化されたアルミニウム支持体であ
る。陽極酸化されたアルミニウム支持体を処理してその
表面の親水性を向上させることができる。例えばアルミ
ニウム支持体を高められた温度、例えば95℃でケイ酸
ナトリウム溶液を用いてその表面を処理することにより
ケイ酸塩化することができる。あるいは又、リン酸塩処
理を施すことができ、それは酸化アルミニウム表面をリ
ン酸塩溶液で処理することを含み、リン酸塩溶液はさら
に無機フッ化物を含有していることができる。さらに酸
化アルミニウム表面をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯
ぐことができる。この処理は室温で行うことができる
か、又は約30〜50℃のわずかに高められた温度で行
うことができる。さらに興味深い処理は酸化アルミニウ
ム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐことを含む。さらに、酸化
アルミニウム表面をポリビニルホスホン酸、ポリビニル
メチルホスホン酸、ポリビニルアルコールのリン酸エス
テル、ポリビニルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスル
ホン酸、ポリビニルアルコールの硫酸エステル及びスル
ホン化脂肪族アルデヒドとの反応により生成するポリビ
ニルアルコールのアセタールを用いて処理することがで
きる。これらの後処理の1つ又はそれ以上を単独で又は
組み合わせて行うことができることはさらに明らかであ
る。これらの処理のもっと詳細な記載はGB−A−1
084 070、DE−A−4 423140、DE−
A−4 417 907、EP−A−659 909、
EP−A−537 633、DE−A−4 001 4
66、EP−A−292 801、EP−A−291
760及びUS−P−4 458 005に示されてい
る。
【0020】他の態様に従うと、支持体は下記で「ベー
ス層」と呼ぶ親水性層が設けられた柔軟性支持体である
こともできる。柔軟性支持体は例えば紙、プラスチック
フィルム、薄いアルミニウム又は薄いアルミニウムとプ
ラスチックの積層物である。プラスチックフィルムの好
ましい例はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
エチレンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム
などである。プラスチックフィルム支持体は不透明又は
透明であることができる。
【0021】ベース層は好ましくはホルムアルデヒド、
グリオキサール、ポリイソシアナート又は加水分解され
たテトラ−アルキルオルトシリケートのような硬膜剤を
用いて架橋された親水性結合剤から得られる架橋された
親水性層である。後者が特に好ましい。親水性ベース層
の厚さは0.2〜25μmの範囲内で変わることがで
き、好ましくは1〜10μmである。
【0022】ベース層で用いるための親水性結合剤は例
えば親水性(コ)ポリマー、例えばビニルアルコール、
アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メチロー
ルメタクリルアミド、アクリレート酸(acrylat
e acid)、メタクリレート酸(methacry
late acid)、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及
びコポリマーあるいは無水マレイン酸/ビニルメチルエ
ーテルコポリマーである。用いられる(コ)ポリマー又
は(コ)ポリマー混合物の親水度は好ましくは、少なく
とも60重量パーセント、好ましくは80重量パーセン
トの程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と
同じか又はそれより高い。
【0023】硬膜剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少な
くとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重量
部、最も好ましくは1重量部〜3重量部である。
【0024】親水性ベース層は、層の機械的強度及び多
孔度を向上させる物質も含有することができる。この目
的のためにコロイドシリカを用いることができる。用い
られるコロイドシリカは例えば最高で40nm、例えば
20nmの平均粒度を有するコロイドシリカのいずれの
商業的に入手可能な水分散液の形態にあることもでき
る。さらにコロイドシリカより大きな寸法の不活性粒
子、例えばJ.Colloid and Interf
ace Sci.,Vol.26,1968,page
s 62 to 69に記載されている通りStOEb
erに従って調製されるシリカあるいはアルミナ粒子あ
るいは二酸化チタン又は他の重金属酸化物の粒子である
少なくとも100nmの平均直径を有する粒子を加える
ことができる。これらの粒子の導入により、親水性ベー
ス層の表面に微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与
えられ、それは背景領域における水のための保存場所と
して働く。
【0025】本発明に従って用いるために適した親水性
ベース層の特定の例は、EP−A−601 240、G
B−P−1 419 512、FR−P−2 300
354、US−P−3 971 660及びUS−P−
4 284 705に開示されている。
【0026】下塗り層とも呼ばれる接着促進層が設けら
れたフィルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明
に従って用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A
−619 524、EP−A−620 502及びEP
−A−619 525に開示されているような親水性結
合剤及びコロイドシリカを含む。好ましくは接着促進層
中のシリカの量は200mg/m2〜750mg/m2
ある。さらにシリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは
1より高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少な
くとも300m2/グラム、より好ましくは少なくとも
500m2/グラムである。 感熱性画像形成材料 例えばサーマルヘッドを用いる熱への直接露出により、
又は光、より好ましくは赤外光を熱に転換できるコーテ
ィング中の1種もしくはそれより多い化合物の吸光によ
り、熱的材料の画像形成機構を開始させることができ
る。特に有用な光から熱への転換化合物は例えば染料、
顔料、カーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒化
物、炭化窒化物、ブロンズ−構造の酸化物ならびに導電
性ポリマー分散液、例えばポリピロール、ポリアニリン
もしくはポリチオフェンに基づく導電性ポリマー分散液
である。赤外染料及びカーボンブラックが非常に好まし
い。
【0027】熱的印刷版前駆体の第1の適した例の場
合、コーティングの作用機構は、好ましくは例えばEP
770 494;EP 770 495;EP 77
0 497;EP 773 112;EP 774 3
64;及びEP 849 090に記載されているよう
な、親水性結合剤中に分散された疎水性熱可塑性ポリマ
ー粒子の熱−誘導凝集に頼っている。そのような材料は
Agfa−GevaertからThermoliteの
商品名の下に商業的に入手可能である。
【0028】凝集したポリマー粒子は疎水性印刷領域を
区画し、それは現像段階の間に容易に除去され得ない
が、未露出層は非−印刷領域を区画し、それは現像段階
の間に容易に除去可能である。疎水性熱可塑性ポリマー
粒子は好ましくは35℃より高い、より好ましくは50
℃より高い凝析温度を有する。凝析は熱の影響下におけ
る熱可塑性ポリマー粒子の軟化もしくは融解から生じ得
る。熱可塑性疎水性ポリマー粒子の凝析温度に特定の上
限はないが、温度はポリマー粒子の分解より十分に低く
なければならない。好ましくは凝析温度は、ポリマー粒
子の分解が起こる温度より少なくとも10℃低い。疎水
性ポリマー粒子の特定の例は、例えばポリエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ
エチル(メタ)アクリレート、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアクリロニトリル、ポリビニルカルバゾール、ポリス
チレン又はそれらのコポリマーである。最も好適に用い
られるのはポリスチレンである。ポリマーの重量平均分
子量は5,000〜1,000,000g/モルの範囲
であることができる。疎水性粒子は0.01μm〜50
μm、より好ましくは0.05μm〜10μm、最も好
ましくは0.05μm〜2μmの粒度を有することがで
きる。画像形成層中に含有される疎水性熱可塑性ポリマ
ー粒子の量は、好ましくは20重量%〜65重量%、よ
り好ましくは25重量%〜55重量%、最も好ましくは
30重量%〜45重量%である。
【0029】適した親水性結合剤は、例えば合成ホモ−
もしくはコポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポ
リ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリルアミド、
ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリビニ
ルメチルエーテルあるいは天然結合剤、例えばゼラチ
ン、多糖類、例えばデキストラン、プルラン、セルロー
ス、アラビアゴム、アルギン酸である。
【0030】第2の適した態様の場合、コーティング
は、露出の前に親水性且つ処理液中に可溶性であり、そ
のような露出の後に疎水性且つ低い溶解性とされるアリ
ールジアゾスルホネートホモ−もしくはコポリマーを含
む。露出は上記で議論したと同じ手段により行われ得
る。あるいはまた、例えばUVレーザーもしくはUVラ
ンプによるUV光への露出によりアリールジアゾスルホ
ネートポリマーを切り替えることもできる。
【0031】そのようなアリールジアゾスルホネートポ
リマーの好ましい例は、アリールジアゾスルホネートモ
ノマーの単独重合あるいはそれと他のアリールジアゾス
ルホネートモノマー及び/又はビニルモノマー、例えば
(メタ)アミリル酸もしくはそれらのエステル、(メ
タ)アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、α−メチルス
チレンなどとの共重合により製造され得る化合物であ
る。本発明で用いるために適したアリールジアゾスルホ
ネートポリマーは次式:
【0032】
【化1】
【0033】[式中、R012はそれぞれ独立して水
素、アルキル基、ニトリル又はハロゲン、例えばClを
示し、Lは2価の連結基を示し、nは0又は1を示し、
Aはアリール基を示し、Mはカチオンを示す]を有す
る。Lは好ましくは−Xt−CONR3−、−Xt−CO
O−、−X−及び−Xt−CO−より成る群から選ばれ
る2価の連結基を示し、ここでtは0又は1を示し、R
3は水素、アルキル基又はアリール基を示し、Xはアル
キレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、アリー
レンオキシ基、アルキレンチオ基、アリーレンチオ基、
アルキレンアミノ基、アリーレンアミノ基、酸素、硫黄
又はアミノ基を示す。Aは好ましくは非置換アリール
基、例えば非置換フェニル基あるいは1つもしくはそれ
より多いアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基又はアミノ基で置換されているアリール
基、例えばフェニルを示す。Mは好ましくはNH4 +のよ
うなカチオン又は金属イオン、例えばAl、Cu、Z
n、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属のカチオン
を示す。
【0034】上記のポリマーの製造のための適したアリ
ールジアゾスルホネートモノマーはEP−A 3393
93、EP−A 507008及びEP−A 7716
45に開示されている。
【0035】熱的印刷版の第3の適した態様はポジティ
ブ作用性であり、ノボラック層の光−誘導可溶化に頼っ
ている。既知の例はAgfaのThermostarTM
及びKodak Polychrome Graphi
csからのElectraTMであり、それらの組成及び
作用機構は例えばEP−A 864 420、EP−A
908 305、EP−A 908 779、EP−
A 908 784、EP−A 908 306、EP
−A 908 307、EP−A 950 517、E
P−A 950 518、EP−A 825 927、
EP−A 823327及びWO99/21725に記
載されている。 感光性画像形成材料 上記の熱的材料に加え、感光性コーティングを本発明の
方法で用いることもできる。可視光に感受性である版の
典型的な例は、Agfa−GevaertのLitho
starTM版材料のように銀塩拡散転写反転機構に従っ
て働くか、あるいは光重合に基づいており、例えば両方
ともやはりAgfa−Gevaertから入手可能なN
90TM及びN91TM版材料を用いることができる。
【0036】本発明の特定の態様の場合、通常のUV−
感受性「PS」版が用いられる。300〜450nm
(近UV及び青光)の領域内で感受性であるそのような
版の適した例は、EP 1 029 668 A2にお
いて議論されている。「PS」版において典型的に用い
られるポジティブ及びネガティブ作用性組成物のさらな
る詳細をここでもっと詳細に議論する。
【0037】ポジティブ作用性画像形成層は、好ましく
はo−ナフトキノンジアジド化合物(NQD)及びアル
カリ可溶性樹脂を含む。特に好ましいのは種々のヒドロ
キシル化合物のo−ナフトキノン−ジアジドスルホン酸
エステルもしくはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸
エステルならびに種々の芳香族アミン化合物のo−ナフ
トキノン−ジアジドスルホン酸アミドもしくはo−ナフ
トキノン−ジアジドカルボン酸アミドである。
【0038】NQD系の2つの変形:1−成分系及び2
−成分系を用いることができる。前者の場合、スルホン
酸もしくはカルボン酸基がフェノール性ヒドロキシ基を
有する水不溶性、アルカリ可溶性もしくは膨潤性樹脂の
フェノール性ヒドロキシ基に直接結合している。いくつ
かのフェノール性ヒドロキシ基が非置換のままであるの
が好ましい。そのような化合物の例にはフェノール、ク
レゾール、レゾルシノール及びピロガロールが含まれ
る。好ましいフェノール性ヒドロキシ基を有する水不溶
性、アルカリ可溶性もしくは膨潤性樹脂の例にはフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂及びレゾルシ
ノール−ベンズアルデヒド樹脂が含まれる。典型的な例
にはナフトキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸と
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂のエステル、米国特許第3,63
5,709号に開示されているナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−(2)−5−スルホン酸とピロガロー
ル−アセトン樹脂のエステルならびに日本特許公開番号
昭55−76346に開示されているナフトキノン−
(1,2)−ジアジド−(2)−5−スルホン酸とレゾ
ルシノール−ピロガロール−アセトン共重縮合物が含ま
れる。
【0039】他の有用な化合物の例は、日本特許出願公
開番号昭50−117503号に開示されているような
o−ナフトキノン−ジアジドスルホニルクロリドでエス
テル化されたヒドロキシル基を末端に有するポリエステ
ル;日本特許公開番号昭50−113305に開示され
ているようなo−ナフトキノン−ジアジドスルホニルク
ロリドでエステル化されたp−ヒドロキシスチレンのホ
モポリマー又は他の共重合可能なモノマーとのそれらの
コポリマー;米国特許第3,859,099号に開示さ
れているようなアルキルアクリレート−アクリロイルオ
キシアルキルカーボネート−ヒドロキシアルキルアクリ
レートコポリマーとo−ナフトキノンジアジド−スルホ
ニルクロリドとの縮合物;米国特許第3,759,71
1号に開示されているようなp−アミノスチレン及びそ
れと共重合可能なモノマーのコポリマーならびにo−ナ
フトキノンジアジド−スルホン酸又はo−ナフトキノン
ジアジドカルボン酸のアミド;ならびにポリヒドロキシ
ベンゾフェノン及びo−ナフトキノンジアジドスルホニ
ルクロリドのエステル化合物である。
【0040】これらの化合物を単独で用いることができ
るが、好ましくはアルカリ−可溶性樹脂との混合物とし
て用い、感光層を形成する。
【0041】2−成分系としてのNQDの適用の場合、
種々の低−分子量NQDスルホン酸もしくはカルボン酸
誘導体を主にある種の水不溶性、アルカリ可溶性もしく
は膨潤性樹脂中に溶解する;後者はNQDのためのポリ
マー性結合剤として作用する。好ましくは該4−もしく
は5−スルホニルもしくはカルボキシル置換1,2ナフ
トキノン−ジアジドは、1,2ナフトキノンジアジド−
4−もしくは−5−スルホン酸もしくはカルボン酸と少
なくとも2つのフェノール性ヒドロキシ基を有するフェ
ノール性化合物、より好ましくは少なくとも3つのフェ
ノール性ヒドロキシ基を有するフェノール性化合物との
エステルである。さらに別の適した1,2ナフトキノン
−2−ジアジドはGB−A 739654及びUS−A
4,266,001に開示されている。
【0042】好ましい水不溶性、アルカリ可溶性もしく
は膨潤性樹脂は、フェノール性ヒドロキシ基、オキシム
基又はスルホンアミド基を含む樹脂である。より好まし
いのはフェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂及び例え
ばヒドロキシエチル(メタ)アクリレートから出発して
合成することができるポリ(メタ)アクリレートのフェ
ノール性ヒドロキシ官能基化誘導体である。
【0043】最も好ましいのは合成ノボラック樹脂であ
り、それらの典型的な例はフェノールホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂及び日本特許
出願公開番号昭55−57841号に開示されているよ
うなフェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共重縮
合樹脂である。
【0044】「PS」版のネガティブ作用性層は好まし
くはジアゾニウム塩、ジアゾニウム樹脂又はアリールジ
アゾスルホネートホモ−もしくはコポリマーを含む。本
発明で用いるための低分子量ジアゾニウム塩の例には:
ベンジジンテトラゾニウムクロリド、3,3’−ジメチ
ルベンジジンテトラゾニウムクロリド、3,3’−ジメ
トキシベンジジンテトラゾニウムクロリド、4,4’−
ジアミノジフェニルアミンテトラゾニウムクロリド、
3,3’−ジエチルベンジジンテトラゾニウムサルフェ
ート、4−アミノジフェニルアミンジアゾニウムサルフ
ェート、4−アミノジフェニルアミンジアゾニウムクロ
リド、4−ピペリジノアニリンジアゾニウムサルフェー
ト、4−ジエチルアミノアニリンジアゾニウムサルフェ
ート及びジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの
オリゴマー性縮合生成物が含まれる。本発明において有
用なジアゾ樹脂の例には感光性物質としての芳香族ジア
ゾニウム塩の縮合生成物が含まれる。そのような縮合生
成物は例えばDE−P−1214 086に記載されて
いる。感光層又は感熱層は好ましくは結合剤、例えばポ
リビニルアルコールも含有する。
【0045】露出されると、ジアゾ樹脂又はジアゾニウ
ム塩は水溶性から水不溶性に転換され(ジアゾニウム基
の破壊の故に)、さらにジアゾの光分解生成物がポリマ
ー性結合剤又はジアゾ樹脂の架橋のレベルを向上させ、
それによりコーティングを画像パターンで水溶性から水
不溶性に選択的に転換する。未露出領域は未変化、すな
わち水溶性のまま残る。 露出段階 画像−通りの露出の段階は電磁線又は熱への露出を含む
ことができ、それは本発明の方法が感光性及び感熱性材
料の両方に適用可能だからである。好ましい感光性材料
はUV−感受性であり、特に昼光中で取り扱うことがで
きるUV−感受性材料である。類似の理由で、サーマル
ヘッド又は赤外線を用いて露出することができる感熱性
材料も非常に適している。好ましい露出装置はHe/N
eレーザー、Arレーザー又は紫レーザーダイオードの
ような1種もしくはそれより多いレーザーを含む。最も
好ましくは、露出に用いられる光はUVレーザー光であ
るか、あるいは約700〜約1500nmの領域内の波
長を有する近赤外光を発するレーザー、例えば半導体レ
ーザーダイオード、Nd:YAGもしくはNd:YLF
レーザーが用いられる。必要なレーザー出力は、画像−
記録層の感度、スポット直径(最大強度の1/e2にお
ける近代的プレート−セッターの典型的な値:10〜2
5μm)により決定されるレーザービームの画素滞留時
間、走査速度及び露出装置の解像度(すなわち多くの場
合にインチ当たりのドット又はdpiで表される直線距
離の単位当たりのアドレス可能な(addressab
le)画素の数;典型的な値:1000〜4000dp
i)に依存する。UVランプ、好ましくは例えば光バル
ブ又はデジタルミラー装置によりデジタル的に変調され
たUVランプも用いることができる。 現像段階 本発明に従うと、画像−通りに露出された平版印刷版前
駆体を、既知の平版印刷機の印刷装置中に存在する湿し
系により処理液を供給することによって現像する。図1
は版胴1、ゴム胴2、圧胴3、インキ供給系5及び湿し
系6を含むそのような装置の典型的な例を示している。
図1の態様の場合、処理液8は、版前駆体(示されてい
ない)を保有する版胴1の1回もしくはそれより多い回
転の間に、好ましくはインキ供給系を働かせずに、湿し
ローラーを介して印刷版前駆体のコーティングに供給さ
れる。下記で議論する任意の濯ぎ又は他の任意の処理段
階の後、インキ供給系5を働かせ、それによってドライ
オグラフィーインキ又は単−流体インキ9をインキ溝1
0から印刷版に供給することができる。次いでインキを
圧胴2を介して紙4に画像−通りに転写し、紙はシート
−もしくはウェブ−形態で印刷機を通って供給されるこ
とができる。
【0046】現像段階は濯ぎ液、例えば水を版に供給す
る追加の段階ならびに例えば熱風を適用することによる
か又は赤外ランプの使用による任意の乾燥段階を含むこ
とができる。現像段階に、画像形成材料の単数もしくは
複数の層を水もしくは他の液体に浸すような予備−処理
が先行することもできる。濯ぎ液及び予備−処理液は添
加剤、例えば液体の表面張力を調整するための化合物を
含むことができる。これらの液体を処理液と同じ湿し系
により適用することができる。
【0047】処理液及び/又は濯ぎ液は好ましくは吸引
用具(suction device)を用いて版から
集められ、吸引用具は現像されたコーティングから除去
された物質と一緒に液体を材料から集める。吸引用具を
処理液の適用と同時に又は好ましくはその間に処理液が
コーティングを攻撃する少なくとも10秒、より好まし
くは20〜90秒の時間の後に働かせることができる。
吸引用具は単に多孔質材料、例えばシート−もしくはウ
ェブ−形態の液体−吸収性の布もしくは編織布であるこ
とができる。そのような多孔質材料をロールから供給
し、版材料のコーティングに接触した後に別のローラー
上に巻き上げることができる。処理液及び/又は濯ぎ液
の収集を真空装置を用いて行うこともできる。そのよう
な装置は多孔質材料の使用より好ましく、それは布の糸
屑発生(linting)の危険及び平版支持体の機械
的損傷もしくは汚染の危険をそれが減少させるからであ
る。適した真空装置は2001年6月2日に申請された
EP−A no.01000004.0に記載されてい
る。集められた処理液及び/又は濯ぎ液を再循環させ、
次の画像形成材料の処理及び濯ぎに再使用することがで
きる。
【0048】好ましい処理液は7.5〜14の範囲内の
pHを有するアルカリ性水溶液である。化学的ならびに
機械的効果により処理を達成することができる。好まし
くは例えば処理液の適用の間もしくはその後に、回転ブ
ラシを用いてコーティングを処理することにより、両方
の効果を結び付ける。他の適した機械的処理はこすりも
しくは超音波処理を含むことができる。機械的処理は、
処理液の化学的反応性を低下させ、例えばそのpH又は
温度を低下させる可能性をそれが与えるので有利であ
る。 単−流体インキ 本発明の方法で用いるのに適した単−流体インキはUS
4,045,232及びUS 4,981,517に
記載されている。最も好ましい態様の場合、単流体イン
キは、WO 00/32705に記載されている通り、
疎水性相又は親油性相とも呼ばれるインキ相及びポリオ
ール相を含んでおり、WO 00/32705の中の関
連する内容を本明細書下記に再現する。
【0049】疎水性相は好ましくはカルボキシル官能基
を有するビニル樹脂を含む。「ビニル樹脂」という用語
は、ビニルモノマー及びビニルモノマーと共重合可能な
モノマーを用い、炭素−炭素二重結合を介した連鎖反応
重合又は付加重合により製造されるポリマーを含む。典
型的なビニルモノマーにはビニルエステル、アクリル及
びメタクリルモノマーならびにスチレンを含むビニル芳
香族モノマーが含まれるが制限ではない。2つの反応部
位を有するモノマーを重合反応中に含むことにより、ビ
ニルポリマーを分岐させることができる。ビニルポリマ
ーが分岐した場合、それにかかわらずそれは有効に可溶
性のままである。「可溶性」により、ポリマーを1種も
しくはそれより多くの溶媒で希釈することができること
を意味する。(対照的にポリマーは、溶媒により膨潤さ
れるのみの不溶性の3−次元網目構造に架橋され得
る。)分岐したビニル樹脂は、有意な分岐にかかわらず
溶媒希釈性を保持している。
【0050】カルボキシル−官能基性ビニルポリマー
は、少なくとも1種の酸−官能基性モノマー又は重合に
続いて酸基に転換される基、例えば無水物基を有する少
なくとも1種のモノマーを含むモノマー混合物の重合に
より製造することができる。酸−官能基性もしくは無水
物−官能基性モノマーの例には、3〜5つの炭素原子を
含有するα,β−エチレン性不飽和モノカルボン酸、例
えばアクリル酸、メタクリル酸及びクロトン酸;4〜6
つの炭素原子を含有するα,β−エチレン性不飽和ジカ
ルボン酸ならびにこれらの酸の無水物及びモノエステ
ル、例えば無水マレイン酸及びフマル酸;ならびに共重
合可能なモノマーの酸−官能基性誘導体、例えばコハク
酸のヒドロキシエチルアクリレート半−エステルが含ま
れるが制限ではない。
【0051】アクリル酸、メタクリル酸又はクロトン酸
のような酸−官能基性モノマーあるいは重合の後に水和
されて酸基を生ずることができる無水物モノマー、例え
ば無水マレイン酸又は無水イタコン酸を含むのが好まし
い。酸−官能基性ビニルポリマーが、ビニルポリマーの
不揮発分の重量に基づき、不揮発分のグラム当たり少な
くとも約3mgKOHの酸価、好ましくは不揮発分のグ
ラム当たり約6〜約30mgKOHの酸価、より好まし
くは不揮発分のグラム当たり約8〜約25mgKOHの
酸価を有するのが好ましい。
【0052】好ましい態様では、酸−官能基性ポリマー
は有意に分岐している。好ましくは、本発明で用いられ
るインキは、分岐しているが有効に可溶性であるビニル
ポリマーを含む。分岐しているビニルポリマーは溶媒の
添加により膨潤するのではなく、希釈され得る。分岐は
少なくとも2つの方法により行われ得る。第1の方法で
は、2つもしくはそれより多い重合可能な二重結合を有
するモノマーを重合反応中に含む。第2の方法では、重
合可能な二重結合の他に他方のモノマー上の追加の官能
基と反応性の少なくとも1つの追加の官能基をそのそれ
ぞれが有する1対のエチレン性不飽和モノマーを、重合
させるモノマー混合物中に含む。好ましくは追加の官能
基の反応は重合反応の間に起こるが、それは決定的とは
思われず、追加の官能基の反応を部分的もしくは全体的
に重合の前もしくは後に行うことができる。多様なその
ような互いに反応性の基の対が可能である。そのような
反応性の基の対の代表的例にはエポキシドとカルボキシ
ル基、アミンとカルボキシル基、エポキシドとアミン
基、エポキシドと無水物基、アミンと無水物基、ヒドロ
キシルとカルボキシルもしくは無水物基、アミンと酸塩
化物基、アルキレン−イミンとカルボキシル基、有機ア
ルコキシシランとカルボキシル基、イソシアナートとヒ
ドロキシル基、環状カーボネートとアミン基、イソシア
ナートとアミン基などが含まれるが制限ではない。カル
ボキシルもしくは無水物基が反応性の基の1つとして含
まれる場合、それらはビニル樹脂中で必要なカルボキシ
ル官能価を与えるのに十分に過剰に用いられる。そのよ
うなモノマーの特定の例にはグリシジル(メタ)アクリ
レートと(メタ)アクリル酸、N−アルコキシメチル化
アクリルアミド(それら自身と反応する)、例えばN−
イソブトキシメチル化アクリルアミド、ガンマ−メタク
リルオキシトリアルコキシシラン(それ自身と反応す
る)及びそれらの組合わせが含まれるが制限ではない。
【0053】好ましくは2つもしくはそれより多い重合
可能なエチレン性不飽和結合、特に好ましくは2〜約4
つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する少なくと
も1種のモノマーを用いてビニル樹脂を重合させる。2
つもしくはそれより多いエチレン性不飽和部分を有する
モノマーの代表的例には単独の又は2つもしくはそれよ
り多くの組合わせにおけるポリオールの(メタ)アクリ
レートエステル、例えば1,4−ブタンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1.6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリトリトールペンタ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト及びポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、例えばエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート;ジビニルベンゼ
ン、アリルメタクリレート、ジアリルフタレート、ジア
リルテレフタレートなどが含まれるが制限ではない。こ
れらの中で、ジビニルベンゼン、ブチレングリコールジ
メタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート及びペンタエリ
トリトールテトラ−アクリレートが高度に好ましく、ジ
ビニルベンゼンがさらにもっと高度に好ましい。
【0054】好ましくは、重合させるモノマーの100
グラム当たり少なくとも約0.008当量の、少なくと
も2つのエチレン性不飽和重合可能結合を有する少なく
とも1種のモノマーあるいは重合させるモノマーの10
0グラム当たり0.004当量の、エチレン性不飽和重
合可能結合の他に互いに反応性の基を有する2種のモノ
マーのそれぞれを用いて、分岐したビニルポリマーを重
合させる。好ましくは重合させるモノマーの100グラ
ム当たり約0.012〜約0.08当量、より好ましく
は約0.016〜約0.064当量の多官能基性モノマ
ー又は少なくとも2つのエチレン性不飽和重合可能結合
を有するモノマーあるいは1つの重合結合及び追加の1
つの互いに反応性の基を有するモノマーの対を用いて、
分岐したビニルポリマーを重合させる。
【0055】単数もしくは複数種の多官能基性モノマー
は、好ましくは2〜4つのエチレン性不飽和重合可能結
合、より好ましくは2つのエチレン性不飽和重合可能結
合を有する。1つの態様においては、重合させるモノマ
ーの合計重量に基づいて約0.5%〜約6%、より好ま
しくは約1.2%〜約6%、もっと好ましくは約1.2
%〜約4%、さらにもっと好ましくは約1.5%〜約
3.25%のジビニルベンゼンを含むモノマーの混合物
を重合させることにより、分岐したビニル樹脂を製造す
るのが好ましい。(商用銘柄のジビニルベンゼンは一−
官能基性及び/又は非−官能基性材料を含んでいる。示
したパーセンテージを与えるのに必要な商用材料の量を
計算しなければならない。例えば80重量%ジビニルベ
ンゼン/20%一−官能基性モノマーである材料の5重
量%は4重量%のジビニルベンゼンの率を与えるであろ
う。) 重合混合物中に含まれる(1)ジビニルベンゼン又は少
なくとも2つの重合可能エチレン性不飽和結合を有する
他のモノマーあるいは(2)重合可能な基及び追加の互
いに反応性の基を有するモノマーの対の最適量は、特定
の反応条件、例えば重合の間のモノマーの添加の速度、
生成しているポリマーの選ばれた反応媒体中における溶
解力、反応媒体に対するモノマーの量、選ばれた開始剤
の反応温度における半減期ならびにモノマーの重量に対
する(by weight ofthe monome
rs)開始剤の量にある程度まで依存し、直裁的な試験
により決定され得る。
【0056】多官能基性モノマー及び酸−官能基性モノ
マー(又は後に酸基に転換され得る基を有するモノマ
ー)と一緒に重合させることができる他のモノマーに
は、3〜5つの炭素原子を含有するα,β−エチレン性
不飽和モノカルボン酸のエステル、例えばアクリル酸、
メタクリル酸及びクロトン酸のエステル;4〜6つの炭
素原子を含有するα,β−エチレン性不飽和ジカルボン
酸ならびにこれらの酸の無水物、モノエステル及びジエ
ステル;ビニルエステル、ビニルエーテル、ビニルケト
ン及び芳香族もしくは複素環式脂肪族ビニル化合物が含
まれるが制限ではない。アクリル酸、メタクリル酸及び
クロトン酸の適したエステルの代表的例には、1〜20
個の炭素原子を含有する飽和脂肪族及び環状脂肪族アル
コールとの反応からのエステル、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸及びクロトン酸メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブ
チル、2−エチルヘキシル、ラウリル、ステアリル、シ
クロヘキシル、トリメチルシクロヘキシル、テトラヒド
ロフルフリル、ステアリル、スルホエチル及びイソボル
ニル;ならびにポリアルキレングリコールアクリレート
及びメタクリレートが含まれるが制限ではない。他のエ
チレン性不飽和重合可能モノマーの代表的例にはフマル
酸、マレイン酸及びイタコン酸無水物、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、イソブタノール及びtert−ブタノールのような
アルコールとのモノエステル及びジエステルのような化
合物が含まれるが、制限ではない。重合ビニルモノマー
の代表的例には、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビ
ニルエーテル、例えばビニルエチルエーテル、ハロゲン
化ビニル及びビニリデンならびにビニルエチルケトンの
ような化合物が含まれるが制限ではない。芳香族又は複
素環式脂肪族ビニル化合物の代表的例にはスチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン、tert−ブチル
スチレン及び2−ビニルピロリドンのような化合物が含
まれるが制限ではない。モノマーの選択は、所望のガラ
ス転移温度及び得られるポリマーのインキ組成物中の溶
媒もしくは溶媒系中における所望の希釈性を含む、イン
キワニスの製造において通常考慮される種々の因子に基
づいて成される。
【0057】好ましいビニルポリマーは通常の方法、好
ましくは半−バッチプロセスにおけるラジカル重合を用
いることにより製造することができる。例えば半−バッ
チプロセスにおいて、溶媒が装填された適した加熱反応
器中にモノマー、単数もしくは複数種の開始剤及び連鎖
移動剤を制御された速度で供給することができる。典型
的なラジカル源は、過酸化ジアルキル、例えば過酸化ジ
−tert−ブチル及び過酸化ジクミル、ペルオキシエ
ステル、例えばペルオキシ2−エチルヘキサン酸ter
t−ブチル及びペルオキシピバル酸tert−ブチル;
ペルオキシカーボネート及びペルオキシジカーボネー
ト、例えばtert−ブチルペルオキシイソプロピルカ
ーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカー
ボネート及びジシクロヘキシルペルオキシジカーボネー
ト;過酸化ジアシル、例えば過酸化ジベンゾイル及び過
酸化ジラウロイル;ヒドロペルオキシド、例えばクメン
ヒドロペルオキシド及びtert−ブチルヒドロペルオ
キシド;ケトンペルオキシド、例えばシクロヘキサノン
ペルオキシド及びメチルイソブチルケトンペルオキシ
ド;ならびにペルオキシケタール、例えば1,1−ビス
(tert−ブチルペルオキシ)−3,5,5−トリメ
チルシクロヘキサン及び1,1−ビス(tert−ブチ
ルペルオキシ)シクロヘキサンを含む有機過酸化物;な
らびにアゾ化合物、例えば2,2’−アゾビス(2−メ
チルブタンニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチ
ル)プロピオニトリル及び1,1’−アゾビス(シクロ
ヘキサンカルボニトリル)である。有機過酸化物が好ま
しい。特に好ましいのはtert−ブチルペルオキシイ
ソプロピルカーボネートである。重合において連鎖移動
剤も用いることができる。典型的な連鎖移動剤はメルカ
プタン、例えばオクチルメルカプタン、n−もしくはt
ert−ドデシルメルカプタン、チオサリチル酸、メル
カプトカルボン酸、例えばメルカプト酢酸及びメルカプ
トプロピオン酸及びそれらのエステルならびにメルカプ
トエタノール;ハロゲン化化合物;ならびにα−メチル
スチレン二量体である。臭い及び他の既知の欠点の理由
で、好ましくは連鎖移動剤を含まない。用いられる特定
の開始剤及び開始剤の量は当該技術分野における熟練者
に既知の因子、例えば反応温度、溶媒の量及び型(溶液
重合の場合)、開始剤の半減期などに依存する。
【0058】付加重合は通常約20℃〜約300℃、好
ましくは約150℃〜約200℃、より好ましくは約1
60℃〜約165℃の温度において溶液中で行われる。
好ましくは全体にわたって大体同じ反応温度で且つ同じ
単数もしくは複数種の開始剤を用いて重合を行う。開始
剤は、反応温度におけるその半減期が好ましくは約30
分以下、特に好ましくは約5分以下、さらにもっと好ま
しくは約2分以下であるように選ばれねばならない。特
に好ましいのは、約150℃〜約200℃の温度におい
て約1分未満の半減期を有する開始剤である。一般に、
開示剤の半減期がより短い場合、及び/又はより多くの
開始剤が用いられる場合に、より多くの分岐モノマーを
含むことができる。インキ中で用いられるビニルポリマ
ービヒクルは好ましくは、ほとんど又は全く残留(未反
応)モノマー含有物を有していない。特にビニルビヒク
ルは好ましくは残留モノマーを実質的に含有せず、すな
わち重合したモノマーの合計重量に基づいて約0.5重
量%未満の残留モノマー、さらにもっと好ましくは約
0.1重量%未満の残留モノマーを有する。
【0059】半−バッチプロセスでは時間をかけて、好
ましくは一定の速度でモノマー及び開始剤を重合反応器
に加える。典型的には、添加時間は約1〜約10時間で
あり、約3〜約5時間の添加時間が普通である。より長
い添加時間は、典型的にはより低い数平均分子量を生ず
る。溶媒対モノマーの比率を上げることによって又は得
られるポリマーに関してより強い溶媒を用いることによ
っても、より低い数平均分子量を生ずることができる。
【0060】一般に、インキ中で用いられる分岐したビ
ニルポリマーは低い数平均分子量及び広い多分散性を有
する。インキ中で用いられるビニル樹脂の数平均分子量
及び重量平均分子量は、十分に受け入れられている方法
に従って、ポリスチレン標準を用いるゲル透過クロマト
グラフィーにより決定され得、ポリスチレン標準は6百
万の重量平均分子量までに関して入手可能である。多分
散性はMw/Mnの比率として定義される。好ましい態様
では、ビニルポリマーは少なくとも約1000、より好
ましくは少なくとも約2000の数平均分子量(Mn
を有する。又、数平均分子量は好ましくは約15,00
0未満、より好ましくは約10,000未満、さらにも
っと好ましくは約8500未満である。Mnに関する好
ましい範囲は約1000〜約10,000であり、Mn
に関するより好ましい範囲は約2000〜約8500で
あり、さらにもっと好ましい範囲は約4000〜約80
00である。重量平均分子量は少なくとも約30,00
0、好ましくは少なくとも約100,000でなければ
ならない。重量平均分子量(Mw)は、6百万の重量平
均分子量を有する入手可能な標準を用いるGPC決定に
基づいて、好ましくは最高で約6千万である。Mwに関
する好ましい範囲は約30,000〜約5千5百万であ
り、Mwに関するより好ましい範囲は約100,000
〜約百万であり、さらにもっと好ましい範囲は約10
0,000〜約300,000である。GPCによって
知り得る超高分子量ショルダー(ultra−high
molecular weight shoulde
rs)(約4千5百万より高い)を有する樹脂は、約1
00,000〜約300,000のMW範囲の場合、好
ましくは避けられる。多分散性又はMw/Mnの比率は、
最高で約10,000、好ましくは最高で約1000で
あることができる。多分散性は好ましくは少なくとも約
15、特に好ましくは少なくとも約50である。多分散
性は好ましくは約15〜約1000の範囲内に含まれ、
より好ましくはそれは約50〜約800の範囲内に含ま
れる。
【0061】当該技術分野において周知の方法に従っ
て、コモノマーの選択及び割り当て(apportio
nment)を介し、理論的ガラス転移温度を調整する
ことができる。好ましい態様の場合、理論的Tgは室温
より高く、好ましくは理論的Tgは少なくとも約60
℃、より好ましくは少なくとも約70℃である。本発明
の方法及び組成物は好ましくは約50℃〜約125℃、
より好ましくは約60℃〜約100℃、さらにもっと好
ましくは約70℃〜約90℃のTgを有するビニルポリ
マーを使用する。
【0062】単−流体インキの1つの態様の場合、分岐
したビニルポリマーであることができる酸−官能基性ビ
ニルポリマーをインキ組成物において他の樹脂と組み合
わせる。酸−官能基性ビニルポリマーと組み合わせるこ
とができる適した他の樹脂の例にはポリエステル及びア
ルキド樹脂、フェノール樹脂、ロジン、セルロース系材
料及びこれらの誘導体、例えばロジン−改質フェノール
系材料、フェノール系材料−改質ロジン、炭化水素−改
質ロジン、マレイン酸改質ロジン、フマル酸改質ロジ
ン;炭化水素樹脂、他のアクリルもしくはビニル樹脂、
ポリアミド樹脂などが含まれるが制限ではない。そのよ
うな樹脂又はポリマーを、樹脂の不揮発分の重量に基づ
いて、酸−官能基性ビニルポリマーの最高で約6重量部
〜約1重量部の量で含むことができる。
【0063】酸−官能基性ビニル樹脂及び任意の第2の
樹脂に加え、インキ組成物は好ましくは1種もしくはそ
れより多い溶媒を含む。単−流体インキの好ましい態様
の場合、分岐したビニル樹脂は、溶液あるいはインキ調
製物の単数もしくは複数種の溶媒中ではっきりした濁り
を有していない見かけの溶液を形成する。含まれる特定
の溶媒及び溶媒の量は、望まれるインキの粘度、ボディ
(body)及び粘着力によって決定される。一般に、
平版印刷プロセスの間にゴムローラーのようなゴム部品
と接触するであろうインキの場合、ゴムに影響するのを
避けるために、低いカウリ−ブタノール(KB)値を有
する単数もしくは複数種の非−酸素化溶媒が用いられ
る。ゴム部品と接触するであろうインキのために適した
溶媒には、脂肪族炭化水素、例えば限られた芳香族性を
有する石油蒸留留分ならびにノルマル及びイソパラフィ
ン性溶媒が含まれるが制限ではない。例えば石油中間留
出留分(petroleum middle dist
illate fractions)、例えばPenn
sylvania Refining Compan
y,Franklin Park,Ill.の子会社で
あるMagie Bros.Oil Companyか
ら入手可能な商品名Magie Solの下に入手可能
なもの、商品名ExxPrintの下にExxon C
hemial Co.,Houston,Tex.から
入手可能なものならびにGolden Bear Oi
l Specialties,Oildale,Cal
if.、Total Petroleum Inc.,
Denver,Colo.及びCalumet Lub
ricants Co.,Indianapolis,
Ind.から入手可能なものを用いることができる。さ
らに又は代わりに、大豆油もしくは他の植物油が含まれ
得る。
【0064】これらのような非−酸素化溶媒が用いられ
る場合一般に、好ましい分岐したビニルポリマーの所望
の溶解力を得るために十分な量の、脂肪族溶媒に関する
実質的親和性を有する少なくとも1種のモノマーを含む
ことが必要である。この目的のために一般に、エステル
のアルコール部分中に少なくとも6つの炭素を有するア
クリルエステルモノマー又はスチレンもしくはアルキル
化スチレン、例えばtert−ブチルスチレンを重合モ
ノマー中に含むことができる。好ましい態様の場合、非
−酸素化溶媒を用いるインキ組成物は、少なくとも約2
0%、好ましくは約20%〜約40%、より好ましくは
約20%〜約25%の脂肪族溶解性を助長するモノマ
ー、例えばステアリルメタクリレート又はt−ブチルス
チレンを含有するモノマー混合物から重合した分岐ビニ
ル樹脂を含み、ステアリルメタクリレートが好ましいそ
のようなモノマーである。少なくとも約55%のスチレ
ン、好ましくは約55%〜約80%のスチレン、より好
ましくは約60%〜約70%のスチレンを含むのも好ま
しい。必要なら、脂肪族溶媒中における溶剤許容度を低
下させるために、メチルメタクリレート又は他のモノマ
ーを用いることもできる。すべてのパーセンテージは、
重合するモノマー混合物の合計重量に基づく重量によ
る。平版印刷インキ用のビニルポリマーのための好まし
いモノマー組成物の中に、8〜20個の炭素原子を有す
るアルコールの(メタ)アクリル酸エステル、例えばス
テアリルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン
及び(メタ)アクリル酸を含むものがある。好ましい態
様の場合、平版印刷インキのための分岐したビニルは、
約15、好ましくは約20〜約30、好ましくは約25
重量パーセントの、8〜20個の炭素原子を有するアル
コールの(メタ)アクリル酸エステル、特にステアリル
メタクリレート;約50、好ましくは約60〜約80、
好ましくは約75重量パーセントのスチレン性モノマ
ー、特にスチレン自身;上記で示した量のジビニルベン
ゼン;及び約0.5、好ましくは約2.5〜約5、好ま
しくは約4重量パーセントのアクリル酸又はより好まし
くはメタクリル酸を用いて作られる。
【0065】好ましくは、溶媒もしくは溶媒混合物は少
なくとも約100℃且つ好ましくは約550℃以下の沸
点を有するであろう。オフセット印刷インキは約200
℃より高い沸点を有する溶媒を用いることができる。新
聞インキは通常約20〜約85重量パーセントの鉱油、
植物油及び高沸点石油蒸留物のような溶媒を用いて調製
される。溶媒の量はインキ組成物の型(すなわちインキ
が新聞印刷用、ヒートセット用、枚葉紙用(sheet
fed)などであるかどうか)、用いられる特定の溶媒
及び当該技術分野において既知の他の因子に従っても変
わる。典型的には、平版印刷インキのための溶媒含有率
は最高で約60%であり、それはソルベントパッケージ
(solvent package)の一部として油を
含んでいることができる。通常少なくとも約35%の溶
媒が平版印刷インキ中に存在する。好ましいい単−流体
インキ組成物を調製するために用いられる場合、分岐し
たビニル樹脂を含むこれらのワニス又はビヒクルは、典
型的には透明で、見かけ上は溶液である。
【0066】インキ組成物は通常1種もしくはそれより
多い顔料を含むであろう。顔料の数及び種類は調製され
ているインキの種類に依存するであろう。新聞インキ組
成物は、典型的には1種のみかもしくは数種のみの顔
料、例えばカーボンブラックを含むであろうが、グラビ
アインキはもっと複雑な顔料パッケージを含むことがで
き、パールエッセンスもしくは金属性効果のような特殊
な効果を有する色を含む多くの色で調製され得る。平版
印刷インキは典型的には4つの色−−マゼンタ、イエロ
ー、ブラック及びシアンで用いられ、パールエッセンス
又は金属性効果のために調製されることができる。通常
の無機及び有機顔料のいずれも本発明のインキ組成物中
で用いることができる。あるいは又、組成物をオーバー
プリントラッカーもしくはワニスとして用いることがで
きる。オーバープリントラッカー(空気乾燥性)もしく
はワニス(硬化性)はクリア(clear)又は透明
(transparent)であることが意図されてお
り、かくして不透明顔料は含まれない。
【0067】本発明で用いられる平版印刷インキ組成物
は、酸−官能基性ビニルビヒクルを含有する油に基づく
連続相及び液体ポリオールを含有するポリオール不連続
相を有する単−流体インキとして調製される。ビニルポ
リマー相はポリオール相に対して比較的安定である。安
定性は、2つの相がインキだめ(fountain)中
で分離しないようなものである。しかしながら、インキ
の適用の間にエマルションが壊れ、ポリオールが表面に
来て、インキを受容すべきでない版の領域を湿らせる。
インキだめ中で安定であるが版上で迅速に壊れて分離す
るインキは、トーニング(toning)なしできれい
に印刷し、一貫した転写特性を与える。適した安定性
は、選ばれる特定の酸−官能基性ビニルポリマー及び特
定のポリオールにも依存し得る。酸価及び分子量を調整
して所望の安定性を与えることができる。
【0068】比較的高い酸価のビニル樹脂を比較的少量
で用いることができるが、酸価は過剰に高いことはでき
ず、あるいは又、ビニルポリマーは炭化水素溶媒中で十
分に可溶性でなくなるであろう。一般に、酸−官能基性
ビニル樹脂の酸価の増加は、疎水性相中に含まれるその
ような樹脂の量の減少を伴わなければならないと思われ
る。
【0069】ポリエチレングリコールオリゴマー、例え
ばジエチレングリコール、トリエチレングリコール及び
テトラエチレングリコールならびにエチレングリコー
ル、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール
は、本発明で用いられる単−流体インキのポリオール相
のために好ましい液体ポリオールの例である。もちろん
ポリオール相は種々の液体ポリオールの混合物を含むこ
とができる。一般に、より低い酸価のビニルもしくはア
クリルポリマーはより高い分子量のポリオールと一緒に
用いられる。ポリオール相はさらに別の材料を含むこと
ができる。弱酸、例えばクエン酸、酒石酸又はタンニン
酸あるいは弱塩基、例えばトリエタノールアミンがイン
キ組成物の約0.01重量パーセント〜約2重量パーセ
ントの量で含まれることができる。版の保護を助け且つ
版の寿命を延長するために、ある種の塩、例えば硝酸マ
グネシウムがインキ組成物の重量に基づいて約0.01
重量パーセント〜約0.5重量パーセント、好ましくは
約0.08〜約1.5重量パーセントの量で含まれるこ
とができる。版の湿潤を助長するために、湿潤剤、例え
ばポリビニルピロリドンを加えることができる。インキ
組成物の重量に基づいて約0.5重量パーセント〜約
1.5重量パーセントのポリビニルピロリドンが含まれ
る。
【0070】インキ組成物の合計重量に基づいて約5重
量%〜約50重量%、好ましくは約10重量%〜約35
重量%、特に好ましくは約20重量%〜約30重量%の
ポリオール相を用いて単−流体インキを調製することが
できる。冷却のための他の手段が与えられない場合、好
ましくは働ける低い温度に版を保つのに十分な量のポリ
オールがインキ組成物中にある。優れたトーニング及び
印刷結果を達成するのに必要なポリオール相の量は、用
いられている版の種類に依存し、直裁的な試験により決
定され得る。ポリオール相の成分を溶解もしくは均一化
するのを助けるために、約4もしくは5重量%までの水
がポリオール相混合物中に含まれることができる。
【0071】当該技術分野において既知の他の添加剤が
本発明の利益を有意に減じない限り、そのような添加剤
が本発明で用いられるインキ組成物中に含まれ得ること
は、熟練者にわかるであろう。これらの代表的例には流
動点低下剤、界面活性剤、湿潤剤、ワックス、乳化剤及
び分散剤、脱泡剤、酸化防止剤、UV吸収剤、乾燥剤
(例えば植物油を含有する調製物のため)、流動剤(f
low agents)及び他のレオロジー調節剤、光
沢強化剤(gloss enhancers)ならびに
沈降防止剤が含まれるが制限ではない。含まれる場合、
添加剤は典型的にはインキ組成物の少なくとも約0.0
01重量%の量で含まれ、インキ組成物の約7重量%も
しくはそれより多い量で含まれることができる。
【0072】上記の組成物は、ヒートセットインキ、新
聞インキ及び枚葉紙用インキを含むがこれらに限られな
い平版印刷用途において用いるのに特に適している。イ
ンキを用いることができるオフセット印刷法は当該技術
分野において周知であり、多くの公開文献に記載されて
いる。
【0073】
【実施例】ヒートセット単−流体インキの製造 1.ビニルワニスの製造 44.19重量部の量のKetrul 220(Tot
al Petroleum,Inc.から入手可能な石
油中間留出留分)を、撹拌機、窒素導入口、トータル還
流コンデンサー(total reflux cond
enser)及びモノマー導入口が備えられたガラス反
応器に入れる。窒素のブランケット下で撹拌しながら、
溶媒を160℃に加熱する。36.01重量部のスチレ
ン、12.27重量部のステアリルメタクリレート、
2.62重量部のジビニルベンゼン、1.89重量部の
メタクリル酸及び2.79重量部のt−ブチルペルオキ
シイソプロピルカーボネート(ミネラルスピリット中の
75%溶液)のモノマー混合物を3時間かけて反応器に
加える。モノマーの添加が完了した後、0.23重量部
のt−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネートを1
5分かけて加える。温度を160℃にさらに2時間保
ち、モノマーのポリマーへの完全な転換を可能にする。
【0074】不揮発性物質(NVM)の測定量は55%
である。モノマーの合計重量のパーセントで割ったNV
Mとして測定されるパーセント転換率は100.1であ
る。溶液における(on solution)酸価はグ
ラム当たり12.0mgKOHである。粘度は30スト
ークスである(気泡管、54.4℃)。溶剤許容度は2
30%であり、曇り点におけるNVMは16.7%であ
る。 2.単−流体インキの製造 58.0グラムの下記の混合物Aを142.0グラムの
下記の混合物Bに、撹拌しながら加える。渦動を保持し
且つ60℃未満の温度を保って、分散機(disper
sator)上でインキ組成物を20分間混合する。イ
ンキ組成物は30℃で500グラムに関し、14〜17
秒のシングルフォールタイム(single fall
time)Larayを有する。混合物A :181.0グラムのジエチレングリコール、
8.0グラムの水、0.4グラムのクエン酸及び0.4
グラムの硝酸マグネシウムを、ガラスビーカー中で透明
になるまで混合する。191.2グラムのジエチレング
リコールを加え、均一になるまで混合する。混合物B :高速ミキサーを用い、46.0gの上記のビ
ニルワニス、4.0グラムのBlue Flush 1
2−FH−320(CDR Corporation,
Elizabethtown,Ky.から入手可能)、
1.0グラムの工業銘柄の大豆油(Cargill,C
hicago,Ill.から入手可能)及び0.6グラ
ムの酸化防止剤を混合する。混合しながら、34.4グ
ラムの炭化水素樹脂溶液(EXX−Print 283
D中の60% LX−2600、Nevilleから入
手可能)、27.0グラムのカーボンブラック(Cab
otCorp.から入手可能なCSX−156)及び
1.0グラムのポリテトラフルオロエチレンワックス
(Pinnacle 9500D、Carrol Sc
ientificから入手可能)を加える。149℃に
おいて30分間、高速で混合する。混合速度を遅くし、
27.0グラムのEXX−Print 588D(Ex
xonから入手可能)を加える。予備混合物をショット
ミル(shotmill)において適した摩砕度(gr
ind)まで摩砕する。
【0075】混合物Bは180〜240ポアズのLar
ay粘度及び800〜1200のLarayイールド
(yield)を有する(試験法ASTM D4040
に従う:Power Law−3K,1.5K,0.7
K,0.3K)。混合物Bを1200rpmで1分間、
Inkometer上で試験し、25〜29単位の測定
結果を得る(a measured result o
f 25 to 29units)。版前駆体の露出及び処理 比較実施例として、アルカリ性処理が必要な2つの商業
的に入手可能な平版印刷版材料を画像−通りに露出し、
通常の処理機において現像した: −Agfa−Gevaertからのポジティブ作用性熱
的材料であるThermostarTM P970をAg
fa−Gevaertから入手可能なCreoTren
dsetterTM 3244Tにおいて、140rpm
で、5.4ワットの出力設定を用いて露出し、Agfa
−Gevaertから入手可能なAutolithTM
理機においてEP26を用いて現像した。 −Agfa−Gevaertからのネガティブ作用性U
V−感受性「PS」版であるN61をCDL1502i
UV密着画像形成機(contact image
r)で、強度600E レベル3において露出し、Au
tolith処理機においてEN232現像液を用いて
現像した(すべての材料はAgfa−Gevaertか
ら)。
【0076】第2組の実験においてはこれらの材料の両
方を、Heidelberg GTO46印刷機の版胴
上に上記の通りに露出された版前駆体を搭載し、次いで
比較実施例で用いられたと同じ現像液を湿し系により適
用することによって、本発明に従っても処理した。処理
の後、それぞれの版を水で拭うことによって濯ぎもし
た。印刷 通常通りに処理された比較の版をGTO46印刷機上に
搭載し、K+E 800 Skinnexインキ及び湿
し液として水中の10%イソプロパノールと一緒にHo
stman SteinbergからのCombifi
x 4%を用いて、5000コピーの印刷機運転を開始
した。
【0077】本発明に従って湿し系を介してオン−プレ
ス現像された版を用いても、5000コピーの印刷機運
転を開始した。印刷の間、湿し液なしで上記の単−流体
インキを用いた。
【0078】10%、40%及び70%スクリーン平面
(screen plane)のドットゲインを測定す
ることにより、版のプリントの質を評価した。トーニン
グ(非−画像領域におけるインキ受容)も評価し、印刷
されたコピーの質の全体的視覚検査も行った。本発明に
従う処理法は、通常通りに処理された版と極めて(ve
ry)匹敵する品質を有する版を与えた。
【図面の簡単な説明】
【図1】湿式平版印刷のための回転印刷機の印刷装置の
概略側面図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルデイ・ゴーデベーク ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ジヨアン・ベルメールシユ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 Fターム(参考) 2H096 AA06 BA01 BA09 EA04 EA23 GA02 GA08 GA60

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)支持体及び感熱性もしくは感光性
    コーティングを含む平版印刷版前駆体を準備し; (ii)コーティングを熱又は光に画像−通りに露出
    し; (iii)段階(ii)もしくは(iv)の前に、湿し
    系及びインキ供給系を含む印刷機の印刷装置内に平版印
    刷版前駆体を搭載し; (iv)湿し系によりコーティングに処理液を供給する
    ことによって現像し、それにより平版印刷版を得; (v)平版印刷版にインキ供給系によって単−流体イン
    キもしくはドライオグラフィーインキを供給することに
    より印刷する段階を含む印刷法。
  2. 【請求項2】 段階(ii)の間に平版印刷版前駆体を
    紫外光又は赤外光に露出する請求項1に従う方法。
  3. 【請求項3】 画像通りの露出の間にコーティングが実
    質的に融蝕されない請求項1又は2のいずれかに従う方
    法。
  4. 【請求項4】 支持体が親水性表面を有するか又は親水
    性層が設けられており、コーティングが疎水性であるか
    又は露出により疎水性にされる請求項1〜3のいずれか
    に従う方法。
  5. 【請求項5】 処理液がアルカリ性水溶液である請求項
    1〜4のいずれかに従う方法。
  6. 【請求項6】 現像段階の間もしくはその後にコーティ
    ングを機械的にこするか又はブラシをかける請求項1〜
    5のいずれかに従う方法。
  7. 【請求項7】 段階(iv)と(v)の間に、水又は水
    溶液の供給によって平版印刷版を濯ぐ請求項1〜6のい
    ずれかに従う方法。
  8. 【請求項8】 処理液及びコーティングから除去される
    物質を吸引用具により集める請求項1〜7のいずれかに
    従う方法。
  9. 【請求項9】 吸引用具が液体−吸収性の布又は編織布
    である請求項8に従う方法。
  10. 【請求項10】 単−流体インキが −酸−官能基性ビニル樹脂を含む連続相及び −液体ポリオールを含む不連続相を含有するエマルショ
    ンである請求項1〜9のいずれかに従う方法。
JP2002176967A 2001-06-21 2002-06-18 湿し液なしの平版印刷法 Pending JP2003021893A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP01000247.5 2001-06-21
EP01000247A EP1270215B1 (en) 2001-06-21 2001-06-21 Method of lithographic printing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003021893A true JP2003021893A (ja) 2003-01-24
JP2003021893A5 JP2003021893A5 (ja) 2005-10-13

Family

ID=8176048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002176967A Pending JP2003021893A (ja) 2001-06-21 2002-06-18 湿し液なしの平版印刷法

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP1270215B1 (ja)
JP (1) JP2003021893A (ja)
DE (1) DE60106894T2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6840175B2 (en) 2002-11-20 2005-01-11 Flint Ink Corporation Lithographic printing method using a single fluid ink
DE102007034880A1 (de) * 2007-07-24 2009-01-29 Heidelberger Druckmaschinen Ag Entwicklung von Druckplatten in Offsetdruckmaschinen

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9214304D0 (en) * 1992-07-06 1992-08-19 Du Pont Uk Improvements in or relating to image formation
DE69613470T2 (de) * 1996-09-25 2002-06-06 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte unter Verwendung eines wärme-empfindlichen Materials
GB9713411D0 (en) * 1997-06-26 1997-08-27 Horsell Graphic Ind Ltd Waterless lithographic printing
EP0993945B1 (en) * 1998-10-15 2004-05-06 Agfa-Gevaert Heat-mode driographic printing plate precursor
US6168903B1 (en) * 1999-01-21 2001-01-02 Presstek, Inc. Lithographic imaging with reduced power requirements
DE60031707T2 (de) * 1999-09-15 2007-09-06 A.I.T. Israel - Advanced Imaging Technology Ltd. Ein plattenloses drucksystem

Also Published As

Publication number Publication date
EP1270215B1 (en) 2004-11-03
DE60106894T2 (de) 2005-11-10
DE60106894D1 (de) 2004-12-09
EP1270215A1 (en) 2003-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1788435B1 (en) Method of making a lithographic printing plate
JP2004001496A (ja) 滑らかなアルミニウム支持体を含むネガティブ−作用性熱的平版印刷版前駆体
JP2009502574A (ja) 機上現像用の画像形成可能な印刷版
US6596464B2 (en) Lithographic printing method using single-fluid ink
JP2006517306A (ja) 感熱性平版印刷版前駆体
US6815139B2 (en) Method of processing a printing plate material with a single-fluid ink
US7121204B2 (en) Method of lithographic printing without dampening liquid
JP4731197B2 (ja) 感熱性のポジ作用性平版材料における小ドットの正確な露出方法
US6789481B2 (en) On-press coating and on-press processing of a lithographic material
EP1118471A1 (en) Method of lithographic printing with a reusable substrate
EP1270215B1 (en) Method of lithographic printing
US6484638B2 (en) Method of offset printing with a reusable substrate
EP1232859B1 (en) On-press exposure and on-press processing of a lithographic material
US6789480B2 (en) On-press exposure and on-press processing of a lithographic material
EP1243433B1 (en) Lithographic Printing method using single-fluid ink
EP1232858B1 (en) On-press coating and on-press processing of a lithographic material
EP1213140B1 (en) Method of processing a printing plate material with a single-fluid ink
US20110046035A1 (en) Method for treating a lithographic printing plate
WO2005010613A1 (ja) 感光性平版印刷版およびその製造方法
JP2002365793A (ja) ポジティブ−作用性平版印刷版前駆体
EP4382306A1 (en) Lithographic printing press make-ready method
JP4806222B2 (ja) 平版印刷版の製造方法
JP2002333705A (ja) ネガティブ作用性感熱性平版印刷版前駆体の製造法
JP2002240453A (ja) 単一流体インキで印刷版材料を処理する方法
JP2007230185A (ja) 平版印刷版用処理液および処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050607

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050607

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080219

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080319

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080715