JP2003021883A - 膜強度を改良した熱現像感光材料 - Google Patents
膜強度を改良した熱現像感光材料Info
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- JP2003021883A JP2003021883A JP2001207756A JP2001207756A JP2003021883A JP 2003021883 A JP2003021883 A JP 2003021883A JP 2001207756 A JP2001207756 A JP 2001207756A JP 2001207756 A JP2001207756 A JP 2001207756A JP 2003021883 A JP2003021883 A JP 2003021883A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い画像濃度で、好ましいコントラストを有
する高画質の画像が得られ、しかも高湿度下の保存安定
性がよく、更に傷の付きにくい熱現像感光材料を提供す
る。 【解決手段】 支持体に感光性ハロゲン化銀粒子、有機
銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を1つの層、
或いは複数の層中にそれぞれ含有してなる熱現像感光材
料において、該層又は該層に隣接する層の少なくとも1
層に、下記一般式(1)で示されるアミン化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】
する高画質の画像が得られ、しかも高湿度下の保存安定
性がよく、更に傷の付きにくい熱現像感光材料を提供す
る。 【解決手段】 支持体に感光性ハロゲン化銀粒子、有機
銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を1つの層、
或いは複数の層中にそれぞれ含有してなる熱現像感光材
料において、該層又は該層に隣接する層の少なくとも1
層に、下記一般式(1)で示されるアミン化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像により画像を
形成する熱現像感光材料に関するもので、詳しくは、高
感度で、カブリが少なく、保存安定性に優れ、かつ、膜
強度が高く傷の付きにくい熱現像感光材料に関する。
形成する熱現像感光材料に関するもので、詳しくは、高
感度で、カブリが少なく、保存安定性に優れ、かつ、膜
強度が高く傷の付きにくい熱現像感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、医療や印刷の分野で環境保護や作
業性の面から感光材料の湿式処理に伴う廃液のでない熱
現像感光材料が強く望まれている。この技術として、例
えば、米国特許第3,152,904号、同3,48
7,075号及びD.モーガン(Morgan)による
「ドライシルバー写真材料(Dry Silver P
hotographic Materials)」(H
andbook of Imaging Materi
als,Marcel Dekker,Inc.第48
頁,1991)等に記載の方法がよく知られている。こ
れらの感光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行わ
れるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
業性の面から感光材料の湿式処理に伴う廃液のでない熱
現像感光材料が強く望まれている。この技術として、例
えば、米国特許第3,152,904号、同3,48
7,075号及びD.モーガン(Morgan)による
「ドライシルバー写真材料(Dry Silver P
hotographic Materials)」(H
andbook of Imaging Materi
als,Marcel Dekker,Inc.第48
頁,1991)等に記載の方法がよく知られている。こ
れらの感光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行わ
れるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
【0003】従来からこのタイプの熱現像感光材料の多
くは溶剤塗布で製造されてきた。その理由は、水系の塗
布により現像剤と有機銀塩を混合して塗布した感光層
は、水を媒介にして酸化還元反応が徐々に進んでしま
い、カブリ性能が劣化してしまうためである。そのため
多くはカブリ防止剤の探索に力を入れてきたが、有効な
ものが見つかっていない。そこで水系においては乾燥後
に膜内に存在する水分量を低減するために結合剤の改良
や改質をしてきた。1つの方法として水分含有量の少な
い塗布膜を構成できる疎水性ラテックスの使用である。
例えば、特開平10−207001号、同10−221
807号、同10−221806号、同11−1193
75号、同11−288068号明細書に記載の疎水性
ラテックスの使用である。しかし、水分含有率の少ない
塗布膜にするには、充分乾燥する必要があり、乾燥時間
がかかるという欠点を有していた。乾燥温度を上げて乾
燥を早めるとカブリの増大が大きく乾燥を高温にするこ
とも制限されていた。溶媒塗布においては、写真添加剤
の溶解性のよい極性溶媒を使用するため、少なからず水
分が持ち込まれ、水分の影響を受けていた。また、熱現
像感光材料に使用するハロゲン化銀塩は、水系分散媒体
中で形成されるため、少量の水分を含むものであり、水
分の影響を少なからず受けるものであった。水分の影響
を受けにくい結合剤は、アミノ基やカルボキシル基等の
架橋性の基をもたないため、一般のアミノ基やカルボキ
シル基を架橋する系統の硬膜剤が使用できず、膜強度が
弱く、傷が付きやすいという欠点を有していた。従っ
て、膜強度を上げ、水分の影響を受けにくくする塗布膜
を形成する技術が望まれていた。米国特許4,828,
971号、同5,891,610号にはポリ珪酸化合物
を使用することが述べられている。この化合物は、ポリ
アルコキシアミンより加水分解性は低いが、乾燥後の膜
がひび割れし易いなどの欠点がある。熱現像感光材料の
膜表面の改質として米国特許3,489,567号、同
3,885,965号明細書には、ポリシロキサン化合
物を滑剤として添加することが開示されている。しか
し、これらは滑りをよくするが、熱現像感光材料の表面
の膜強度を上げて耐傷性を改良するものではない。
くは溶剤塗布で製造されてきた。その理由は、水系の塗
布により現像剤と有機銀塩を混合して塗布した感光層
は、水を媒介にして酸化還元反応が徐々に進んでしま
い、カブリ性能が劣化してしまうためである。そのため
多くはカブリ防止剤の探索に力を入れてきたが、有効な
ものが見つかっていない。そこで水系においては乾燥後
に膜内に存在する水分量を低減するために結合剤の改良
や改質をしてきた。1つの方法として水分含有量の少な
い塗布膜を構成できる疎水性ラテックスの使用である。
例えば、特開平10−207001号、同10−221
807号、同10−221806号、同11−1193
75号、同11−288068号明細書に記載の疎水性
ラテックスの使用である。しかし、水分含有率の少ない
塗布膜にするには、充分乾燥する必要があり、乾燥時間
がかかるという欠点を有していた。乾燥温度を上げて乾
燥を早めるとカブリの増大が大きく乾燥を高温にするこ
とも制限されていた。溶媒塗布においては、写真添加剤
の溶解性のよい極性溶媒を使用するため、少なからず水
分が持ち込まれ、水分の影響を受けていた。また、熱現
像感光材料に使用するハロゲン化銀塩は、水系分散媒体
中で形成されるため、少量の水分を含むものであり、水
分の影響を少なからず受けるものであった。水分の影響
を受けにくい結合剤は、アミノ基やカルボキシル基等の
架橋性の基をもたないため、一般のアミノ基やカルボキ
シル基を架橋する系統の硬膜剤が使用できず、膜強度が
弱く、傷が付きやすいという欠点を有していた。従っ
て、膜強度を上げ、水分の影響を受けにくくする塗布膜
を形成する技術が望まれていた。米国特許4,828,
971号、同5,891,610号にはポリ珪酸化合物
を使用することが述べられている。この化合物は、ポリ
アルコキシアミンより加水分解性は低いが、乾燥後の膜
がひび割れし易いなどの欠点がある。熱現像感光材料の
膜表面の改質として米国特許3,489,567号、同
3,885,965号明細書には、ポリシロキサン化合
物を滑剤として添加することが開示されている。しか
し、これらは滑りをよくするが、熱現像感光材料の表面
の膜強度を上げて耐傷性を改良するものではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
画像濃度で、好ましいコントラストを有する高画質の画
像が得られ、しかも高湿度下の保存安定性がよく、更に
傷の付きにくい熱現像感光材料を提供することである。
画像濃度で、好ましいコントラストを有する高画質の画
像が得られ、しかも高湿度下の保存安定性がよく、更に
傷の付きにくい熱現像感光材料を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。
下の構成によって達成された。
【0006】1.支持体に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を1つの
層、或いは複数の層中にそれぞれ含有してなる熱現像感
光材料において、該層又は該層に隣接する層の少なくと
も1層に、上記一般式(1)で示されるアミン化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像感光材
料。
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を1つの
層、或いは複数の層中にそれぞれ含有してなる熱現像感
光材料において、該層又は該層に隣接する層の少なくと
も1層に、上記一般式(1)で示されるアミン化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像感光材
料。
【0007】2.一般式(1)で示される化合物の置換
基の少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性基である
ことを特徴とする前記1に記載の熱現像感光材料。
基の少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性基である
ことを特徴とする前記1に記載の熱現像感光材料。
【0008】3.結合剤の少なくとも1種が上記一般式
(2)で示されることを特徴とする前記1に記載の熱現
像感光材料。
(2)で示されることを特徴とする前記1に記載の熱現
像感光材料。
【0009】4.結合剤の少なくとも1種が上記一般式
(3)で示される結合剤であり、かつ該結合剤を0.1
質量%〜20質量%含有することを特徴とする前記1に
記載の熱現像感光材料。
(3)で示される結合剤であり、かつ該結合剤を0.1
質量%〜20質量%含有することを特徴とする前記1に
記載の熱現像感光材料。
【0010】5.感光層または感光層に隣接する層の結
合剤にモノマー単位としてスチレン、ブタジエン、アク
リル酸エステル中から選ばれる少なくとも1種を含むラ
テックスを使用したことを特徴とする前記1に記載の熱
現像感光材料。
合剤にモノマー単位としてスチレン、ブタジエン、アク
リル酸エステル中から選ばれる少なくとも1種を含むラ
テックスを使用したことを特徴とする前記1に記載の熱
現像感光材料。
【0011】6.結合剤がエポキシ化合物、アルコキシ
シラン化合物、イソシアナート化合物、ビニルスルホン
化合物から選ばれる少なくとも1種の架橋剤で架橋され
ることを特徴とする前記3又は4に記載の熱現像感光材
料。
シラン化合物、イソシアナート化合物、ビニルスルホン
化合物から選ばれる少なくとも1種の架橋剤で架橋され
ることを特徴とする前記3又は4に記載の熱現像感光材
料。
【0012】7.アルコキシシラン化合物が上記一般式
(4)で示されることを特徴とする前記6に記載の熱現
像感光材料。
(4)で示されることを特徴とする前記6に記載の熱現
像感光材料。
【0013】本発明を更に詳しく説明する。一般式
(1)において、Z1は芳香族(例えば、ベンゼン環、
ナフタレン環等)またはヘテロ環(例えば、ピリジル
基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、
フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル
基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スルホニル基、
ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)を
表す。
(1)において、Z1は芳香族(例えば、ベンゼン環、
ナフタレン環等)またはヘテロ環(例えば、ピリジル
基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、
フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル
基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スルホニル基、
ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)を
表す。
【0014】Z1で表される環基上にはそれぞれ置換さ
れてもよい直鎖、分岐または環状の炭素数1〜30のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オ
クチル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケ
ニル基(例えば、プロペニル基、ブテニル基、ノネニル
基等)、アルキニル基(例えば、アセチレン基、ビスア
セチレン基、フェニルアセチレン基等)、アリール基ま
たはヘテロ環基(例えば、フェニル基、ナフチル基、テ
トラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル基、チオフェ
ニル基、イミダゾール基、チアゾール基、チアジアゾー
ル基、オキサジアゾール基等)を有しても良い。Z1環
上の置換基は少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性
基であることが好ましい。
れてもよい直鎖、分岐または環状の炭素数1〜30のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オ
クチル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケ
ニル基(例えば、プロペニル基、ブテニル基、ノネニル
基等)、アルキニル基(例えば、アセチレン基、ビスア
セチレン基、フェニルアセチレン基等)、アリール基ま
たはヘテロ環基(例えば、フェニル基、ナフチル基、テ
トラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル基、チオフェ
ニル基、イミダゾール基、チアゾール基、チアジアゾー
ル基、オキサジアゾール基等)を有しても良い。Z1環
上の置換基は少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性
基であることが好ましい。
【0015】耐拡散性基は、バラスト基とも呼ばれ炭素
数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が
導入されているアリール基等を挙げることができる。耐
拡散性は、結合剤や架橋剤の使用量によって異なるが、
耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内
の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。耐拡
散性の試験方法は、両端が開口しているキャピラリー内
に結合剤を入れ架橋し、キャピラリーの1開口面に被検
化合物を接触存在させて、一定温度、一定時間経過後、
移動した量を赤外分光法、質量分析法アイソトープ法、
NMR法等により調べることができる。拡散の程度は温
度や時間を変化させて調べることができるが、拡散性が
1%〜1億倍まで遅くすることが分子量や固定化基の導
入により可能であるが、拡散性を過度に抑えようとする
と分子量の増大や固体化基の溶解性等の問題が出るの
で、室温下での拡散性が10%〜100万倍まで遅くす
るような基の導入が適当である。吸着性基もハロゲン化
銀に対しての吸着量を調べることにより調べることがで
きる。吸着量の測定は、被検物質をハロゲン化銀を含む
溶液に添加し、ハロゲン化銀を濾別したあとの溶液の濃
度を測定することによりハロゲン化銀に吸着した量を算
出することができる。吸着量の測定は、ハロゲン化銀溶
液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の粒子形状、粒子径に
よって異なるが、ここでは有機銀に添加するハロゲン化
銀の形状、粒子径、電位等の条件で測定するのが望まし
い。好ましい例は、沃素を0.1〜10モル%含む平均
粒子径10〜300nmの立方晶、八面体または平板粒
子の沃臭化銀粒子をpAgが6〜8の条件で25℃±5
℃、1〜48時間放置した後のハロゲン化銀粒子の吸着
量を測定することで吸着量を求めることができる。沃素
を含まない臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。
算出した量がハロゲン化銀粒子の表面積の3〜100%
範囲で被覆すると算出された場合は吸着性と判定するこ
とができる。吸着性の試験は、ハロゲン化銀に色素、染
料、安定化剤、カブリ抑制剤等を添加しない乳剤で調べ
ることが好ましいが、実際の系に近い色素、安定化剤、
カブリ抑制剤等の添加されたハロゲン化銀乳剤で測定し
てもよい。吸着性基は、硫黄や窒素原子を少なくとも1
つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基の
ようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよい。
好ましい吸着性基としては窒素原子を含む1級〜3級の
アミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾ
ール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。L1
は2価の連結基を示し、結合手、−OCO−基、−CO
NH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な
例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるもの
ではない。
数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が
導入されているアリール基等を挙げることができる。耐
拡散性は、結合剤や架橋剤の使用量によって異なるが、
耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内
の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。耐拡
散性の試験方法は、両端が開口しているキャピラリー内
に結合剤を入れ架橋し、キャピラリーの1開口面に被検
化合物を接触存在させて、一定温度、一定時間経過後、
移動した量を赤外分光法、質量分析法アイソトープ法、
NMR法等により調べることができる。拡散の程度は温
度や時間を変化させて調べることができるが、拡散性が
1%〜1億倍まで遅くすることが分子量や固定化基の導
入により可能であるが、拡散性を過度に抑えようとする
と分子量の増大や固体化基の溶解性等の問題が出るの
で、室温下での拡散性が10%〜100万倍まで遅くす
るような基の導入が適当である。吸着性基もハロゲン化
銀に対しての吸着量を調べることにより調べることがで
きる。吸着量の測定は、被検物質をハロゲン化銀を含む
溶液に添加し、ハロゲン化銀を濾別したあとの溶液の濃
度を測定することによりハロゲン化銀に吸着した量を算
出することができる。吸着量の測定は、ハロゲン化銀溶
液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の粒子形状、粒子径に
よって異なるが、ここでは有機銀に添加するハロゲン化
銀の形状、粒子径、電位等の条件で測定するのが望まし
い。好ましい例は、沃素を0.1〜10モル%含む平均
粒子径10〜300nmの立方晶、八面体または平板粒
子の沃臭化銀粒子をpAgが6〜8の条件で25℃±5
℃、1〜48時間放置した後のハロゲン化銀粒子の吸着
量を測定することで吸着量を求めることができる。沃素
を含まない臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。
算出した量がハロゲン化銀粒子の表面積の3〜100%
範囲で被覆すると算出された場合は吸着性と判定するこ
とができる。吸着性の試験は、ハロゲン化銀に色素、染
料、安定化剤、カブリ抑制剤等を添加しない乳剤で調べ
ることが好ましいが、実際の系に近い色素、安定化剤、
カブリ抑制剤等の添加されたハロゲン化銀乳剤で測定し
てもよい。吸着性基は、硫黄や窒素原子を少なくとも1
つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基の
ようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよい。
好ましい吸着性基としては窒素原子を含む1級〜3級の
アミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾ
ール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。L1
は2価の連結基を示し、結合手、−OCO−基、−CO
NH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な
例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるもの
ではない。
【0016】
【化5】
【0017】
【化6】
【0018】
【化7】
【0019】本発明で用いられる上記一般式(1)で表
される化合物は、ハロゲン化アルキルアミンやヒドロキ
シアルキルアミンまたはアルコキシアミン化合物等を芳
香族またはヘテロ環基の化合物と反応させて合成するこ
とができる。耐拡散性基と結合したアミン化合物は耐拡
散性基を有する環基とアミノ基を有する化合物とを結合
させることにより合成することができる。
される化合物は、ハロゲン化アルキルアミンやヒドロキ
シアルキルアミンまたはアルコキシアミン化合物等を芳
香族またはヘテロ環基の化合物と反応させて合成するこ
とができる。耐拡散性基と結合したアミン化合物は耐拡
散性基を有する環基とアミノ基を有する化合物とを結合
させることにより合成することができる。
【0020】本発明の化合物を添加する方法は公知の添
加法に従って添加することができる。即ち、メタノール
やエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンや
アセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチ
ルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加すること
ができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超
音波分散やホモジナイザー分散により10μm以下の微
粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもでき
る。微粒子分散技術については多くの技術が開示されて
いるが、これらに準じて分散することができる。例え
ば、本発明の化合物をガラスビーズやジルコニア微粒子
メディアを使用するサンドミル分散、細管から溶液を高
速に噴出させて硬い板状で砕いたり、2方向からの細管
の液体を衝突させて分散させる方法等を挙げることがで
きる。微粒子分散は水溶液中に分散するのが好ましく、
その粒径は、平均粒子径1nm以上10μm以下で、粒
子分布が狭いことが好ましい。水溶液中に分散するに
は、攪拌により泡が発生しにくいものがよい。
加法に従って添加することができる。即ち、メタノール
やエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンや
アセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチ
ルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加すること
ができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超
音波分散やホモジナイザー分散により10μm以下の微
粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもでき
る。微粒子分散技術については多くの技術が開示されて
いるが、これらに準じて分散することができる。例え
ば、本発明の化合物をガラスビーズやジルコニア微粒子
メディアを使用するサンドミル分散、細管から溶液を高
速に噴出させて硬い板状で砕いたり、2方向からの細管
の液体を衝突させて分散させる方法等を挙げることがで
きる。微粒子分散は水溶液中に分散するのが好ましく、
その粒径は、平均粒子径1nm以上10μm以下で、粒
子分布が狭いことが好ましい。水溶液中に分散するに
は、攪拌により泡が発生しにくいものがよい。
【0021】本発明に使用するアミン化合物は、ハロゲ
ン化銀、有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添
加するのが好ましいが、これら添加剤を含む層の隣接層
に添加することもできるし、中間層や下塗り層中に添加
することもできる。本発明の化合物の添加量は好ましく
は銀1モル当たり1×10-8〜1×10-1モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルである。銀のない感光層以外
に添加する場合も単位面積に換算して添加量を決めるこ
とができる。添加量が多いと感度低下、コントラスト低
下、最高濃度低下等を引き起こし、添加量が不足すると
本発明の効果を得ることが難しくなる。
ン化銀、有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添
加するのが好ましいが、これら添加剤を含む層の隣接層
に添加することもできるし、中間層や下塗り層中に添加
することもできる。本発明の化合物の添加量は好ましく
は銀1モル当たり1×10-8〜1×10-1モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルである。銀のない感光層以外
に添加する場合も単位面積に換算して添加量を決めるこ
とができる。添加量が多いと感度低下、コントラスト低
下、最高濃度低下等を引き起こし、添加量が不足すると
本発明の効果を得ることが難しくなる。
【0022】本発明において、結合剤を溶解する有機溶
媒を使用する溶媒塗布系と結合剤としてラテックス或い
は結合剤の水溶液を用いて水系塗布を行う2方式があ
る。溶媒塗布は有機溶媒の比率が40%以上100%以
下で、特に70%以上が有機溶媒を占めるような塗布液
を塗布する場合を指す。有機溶媒としては、ヘキサン、
トルエンおよびキシレン等の非極性溶媒系とアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノ
ール、イソプロピルアルコール等の極性溶媒を使用する
場合とがあるが、極性溶媒系は多種類の添加剤を多量に
溶解できるため頻用される。水系塗布は、塗布液の調製
において、塗布液組成の水分に対する有機溶媒の比率が
0%以上40%以下を意味し、好ましくは20%以下、
更に10%以下、最も好ましくは5%以下である塗布液
を使用することを意味している。
媒を使用する溶媒塗布系と結合剤としてラテックス或い
は結合剤の水溶液を用いて水系塗布を行う2方式があ
る。溶媒塗布は有機溶媒の比率が40%以上100%以
下で、特に70%以上が有機溶媒を占めるような塗布液
を塗布する場合を指す。有機溶媒としては、ヘキサン、
トルエンおよびキシレン等の非極性溶媒系とアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノ
ール、イソプロピルアルコール等の極性溶媒を使用する
場合とがあるが、極性溶媒系は多種類の添加剤を多量に
溶解できるため頻用される。水系塗布は、塗布液の調製
において、塗布液組成の水分に対する有機溶媒の比率が
0%以上40%以下を意味し、好ましくは20%以下、
更に10%以下、最も好ましくは5%以下である塗布液
を使用することを意味している。
【0023】溶媒塗布を行う場合、結合剤としてセルロ
ース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、アクリレー
トポリマー誘導体、ポリイミド誘導体、ポリアミド誘導
体、フェノール樹脂誘導体、ウレタン樹脂誘導体、ポリ
エステル誘導体等がある。特に好ましい誘導体はポリビ
ニルアルコール誘導体あるいは酢酸ビニル誘導体であ
る。好ましい結合剤は、上記一般式(2)で示すことが
できる。
ース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、アクリレー
トポリマー誘導体、ポリイミド誘導体、ポリアミド誘導
体、フェノール樹脂誘導体、ウレタン樹脂誘導体、ポリ
エステル誘導体等がある。特に好ましい誘導体はポリビ
ニルアルコール誘導体あるいは酢酸ビニル誘導体であ
る。好ましい結合剤は、上記一般式(2)で示すことが
できる。
【0024】一般式(2)において、R1およびR2はそ
れぞれ置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基およびアリール基から選ば
れる基を表す。d1、d2およびd3はモノマー組成比
の質量%を表し、d1+d2+d3=100である。
れぞれ置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基およびアリール基から選ば
れる基を表す。d1、d2およびd3はモノマー組成比
の質量%を表し、d1+d2+d3=100である。
【0025】R1およびR2の炭素数1〜12のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル
基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等、ア
ルケニル基としては、プロペニル基、ブテニル基、オク
テニル基、ドデセニル基等、アルキニル基としては、ア
セチレン基、ビスアセチレン基等を、アリール基として
は、フェニル基、ナフチル基等の芳香族、ピリジン、ピ
ペリジン、フラン、ピラン、チオフェン、ピロール、ピ
ロリドン、イミダゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、テトラゾール、ピリミジン等の
ヘテロ環を表す。
基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル
基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等、ア
ルケニル基としては、プロペニル基、ブテニル基、オク
テニル基、ドデセニル基等、アルキニル基としては、ア
セチレン基、ビスアセチレン基等を、アリール基として
は、フェニル基、ナフチル基等の芳香族、ピリジン、ピ
ペリジン、フラン、ピラン、チオフェン、ピロール、ピ
ロリドン、イミダゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、テトラゾール、ピリミジン等の
ヘテロ環を表す。
【0026】一般式(2)で示すことのできるポリマー
の分子量は800〜800,000が好ましい。より好
ましくは、1万〜40万である。分子量が小さいと膜強
度が得にくいこと、分子量が大きいと溶解性が劣化する
ことや粘度が大きすぎてしまうので添加剤等を添加した
液との兼ね合いから適宜調節することが好ましい。ま
た、d1の組成であるアセタール化部分は、分子内水酸
基でなく、上記一般式(3)で表される、分子間アセタ
ール化したものを含むことができる。分子間アセタール
化したポリビニルアルコール誘導体は、ポリビニルアル
コールにアルデヒド類を加えてアセタール化するとき
に、ポリビニルアルコールまたはアルデヒド類を高い濃
度で反応させることやアセタール化触媒の添加量を多く
することや触媒を反応の後期に追添加することや、反応
温度を高めることや攪拌を強化することにより作製する
ことができる。攪拌強度はレイノルズ数で1,000〜
10,000の範囲にするのが好ましい。分子間アセタ
ール化した割合は、総ポリマー分子の0.1%〜60%
の範囲、好ましくは1%〜30%の範囲、より好ましく
は3%〜20%の範囲である。この範囲は塗布液の粘度
を調節し易いこと、作製した膜強度が弱くなく、弾性力
があること等から好ましい。分子間アセタールの比率
は、液体クロマトグラフィー(GPC)や粘度測定法等
から求めることができる。分子間アセタールの作製や分
析は特開平6−25213号を参考にすることができ
る。
の分子量は800〜800,000が好ましい。より好
ましくは、1万〜40万である。分子量が小さいと膜強
度が得にくいこと、分子量が大きいと溶解性が劣化する
ことや粘度が大きすぎてしまうので添加剤等を添加した
液との兼ね合いから適宜調節することが好ましい。ま
た、d1の組成であるアセタール化部分は、分子内水酸
基でなく、上記一般式(3)で表される、分子間アセタ
ール化したものを含むことができる。分子間アセタール
化したポリビニルアルコール誘導体は、ポリビニルアル
コールにアルデヒド類を加えてアセタール化するとき
に、ポリビニルアルコールまたはアルデヒド類を高い濃
度で反応させることやアセタール化触媒の添加量を多く
することや触媒を反応の後期に追添加することや、反応
温度を高めることや攪拌を強化することにより作製する
ことができる。攪拌強度はレイノルズ数で1,000〜
10,000の範囲にするのが好ましい。分子間アセタ
ール化した割合は、総ポリマー分子の0.1%〜60%
の範囲、好ましくは1%〜30%の範囲、より好ましく
は3%〜20%の範囲である。この範囲は塗布液の粘度
を調節し易いこと、作製した膜強度が弱くなく、弾性力
があること等から好ましい。分子間アセタールの比率
は、液体クロマトグラフィー(GPC)や粘度測定法等
から求めることができる。分子間アセタールの作製や分
析は特開平6−25213号を参考にすることができ
る。
【0027】水系塗布を行う場合、好ましいポリマーと
しては水溶解性ポリマーまたは水分散性疎水性ポリマー
(ラテックス)を使用することができる。例えば、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合
体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリ
ル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸ア
ミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジエン−アクリル酸共重合体等である。これらは、水
性の塗布液を構成するが、塗布後乾燥し、塗膜を形成す
る段階で均一なポリマー膜を形成するものである。これ
らを使用する場合には、有機銀塩、ハロゲン化銀、還元
剤等を水性の分散液として、これらのラテックスと混合
し均一な分散液とした後、塗布することで熱現像感光層
を形成する。乾燥により、ラテックスは粒子が融合し均
一な膜を形成する。
しては水溶解性ポリマーまたは水分散性疎水性ポリマー
(ラテックス)を使用することができる。例えば、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合
体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリ
ル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸ア
ミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジエン−アクリル酸共重合体等である。これらは、水
性の塗布液を構成するが、塗布後乾燥し、塗膜を形成す
る段階で均一なポリマー膜を形成するものである。これ
らを使用する場合には、有機銀塩、ハロゲン化銀、還元
剤等を水性の分散液として、これらのラテックスと混合
し均一な分散液とした後、塗布することで熱現像感光層
を形成する。乾燥により、ラテックスは粒子が融合し均
一な膜を形成する。
【0028】好ましいポリマーの組成について更にガラ
ス転位点が−20℃から80℃までが好ましく、特に−
5℃から60℃までが好ましい。ガラス転位点が高いと
熱現像する温度が高くなり、低いとカブリやすくなり、
感度の低下や軟調になるからである。水分散ポリマー
は、平均粒子径が1nmから数μmの範囲の微粒子にし
て分散されたものが好ましい。水分散疎水性ポリマーは
ラテックスとよばれ、水系塗布の結合剤として広く使用
されている中で耐水性を向上させるというラテックスが
好ましい。結合剤として耐水性を得る目的のラテックス
の使用量は、塗布性を勘案して決められる耐湿性の観点
から多いほど好ましい。全結合剤質量に対して50%以
上100%以下、80%以上100%以下が好ましい。
ス転位点が−20℃から80℃までが好ましく、特に−
5℃から60℃までが好ましい。ガラス転位点が高いと
熱現像する温度が高くなり、低いとカブリやすくなり、
感度の低下や軟調になるからである。水分散ポリマー
は、平均粒子径が1nmから数μmの範囲の微粒子にし
て分散されたものが好ましい。水分散疎水性ポリマーは
ラテックスとよばれ、水系塗布の結合剤として広く使用
されている中で耐水性を向上させるというラテックスが
好ましい。結合剤として耐水性を得る目的のラテックス
の使用量は、塗布性を勘案して決められる耐湿性の観点
から多いほど好ましい。全結合剤質量に対して50%以
上100%以下、80%以上100%以下が好ましい。
【0029】好ましいポリマーとして塩化ビニリデン系
の他にスチレン系、ブタジエン系或いはアクリル系の水
分散ラテックスの具体例を示すが、ここでスチレンをS
t、ブタジエンをBu、メチルアクリレートをMA、エ
チルアクリレートをEA、イソノニルアクリレートをI
NA、シクロヘキシルメタクリレートをCA、ヒドロキ
シエチルアクリレートをHEA、ヒドロキシエチルメタ
クリレートをHEMA、アクリル酸をAA、メタクリル
酸をMMA、メチルメタクリル酸をMAA、イタコン酸
をIA、アクリルアミドをAAm、スチレンスルホン酸
をSt−S、アクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸アミドをAMPS、イソプレンスルホン酸をIP
−S、2−プロペニル−4−ノニルフェノキシエチレン
オキサイド(n=10)スルホン酸エステルをPF−S
と略す。
の他にスチレン系、ブタジエン系或いはアクリル系の水
分散ラテックスの具体例を示すが、ここでスチレンをS
t、ブタジエンをBu、メチルアクリレートをMA、エ
チルアクリレートをEA、イソノニルアクリレートをI
NA、シクロヘキシルメタクリレートをCA、ヒドロキ
シエチルアクリレートをHEA、ヒドロキシエチルメタ
クリレートをHEMA、アクリル酸をAA、メタクリル
酸をMMA、メチルメタクリル酸をMAA、イタコン酸
をIA、アクリルアミドをAAm、スチレンスルホン酸
をSt−S、アクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸アミドをAMPS、イソプレンスルホン酸をIP
−S、2−プロペニル−4−ノニルフェノキシエチレン
オキサイド(n=10)スルホン酸エステルをPF−S
と略す。
【0030】
【化8】
【0031】本発明においては、これらのポリマー結合
剤としては(ラテックスの場合は固形分量で)銀量に対
して4分の1から10倍の量、銀の付き量が2.0g/
m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2で
あることが好ましい、更に好ましくは銀の付き量の2分
の1から7倍量、即ち、1.0〜14g/m2である。
銀付き量の4分の1以下では、銀色調が大幅に劣化し、
使用に耐えない場合があるし、銀の付き量の10倍以上
では、軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。
剤としては(ラテックスの場合は固形分量で)銀量に対
して4分の1から10倍の量、銀の付き量が2.0g/
m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2で
あることが好ましい、更に好ましくは銀の付き量の2分
の1から7倍量、即ち、1.0〜14g/m2である。
銀付き量の4分の1以下では、銀色調が大幅に劣化し、
使用に耐えない場合があるし、銀の付き量の10倍以上
では、軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。
【0032】(架橋剤)結合剤は、単独で造膜すること
により、下層や上層との接着を保持し、傷の付きにくい
膜強度を得ることができるが、架橋剤を使用することに
より更に膜接着や膜強度を高めることができる。しか
し、架橋反応が遅いと、写真性能が安定せず保存性が劣
化する。本発明に使用する即効性で、好ましい架橋剤は
イソシアナート基、エポキシ基、またはビニルスルホニ
ル基のいずれかを少なくとも2個有する多官能型架橋
剤、あるいは上記一般式(4)で示されるアルコキシシ
ラン化合物を挙げることができる。好ましい架橋剤を下
記に示す。
により、下層や上層との接着を保持し、傷の付きにくい
膜強度を得ることができるが、架橋剤を使用することに
より更に膜接着や膜強度を高めることができる。しか
し、架橋反応が遅いと、写真性能が安定せず保存性が劣
化する。本発明に使用する即効性で、好ましい架橋剤は
イソシアナート基、エポキシ基、またはビニルスルホニ
ル基のいずれかを少なくとも2個有する多官能型架橋
剤、あるいは上記一般式(4)で示されるアルコキシシ
ラン化合物を挙げることができる。好ましい架橋剤を下
記に示す。
【0033】
H1 ヘキサメチレンジイソシアナート
H2 ヘキサメチレンジイソシアナートの3量体
H3 トリレンジイソシアナート
H4 フェニレンジイソシアナート
H5 キシリレンジイソシアナート
【0034】
【化9】
【0035】
【化10】
【0036】上記架橋剤は、水、アルコール類、ケトン
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、
塗布液中に固形のまま添加してもよい。添加量は、結合
剤の架橋する基と当量が好ましいが10倍まで増量して
も良いし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、
塗布液中に固形のまま添加してもよい。添加量は、結合
剤の架橋する基と当量が好ましいが10倍まで増量して
も良いし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
【0037】以下熱現像感光材料に用いられるその他の
成分について説明する。本発明に使用する有機銀塩の金
属塩の有機酸としては、ステアリン酸、ベヘン酸、パル
ミチン酸などの脂肪酸類などが挙げられる。
成分について説明する。本発明に使用する有機銀塩の金
属塩の有機酸としては、ステアリン酸、ベヘン酸、パル
ミチン酸などの脂肪酸類などが挙げられる。
【0038】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダブルジ
ェット法などの写真技術の分野で公知の方法により、例
えば、アンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいずれか
の方法でも調製できる。この様に予め調製した後、本発
明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物中に導入
することが出来る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有
機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感光性ハロ
ゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして米国特許
第3,706,564号、同第3,706,565号、
同第3,713,833号、同第3,748,143
号、英国特許第1,362,970号各明細書に記載さ
れたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外のポリ
マーを用いる手段や、英国特許第1,354,186号
明細書に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤
のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第4,0
76,539号明細書に記載されているように感光性ハ
ロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製することに
よって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を
適用することが出来る。
性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダブルジ
ェット法などの写真技術の分野で公知の方法により、例
えば、アンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいずれか
の方法でも調製できる。この様に予め調製した後、本発
明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物中に導入
することが出来る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有
機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感光性ハロ
ゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして米国特許
第3,706,564号、同第3,706,565号、
同第3,713,833号、同第3,748,143
号、英国特許第1,362,970号各明細書に記載さ
れたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外のポリ
マーを用いる手段や、英国特許第1,354,186号
明細書に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤
のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第4,0
76,539号明細書に記載されているように感光性ハ
ロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製することに
よって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を
適用することが出来る。
【0039】ハロゲン化銀は、高い感光性材料として機
能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為
又、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが
好ましい。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ましく
は0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.
08μmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては
特に制限はなく、立方体、八面体の謂ゆる正常晶や正常
晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲ
ン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化
銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれで
あってもよい。
能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為
又、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが
好ましい。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ましく
は0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.
08μmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては
特に制限はなく、立方体、八面体の謂ゆる正常晶や正常
晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲ
ン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化
銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれで
あってもよい。
【0040】ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び後述
の有機銀塩の総量に対し50%以下好ましくは25%〜
0.1%、更に好ましくは15%〜0.1%の間であ
る。
の有機銀塩の総量に対し50%以下好ましくは25%〜
0.1%、更に好ましくは15%〜0.1%の間であ
る。
【0041】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,454号
明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際に
ハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と
共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることが出来る。
性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,454号
明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際に
ハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と
共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることが出来る。
【0042】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。
【0043】無機ハロゲン化物:例えばMXnで表され
るハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原
子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属
原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カ
ドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等があ
る。)、又、臭素水などのハロゲン分子も有効である。
るハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原
子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属
原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カ
ドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等があ
る。)、又、臭素水などのハロゲン分子も有効である。
【0044】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの
存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの
使用量は有機銀塩1質量部当たり0.01乃至100質
量部、好ましくは0.1乃至10質量部である。
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの
存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの
使用量は有機銀塩1質量部当たり0.01乃至100質
量部、好ましくは0.1乃至10質量部である。
【0045】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
【0046】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から11
族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、O
s、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。これらの金属イオンは金属塩をそのま
まハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体
イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの、移
金属錯体及び金属錯体イオンとしては、下記一般式で表
される6配位錯体イオンが好ましい。
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から11
族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、O
s、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。これらの金属イオンは金属塩をそのま
まハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体
イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの、移
金属錯体及び金属錯体イオンとしては、下記一般式で表
される6配位錯体イオンが好ましい。
【0047】一般式〔MaL6〕m
式中、Maは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれ
る遷移金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−又は
4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハ
ロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シ
アン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナ
ート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、
ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくは
アコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占め
ることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なってい
てもよい。
る遷移金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−又は
4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハ
ロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シ
アン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナ
ート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、
ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくは
アコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占め
ることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なってい
てもよい。
【0048】Maとして特に好ましい具体例は、ロジウ
ム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、
イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
ム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、
イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
【0049】これらの金属錯体又は錯体イオンは一種類
でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用
してもよい。
でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用
してもよい。
【0050】これらの金属のイオン、金属錯体及び錯体
イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モ
ル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好
ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。過度の添
加量は感度の低下や軟調、最高濃度の低下を引き起こす
ので好ましくない。これらの金属のイオン又は錯体イオ
ンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好
ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加
に際しては、数回に分割して添加してもよく、ハロゲン
化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭
63−29603号、特開平2−306236号、同3
−167545号、同4−76534号、同6−110
146号、同5−273683号等に記載されている様
に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。
イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モ
ル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好
ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。過度の添
加量は感度の低下や軟調、最高濃度の低下を引き起こす
ので好ましくない。これらの金属のイオン又は錯体イオ
ンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好
ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加
に際しては、数回に分割して添加してもよく、ハロゲン
化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭
63−29603号、特開平2−306236号、同3
−167545号、同4−76534号、同6−110
146号、同5−273683号等に記載されている様
に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。
【0051】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液
とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液と
して添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を
調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製
時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある
別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液
とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液と
して添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を
調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製
時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある
別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。
【0052】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全結合剤に対し、質
量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全結合剤に対し、質
量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
【0053】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全結合剤に対し、質量比で0.5〜40%
含有することが好ましい。
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全結合剤に対し、質量比で0.5〜40%
含有することが好ましい。
【0054】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用
いることができる。有機物としては、米国特許第2,3
22,037号等に記載の澱粉、ベルギー特許第62
5,451号や英国特許第981,198号等に記載さ
れた澱粉誘導体、特公昭44−3643号等に記載のポ
リビニルアルコール、スイス特許第330,158号等
に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米
国特許第3,079,257号等に記載のポリアクリロ
ニトリル、米国特許第3,022,169号等に記載さ
れたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いること
ができる。
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用
いることができる。有機物としては、米国特許第2,3
22,037号等に記載の澱粉、ベルギー特許第62
5,451号や英国特許第981,198号等に記載さ
れた澱粉誘導体、特公昭44−3643号等に記載のポ
リビニルアルコール、スイス特許第330,158号等
に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米
国特許第3,079,257号等に記載のポリアクリロ
ニトリル、米国特許第3,022,169号等に記載さ
れたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いること
ができる。
【0055】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
【0056】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
【0057】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 これらのマット剤は任意の構成層中に含むことができる
が、本発明の目的を達成するためには好ましくは支持体
から見て最も外側の層である。
記の式で表される値である。 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 これらのマット剤は任意の構成層中に含むことができる
が、本発明の目的を達成するためには好ましくは支持体
から見て最も外側の層である。
【0058】本発明に係るマット剤の添加方法は、予め
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット
剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。マ
ット剤の添加量は、マット粒子の大きさによりヘイズの
問題にならないレベルで適宜決定することができるが、
0.01mg/m2〜1g/m2で使用するのがよい。過
度の添加は、ヘイズが問題となる。
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット
剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。マ
ット剤の添加量は、マット粒子の大きさによりヘイズの
問題にならないレベルで適宜決定することができるが、
0.01mg/m2〜1g/m2で使用するのがよい。過
度の添加は、ヘイズが問題となる。
【0059】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、触媒活性量のハロゲン化銀、還元剤、及び必要に
応じて銀の色調を抑制する色調剤を通常、有機結合剤マ
トリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光
材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は
常温で安定であるが、露光後高温(例えば80℃〜14
0℃)に加熱されることで現像される。加熱することで
有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸
化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は
露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって
促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成
した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照を
なし、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部か
ら水等の処理液を供給することなしで進行する。
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、触媒活性量のハロゲン化銀、還元剤、及び必要に
応じて銀の色調を抑制する色調剤を通常、有機結合剤マ
トリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光
材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は
常温で安定であるが、露光後高温(例えば80℃〜14
0℃)に加熱されることで現像される。加熱することで
有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸
化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は
露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって
促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成
した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照を
なし、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部か
ら水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0060】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光性層を有している。支持体の上に熱現
像感光層のみを形成しても良いが、この上に少なくとも
1層の非感光性層を形成することが好ましい。
くとも一層の感光性層を有している。支持体の上に熱現
像感光層のみを形成しても良いが、この上に少なくとも
1層の非感光性層を形成することが好ましい。
【0061】又、感光性層に通過する光の量又は波長分
布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター染料
層および/又は反対側にアンチハレーション染料層、い
わゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性層に染
料又は顔料を含ませても良い。
布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター染料
層および/又は反対側にアンチハレーション染料層、い
わゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性層に染
料又は顔料を含ませても良い。
【0062】本発明の熱現像感光材料中にはカブリ防止
剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として例えば米
国特許第3,589,903号などで知られている水銀
化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀カブリ
防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀カブリ防
止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及
び同第4,452,885号及び特開昭59−5723
4号に開示されている様なカブリ防止剤が好ましい。
剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として例えば米
国特許第3,589,903号などで知られている水銀
化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀カブリ
防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀カブリ防
止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及
び同第4,452,885号及び特開昭59−5723
4号に開示されている様なカブリ防止剤が好ましい。
【0063】好ましいカブリ防止剤の例としては特開平
9−90550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕
に記載されている化合物である。さらに、その他の好適
なカブリ防止剤は米国特許第5,028,523号及び
欧州特許第600,587号、同第605,981号、
同第631,176号に開示されている。
9−90550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕
に記載されている化合物である。さらに、その他の好適
なカブリ防止剤は米国特許第5,028,523号及び
欧州特許第600,587号、同第605,981号、
同第631,176号に開示されている。
【0064】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure17643
IV−A項(1978年12月p.23)、同18431
X項(1979年8月p.437)に記載もしくは引用
された文献に記載されている。特に各種スキャナー光源
の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に
選択することができる。例えば特開平9−34078
号、同9−54409号、同9−80679号記載の化
合物が好ましく用いられる。
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure17643
IV−A項(1978年12月p.23)、同18431
X項(1979年8月p.437)に記載もしくは引用
された文献に記載されている。特に各種スキャナー光源
の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に
選択することができる。例えば特開平9−34078
号、同9−54409号、同9−80679号記載の化
合物が好ましく用いられる。
【0065】本発明では、熱現像感光材料中に、必要に
応じて、増感剤、有機または無機の填料、界面活性剤、
ステイン防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐水化
剤、分散剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、消泡剤、蛍
光染料、高級脂肪酸の金属塩などを添加してもよい。
応じて、増感剤、有機または無機の填料、界面活性剤、
ステイン防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐水化
剤、分散剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、消泡剤、蛍
光染料、高級脂肪酸の金属塩などを添加してもよい。
【0066】熱現像感光層は複数層にしてもよく、又階
調の調節のために感度を高感度層/低感度層又は低感度
層/高感度層にしてもよい。各種の添加剤は感光性層、
非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加しても
よい。
調の調節のために感度を高感度層/低感度層又は低感度
層/高感度層にしてもよい。各種の添加剤は感光性層、
非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加しても
よい。
【0067】(支持体)支持体としては、紙、合成紙、
不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が
使用可能であり、またこれらを組み合わせた複合シート
を任意に用いてよい。更に、支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートまたは
シンジオタクチックポリスチレン等の支持体が好まし
く、2軸延伸や熱固定した光学的に等方性が高く、寸法
安定性のよい50μm〜400μm厚のものがよい。
不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が
使用可能であり、またこれらを組み合わせた複合シート
を任意に用いてよい。更に、支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートまたは
シンジオタクチックポリスチレン等の支持体が好まし
く、2軸延伸や熱固定した光学的に等方性が高く、寸法
安定性のよい50μm〜400μm厚のものがよい。
【0068】〈画像露光〉露光方法としては、特開平9
−304869号明細書、同9−311403号および
特開2000−10230号明細書記載の方法によりレ
ーザー露光することができる。本発明の熱現像感光材料
の露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切な光源
を用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤外光に
感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光
源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワー
である事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外
半導体レーザー(780nm、820nm)がより好ま
しく用いられる。
−304869号明細書、同9−311403号および
特開2000−10230号明細書記載の方法によりレ
ーザー露光することができる。本発明の熱現像感光材料
の露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切な光源
を用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤外光に
感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光
源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワー
である事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外
半導体レーザー(780nm、820nm)がより好ま
しく用いられる。
【0069】〈熱現像装置〉熱現像感光材料を現像する
装置は、特開平11−65067号明細書、同11−7
2897号および同11−84619号明細書記載の装
置を使用することができる。
装置は、特開平11−65067号明細書、同11−7
2897号および同11−84619号明細書記載の装
置を使用することができる。
【0070】
【実施例】以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明の態様はこれに限定されない。
が、本発明の態様はこれに限定されない。
【0071】実施例1
下塗り済み写真用支持体の作製
光学濃度で0.170に青色着色した市販の2軸延伸熱
固定済みの厚さ175μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの両面にコロナ放電処理(8W/m 2・分)
を施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を塗設し乾
燥させて下塗り層A−1とし、また反対側の面に下記下
塗り塗布液b−1を塗設し乾燥させてバック層側下塗り
層B−1とした。
固定済みの厚さ175μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの両面にコロナ放電処理(8W/m 2・分)
を施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を塗設し乾
燥させて下塗り層A−1とし、また反対側の面に下記下
塗り塗布液b−1を塗設し乾燥させてバック層側下塗り
層B−1とした。
【0072】
下塗り塗布液a−1
ブチルアクリレート(30質量%)
t−ブチルアクリレート(20質量%)
スチレン(25質量%)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2
下塗り塗布液b−1
ブチルアクリレート(40質量%)
スチレン(20質量%)
グリシジルアクリレート(40質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2
引き続き、下塗り層A−1及び下塗り層B−1の上表面
に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下塗り層A−
1の上には、下記下塗り上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下塗り上層A−2として、下塗り
層B−1の上には下記下塗り上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.1μmになる様に下塗り上層B−2を塗設した。
に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下塗り層A−
1の上には、下記下塗り上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下塗り上層A−2として、下塗り
層B−1の上には下記下塗り上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.1μmになる様に下塗り上層B−2を塗設した。
【0073】
下塗り上層塗布液a−2
ゼラチン 0.4g/m2
シリカ粒子(平均粒径2μm) 0.01g/m2
下塗り上層塗布液b−2
スチレンブタジエン共重合ラテックス液(固形分20%) 0.08g/m2
ポリエチレングリコール(質量平均分子量900) 0.036g/m2
シリカ粒子(平均粒子径3μm) 0.01g/m2
感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製
水900ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カ
リウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に
合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlとこ
れと当量の(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化
カリウムを含む水溶液370mlを、pAg7.7に保
ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間か
けて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し
NaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.
06μm、粒子サイズの変動係数8%、〔100〕面比
率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラ
チン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシ
エタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5
に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
リウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に
合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlとこ
れと当量の(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化
カリウムを含む水溶液370mlを、pAg7.7に保
ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間か
けて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し
NaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.
06μm、粒子サイズの変動係数8%、〔100〕面比
率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラ
チン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシ
エタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5
に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
【0074】粉末有機銀塩Aの調製
4720mlの純水にベヘン酸111.4g、アラキジ
ン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら1.5mol/lの水
酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し十分に攪
拌した。次に、濃硝酸6.9mlを加えた後55℃に冷
却して有機酸ナトリウム溶液を得た。該有機酸ナトリウ
ム溶液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲ
ン化銀乳剤A(銀0.038モルを含む)と純水450
mlを添加し5分間攪拌した。次に1mol/lの硝酸
銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、さらに2
0分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その
後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水
による水洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで水を加え
て仕上げた。
ン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら1.5mol/lの水
酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し十分に攪
拌した。次に、濃硝酸6.9mlを加えた後55℃に冷
却して有機酸ナトリウム溶液を得た。該有機酸ナトリウ
ム溶液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲ
ン化銀乳剤A(銀0.038モルを含む)と純水450
mlを添加し5分間攪拌した。次に1mol/lの硝酸
銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、さらに2
0分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その
後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水
による水洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで水を加え
て仕上げた。
【0075】感光層塗布液の調製
上記で下塗りを施した支持体上に感光層側をA−2にな
るように以下の各層を順次形成し、試料を作製した。
尚、乾燥は各々75℃、1分間で行った。
るように以下の各層を順次形成し、試料を作製した。
尚、乾燥は各々75℃、1分間で行った。
【0076】
感光層面側塗布
第1層:ハレーション防止層(AH)層
結合剤(PVB−1:重合度600) 1.2g/m2
ハレーション防止染料 C1 2×10-5モル/m2
第2層:感光層
感光層の調製は以下の組成物をメチルエチルケトン溶液
に添加し、塗布液を調製した。銀量として1.2g/m
2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマー
結合剤と混合した。
に添加し、塗布液を調製した。銀量として1.2g/m
2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマー
結合剤と混合した。
【0077】
結合剤(PVB−1:重合度600) 5.6g/m2
アミン化合物(表1記載) 9.3×10-4モル/m2
増感色素A1 2.1×10-4モル/Ag1モル
ハレーション防止染料C1 1.1×10-5モル/m2
カブリ防止剤1:ピリジニウムヒドロブロミドパーブロミド
0.3mg/m2
カブリ防止剤2:イソチアゾロン 1.2mg/m2
カブリ防止剤3:5−メチルベンゾトリアゾール
120mg/m2
現像剤(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,
5,5−トリメチルヘキサン) 3.3mmol/m2
【0078】
【化11】
【0079】
第3層:保護層
結合剤(セルロースアセテートブチレート) 1.2g/m2
シリカマット剤(平均粒子径3μm) 0.5g/m2
感光層と反対側(下塗りB−2)にバック層およびバッ
ク層の保護層を塗布した。
ク層の保護層を塗布した。
【0080】
バック層面塗布
第1層:バック層
結合剤(PVB−1:重合度600) 1.2g/m2
染料C1(AHおよび感光層と同じ) 70mg/m2
第2層:バック層保護膜
セルロースアセテートブチレート 0.8g/m2
マット剤(PMMA:平均粒径3μm) 0.02g/m2
界面活性剤(N−プロピルパーフロロオクチルスルホンアミド酢酸)
0.02g/m2
写真性能の評価
露光および現像の条件は、熱現像感光材料を810nm
の半導体レーザーを有するレーザー感光計で露光し、次
いで熱ドラムを用いて120℃で8秒間熱現像処理し
た。その際、露光及び現像は25℃、相対湿度50%に
調湿した部屋で行った。得られた画像の感度とカブリを
自動濃度計により評価を行った。感度はカブリより0.
3高い濃度を与える露光量の比の逆数で評価した。カブ
リの測定は、未露光の試料を熱現像し、濃度を測定し
た。コントラストは、濃度1.5を与える写真特性曲線
上の接線の傾きから算出した。最高濃度の測定は、濃度
1.5を与える露光量の10倍の露光量を与えた点の濃
度を測定した。
の半導体レーザーを有するレーザー感光計で露光し、次
いで熱ドラムを用いて120℃で8秒間熱現像処理し
た。その際、露光及び現像は25℃、相対湿度50%に
調湿した部屋で行った。得られた画像の感度とカブリを
自動濃度計により評価を行った。感度はカブリより0.
3高い濃度を与える露光量の比の逆数で評価した。カブ
リの測定は、未露光の試料を熱現像し、濃度を測定し
た。コントラストは、濃度1.5を与える写真特性曲線
上の接線の傾きから算出した。最高濃度の測定は、濃度
1.5を与える露光量の10倍の露光量を与えた点の濃
度を測定した。
【0081】保存性の試験は、塗布乾燥された熱現像感
光材料の試料を23℃、相対湿度50%の部屋に3日間
保存した後、試料を2つに分け、一方を45℃、相対湿
度80%の部屋に3日保存(高湿保存試料)し、一方は
そのまま23℃、相対湿度50%の部屋に保存した(常
湿試料)。保存された2つの試料を露光現像し、カブリ
の差およびコントラストの変化を求めた。カブリの差お
よびコントラストの差が少ない程保存性があることを示
す。
光材料の試料を23℃、相対湿度50%の部屋に3日間
保存した後、試料を2つに分け、一方を45℃、相対湿
度80%の部屋に3日保存(高湿保存試料)し、一方は
そのまま23℃、相対湿度50%の部屋に保存した(常
湿試料)。保存された2つの試料を露光現像し、カブリ
の差およびコントラストの変化を求めた。カブリの差お
よびコントラストの差が少ない程保存性があることを示
す。
【0082】耐傷性の評価は、深さ3μmの凹凸のある
ローラーで5kPaの加重を掛けながら試料を擦過して
傷のレベルを目視評価した。傷のないレベルを5、傷が
最も多いレベルを1とし、中程度で、実用的に問題ない
レベルを3として評価した結果を表1に示す。尚、比較
に使用した化合物はトリエチルアミンである。
ローラーで5kPaの加重を掛けながら試料を擦過して
傷のレベルを目視評価した。傷のないレベルを5、傷が
最も多いレベルを1とし、中程度で、実用的に問題ない
レベルを3として評価した結果を表1に示す。尚、比較
に使用した化合物はトリエチルアミンである。
【0083】
【表1】
【0084】表1から、本発明のアミン化合物を用いる
と、写真特性においてカブリが低く、感度、最高濃度お
よびコントラストが高く、保存性において耐湿性に優
れ、傷の付きにくい熱現像感光材料を得ることが出来
る。
と、写真特性においてカブリが低く、感度、最高濃度お
よびコントラストが高く、保存性において耐湿性に優
れ、傷の付きにくい熱現像感光材料を得ることが出来
る。
【0085】実施例2
実施例1と同様に熱現像感光材料を作製したが、ここで
は、結合剤(バインダー)に使用した一般式(2)で示
した化合物の組成を表2のように変化させて試料を作製
した。組成の変化は、重合度600のポリ酢酸ビニルを
鹸化度70から99%になるように鹸化し、鹸化度の異
なるポリビニルアルコールを予め作製し、これにブチル
アルデヒドを反応させてブチラール化した。アセタール
化の条件は、鹸化されたポリビニルアルコールの30%
水溶液(固形分換算)中に10%塩酸を加え、pH1.
5、温度を86℃に設定し、アセタール化度に相当する
ブチルアルデヒドを10分に亘り添加し、6時間反応さ
せ、析出した生成物を乾燥させた後、生成物をエタノー
ルで洗浄精製した。アセタール化度(d1)は残ってい
る水酸基価から求めた。性能評価は実施例1と同様に行
った。結果を表2に示す。
は、結合剤(バインダー)に使用した一般式(2)で示
した化合物の組成を表2のように変化させて試料を作製
した。組成の変化は、重合度600のポリ酢酸ビニルを
鹸化度70から99%になるように鹸化し、鹸化度の異
なるポリビニルアルコールを予め作製し、これにブチル
アルデヒドを反応させてブチラール化した。アセタール
化の条件は、鹸化されたポリビニルアルコールの30%
水溶液(固形分換算)中に10%塩酸を加え、pH1.
5、温度を86℃に設定し、アセタール化度に相当する
ブチルアルデヒドを10分に亘り添加し、6時間反応さ
せ、析出した生成物を乾燥させた後、生成物をエタノー
ルで洗浄精製した。アセタール化度(d1)は残ってい
る水酸基価から求めた。性能評価は実施例1と同様に行
った。結果を表2に示す。
【0086】
【表2】
【0087】実施例2の結果から、本発明のアミン化合
物およびを本発明のブチラールを使用すると保存性およ
び耐傷性が向上することがわかる。
物およびを本発明のブチラールを使用すると保存性およ
び耐傷性が向上することがわかる。
【0088】実施例3
実施例2と同様に試料を作製したが、ここでは使用した
結合剤(バインダー)に一般式(3)で示される分子間
アセタール化したもの(表3参照)を使用した。分子間
アセタール化は、鹸化されたポリビニルアルコールをア
セトン水溶液(水:アセトン=1:1)に固形分濃度が
76%になるように溶解し、pH1.5、温度を96℃
に設定し、アセタール化度に相当するブチルアルデヒド
を10分に亘り滴下し、分子間アセタール化を作製し
た。分子間の割合は、粘度法で分子量を算出して求め
た。分子間のアセタール化を無視できる固形分1%濃度
の鹸化されたポリビニルアルコールのアセタール化を行
い、予め粘度法で分子量を求め、固形分の高濃度ポリビ
ニルアルコール中でのアセタール化の分子量の差から分
子間の割合を求めた。得られた試料の写真性能を実施例
1と同様に評価した。得られた結果を表3に示す。
結合剤(バインダー)に一般式(3)で示される分子間
アセタール化したもの(表3参照)を使用した。分子間
アセタール化は、鹸化されたポリビニルアルコールをア
セトン水溶液(水:アセトン=1:1)に固形分濃度が
76%になるように溶解し、pH1.5、温度を96℃
に設定し、アセタール化度に相当するブチルアルデヒド
を10分に亘り滴下し、分子間アセタール化を作製し
た。分子間の割合は、粘度法で分子量を算出して求め
た。分子間のアセタール化を無視できる固形分1%濃度
の鹸化されたポリビニルアルコールのアセタール化を行
い、予め粘度法で分子量を求め、固形分の高濃度ポリビ
ニルアルコール中でのアセタール化の分子量の差から分
子間の割合を求めた。得られた試料の写真性能を実施例
1と同様に評価した。得られた結果を表3に示す。
【0089】
【表3】
【0090】本発明のアミン化合物および分子間アセタ
ール化ポリマーを用いると、保存性および耐傷性に優れ
た熱現像感光材料を得ることが出来る。
ール化ポリマーを用いると、保存性および耐傷性に優れ
た熱現像感光材料を得ることが出来る。
【0091】実施例4
実施例1と同様に試料を作製したが、ここでは感光層側
の塗布は下塗り済み支持体を使用し、感光層側の結合剤
(バインダー)に表4に示すラテックスを使用する水系
塗布を行った。結合剤の比較には重合度500、鹸化度
99%のポリビニルアルコール(PVA)を使用した。
性能評価は実施例1と同様に行った。結果を表4に示
す。
の塗布は下塗り済み支持体を使用し、感光層側の結合剤
(バインダー)に表4に示すラテックスを使用する水系
塗布を行った。結合剤の比較には重合度500、鹸化度
99%のポリビニルアルコール(PVA)を使用した。
性能評価は実施例1と同様に行った。結果を表4に示
す。
【0092】
【表4】
【0093】結合剤にラテックスを使用する水系塗布に
おいても本発明の化合物を使用すると保存性および耐傷
性に優れることがわかる。
おいても本発明の化合物を使用すると保存性および耐傷
性に優れることがわかる。
【0094】実施例5
実施例1の試料101と同様に試料503〜510を作
製したが、ここでは下記表5に示す一般式(1)で表さ
れる化合物(添加量:9.3×10-4モル/m 2)及び
架橋剤を使用した。架橋剤の使用量は、感光層の結合剤
に0.02ミリモル/m2とした。結果を表5に示す。
製したが、ここでは下記表5に示す一般式(1)で表さ
れる化合物(添加量:9.3×10-4モル/m 2)及び
架橋剤を使用した。架橋剤の使用量は、感光層の結合剤
に0.02ミリモル/m2とした。結果を表5に示す。
【0095】
【表5】
【0096】本発明のアミン化合物および架橋剤を用い
ると、写真特性においてカブリが低く、保存性に優れ、
傷の付きにくい熱現像感光材料を得ることが出来る。
ると、写真特性においてカブリが低く、保存性に優れ、
傷の付きにくい熱現像感光材料を得ることが出来る。
【0097】
【発明の効果】本発明により、高い画像濃度と、好まし
いコントラストを有する高画質の画像が得られ、しかも
高湿度下の保存安定性がよく、更に傷の付きにくい熱現
像感光材料を提供することができた。
いコントラストを有する高画質の画像が得られ、しかも
高湿度下の保存安定性がよく、更に傷の付きにくい熱現
像感光材料を提供することができた。
Claims (7)
- 【請求項1】 支持体に感光性ハロゲン化銀粒子、有機
銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を1つの層、
或いは複数の層中にそれぞれ含有してなる熱現像感光材
料において、該層又は該層に隣接する層の少なくとも1
層に、下記一般式(1)で示されるアミン化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】 〔式中、Z1は芳香族基およびヘテロ環基を表し、L1は
2価の連結基を、nは1〜3を表し、nが1または2の
ときは、一般式(1)中の窒素原子がZ1−L1−基以外
の任意の置換基で置換されてもよい。〕 - 【請求項2】 一般式(1)で示される化合物の置換基
の少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性基であるこ
とを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項3】 結合剤の少なくとも1種が下記一般式
(2)で示されることを特徴とする請求項1に記載の熱
現像感光材料。 【化2】 〔式中、R1およびR2はアルキル基であり、d1、d2
およびd3は組成比を表し、d1は20〜96質量%、
d2は1〜40質量%およびd3は0.1〜40質量%
を表し、d1+d2+d3は100である。〕 - 【請求項4】 結合剤の少なくとも1種が下記一般式
(3)で示される結合剤であり、かつ該結合剤を0.1
質量%〜20質量%含有することを特徴とする請求項1
に記載の熱現像感光材料。 【化3】 〔式中、R1、R2、d1、d2およびd3は、一般式
(2)と同義であり、R3はアルキル基を表し、d4は
1〜40質量%を表し、d1+d2+d3+d4は10
0である。〕 - 【請求項5】 感光層または感光層に隣接する層の結合
剤にモノマー単位としてスチレン、ブタジエン、アクリ
ル酸エステル中から選ばれる少なくとも1種を含むラテ
ックスを使用したことを特徴とする請求項1に記載の熱
現像感光材料。 - 【請求項6】 結合剤がエポキシ化合物、アルコキシシ
ラン化合物、イソシアナート化合物、ビニルスルホン化
合物から選ばれる少なくとも1種の架橋剤で架橋される
ことを特徴とする請求項3又は4に記載の熱現像感光材
料。 - 【請求項7】 アルコキシシラン化合物が下記一般式
(4)で示されることを特徴とする請求項6に記載の熱
現像感光材料。 【化4】 〔式中、R4は芳香族基およびヘテロ環基を表し、R5は
アルキル基を表し、L2は2価の連結基を表す。mおよ
びnは1〜3の整数であり、m+n=4である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001207756A JP2003021883A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 膜強度を改良した熱現像感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001207756A JP2003021883A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 膜強度を改良した熱現像感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003021883A true JP2003021883A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19043693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001207756A Pending JP2003021883A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 膜強度を改良した熱現像感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003021883A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7094524B2 (en) | 2003-10-15 | 2006-08-22 | Eastman Kodak Company | Thermally development imaging materials having backside stabilizers |
US20110245375A1 (en) * | 2008-11-24 | 2011-10-06 | Basf Se | Curable composition comprising a thermolatent base |
-
2001
- 2001-07-09 JP JP2001207756A patent/JP2003021883A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7094524B2 (en) | 2003-10-15 | 2006-08-22 | Eastman Kodak Company | Thermally development imaging materials having backside stabilizers |
US20110245375A1 (en) * | 2008-11-24 | 2011-10-06 | Basf Se | Curable composition comprising a thermolatent base |
US8969577B2 (en) * | 2008-11-24 | 2015-03-03 | Basf Se | Curable composition comprising a thermolatent base |
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