JP2003007520A

JP2003007520A - 磁気バイアス用磁石を有する磁気コアおよびそれを用いたインダクタンス部品

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Publication number: JP2003007520A
Application number: JP2001361355A
Authority: JP
Inventors: Teruhiko Fujiwara; 照彦藤原; Masayoshi Ishii; 政義石井; Haruki Hoshi; 晴輝保志; Keita Isotani; 桂太磯谷; Toru Ito; 透伊藤; Tamiko Anpo; 多美子安保
Original assignee: NEC Tokin Corp
Current assignee: Tokin Corp
Priority date: 2000-11-30
Filing date: 2001-11-27
Publication date: 2003-01-10
Anticipated expiration: 2021-11-27
Also published as: JP3974773B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有
する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供
給するために、該ギャップ近傍に永久磁石を配してなる
磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、優れた
直流重畳特性と、コアロス特性と、耐酸化性とを有する
磁気コアとそれを用いたインダクタンス部品とを提供す
ること。【解決手段】インダクタンス部品は、磁路の少なくと
も１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を
有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャッ
プ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャ
ップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに
少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有する。
前記磁気バイアス用磁石は、希土類磁石粉末を無機ガラ
スで被覆したものからなり、該希土類磁石粉末は、Ｓｍ
−Ｃｏ磁石粉末、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、およびＳｍ
−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末の内から選ばれたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、チョークコイルや
トランス等のインダクタンス部品の磁気コア（以下、単
に「コア」とも呼ぶ）に関するものであり、特に、磁気
バイアス用の永久磁石を備えた磁気コアに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来から、例えば、スイッチング電源な
どに用いられるチョークコイル及びトランスにおいて
は、通常、交流は直流に重畳して印加される。したがっ
て、これらチョークコイルやトランスに用いる磁気コア
は、この直流重畳に対して磁気飽和しない透磁率特性
（この特性を「直流重畳特性」と呼ぶ）の良好なことが
求められている。

【０００３】高周波用の磁気コアとしてはフェライト磁
気コアや圧粉磁気コアが使用されているが、フェライト
磁気コアは初透磁率が高く飽和磁束密度が小さく、圧粉
磁気コアは初透磁率が低く飽和磁束密度が高い、という
材料物性に由来した特徴がある。従って、圧粉磁気コア
はトロイダル形状で用いられることが多い。他方、フェ
ライト磁気コアの場合には、例えばＥ型コアの中足に磁
気空隙（磁気ギャップ）を形成して直流重畳により磁気
飽和することを避けることが行われている。

【０００４】しかし、近年の電子機器の小型化要請に伴
う電子部品の小型化の要求により、磁気コアの磁気ギャ
ップも小さくせざるを得ず、直流重畳に対してより高い
透磁率の磁気コアが強く求められている。

【０００５】この要求に対しては、一般に、飽和磁化の
高い磁気コアを選択する事、つまり高磁界で磁気飽和し
ない磁気コアの選択が必須とされている。しかし、飽和
磁化は材料の組成で必然的に決まるものであり、無限に
高く出来るものではない。

【０００６】その解決手段として、磁気コアの磁路に設
けた磁気ギャップに永久磁石を配置し、直流重畳による
直流磁界を打ち消す事、すなわち、磁気コアに磁気バイ
アスを与えることが古くから提案されている。

【０００７】この永久磁石を用いた磁気バイアス方法
は、直流重畳特性を向上させるには優れた方法である
が、一方で金属焼結磁石を用いると磁気コアのコアロス
の増大が著しく、またフェライト磁石を用いると重畳特
性が安定しないなどとても実用に耐え得るものではなか
った。

【０００８】これらを解決する手段として、例えば特開
昭５０−１３３４５３は、磁気バイアス用永久磁石とし
て保磁力の高い希土類磁石粉末とバインダーとを混合し
圧縮成形したボンド磁石を用いること、これにより、直
流重畳特性およびコアの温度上昇が改善されたことを開
示している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかし近年、電源に対
する電力変換効率向上の要求はますます厳しくなってお
り、チョークコイル用及びトランス用の磁気コアについ
ても単にコア温度を測定するだけでは優劣が判断不能な
レベルとなっている。そのため、コアロス測定装置によ
る測定結果の判断が不可欠であり、実際本発明者等が検
討を行った結果、特開昭５０−１３３４５３に示された
抵抗率の値ではコアロス特性が劣化する事が明らかにな
った。

【００１０】又、近年の電子機器の小型化に伴い、イン
ダクタンス部品の小型化がますます要求され、したがっ
て、磁気バイアス用磁石の薄型化も又要求されていると
ころである。

【００１１】また近年、表面実装タイプのコイルが所望
されているが、表面実装のためにはコイルはリフローは
んだ処理に付される。このリフロー条件で、コイルの磁
気コアの特性が劣化しない事が望まれる。また、耐酸化
性の希土類磁石が必須である。

【００１２】したがって、本発明の一技術的課題は、磁
路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コア
に、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するため
に、該ギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイア
ス用磁石を有する磁気コアにおいて、上記を考慮して、
優れた直流重畳特性と、コアロス特性と、耐酸化性とを
有すると共に、リフロー条件でもコア特性が劣化しない
磁気コアを容易かつ安価に提供する事にある。

【００１３】また、本発明のもう一つの技術的課題は、
小型インダクタンス部品の磁路の少なくとも１箇所以上
にギャップを有する磁気コアに、ｋのギャップ両端から
磁気バイアスを供給するために、このギャップ近傍に永
久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コ
アの小型化を可能とするために特に適した磁石を配置し
た磁気コアを提供することにある。

【００１４】さらに、本発明のさらにもう一つの技術的
課題は、前記磁石及び磁気コアを用いたインダクタンス
部品を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、樹脂に
磁石粉末が分散されてなるボンド磁石であり、０．１Ω
・ｃｍ以上の比抵抗を有し、該磁石粉末は、固有保磁力
が５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末
粒径が１５０μｍ以下である粉末を無機ガラスで被覆し
たものからなることを特徴とする永久磁石が得られる。

【００１６】また、本発明によれば、磁路の少なくとも
１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャ
ップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギ
ャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石を有する磁気コ
アにおいて、前記磁気バイアス用磁石が、前記永久磁石
であることを特徴とする磁気バイアス用磁石を有する磁
気コアが得られる。

【００１７】さらに、本発明によれば、磁路の少なくと
も１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を
有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャッ
プ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャ
ップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに
少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半
田リフロー処理されるインダクタンス部品において、前
記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された
磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁石
であり、この磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以
上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、
平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末
であり、無機ガラスによって被覆されているものからな
ることを特徴とするインダクタンス部品が得られる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。

【００１９】まず、本発明の１つの発明について具体的
に説明する。

【００２０】本発明の１発明では、磁路の少なくとも１
箇所以上にギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両
端から磁気バイアスを供給するために、該ギャップ近傍
に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁
気コアにおける上記課題を解決するために、前記永久磁
石が、１０ＫＯｅ以上の固有保磁力及び５００℃以上の
キュリー温度を持つ粉末平均粒径が２．５〜５０μｍの
希土類磁石粉末と樹脂とからなるボンド磁石であり、前
記磁石粉末を無機ガラスで被覆した磁気バイアス用磁石
を有する磁気コアである。

【００２１】前記磁気バイアス用磁石としてのボンド磁
石は、前記樹脂を体積比で３０％以上含有し、比抵抗が
１Ωｃｍ以上であることが好ましい。

【００２２】前記無機ガラスは、軟化点が４００℃以上
５５０℃以下であることが好ましい。

【００２３】また、前記ボンド磁石は、前記磁石粉末を
被覆する前記無機ガラスは、重量比で、１０％以下含有
することが好ましい。

【００２４】又、本発明の一つの発明は、前記の磁気バ
イアス用磁石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線
を少なくともひとつ施してあるインダクタンス部品であ
る。

【００２５】さらに、前記希土類磁石粉末はＳｍ_２Ｃｏ
_１７磁石粉末であることが好ましい。

【００２６】なお、インダクタンス部品とは、コイル、
チョークコイル、トランス、その他一般に磁気コアと巻
き線とを必須とした部品を含むものとする。

【００２７】本発明の１発明では、前記磁気コアに挿入
する永久磁石について検討した結果、磁石の比抵抗が１
Ωｃｍ以上で、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上の永
久磁石を使用するとき優れた直流重畳特性が得られ、し
かもコアロス特性の劣化が生じない磁気コアを形成でき
る事を発見したものである。これは、優れた直流重畳特
性を得るのに必要な磁石特性はエネルギー積よりもむし
ろ固有保磁力であり、従ってエネルギー積の低い永久磁
石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重
畳特性が得られる事を見出したことによる。

【００２８】比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石
は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混
合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力
の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能
である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅ
Ｂ系、ＳｍＦｅＮ系とある。

【００２９】リフロー条件及び耐酸化性を考慮すると、
キュリー点Ｔｃが５００℃以上、固有保磁力ｉＨｃが１
０ＫＯｅ以上の磁石が必要であり、現状では、Ｓｍ_２Ｃ
ｏ_１ _７系磁石に限定される。

【００３０】チョークコイル用及びトランス用磁気コア
としては、軟磁気特性を有する材料であればなんでも有
効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェ
ライト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用
いられる。また、磁気コアの形状についても特に制限が
あるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコ
ア等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能であ
る。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャッ
プを設け、そのギャップに永久磁石を挿入配置する。

【００３１】ギャップ長に特に制限はないがギャップ長
が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が
広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入
するギャップ長は決まってくる。なお、磁気バイアス用
永久磁石の厚みは大きければバイアス効果を容易に得ら
れるが、磁気コアの小型化にとっては、磁気バイアス用
永久磁石は、薄いほどよい。しかしながら、５０μｍよ
り小さいと十分な磁気バイアスが得られない。したがっ
て、磁気バイアス用永久磁石を配置する磁気ギャップは
５０μｍ以上であることが必要であり、コア寸法を抑え
るという点からは、１００００μｍ以下が好ましい。

【００３２】次にギャップに挿入される永久磁石に対す
る要求特性は、固有保磁力については１０ＫＯｅ以下で
は磁気コアに印可される直流磁界によって保磁力が消失
するのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は
大きいほど良いが、１Ω・ｃｍ以上であればコアロス劣
化の大きな要因にはならない。また、粉末の平均最大粒
径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するの
で、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望まし
く、最小粒径が２．５μｍ以下になると磁石粉末の熱処
理及びコアやインダクタンス部品のリフロー時に磁石粉
末が酸化され、これにより磁化の減少が顕著になるため
２．５μｍ以上の粒径が必要で有る。

【００３３】またコイルの発熱による熱減磁の問題があ
るが、トランスの想定される最高使用温度は２００℃な
のでＴｃが５００℃以上であれば実質的に問題とはなら
ない。また、コアロスを増大させないため樹脂の量は少
なくとも体積比で３０％以上必要であり、耐酸化性を増
大させるための無機ガラスは軟化点が４００℃以上であ
ればリフロー作業や、最高使用温度でもその被覆が破壊
されることがなく、一方５５０℃以下であれば被覆熱処
理時の粉末酸化の問題が顕著には現れない。また、無機
ガラスを添加することによって耐酸化性の効果が得られ
るが、添加量が１０ｗｔ％を超えると非磁性物の量の増
加により、直流重畳特性の改善が小さくなるので、上限
を１０ｗｔ％とするのがよい。

【００３４】以下、本発明の第１発明の実施の形態につ
いて、説明する。

【００３５】（第１の実施の形態）ガラス粉末として、
軟化点が約３５０℃のＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ
（１）、軟化点が約４００℃のＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−Ｐｂ
Ｏ（２）、軟化点が約４５０℃のＢ２Ｏ３−ＰｂＯ、軟
化点が約５００℃のＫ_２Ｏ−ＳｉＯ_２−ＰｂＯ、軟化点
が約５５０℃のＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１）、軟
化点が約６００℃のＳｉＯ _２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ
（２）、の６種類のガラス粉末を用意した。各粉末は、
粒径が約３μｍであった。

【００３６】次に磁石粉末として、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石
粉末を焼結体から粉砕することによって製造した。すな
わち、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７焼結体を通常の粉末冶金法で作製
した。その磁石特性は、（ＢＨ）ｍａｘは２８ＭＧＯｅ
であり、保磁力は２５ＫＯｅであった。この焼結体をジ
ョークラッシャーやディスクミルで粗粉砕し、ボールミ
ルで平均粒径約５．０μｍに粉砕した。

【００３７】この磁石粉末に前記した各々のガラス粉末
を１％混合し、ガラス粉末の軟化点よりも約５０℃高い
温度にてＡｒ中で熱処理することによって、磁石粉末の
表面をガラスにて被覆した。次にこうして被覆処理した
磁石粉末と、体積比で４５ｖｏｌ％の熱可塑性樹脂とし
てポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）とを２軸式の
熱混練機によって３３０℃にて混練した。次に熱プレス
機で成形温度３３０℃、圧力１ｔ／ｃｍ^２で高さ１．５
ｍｍのシート状に無磁場中で成形し、ボンド磁石を作製
した。これらシート状ボンド磁石の比抵抗は全て１Ωｃ
ｍ以上の値を示した。このシート状ボンド磁石は図１お
よび図２に示すフェライトコア３３の中央磁脚と同一断
面形状に加工した。

【００３８】ここでボンド磁石の磁石特性は、作製した
ボンド磁石のシートを必要枚数張り合わせる事により直
径φ１０ｍｍで厚みｔ１０ｍｍのテストピースを別途作
製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。その結果、全て
のボンド磁石について固有保磁力が約１０ＫＯｅ以上得
られている事が分かった。

【００３９】フェライトコア３３は、一般的なＭｎ−Ｚ
ｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効
断面積０．７４ｃｍのＥＥコアで、その中央磁脚に１．
５ｍｍのギャップ加工を施した。上記作製したボンド磁
石３１を着磁磁場４Ｔでパルス着磁後、ガウスメーター
で表面磁束を測定後、コア３３のギャップ部に挿入配置
した。次に、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨト
レーサーで１００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特
性を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライト
コアは、各ボンド磁石に対して、同一のものであり、被
覆されたガラスの種類だけが異なる磁石３１を交換し
て、コアロスを測定した。その測定結果を、表１に、熱
処理前として示す。

【００４０】次に、それらボンド磁石を最高温度が２７
０℃であるリフロー炉に２回通した後、上記と全く同様
に表面磁束とコアロスを測定し、表１に、熱処理後とし
て示す。

【００４１】

【表１】

【００４２】表１から、被覆処理温度が６５０℃と６０
０℃のデータからわかるように、被覆処理温度が６００
℃を超えると表面磁束が小さくなる事がわかる。コアロ
スについては被覆処理温度が４００℃すなわち軟化点が
３５０℃のガラス組成の被覆を用いたものは、リフロー
後に表面磁束が劣化することがわかった。これは、南下
点が３５０℃のガラス粉末は、一旦被覆処理された後、
樹脂との熱混練中に再融解してはがれたことによるもの
と考えられる。他方、軟化点が６００℃を超えるガラス
については被覆処理温度が高すぎて、磁石粉末の酸化ま
たは被覆ガラス材との反応により磁石粉末の磁化寄与分
の減少が起こって減磁が生じたものと思われる。

【００４３】次に、コイル（図２の３５で示す）に直流
磁界として８０（Ｏｅ）となる直流を重畳しながら、交
流信号を印加した時のインダクタンスＬをＬＣＲメータ
ーで測定し、コア定数（寸法）とコイルの巻線数から透
磁率を計算した。その結果は、軟化点が４００℃（Ｚｎ
Ｏ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（２））〜５５０℃（ＳｉＯ_２−
Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１））のガラス粉末を用いて被覆し
た磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置
したコアの透磁率は５０以上の値を示した。一方、比較
例として、磁気ギャップに磁石を挿入配置しない場合の
コアの透磁率、及び、軟化点が３５０℃のガラス粉末
（ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１））及び６００℃のガ
ラス粉末（ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（２））で被覆
した磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配
置したコアの透磁率は、いずれも１５と著しく低い値を
示した。

【００４４】以上の結果より、軟化点が４００℃以上で
５５０℃以下のガラス粉末で被覆した磁石粉末を用いた
ボンド磁石であって、比抵抗が１Ω・ｃｍ以上の永久磁
石を磁気コアの磁気ギャップに挿入配置する時、直流重
畳特性に優れしかもコアロス特性の劣化が小さい優れた
磁気コアが得られる事が分かった。

【００４５】（第２の実施の形態）第１の実施の形態で
使用したＳｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末と、軟化点が約５００
℃の約３μｍのＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯガラス粉末
を、後者の重量比が、０．１、０．５、１．０、２．
５、５．０、７．５、１０、１２．５ｗｔ％となるよう
に、それぞれ、混合し、５５０℃Ａｒ中で熱処理して、
磁石粉末にガラス被覆処理をした。次にこれらガラス被
覆処理をした磁石粉末に、バインダーＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３
−ＰｂＯ（２））としてポリイミド樹脂を体積比で５０
ｖｏｌ％混合して、ドクターブレード法でシート状にし
た。その溶剤を乾燥後、熱プレスし、厚み０．５ｍｍに
成形した。

【００４６】このボンド磁石の磁気特性は、テストピー
スを別途作製し、第１の実施の形態と同様にして測定し
た。その結果、各ボンド磁石は、磁石粉末に混合したガ
ラス粉末の量によらず全て約１０ＫＯｅ以上の固有保磁
力を示した。また比抵抗を測定した結果、全てのボンド
磁石について１Ω・ｃｍ以上の値を示した。

【００４７】次に第１の実施の形態と全く同様にシート
状ボンド磁石を着磁して、その表面磁束を測定後、図１
および２に示すフェライトのＥＥコア３３の中央磁脚の
磁気ギャップに挟み込み、第１の実施の形態と同様に、
コイル３５に交流と直流を重畳して印加し、直流重畳特
性を測定した。さらに、第１の実施の形態と全く同様の
リフロー炉（最高温度２７０℃）に２回通し、再度表面
磁束と直流重畳特性を測定した。その結果を表面磁束に
ついては表２に、直流重畳特性については表３に示す。

【００４８】

【表２】

【００４９】

【表３】

【００５０】表２および表３に示す通り、ガラス粉末の
添加量が実質的に０を超え１０ｗｔ％以下の時優れた特
性の耐酸化性の磁石が得られる事が分かる。

【００５１】以上に説明したように、磁路の少なくとも
１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、その
磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、固
有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが５
００℃以上、粉末粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石
粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機
ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で３０％
以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石
を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、
耐酸化性に優れた磁気コアを実現できる。

【００５２】次に本発明のもう一つの発明について説明
する。

【００５３】本発明の第２発明では、磁路の少なくとも
１箇所以上にギャップを有する磁気コアに、該ギャップ
両端から磁気バイアスを供給するために、該ギャップ近
傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する
磁気コアにおける上記課題を解決するために、前記永久
磁石が、５ＫＯｅ以上の固有保磁力及び３００℃以上の
キュリー温度を持つ粉末平均粒径が２．０〜５０μｍの
希土類磁石粉末と樹脂とからなるボンド磁石であり、前
記磁石粉末を無機ガラスで被覆した磁気バイアス用磁石
を有する磁気コアである。

【００５４】前記磁気バイアス用磁石としてのボンド磁
石は、前記樹脂を体積比で３０％以上含有し、比抵抗が
１Ωｃｍ以上であることが好ましい。

【００５５】前記無機ガラスは、軟化点が２００℃以上
５５０℃以下であることが好ましい。

【００５６】また、前記ボンド磁石は、前記磁石粉末を
被覆する前記無機ガラスは、重量比で、１０％以下含有
することが好ましい。

【００５７】又、本発明によれば、前記の磁気バイアス
用磁石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線を少な
くともひとつ施してあることを特徴とするインダクタン
ス部品が得られる。

【００５８】なお、インダクタンス部品とは、コイル、
チョークコイル、トランス、その他一般に磁気コアと巻
き線とを必須とした部品を含むものとする。

【００５９】本発明は、前記課題を達成するべく挿入す
る永久磁石について検討した結果、磁石の比抵抗が１Ω
ｃｍ以上で、固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ以上の永久磁
石を使用するとき優れた直流重畳特性が得られ、しかも
コアロス特性の劣化が生じない磁気コアを形成できる事
を発見したものである。これは、優れた直流重畳特性を
得るのに必要な磁石特性はエネルギー積よりもむしろ固
有保磁力であり、従ってエネルギー積の低い永久磁石を
使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重畳特
性が得られる事を見出したことによる。

【００６０】比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石
は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混
合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力
の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能
である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅ
Ｂ系、ＳｍＦｅＮ系とある。

【００６１】チョークコイル用及びトランス用磁気コア
としては、軟磁気特性を有する材料であればなんでも有
効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェ
ライト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用
いられる。また、磁気コアの形状についても特に制限が
あるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコ
ア等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能であ
る。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャッ
プを設け、そのギャップに永久磁石を挿入配置する。

【００６２】ギャップ長に特に制限はないがギャップ長
が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が
広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入
するギャップ長は決まってくる。なお、磁気バイアス用
永久磁石の厚みは大きければバイアス効果を容易に得ら
れるが、磁気コアの小型化にとっては、磁気バイアス用
永久磁石は、薄いほどよい。しかしながら、５０μｍよ
り小さいと十分な磁気バイアスが得られない。したがっ
て、磁気バイアス用永久磁石を配置する磁気ギャップは
５０μｍ以上であることが必要であり、コア寸法を抑え
るという点からは、１００００μｍ以下が好ましい。

【００６３】次にギャップに挿入される永久磁石に対す
る要求特性は、固有保磁力については５ＫＯｅ以下では
磁気コアに印可される直流磁界によって保磁力が消失す
るのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は大
きいほど良いが１Ω・ｃｍ以上であればコアロス劣化の
大きな要因にはならない。また、粉末の平均最大粒径が
５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するので、粉
末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ましく、最小
粒径が２．０μｍ以下になると粉砕による粉末酸化によ
り磁化の減少が顕著になるため２．０μｍ以上の粒径が
必要で有る。

【００６４】またコイルの発熱による熱減磁の問題があ
るが、トランスの想定される最高使用温度は２００℃な
のでＴｃが３００℃以上であれば実質的に問題とはなら
ない。また、コアロスを増大させないため樹脂の量は少
なくとも体積比で２０％以上必要であり、耐酸化性を増
大させるための無機ガラスは軟化点が２５０℃以上であ
れば最高使用温度でもその被覆が破壊されることがな
く、一方５５０℃以下であればコーティング熱処理時の
粉末酸化の問題が顕著には現れない。また、無機ガラス
を添加することによって耐酸化性の効果があるが、添加
量が１０ｗｔ％を超えると非磁性物の量の増加により、
直流重畳特性の改善が小さくなるので、上限を１０ｗｔ
％とするのがよい。

【００６５】以下、本第２発明の実施の形態について、
説明する。

【００６６】（第３の実施の形態）ガラス粉末として、
軟化点が約３５０℃のＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ
（１）、軟化点が約４００℃のＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−Ｐｂ
Ｏ（２）、軟化点が約４５０℃のＢ２Ｏ３−ＰｂＯ、軟
化点が約５００℃のＫ_２Ｏ−ＳｉＯ_２−ＰｂＯ、軟化点
が約５５０℃のＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１）、軟
化点が約６００℃のＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ
（２）、の６種類のガラス粉末を用意した。各粉末は、
粒径が約３μｍであった。

【００６７】次にＳｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末として、イン
ゴットを粉砕して一般的な粉末冶金法で作製した焼結体
を２．３μｍに微粉砕したものを用意した。その磁石粉
末の磁気特性をＶＳＭで測定した結果は、保磁力ｉＨｃ
が約９ＫＯｅであった。

【００６８】この磁石粉末に前記した各々のガラス粉末
を１％混合し、ガラス粉末の軟化点よりも約５０℃高い
温度にてＡｒ中で熱処理することによって、磁石粉末の
表面をガラスにて被覆した。次にこうして被覆処理した
磁石粉末と、体積比で４５ｖｏｌ％の熱可塑性樹脂とし
て６ナイロンとを２軸式の熱混練機によって２２０℃に
て混練した。次に熱プレス機で成形温度２２０℃、圧力
０．０５ｔ／ｃｍ^２で高さ１．５ｍｍのシート状に無磁
場中で成形し、ボンド磁石を作製した。これらシート状
ボンド磁石の比抵抗は全て１Ωｃｍ以上の値を示した。
このシート状ボンド磁石は図１および図２に示すものと
同様のフェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に
加工した。

【００６９】ここでボンド磁石の磁石特性は、作製した
ボンド磁石のシートを必要枚数張り合わせる事により直
径φ１０ｍｍで厚みｔ１０ｍｍのテストピースを別途作
製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。その結果、全て
のボンド磁石について固有保磁力が約９ＫＯｅ得られて
いる事が分かった。

【００７０】フェライトコア３３は、一般的なＭｎＺｎ
系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断
面積０．７４ｃｍのＥＥコアで、その中央磁脚に１．５
ｍｍのギャップ加工を施した。そのギャップ部に、上記
作製したボンド磁石３１を着磁磁場４Ｔでパルス着磁
後、ガウスメーターで表面磁束を測定後、挿入配置し
た。次に、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレ
ーサーで１００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性
を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライトコ
アは、各ボンド磁石に対して、同一のものであり、被覆
されたガラスの種類だけが異なる磁石３１を交換して、
コアロスを測定した。その測定結果を、表４に、熱処理
前として示す。次に、それらボンド磁石をトランスの想
定される最高使用温度である２００℃の恒温槽に正味３
０分間保持し、上記と全く同様に表面磁束とコアロスを
測定し、表４に、熱処理後として示す。

【００７１】

【表４】

【００７２】表４から、被覆処理温度が６５０℃と６０
０℃のデータからわかるように、被覆処理温度が６００
℃を超えると表面磁束が小さくなる事がわかる。コアロ
スについてはどのガラス組成の被覆を用いた場合でも劣
化は見られなかった。従って、軟化点が６００℃を超え
るガラスについては被覆処理温度が高すぎて、磁石粉末
の酸化または被覆ガラス材との反応により磁石粉末の磁
化寄与分の減少が起こって減磁が生じたものと思われ
る。

【００７３】次に、コイル（図２の３５５で示す）に直
流磁界として８０（Ｏｅ）となる直流を重畳品から、交
流信号を印加して時のインダクタンスＬをＬＣＲメータ
ーで測定し、コア定数（寸法）とコイルの巻線数から透
磁率を計算した。その結果は、軟化点が３５０℃（Ｚｎ
Ｏ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１））〜５５０℃（ＳｉＯ_２−
Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（１））のガラス粉末を用いて被覆し
た磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置
したコアの透磁率は５０以上の値を示した。一方、比較
例として、磁気ギャップに磁石を挿入配置しない場合の
コアの透磁率、及び、軟化点が６００℃のガラス粉末
（ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ（２））で被覆した磁石
粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置したコ
アの透磁率は、いずれも１５と著しく低い値を示した。

【００７４】以上の結果より、ガラス粉末の軟化点が５
５０℃以下のガラス粉末で被覆した磁石粉末を用いたボ
ンド磁石であって、比抵抗が１Ω・ｃｍ以上の永久磁石
を磁気コアの磁気ギャップに挿入配置する時、直流重畳
特性に優れしかもコアロス特性の劣化が小さい優れた磁
気コアが得られる事が分かった。

【００７５】（第４の実施の形態）磁石粉末として還元
拡散法で作製されたＳｍＦｅ粉末を３μｍに微粉砕後、
窒化処理する事で得られたＳｍＦｅＮ粉末を用意した。
この磁石粉末の磁気特性をＶＳＭで測定した結果は、保
磁力ｉＨｃが約８ＫＯｅであった。

【００７６】次に、この磁石粉末と、軟化点が約３５０
℃の約３μｍのＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯガラス粉末
を、後者の重量比が、０．１、０．５、１．０、２．
５、５．０、７．５、１０、１２．５ｗｔ％となるよう
に、それぞれ、混合し、４００℃Ａｒ中で熱処理して、
磁石粉末にガラス被覆処理をした。次にこれらガラス被
覆処理をした磁石粉末に、バインダーとしてエポキシ樹
脂を体積比で３０ｖｏｌ％混合して、図１及び２に示す
フェライトコア３３の中央磁脚と同一の断面形状のシー
ト状に金型成形後、１５０℃で樹脂を硬化させ、ボンド
磁石を形成した。このボンド磁石の磁気特性は、テスト
ピースを別途作製し、第３の実施の形態と同様にして測
定した。その結果、各ボンド磁石は、磁石粉末に混合し
たガラス粉末の量によらず全て約８ＫＯｅの固有保磁力
を示した。また比抵抗を測定した結果、全てのボンド磁
石について１Ω・ｃｍ以上の値を示した。

【００７７】次に第３の実施の形態と全く同様にシート
状ボンド磁石を着磁して、その表面磁束を測定後、図１
および２に示すフェライトのＥＥコア３３の中央磁脚の
磁気ギャップに挟み込み、第３の実施の形態と同様に、
コイル３５に交流と直流を重畳して印加し、直流重畳特
性を測定した。

【００７８】さらに、第３の実施の形態と全く同様に２
００℃恒温槽に実質的に３０分間保持し、再度表面磁束
と直流重畳特性を測定した。その結果を表面磁束につい
ては表５に、直流重畳特性については表６に示す。

【００７９】

【表５】

【００８０】

【表６】

【００８１】表５および表６に示す通り、ガラス粉末の
添加量が実質的に０を超え１０ｗｔ％以下の時優れた特
性の耐酸化性の磁石が得られる事が分かる。

【００８２】以上に説明したように、本発明の第２発明
によれば、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有
する磁気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置す
る磁気バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ
以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末粒径が２．
０〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石と
し、その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末
と少なくとも体積比で２０％以上の樹脂からなる比抵抗
が１Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直
流重畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コア
を実現できる。

【００８３】次に本発明のさらにもう一つの発明につい
て説明する。

【００８４】本発明の第３発明では、ポリアミドイミド
樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレン
サルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、
芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーから選択された一種
類の樹脂に磁石粉末が分散されてなり、該樹脂含有量が
体積比で３０％以上で、全体の厚みが５００μｍ以下で
あることを特徴とする薄板磁石が得られる。

【００８５】ここで、前記磁石粉末は、固有保磁力が１
０ＫＯｅ以上、Ｔｃが５００℃以上、粉末平均粒径が
２．５〜５０μｍであることが好ましい。

【００８６】また、薄板磁石においては、前記磁石粉末
は、希土類磁石粉末であり、また、表面のグロス（光沢
度）が２５％以上であることが好ましい。

【００８７】また、薄板磁石においては、成形圧縮率が
２０％以上であることが好ましい。前記磁石粉末は、表
面活性剤でコーティングされている。

【００８８】又、本発明の薄板磁石において、比抵抗が
０．１Ω・ｃｍ以上あることが好ましい。

【００８９】又、本発明においては、磁路の少なくとも
１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャ
ップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギ
ャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石
を有する磁気コアにおいて、前記永久磁石が、前記した
薄板磁石である磁気バイアス用磁石を有する磁気コアで
ある。

【００９０】前記磁気ギャップは、約５００μｍ以下の
ギャップ長を有し、前記磁気バイアス用磁石は該ギャッ
プ長以下の厚みを有し、厚み方向に磁化されていること
が好ましい。

【００９１】更に又、本発明のインダクタンス部品は、
前記薄板磁石を磁気バイアス用磁石として備えた磁気コ
アに、１ターン以上の巻線を少なくともひとつ施して、
薄型で、直流重畳特性が良好で、コアロス低いインダク
タンス部品である。

【００９２】即ち、本発明においては、磁気コアの磁気
ギャップに挿入配置する磁気バイアス用の永久磁石とし
て、５００μｍ以下の厚みの薄板磁石の可能性について
検討した。その結果、特定樹脂の含有量が体積比で３０
％以上の薄板磁石の比抵抗が０．１Ω・ｃｍ以上で固有
保磁力が１０ＫＯｅ以上の薄板磁石を使用した時優れた
直流重畳特性が得られ、しかもコアロス特性の劣化が生
じない磁気コアを形成できる事を発見した。これは、優
れた直流重畳特性を得るのに必要な磁石特性は、エネル
ギー積よりもむしろ固有保磁力であり、従って比抵抗の
高い永久磁石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に
高い直流重畳特性が得られる事を見出したことによる。

【００９３】比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石
は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混
合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力
の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能
である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅ
Ｂ系、ＳｍＦｅＮ系とあるが、リフロー等の使用時の熱
減磁を考えるとキュリー点Ｔｃが５００℃以上、固有保
磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上の磁石が必要である。

【００９４】また、磁石粉末に表面活性材でコーティン
グすることにより成形体中での粉末の分散が良好となり
磁石の特性が向上するためさらに高特性の磁気コアが得
られる。

【００９５】チョークコイル用及びトランス用磁気コア
としては軟磁気特性を有する材料であればなんでも有効
であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェラ
イト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用い
られる。また、磁気コアの形状についても特に制限があ
るわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコア
等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能であ
る。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャッ
プを設け、そのギャップに薄板磁石を挿入配置する。ギ
ャップ長に特に制限はないがギャップ長が狭すぎると直
流重畳特性が劣化し、またギャップ長が広すぎると透磁
率が低下しすぎるので、おのずから挿入するギャップ長
は決まってくる。磁気コア全体の寸法を小さくするため
に、ギャップ長を５００μｍに抑える。

【００９６】次にギャップに挿入される薄板磁石に対す
る要求特性は、固有保磁力については１０ＫＯｅ以下で
は磁気コアに印可される直流重畳磁界によって保磁力が
消失するのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵
抗は大きいほど良いが０．１Ω・ｃｍ以上であればコア
ロス劣化の大きな要因にはならない。また、粉末の平均
最大粒径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化す
るので、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ま
しく、最小粒径が２．５μｍ以下になると粉末熱処理及
びリフロー時に粉末の酸化による磁化の減少が顕著にな
るため２．５μｍ以上の粒径が必要で有る。

【００９７】以下、本第３発明の実施の形態について説
明する。

【００９８】（第５の実施の形態）Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石
粉末とポリイミド樹脂を熱混練機としてラボプラストミ
ルを用いて熱混練を行った。樹脂量としては１５ｖｏｌ
％〜４０ｖｏｌ％で変化させそれぞれ混練した。熱混練
で得たものを熱プレス機で０．５ｍｍの薄板磁石の成形
を試みた。この結果、樹脂の添加量は３０ｖｏｌ％以上
でないと成形できないことがわかった。また、本実施の
形態ではポリイミド樹脂薄板磁石の結果を示したが、こ
れ以外のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹
脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリア
ミド、液晶ポリマーのそれぞれにおいても、同様の結果
が得られた。

【００９９】（第６の実施の形態）各磁石粉末と各種樹
脂とを、それぞれ、下の表７に示す組成でラボプラスト
ミルを用いて熱混練を行った。ラボプラストミルの運転
時の設定温度は各樹脂の軟化点よりもそれぞれ５℃高い
温度とした。

【０１００】

【表７】

【０１０１】ラボプラストミルで混練したものを、熱プ
レス機で無磁場中で金型成形する事によりそれぞれ０．
５ｍｍの薄板磁石を作製した。この薄板磁石を図１，図
２に示すＥ型フェライトコア３３の中央磁脚と同一断面
形状に切断した。

【０１０２】次に、図１，図２に示すように、一般的な
ＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃ
ｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコアの中央磁脚に
０．５ｍｍのギャップ加工をした。そのギャップ部に上
記作製した薄板磁石３１を挿入配置して、磁気バイアス
磁石３１を有する磁気コアを作製した。同図において、
３１が薄板磁石、３３がフェライトコアである。次に、
磁石３１を、パルス着磁機でコア３３の磁路方向に着磁
後、コア３３にコイル３５を巻き線し、ＨＰ製−４２８
４ＬＣＲメーターで、交流磁場周波数１００ｋＨｚ、重
畳磁場０〜２００Ｏｅの条件で、インダクタンスＬを測
定した。この測定後、２７０℃でリフロー炉で３０分保
持した後、インダクタンスＬを再び測定し、この繰り返
しで５回測定した。この時の直流重畳による磁界の向き
が、磁気バイアス磁石の磁化の向きとは逆になるように
直流重畳電流を印可する。得られたインダクタンスＬ
と、コア定数（コア寸法等）と巻線数から透磁率を計算
して、直流重畳特性を得た。各コアの５回の測定に基づ
く直流重畳特性を図３〜図７に示す。

【０１０３】図７から、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末をポリ
プロピレン樹脂に分散した薄板磁石を挿入配置したコア
は２回目以降直流重畳特性が大きく劣化していることが
わかる。これは、リフローで薄板磁石が変形してしまっ
た為である。保磁力が４ｋＯｅしかないＢａフェライト
をポリイミド樹脂に分散した薄板磁石を挿入配置したコ
アでは、図６に見られるように、測定回数がすすむにつ
れ、直流重畳特性が大きく劣化することがわかる。逆
に、保磁力が１０ｋＯｅ以上の磁石粉末とポリイミドあ
るいはエポキシ樹脂とを用いた薄板磁石を挿入配置した
コアは、図３〜８に見られる通り、繰り返しの測定にお
いても大きな変化は無く、非常に安定した特性を示すこ
とが分かる。これらの結果よりＢａフェライト薄板磁石
は保磁力が小さいために、薄板磁石に印可される逆向き
の磁界によって減磁、または磁化の反転が起こり、直流
重畳特性が劣化したものと推測できる。また、コアに挿
入する薄板磁石は保磁力が１０ｋＯｅ以上の薄板磁石に
おいて優れた直流重畳特性を示すことが分かった。ま
た、本実施の形態では示さなかったが、本実施の形態以
外の組み合わせでもポリフェニレンサルファイト樹脂、
シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミ
ド、液晶ポリマーから選択した樹脂で作製した薄板磁石
においても同様の効果が得られることを確認した。

【０１０４】（第７の実施の形態）ポリフェニレンサル
ファイト樹脂３０ｖｏｌ％と、磁石粉末の粒径が１．０
μｍ、２．０μｍ、２５μｍ、５０μｍ、５５μｍのＳ
ｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末とを、それぞれ、ラボプラストミ
ルを用いて熱混練を行った。ラボプラストミルで混練し
たものを、熱プレス機により無磁場中で金型成形する事
によりそれぞれ０．５ｍｍの薄板磁石を作製した。次
に、第６の実施の形態と同様に、図１及び図２に示すよ
うに、この薄板磁石３１をＥ型フェライトコア３３の中
央磁脚と同一断面形状に切断し、図１及び図２に示すよ
うなコアを作製した。次に、薄板磁石３１を、パルス着
磁機でコア３３の磁路方向に着磁後、コア４５にコイル
４７を巻き線し、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流Ｂ
Ｈトレーサーで、３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコア
ロス特性を室温で測定した。その測定結果を表８に示
す。表８より薄板磁石に用いる磁石の粉末平均粒径が
２．５〜５０μｍではコアロス特性が優れていることが
わかった。

【０１０５】

【表８】

【０１０６】（第８の実施の形態）Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石
粉末６０ｖｏｌ％とポリイミド樹脂４０ｖｏｌ％とをラ
ボプラストミルを用いてそれぞれ熱混練を行った。熱混
練で得たものを熱プレス機でプレス圧を変化させ０．３
ｍｍの成形体を作製し、パルス着磁装置で４Ｔで着磁を
行い、薄板磁石を作製した。作製した薄板磁石のグロス
（光沢度）は、それぞれ１５％〜３３％でプレス圧が高
いほどグロスも高い値を示した。これらの成形体を１ｃ
ｍ×１ｃｍに切断を行い、ＴＯＥＩＴＤＦ−５Ｄｉ
ｇｉｔａｌＦｌｕｘｍｅｔｅｒでフラックスを測定した
結果とグロスの測定結果を表９に並べて示す。

【０１０７】

【表９】

【０１０８】表９の結果から、グロスが２５％以上の薄
板磁石では磁石特性が優れている。これは、作製した薄
板磁石のグロスが２５％以上では薄板磁石の充填率が９
０％以上となるためである。また、本実施の形態ではポ
リイミド樹脂で実験を行った結果を示したが、これ以外
のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹脂、シ
リコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、
液晶ポリマーから選択された一種類の樹脂でも同様の結
果が得られた。

【０１０９】（第９の実施の形態）乾燥後の体積比がＳ
ｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末６０ｖｏｌ％、ポリイミド樹脂４
０ｖｏｌ％となるように、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末と新
日本理化製リカコート（ポリイミド樹脂）に、溶剤とし
てγ−ブチロラクトンを加えて、円心脱泡機で５分攪拌
後、３本ロールで混練を行ってペーストを作製した。溶
剤の配合比は、Ｓｍ _２Ｃｏ_１７磁石粉末と新日本理化製
リカコートを合わせて７０重量部に対してγ−ブチロラ
クトンを１０重量部とした。作製したペーストをドクタ
ーブレード法により５００μｍのグリーンシートを作製
し乾燥を行った。乾燥させたグリーンシートを１ｃｍ×
１ｃｍに切断し、プレス圧を変化させ熱プレス機で熱プ
レスを行い、作製した成形体をパルス着磁装置で４Ｔで
着磁を行い、薄板磁石を作製した。比較として、熱プレ
スを行っていない成形体も着磁して薄板磁石にした。ま
た、今回は上記の配合比で作製したが、これ以外の成
分、配合比でも、グリーンシート作製可能なペーストが
得られるものであれば良い。また、混練のために三本ロ
ールミルを用いたが、これ以外にもホモジナイザーやサ
ンドミル等を用いても良い。作製した薄板磁石のグロス
（光沢度）は、それぞれ９％〜２８％でプレス圧が高い
ほどグロスも高い値を示した。これらの薄板磁石のフラ
ックスをＴＯＥＩＴＤＦ−５ＤｉｇｉｔａｌＦｌ
ｕｘｍｅｔｅｒで測定した結果を表１０に示す。また、
この時の薄板磁石の熱プレスによる圧縮率（＝１−熱プ
レス後の厚さ／熱プレス前の厚さ）を測定した結果も並
べて示す。

【０１１０】

【表１０】

【０１１１】以上の結果から、第８の実施の形態と同様
に、グロスが２５％以上では良好な磁石特性が得られ
る。この理由もグロス２５％以上では薄板磁石の充填率
が９０％以上となるためである。また、圧縮率について
みると圧縮率２０％以上で良好な磁石特性が得られるこ
とがわかった。

【０１１２】本実施の形態ではポリイミド樹脂で上記組
成、配合比で実験を行った結果を示したが、これ以外の
これ以外のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト
樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリ
アミド、液晶ポリマーから選択された一種類の樹脂及び
配合比、においても同様の結果が得られた。

【０１１３】（第１０の実施の形態）Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁
石粉末と、界面活性剤としてリン酸ナトリウムを０．５
ｗｔ％とを混合した。同様にして、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石
粉末と、カルボキシメチルセルロースナトリウム０．５
ｗｔ％とを混合、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末と珪酸ナトリ
ウムとを、それぞれ混合した。これら混合した粉末の、
それぞれ、６５ｖｏｌ％と、ポリフェニルサルファイト
樹脂３５ｖｏｌ％とをラボプラストミルを用いてそれぞ
れ熱混練を行った。ラボプラストミルで混練したものを
熱プレスにより０．５ｍｍに成型し、第６の実施の形態
と同一の、図１及び図２に示すＥ型フェライトコア３３
の中央磁脚と同一断面形状に切断し、ＥＥコア３３の中
央磁脚ギャップ部に上記作製した薄板磁石３１を挿入配
置し、図１及び図２に示すコアを作製した。次に、この
薄板磁石３１をパルス着磁機でコア３３の磁路方向に着
磁後、コア３３にコイル３５を巻き線し、岩崎通信機製
のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーにて、３００ＫＨ
ｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。
その測定結果を表１１に示す。比較として、界面活性剤
を用いずに、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末６５ｖｏｌ％とポ
リフェニルサルファイト樹脂３５ｖｏｌ％とをラボプラ
ストミルで混練したものを熱プレスにより０．５ｍｍに
成型し、上記と同じフェライトＥＥコアの中央磁脚の磁
気ギャップ中に挿入配置し、これをパルス着磁機でコア
の磁路方向に着磁後に、コイルを巻き線し、コアロスを
測定した。その結果も表１１に並べて示す。

【０１１４】

【表１１】

【０１１５】表１１より界面活性剤を添加したものは良
好なコアロス特性を示している。これは、界面活性剤を
添加することにより、１次粒子の凝集を防止し、渦電流
損を抑制したためである。本実施の形態ではリン酸塩を
添加した結果を示したがこれ以外の界面活性剤を添加し
ても同様に、コアロス特性が良好である結果が得られ
た。

【０１１６】（第１１の実施の形態）Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁
石粉末とポリイミド樹脂とをラボプラストミルで熱混練
した後、熱プレス機で無磁場中でプレス成形する事によ
り厚さ０．５ｍｍの薄板磁石を作製した。ここでポリイ
ミド樹脂の樹脂量を調節する事により、比抵抗が各々
０．０５、０．１、０．２、０．５、１．０Ω・ｃｍの
薄板磁石を作製した。その後、第６の実施の形態と同様
に、図１及び図２のＥ型フェライトコア４５の中央磁脚
と同一断面形状に加工した。次にこのＭｎＺｎ系フェラ
イト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断面積０．
７４ｃｍのＥＥコア４５の中央磁脚の磁気ギャップに上
記作製した薄板磁石３１を挿入配置し、電磁石で磁路方
向に着磁後、コイル３５を巻き線し、岩崎通信機製のＳ
Ｙ−８２３２交流ＢＨトレーサーで、３００ＫＨｚ、
０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。ここ
で測定に使用したフェライトコアは同一のものであり、
磁石だけを比抵抗の異なるものと交換して、コアロスを
測定したその結果を表１２に示す。

【０１１７】

【表１２】

【０１１８】表１２より比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上の磁
気コアでは良好なコアロス特性を示していることがわか
る。これは、薄板磁石の比抵抗をあげることにより渦電
流損失を抑制できるためである。

【０１１９】（第１２の実施の形態）各種磁石粉末と各
種樹脂とを各々表１３に示す組成で、以下の記載した方
法で混練、成形、加工して厚さ０．５ｍｍの試料を作製
した。ここでＳｍ_２Ｃｏ_１７系紛末とフェライト紛末は
焼結体の粉砕粉末であり、Ｓｍ_２Ｆｅ_１７Ｎ紛末は還元
拡散法で作製したＳｍ_２Ｆｅ_１７紛末を窒化処理した紛
末であり、各粉末は平均粒径で約５μｍであった。芳香
族系ポリアミド樹脂（６Ｔナイロン）とポリプロピレン
樹脂はラボプラストミルを用いてＡｒ中３００℃（ポリ
アミド）、２５０℃（ポリプロピレン）で熱混練後、熱
プレス機で成形し試料を作製した。可溶性ポリイミド樹
脂は溶剤としてγ−ブチロラクトンを加えて遠心脱泡機
で５分間攪拌してペーストを作製後、ドクターブレード
法により出来あがりが５００μｍになるようにグリーン
シートを作製し、乾燥後、熱プレスによって試料を作製
した。エポキシ樹脂はビーカーで攪拌混合後金型成形し
適当なキュア条件により試料を作製した。これら試料の
比抵抗は全て０．１Ωｃｍ以上であった。

【０１２０】この薄板磁石を以下に説明するフェライト
コアの中芯断面形状に切断した。コアは一般的なＭｎＺ
ｎ系フェライト材で作製された磁路長５．９ｃｍ、実効
断面積０．７４ｃｍのＥＥコアであり中芯には０．５ｍ
ｍのギャップ加工をした。そのギャップ部に上記作製し
た薄板磁石を挿入し、図１及び図２に示すように配置し
た（３１が薄板磁石、３３がフェライトコア、３５は巻
き線部）。

【０１２１】次にパルス着磁機で磁路方向に着磁後、Ｈ
ｅｗｌｅｔＰａｃｋａｒｄ製ＨＰ−４２８４ＡＬＣ
Ｒメーターで直流重畳特性を交流磁場周波数１００ＫＨ
ｚ、直流重畳磁場３５Ｏｅの実効透磁率を測定した。

【０１２２】次にこれらコアを２７０℃のリフロー炉で
３０分間保持した後、再び直流重畳特性を全く同じ条件
で測定した。

【０１２３】比較例として、ギャップに磁石を挿入しな
いものについても同様に測定し、これはリフロー前後で
特性の変化はなく、実効透磁率μｅは７０であった。

【０１２４】これらの結果を表１３に、また結果の１例
として図７に試料とと比較例との直流重畳特性を示
す。また直流バイアス磁界の向きは、挿入時に着磁した
磁石の磁化の向きとは逆になるように重畳電流を印可す
るのはもちろんのことである。

【０１２５】なおポリプロピレン樹脂の薄板磁石を挿入
したコアは、磁石が著しく変形したため測定出来なかっ
た。

【０１２６】保磁力が４ＫＯｅしかないＢａフェライト
の薄板磁石を挿入したコアではリフロー後、直流重畳特
性が大きく劣化することがわかる。またＳｍ_２Ｆｅ_１７
Ｎの薄板磁石を挿入したコアでもリフロー後、直流重畳
特性が大きく劣化することがわかる。逆に、保磁力が１
０ＫＯｅ以上でＴｃが７７０℃と高いＳｍ_２Ｃｏ_１７の
薄板磁石を挿入したコアは、特性の劣化が認められず、
非常に安定した特性を示すことが分かる。

【０１２７】これらの結果よりＢａフェライト薄板磁石
は保磁力が小さいために、薄板磁石に印可される逆向き
の磁界によって減磁、または磁化の反転が起こり、直流
重畳特性が劣化したものと推測でき、またＳｍＦｅＮ磁
石は保磁力が高いもののＴｃが４７０℃と低いために熱
減磁が生じ、それに逆向きの磁界による減磁の相乗効果
により特性が劣化したと推測される。従って、コアに挿
入する薄板磁石は保磁力が１０ＫＯｅ以上でＴｃが５０
０℃以上の薄板磁石において優れた直流重畳特性を示す
ことが分かった。

【０１２８】また、本実施の形態では示さなかったが、
本実施の形態以外の組み合わせでも、請求の範囲で示し
た樹脂で作製した薄板磁石においても同様の効果が得ら
れることを確認した。

【０１２９】

【表１３】

【０１３０】（第１３の実施の形態）第１２の実施の形
態と全く同じＳｍ_２Ｃｏ_１７系磁石粉末（ｉＨｃ＝１５
ｋＯｅ）と可溶性ポリアミドイミド樹脂（東洋紡バイロ
マックス）を加圧ニーダーで混練後、プラネタリーミキ
サーで希釈混練したものを遠心脱泡機で５分間攪拌して
ペーストを作製した。ペーストはドクターブレード法に
より乾燥後の厚みが約５００μｍになるようにグリーン
シートを作製し、乾燥後、熱プレス、次に厚さ０．５ｍ
ｍに加工し、薄板磁石試料とした。ここでポリアミドイ
ミド樹脂の樹脂量は、比抵抗が各々０．０６、０．１、
０．２、０．５、１．０Ω・ｃｍとなるように表１４の
とおりに調製した。これらの薄板磁石を第５の実施の形
態と全く同じコアの中芯断面形状に切断し、測定試料と
した。

【０１３１】次に、第１２の実施の形態と全く同じ０．
５ｍｍのギャップ長を有するＥＥコアに上記作製した薄
板磁石を挿入し、パルス着磁機で磁石を着磁した。これ
らのコアについて、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流
ＢＨトレーサーを用いて３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけ
るコアロス特性を室温で測定した。ここで測定に使用し
たフェライトコアは同一のものであり、比抵抗の異なる
磁石だけを交換、挿入し再びパルス着磁機で着磁後コア
ロス特性を測定した。

【０１３２】その結果を表１４に示す。比較例として、
全く同じギャップ付のＥＥコアの、同じ測定条件でのコ
アロス特性は５２０（ＫＷ／ｍ^３）であった。表１４か
ら、比抵抗０．１Ωｃｍ以上の磁気コアで良好なコアロ
ス特性を示している。これは薄板磁石の比抵抗をあげる
と渦電流損失を抑制できるためと推測される。

【０１３３】

【表１４】

【０１３４】（第１４の実施の形態）Ｓｍ（Ｃｏ
_{０．７４２}Ｆｅ_０．２０Ｃｕ_{０．０５５}Ｚ
ｒ_{０．０２９}）_７．７組成の焼結磁石（ｉＨｃ＝１５Ｋ
Ｏｅ）から、粉砕時間を変えて平均粒径の異なるものを
用意し、次に径の異なるふるいを通じで最大粒径を調整
した。

【０１３５】乾燥後の体積比がＳｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末
６０ｖｏ１％とポリイミド樹脂４０ｖｏｌ％となるよう
に、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化製リカコート
（ポリイミド樹脂）に溶剤としてγ−ブチロラクトンを
加えて円心脱泡機で５分攪拌してペーストを作製した。
溶剤の配合比は、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化
製リカコートを合わせて７０重量部に対してγ−ブチロ
ラクトンを１０重量部とした。作製したペーストをドク
クーブレード法により５００μｍのグリーーンシートを
作製し乾燥、熱プレスを行った。これをフェライトコア
の中芯形状に切断後、パルス着磁装置を使用して４Ｔで
着磁を行い、薄板磁石を作製した。これらの薄板磁石の
フラックスをＴＯＥＩＴＤＦ−５Ｄｉｇｉｔａｌ
Ｆｌｕｘｍｅｔｅｒで測定した結果を表１５に示す。
さらに第１２の実施の形態と同様にフェライトコアには
さんで直流重畳特性を測定し、次にバイアス量を測定し
た。バイアス量は透磁率と重畳磁界の大きさの積で求め
た。

【０１３６】

【表１５】

【０１３７】平均粒径が２．１μｍの試料はフラック
スが低下しており、バイアス量が小さい。これは作製工
程中で磁石粉末の酸化が進行しているためと考えられ
る。また平均粒径が大きい試料は、粉末充填率が低い
ためフラックスが低く、また磁石の表面粗さが粗いた
め、コアとの密着性が悪くパーミアンス係数が低下する
ため、バイアス量が低下していると考えられる。また、
粒径が小さいものでも、プレス圧が充分でなく表面粗さ
の大きい試料は、粉末の充填率が低いためフラックス
が低下しており、バイアス量が小さい。また粗大粒が混
ざっている試料は表面粗さが粗いため、バイアス量が
低下していると考えられる。

【０１３８】これらの結果より、磁性粉の平均粒径が２
５μｍ以上で、かつ最大粒径が５０μｍであり、中心線
平均粗さが１０μｍ以下の薄板磁石を挿入したとき、薄
板磁石そ挿入したときに、優れた直流重畳特性を示すこ
とがわかった。

【０１３９】（第１５の実施の形態）Ｓｍ_２Ｃｏ_１７系
でＺｒ量が０．０１ａｔ％で組成がＳｍ（Ｃｏ_０．７８
Ｆｅ _０．１１Ｃｕ_０．１０Ｚｒ_０．０１）_８．２の俗に
第２世代Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石と呼ばれる組成のインゴッ
トを粗粉砕後に熱処理した磁石紛末と、Ｚｒ量が０．０
２９ａｔ％で組成がＳｍ（Ｃｏ_{０．０７４２}Ｆｅ
_０．２０Ｃｕ_{０．０５５}Ｚｒ _{０．０２９}）_８．２の俗に
第３世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石と呼ばれる組成のインゴツ
ドを粗粉砕後に熱処理した磁石粉末を用いた。上記第２
世代Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末は８００℃で１．５Ｈｒの
時効熱処理を行い、第３世代Ｓｍ_２Ｃｏ_１７磁石は８０
０℃で１０Ｈｒの時効熱処理を行った。これによってＶ
ＳＭで測定された磁石粉末の保磁力は、第２世代か８Ｋ
Ｏｅで第３世代が２０ＫＯｅであった。これらの粗粉砕
粉末を、有機溶媒中でボールミルにより平均粒径５．２
μｍに微粉砕し、さらに目開き４５μｍの篩を通し、磁
石粉末を得た。次にこれら作製した磁石粉末にそれぞれ
バインダーとしてエポキシ樹脂を３５ｖｏ１％混合し、
第１２の実施の形態と全く同しＥＥコアの中芯形状と厚
み０．５ｍｍのボンド磁石を金型成形により作製した。
ここで磁石特注はφ１０×ｔ１０のテストピースを別途
作製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。

【０１４０】保磁力は粗粉砕粉末とほほ同様の値であっ
た。次にこれら磁石を第１２の実施の形態と全く同じＥ
Ｅコアに挿入後、パルス着磁、巻き線後、ＬＣＲメータ
で４０Ｏｅ直流重畳時の１００ＫＨｚにおける実効透磁
率を測定した。次に、これらコアをリフロー炉の条件で
ある２７０℃の恒温槽で１Ｈｒ保持した後、上記と同様
に直流重畳特性を測定した。その結果も表１６に示す。

【０１４１】

【表１６】

【０１４２】表１６より保磁力の高い第３世代Ｓｍ_２Ｃ
ｏ_１７磁石粉末を使用した場合、リフロー後も良好な直
流重畳特性が得られることがわかった。なお、Ｓｍと遷
移金属の比で保磁力のピークを有することが知られてい
るが、この最適値の組成比は合金に含有される酸素量に
よって変動することが知られており、焼結体は７．０〜
８．０でインゴットは８．０〜８．５の間で変動するこ
とを確認している。以上より組成が第３世代であるＳｍ
（Ｃｏ_ｂａｌ．Ｆｅ_{０．１５−０．２５}Ｃｕ_０
_{．０５−０．０６}Ｚｒ_{０．０２−０．０３}）
_{７．０−８．５}でリフロー条件でも直流重畳特性が良好
であることがわかった。

【０１４３】（第１６の実施の形態）第１４の実施の形
態の試料で作製した、組成がＳｍ（Ｃｏ_{０．７４２}Ｆ
ｅ_０ _．２０Ｃｕ_{０．０５５}Ｚｒ_{０．０２９}）_７．７で粒
径が平均で５μｍ、最大粒径で４５μｍの磁石紛末を用
いた。その磁石粉末の表面にＺｎ、無機ガラス（ＺｎＯ
−Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ）軟化点４００℃、Ｚｎ後更に無機
ガラス（ＺｎＯ‐Ｂ_２Ｏ_３−ＰｂＯ）を被覆した薄板磁
石を第１３の実施の形態の試料と全く同様の方法で作
製し、それを挿入したＭｎ‐Ｚｎ系フェライトコアの直
流重畳特性は第１２の実施の形態と全く同様に測定後バ
イアス量を求め、コアロス特性は第１３の実施の形態と
全く同様の方法で測定し、比較を行った結果を表１７に
示す。

【０１４４】ここでＺｎは磁石粉末と混合後、５００
℃，Ａｒ雰囲気下で２時間熱処理を施した。ＺｎＯ−Ｂ
_２Ｏ_３−ＰｂＯは熱処理温度が４５０℃以外は全く同じ
方法で熱処理した。一方、複合層を形成するためには始
めにＺｎと磁石粉末とを混合し５００℃で熱処理し、こ
こで一旦炉から取り出してこの粉末とＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３
−ＰｂＯ粉末を混合後、４５０℃で熱処理する。これら
紛末は総体積の４５ｖｏｌ％に当たる量のバインター
（エポキシ樹脂）を混合した後、無磁場中で金型成形を
行った。成形体は第１２の実施の形態と全く同じフェラ
イトコアの中芯断面形状でかつ高さ０．５ｍｍでありコ
アに挿入後約１０Ｔのパルス磁場で着磁して、第１２の
実施の形態と同じ方法で直流重畳特性と第１３の実施の
形態と同じ方法でコアロス特性とを測定した。次にこれ
らコアを２７０℃の恒温糟で３０分間保持した後、同様
に直流重畳特性、コアロス特性を測定した。比較例とし
て被覆していない粉末でも全く同じ方法で成形体を作製
後、特性を測定した結果も表１７に示す。

【０１４５】未被覆のものは熱処理により大きく直流重
畳特性、コアロス特性が劣化するが、Ｚｎ、無機ガラ
ス、及びその複合体を被覆したものは未被覆のものに比
へ、熱処理における劣化率は非常に小さいことが分か
る。これは被覆により磁石粉末の酸化が抑制されたため
と推測できる。

【０１４６】また被覆材を１０ｖｏ１％以上混合したも
のについては実効透磁挙が低く、磁石によるバイアス磁
界の大きさが他のものに比へ非常に小さくなっているこ
とか分かる。これは被覆材の量が増大したために、磁石
粉末の割合が減少したため、もしくは磁石粉末と被覆材
が反応し磁化の大きさが減少したためと考えられる。従
って被覆する量は０．１〜１０ｗｔ％の範囲で非常に優
れた特性を示すことが分かった。

【０１４７】

【表１７】

【０１４８】（第１７の実施の形態）第１４の実施の形
態の試料のＳｍ_２Ｃｏ_１７磁石劾末を用い、バインダ
ーとしてエポキシ樹脂を５０ｖｏ１％混合した後、２Ｔ
の磁場中で中足上下方向に金型成形し異方性の磁石を作
製した。また、比較例として無磁場中で金型成形したも
のも同様に作製した。次にこれらの各ボンド磁石を第１
２の実施の形態と同様にＭｎＺｎ系フェライト材に挿入
し、パルス着磁、巻き線を施し、ＬＣＲメーターで直流
重畳特性を測定し、コア定数と巻線数から透磁率を計算
した。その結果を表１８に示す。

【０１４９】また、測定が終わった試料をリフローの条
件である２７０℃の恒温糟で１Ｈｒ保持し常温まで冷却
し上記と同様にＬＣＲメーターて直流重畳特注を測定し
た。その結果も表１８に示す。

【０１５０】表１８よりリフロー前後とも無磁場磁石に
比べ良好な結果が得られることがわかった。

【０１５１】

【表１８】

【０１５２】（第１８の実施の形態）第１４の実施の形
態の試料のＳｍ_２Ｃｏ_１７磁石粉末を用い、バインダ
ーとしてエポキシ樹脂を５０ｖｏ１％混合した後、無磁
場中で金型成形し０．５ｍｍ厚の磁石を作製したところ
までは第２０の実施の形態と全く同じである。次に第１
２の実施の形態と同様にＭｎＺｎ系フェライト材に挿入
し着磁を行った。このときの磁場を１Ｔ、２Ｔ、２５
Ｔ、３Ｔ、５Ｔ、１０Ｔで着磁を行った。１Ｔ、２Ｔ、
２５Ｔは、電磁石で着磁し、３Ｔ、５Ｔ、１０Ｔはパル
ス着磁機で着磁した。その後、ＬＣＲメーターで直流重
畳物性を測定し、コア定数と巻線数から透磁率を計算し
た。その結果から第１７の実施の形態で求めた方法でバ
イアス量を求めその結果を図９に示す。

【０１５３】図９より２５Ｔ以上でないと良好な重畳特
性が得られないことがわかった。

【０１５４】（第１９の実施の形態）図１０及び図１１
を参照すると、本発明の第１９の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品において、使用する
コア３９は、ＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長
２．４６、実効断面積０．３９４ｃｍ_２のＥＥ型磁芯を
形成する。図１１のように、Ｅ型コア３９に、モールド
コイル（樹脂封止された巻線（巻回数４ターン））４１
を組み込んだ後、さらにＥ型コア３９の中脚断面積と同
形状に加工された、厚み０．１６ｍｍの薄板磁石４３
を、コアキャップ部に配置して、もう片側のコア３９に
より挾みこんでインダクタンス部品として機能するもの
である。

【０１５５】薄型磁石４３の着磁方向は、モールドコイ
ルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。

【０１５６】薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダ
クタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合
の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図１２
の４５（前者）と４７（後者）に示す。

【０１５７】またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に
通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定
し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認
した。

【０１５８】（第２０の実施の形態）図１３及び図１４
を参照すると、本発明の第２０の実施の形態において、
使用するコアは第１９の実施の形態と同様、ＭｎＺｎ系
フェライト材で作製され磁路長２．４６ｃｍ、実効断面
積０．３９４ｃｍの磁芯を形成するが、ＥＩ型磁芯を形
成してインダクタンス部品として機能する。組立工程も
第１９の実施の形態と同様であるが、片側のフェライト
コア５３の形状は、Ｉ型である。

【０１５９】薄型磁石を適用した直流重畳インダクタン
ス特性、及びリフロー炉に通した後の直流重畳インダク
タンス特性は、第１９の実施の形態と変化はない。

【０１６０】（第２１の実施の形態）図１５及び図１６
を参照すると、本発明の第２１の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品においては、使用す
るコア６５はＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長
０．０２ｍ、実効断面積５×１０^−６ｃｍのＵＵ型磁芯
を形成する。図１６のように、ボビン６３にコイル６７
を巻回し、一対のＵ型コア６５を組み込む際、Ｕ型コア
６５の断面積（接合部）と同形状に加工された、厚み０
２ｍｍの薄板磁石６９を、コアギャップ部に配置する。
これにより、透磁率４×１０^−３Ｈ／ｍのインダクタン
ス部品として機能するものである。

【０１６１】薄型磁石６９の着磁方向は、コイルが作る
磁界と逆向きに着磁されているものとする。

【０１６２】薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダ
クタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合
の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図１７
の７１（前者）と７３（後者）に示す。

【０１６３】上記直流重畳インダクタンス特性の結果
は、一般に磁芯を形成するコアの使用磁束密度（△Ｂ）
の拡大を示していることと等価であり（図１８により補
足，図１８の７５は従来のインダクタンス部品に対する
コアの使用領域を示し、図１８の７７は本発明による薄
板磁石を連用したインダクタンス部品のコアの使用領域
を示す。これらの図は、前記直流重畳インダクタンス特
性の結果７１と７７と７３と７５の各々対応する）イン
ダクタンス部品の一般的な理論式は次の数１式により表
わされる。

【０１６４】

【数１】

【０１６５】この数１式より、前記使用磁束密度（△
Ｂ）拡大の効果は、巻回数Ｎと磁芯の実効断面積Ａｅの
逆数に比例し、前者はインダクタンス部品の巻回数を減
らすことで銅損失低減の効果とインダクタンス部品の小
型化をもたらし、後者は、磁芯を形成するコアの小型化
に寄与して、前記巻回数低減による小型化と併せて、イ
ンダクタンス部品の小型化に大きく寄与することか明ら
かである。トランスにおいては一次及び二次コイル巻回
数を低減できるため、その効果は絶大である。

【０１６６】さらに出力電力に関する式を数２式に示す
が、この式から使用磁束密度（△Ｂ）拡大効果は、出力
電力拡大の効果にも作用していることが言える。

【０１６７】

【数２】

【０１６８】また、インダクタンス部品の信頼性に関
し、リフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上
記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結
果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。

【０１６９】（第２２の実施の形態）図１９及び図２０
を参照すると、本発明の第２２の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品では、使用するコア
は第２１の実施の形態と同様、ＭｎＺｎ系フェライト材
で作製され磁路長０．０２ｍ、実効断面積５×１０⁻ ^６
ｍ^２の磁芯を形成するか、ＵＩ型磁芯を形成してインダ
クタンス部品として機能する。図２０のように、ボビン
８５にコイル８３を巻回し、Ｉ型コア８７をボビン８５
に組み込んだ後、Ｕ型コア８９の断面積（接合部）と同
形状に加工された、厚み０．１ｍｍの薄板磁石９１を、
コイルを巻回したボビンの両翼部（Ｉ型コア８７がボビ
ンからはみ出す部分）に各１枚（両翼で２枚）づつ配置
して、Ｕ型コア８９を組み込んで完成する。

【０１７０】薄型磁石を適用した直流重畳インダクタン
ス特性、及びリフロー炉投入後の直流重畳インダクタン
ス特性は、第２１の実施の形態と変化はない。

【０１７１】（第２３の実施の形態）図２１及び図２２
を参照すると、本発明の第２３の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品においては、使用す
る４本のＩ型コア９５は珪素鋼で作製され、磁路長０．
２ｍ、実効断面積１×１０^−４ｍ^２の口の字型磁芯を形
成する。図２１のように、絶縁紙９７を備えた２つのコ
イル９９に、各１本ずつＩ型コア９５を挿入し、口の字
の磁路を形成するように、もう２本のＩ型コア９５を組
む。その接合部に本発明による薄板磁石１２３を配置し
て、透磁率２×１０^−２Ｈ／ｍの口の字型の磁路を形成
してインダクタンス部品として機能する。

【０１７２】薄型磁石１０１の着磁方向は、コイルが作
る磁界と逆向きに着磁されているものとする。

【０１７３】薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダ
クタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合
の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図２３
の１１０３（前者）と１０５（後者）に示す。

【０１７４】上記直流重畳インダクタンス特性の結果
は、一般に磁芯を形成するコアの使用磁束密度（△Ｂ）
の拡大を示していることと等価であり（図２４により補
足，図２４の１０７は従来のインダクタンス部品に対す
るコアの使用領域を示し、図２４の１０９は本発明によ
る薄板磁石を適用したインダクタンス部品のコアの使用
領域を示す。これらの図は、前記直流重畳インダクタン
ス特性の結果１０３と１０５、１０９と１０７の各々対
応する）、インダクタンス部品の一般的な理論式は次の
数３式により表わされる。

【０１７５】

【数３】

【０１７６】この数３式より、前記使用磁束密度（△
Ｂ）拡大の効果は、巻回数Ｎと磁芯の実効断面積Ａｅの
逆数に比例し、前者はインダクタンス部品の巻回数を減
らすことで銅損失低減の効果とインダクタンス部品の小
型化をもたらし、後者は、磁芯を形成するコアの小型化
に寄与して、前記巻回数低減による小型化と併せて、イ
ンダクタンス部品の小型化に大きく寄与することか明ら
かである。トランスにおいては一次及び二次コイル巻回
数を低減できるため、その効果は絶大である。

【０１７７】さらに出力電力に関する式を数４式に示す
が、この式から使用磁束密度（△Ｂ）拡大効果は、出力
電力拡大の効果にも作用していることが言える。

【０１７８】

【数４】

【０１７９】また、インダクタンス部品の信頼性に関
し、リフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上
記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結
果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。

【０１８０】（第２４の実施の形態）図２５及び図２６
を参照すると、本発明の第２４の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品においては、凹状の
くぼみを有する口の字型コア１１３とＩ型コア１１５、
コイル１１７が巻線されたボビン１１９及び薄板磁石１
２１で構成される。図２６のように、薄板磁石１２１
は、口の字型コア１１３の凹状くぼみ部、すなわち口の
字型コア１１３とＩ型コア１１５の接合部に配置され
る。

【０１８１】ここで使用の口の字型コア１１３及びＩ型
コア１１５は、ＭｎＺｎ系フェライト材で、磁路長６．
０ｃｍ、実効断面積０．１ｃｍ^２の日の字型磁芯を形成
する。

【０１８２】また、薄板磁石１２１は、厚み０．２５ｍ
ｍ、断面積０．１ｃｍ^２であって、コイルが作る磁界と
逆向きに着磁されているものとする。

【０１８３】コイル１１７は１８ターン巻回されてお
り、本インダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特
性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳
インダクタンス特性を測定し、結果を図２７の１２３
（前者）と１２５（後者）に示す。

【０１８４】またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に
通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定
し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認
した。

【０１８５】（第２５の実施の形態）図２８及び図２９
を参照すると、本発明の第２５の実施の形態による薄板
磁石を適用したインダクタンス部品は、凸状コア１３５
にコイル１３１が巻線され凸状コア１３５の凸部上面
に、この凸部上面と同形状（０．０７ｍｍ）で、厚み１
２０μｍの薄板磁石１３３を配置して、円筒状のキャッ
プコア１２９を被せて構成されているものである。

【０１８６】ここで使用の凸状コア１３５及び円筒状の
キャップコア１２９は、ＮｉＺｎ系フェライト材で、磁
路長１．８５ｃｍ、実効断面積０．０７ｃｍ^２の磁芯を
形成する。

【０１８７】また薄板磁石１３３は、コイルが作る磁界
と逆向きに着磁されているものとする。

【０１８８】コイル１３１は１５ターン巻回されてお
り、本インダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特
性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳
インダクタンス特性を測定し、結果を図３０の１３９
（前者）と１４１（後者）に示す。

【０１８９】またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に
通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定
し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認
した。

【０１９０】以上説明したように、本発明の３発明によ
れば、５００μｍ以下の薄板磁石が得られ、この薄型磁
石を磁気バイアス磁石として使用することにより、小型
で、高周波における磁気コアの直流重畳特性が向上した
且つリフロー温度でも特性の劣化のない磁気コア及び、
この磁気コアを用いて、リフローにて特性の劣化の恐れ
なく表面実装を可能としたインダクタンス素子を提供す
ることができる。

【０１９１】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁
気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置する磁気
バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以
上、キュリー点Ｔｃが５００℃以上、粉末粒径が２．５
〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石とし、
その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末と少
なくとも体積比で３０％以上の樹脂からなる比抵抗が１
Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直流重
畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コアを提
供することができる。

【０１９２】また、本発明においては、磁路の少なくと
も１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、そ
の磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、
固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３
００℃以上、粉末粒径が２．０〜５０μｍの希土類磁石
粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機
ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で２０％
以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石
を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、
耐酸化性に優れた磁気コアを提供することができる。

【０１９３】また、本発明においては、５００μｍ以下
の薄板磁石が得られ、この薄型磁石を磁気バイアス磁石
として使用することにより、小型で、高周波における磁
気コアの直流重畳特性が向上した且つリフロー温度でも
特性の劣化のない磁気コア及び、この磁気コアを用い
て、リフローにて特性の劣化の恐れなく表面実装を可能
としたインダクタンス部品を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の１実施の形態によるチョークコ
イルのコイル巻回前の一例を示す斜視図である。

【図２】図１のチョークコイルの側面図である。

【図３】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ_２Ｃｏ
_１７磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重畳
特性の測定データを示す図である。

【図４】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ_２Ｃｏ
_１７磁石とエポキシ樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特
性の測定データを示す図である。

【図５】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ_２Ｃｏ
_１７Ｎ磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重
畳特性の測定データを示す図である。

【図６】本発明の第６の実施の形態におけるＢａフェラ
イト磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重畳
特性の測定データを示す図である。

【図７】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ_２Ｃｏ
_１７磁石とポリプロピレン樹脂からなる薄板磁石の直流
重畳特性の測定データを示す図である。

【図８】本発明の第１２の実施の形態における試料２お
よび４からなる薄板磁石を用いた場合と、薄板磁石を用
いない場合について、リフロー前後における直流重畳特
性の測定データを示す図である。

【図９】本発明の第１８の実施の形態におけるＳｍ２Ｃ
ｏ１７磁石−エポキシ樹脂薄板磁石の着磁磁界と直流重
畳特性を示す図である。

【図１０】本発明の第１９の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図１１】図１０のインダクタンス部品の分解組立斜視
図である。

【図１２】本発明の第１９の実施の形態の薄型磁石を適
用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較とし
て薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス
特性の測定結果を示す図である。

【図１３】本発明の第２０の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図１４】図１３のインダクタンス部品の分解組立斜視
図である。

【図１５】本発明の第２１の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図１６】図１５のインダクタンス部品の分解組立斜視
図である。

【図１７】本発明の第２１の実施の形態の薄型磁石を適
用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較とし
て薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス
特性の測定結果を示す図である。

【図１８】（ａ）は従来のインダクタンス部品のコア使
用領域を示す図である。（ｂ）は本発明の第２２の実施
の形態による薄型磁石を適用した場合のインダクタンス
部品のコア使用領域を示す図である。

【図１９】本発明の第２２の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図２０】図１９のインダクタンス部品の分解組立斜視
図である。

【図２１】本発明の第２３の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図２２】図２１のインダクタンス部品の分解組立斜視
図である。

【図２３】図２３は薄型磁石を適用した場合の直流重畳
インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しな
い場合の直流重畳インダクタンス特性の測定結果を示す
図である。

【図２４】（ａ）は従来のインダクタンス部品に対する
コアの使用領域を示す図である。（ｂ）は本発明の第２
３の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタン
ス部品のコアの使用領域を示す図である。

【図２５】本発明の第２４の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図であ
る。

【図２６】図２５のインダクタンス部品の磁路を形成す
るコアと薄板磁石の構成斜視図である。

【図２７】本発明の薄板磁石を適用した場合のインダク
タンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の
直流重畳インダクタンス特性を測定結果を示す図であ
る。

【図２８】本発明の第２５の実施の形態による薄板磁石
を適用したインダクタンス部品の断面図を示す図であ
る。

【図２９】図２８のインダクタンス部品の磁路を形成す
るコアと薄板磁石の構成斜視図である。

【図３０】図３０は本発明の第２５の実施の形態による
インダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特性と、
比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダ
クタンス特性の測定結果を示す図である。

【符号の説明】

３１磁石３３コア３５コイル３７インダクタンス部品３９コア４１コイル４３磁石５１インダクタンス部品５３コア５５コア５９磁石６１インダクタンス部品６３ボビン６５コア６７巻線（コイル）６９磁石８１インダクタンス部品８３コイル８５ボビン８７コア８９コア９１磁石９３インダクタンス部品９５コア９７絶縁紙１０１磁石１１１インダクタンス部品１１３コア１１５コア１１７コイル１１９ボビン１２１磁石１２７インダクタンス部品１２９コア１３１コイル１３３磁石１３５コア１３７端子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者保志晴輝宮城県仙台市太白区郡山六丁目７番１号株式会社トーキン内 (72)発明者磯谷桂太宮城県仙台市太白区郡山六丁目７番１号株式会社トーキン内 (72)発明者伊藤透宮城県仙台市太白区郡山六丁目７番１号株式会社トーキン内 (72)発明者安保多美子宮城県仙台市太白区郡山六丁目７番１号株式会社トーキン内Ｆターム(参考） 5E040 AA19 BC01 CA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】樹脂に磁石粉末が分散されてなるボンド
磁石であり、０．１Ω・ｃｍ以上の比抵抗を有し、該磁
石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃ
が３００℃以上、粉末粒径が１５０μｍ以下である粉末
を無機ガラスで被覆したものからなることを特徴とする
永久磁石。
【請求項２】請求項１に記載の永久磁石において、前
記永久磁石は、前記無機ガラスを重量比で１０％以下含
有することを特徴とする永久磁石。
【請求項３】請求項２に記載の永久磁石において、前
記磁石粉末の平均粒径が２．０〜５０μｍであることを
特徴とする永久磁石。
【請求項４】請求項３に記載の永久磁石において、前
記磁石粉末の平均粒径が２．５〜２５μｍで、最大粒径
が５０μｍであることを特徴とする永久磁石。
【請求項５】請求項２に記載の永久磁石において、前
記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５００℃であるこ
とを特徴とする永久磁石。
【請求項６】請求項２に記載の永久磁石において、前
記樹脂含有量が体積比で２０％以上であることを特徴と
する永久磁石。
【請求項７】請求項２に記載の永久磁石において、前
記磁石粉末は、希土類磁石粉末であることを特徴とする
永久磁石。
【請求項８】請求項２に記載の永久磁石において、成
形圧縮率が２０％以上であることを特徴とする永久磁
石。
【請求項９】請求項２に記載の永久磁石において、比
抵抗が１Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする永久磁
石。
【請求項１０】請求項２に記載の永久磁石において、
前記磁石粉末の平均粒径が２．５〜５０μｍであること
を特徴とする永久磁石。
【請求項１１】請求項２記載の永久磁石において、該
磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点
Ｔｃが５００℃以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１２】請求項１１に記載の永久磁石におい
て、前記無機ガラスは、軟化点が４００℃〜５５０℃で
あることを特徴とする永久磁石。
【請求項１３】請求項１１に記載の永久磁石におい
て、前記樹脂含有量が体積比で３０％以上であることを
特徴とする永久磁石。
【請求項１４】請求項１１に記載の永久磁石におい
て、前記磁石粉末は、希土類磁石粉末であることを特徴
とする永久磁石。
【請求項１５】請求項１１に記載の永久磁石におい
て、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とする永
久磁石。
【請求項１６】請求項１１に記載の永久磁石におい
て、比抵抗が１Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする永
久磁石。
【請求項１７】請求項２に記載の永久磁石において、
全体の厚みが１００００μｍ以下であることを特徴とす
る永久磁石。
【請求項１８】請求項１７に記載の永久磁石におい
て、全体の厚みが５００μｍ以下であることを特徴とす
る永久磁石。
【請求項１９】請求項２に記載の永久磁石において、
その着磁磁場が、２．５Ｔであることを特徴とする薄板
磁石。
【請求項２０】請求項２に記載の永久磁石において、
中心線平均粗さＲａが１０μｍ以下であることを特徴と
する永久磁石。
【請求項２１】請求項２に記載の永久磁石において、
金型成形によって製造されたことを特徴とする永久磁
石。
【請求項２２】請求項２に記載の永久磁石において、
熱プレスによって製造されたことを特徴とする永久磁
石。
【請求項２３】請求項２に記載の永久磁石において、
樹脂と磁石粉末との混合塗料からドクターブレード法、
印刷法などの成膜法によって製造されたことを特徴とす
る永久磁石。
【請求項２４】請求項２に記載の永久磁石において、
表面のグロス（光沢度）が２５％以上であることを特徴
とする永久磁石。
【請求項２５】請求項２に記載の永久磁石において、
前記樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン樹脂、
１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹
脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種である
ことを特徴とする永久磁石。
【請求項２６】請求項２に記載の永久磁石において、
前記樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シリ
コン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、
液晶ポリマーから選択された少なくとも１種であること
を特徴とする永久磁石。
【請求項２７】請求項７に記載の永久磁石において、
前記磁石粉末は、ＳｍＣｏ、ＮｄＦｅＢ、ＳｍＦｅＮか
ら選択された希土類磁石粉末であることを特徴とする永
久磁石。
【請求項２８】請求項２７に記載の永久磁石におい
て、前記磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石であることを特徴
とする永久磁石。
【請求項２９】請求項２８に記載の永久磁石におい
て、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末は、Ｓｍ（Ｃｏ_ｂａｌ
Ｆｅ_{０．１５〜０．２５}Ｃｕ_{０．０５〜０．０} _６Ｚｒ
_{０．０２〜０．０３}）_{７．０〜８．５}で表される合金粉
末であることを特徴とする永久磁石。
【請求項３０】磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギ
ャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バ
イアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した
磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁
気バイアス用磁石が、請求項１に記載の永久磁石である
ことを特徴とする磁気バイアス用磁石を有する磁気コ
ア。
【請求項３１】磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギ
ャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バ
イアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した
磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁
気ギャップは約５０〜１００００μｍのギャップ長を有
し、前記磁気バイアス用磁石が、請求項１７に記載の永
久磁石であることを特徴とする磁気コア。
【請求項３２】請求項３１に記載の磁気バイアス用磁
石を有する磁気コアにおいて、前記磁気ギャップは約５
００μｍより大きなギャップ長を有し、前記磁気バイア
ス用磁石は該磁気ギャップ長に対応した厚さを有するこ
とを特徴とする磁気コア。
【請求項３３】請求項３１に記載の磁気バイアス用磁
石を有する磁気コアにおいて、前記磁気ギャップは約５
００μｍ以下のギャップ長を有し、前記磁気バイアス用
磁石は該磁気ギャップ長に対応した厚さを有することを
特徴とする磁気コア。
【請求項３４】請求項３１に記載の磁気バイアス用磁
石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線を少なくと
も１つ施してあることを特徴とするインダクタンス部
品。
【請求項３５】磁路の少なくとも１箇所以上に約５０
〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを
有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイア
スを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気
バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷
回されたコイル巻線とを有するインダクタンス部品にお
いて、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散され
た磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁
石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点
が３００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２〜５
０μｍの希土類磁石粉末を無機ガラスで被覆したものか
らなり、該希土類磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石粉末、Ｎ
ｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、およびＳｍ−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末
の内から選ばれたものであることを特徴とするインダク
タンス部品。
【請求項３６】請求項３５に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、金型成形によ
って成形されていることを特徴とするインダクタンス部
品。
【請求項３７】請求項３６に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２
０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３８】請求項３５に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、その表面に耐
熱温度１２０℃以上の耐熱樹脂または耐熱塗料を被覆し
ていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３９】請求項３５に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスは軟化点が２２０℃〜５５
０℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４０】請求項３５に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスを、重量比で１０％以下含
有することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４１】請求項３５に記載のインダクタンス部
品において、前記樹脂の含有量は、体積比で２０％以上
であり、該樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン
樹脂、１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチ
レン樹脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種
であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４２】磁路の少なくとも１箇所以上に約５０
〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを
有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイア
スを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気
バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷
回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理される
インダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散され
た磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁
石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー
点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．
５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であり、無機
ガラスによって被覆されているものからなることを特徴
とするインダクタンス部品。
【請求項４３】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、金型成形によ
って成形されていることを特徴とするインダクタンス部
品。
【請求項４４】請求項４３に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２
０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４５】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、その表面に耐
熱温度２７０℃以上の耐熱樹脂または耐熱塗料を被覆し
ていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４６】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末が、Ｓｍ（Ｃ
ｏ_ｂａｌＦｅ_{０．１５〜０．２５}Ｃｕ_０．０
_{５〜０．０６}Ｚｒ_{０．０２〜０．０３}）_{７．０〜８．５}
で表される合金粉末であることを特徴とするインダクタ
ンス部品。
【請求項４７】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５
００℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４８】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有
することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４９】請求項４２に記載のインダクタンス部
品において、前記樹脂の含有量は体積比で３０％以上で
あり、該樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、
シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、液晶ポリマーから選択された少なくとも１種である
ことを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５０】磁路の少なくとも１箇所以上に約５０
０μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する
磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供
給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイア
ス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回され
たコイル巻線とを有するインダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散され
た磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ
５００μｍ以下のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点
が３００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．０
〜５０μｍの希土類磁石粉末であり、該希土類磁石粉末
は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石粉末、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、お
よびＳｍ−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末の内から選ばれたものであ
るとともに、無機ガラスによって被覆されものからなる
ことを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５１】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、樹脂と磁石粉
末の混合物からドクターブレード法および印刷法等の成
膜法によって成形されていることを特徴とするインダク
タンス部品。
【請求項５２】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２
０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５３】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、その表面に耐
熱温度１２０℃以上の耐熱樹脂または耐熱塗料を被覆し
ていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５４】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５
００℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５５】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記永久磁石は前記無機ガラスを重量比で
１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部
品。
【請求項５６】請求項５０に記載のインダクタンス部
品において、前記樹脂の含有量は、体積比で２０％以上
であり、該樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン
樹脂、１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチ
レン樹脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種
であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５７】磁路の少なくとも１箇所以上に約５０
０μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する
磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供
給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイア
ス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回され
たコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダ
クタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散され
た磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ
５００μｍ以下のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー
点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．
５〜５０μｍのＳｍ−しげるＣｏ希土類磁石粉末である
とともに無機ガラスによって被覆されたものからなるこ
とを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５８】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、樹脂と磁石粉
末の混合物からドクターブレード法あるいは印刷法等の
成膜法によって成形されていることを特徴とするインダ
クタンス部品。
【請求項５９】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２
０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項６０】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記無機ガラスは軟化点が２２０℃〜５０
０℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項６１】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記永久磁石は、前記無機ガラスを重量比
で、１０％以下含有することを特徴とするインダクタン
ス部品。
【請求項６２】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記バイアス用永久磁石は、その表面に耐
熱温度２７０℃以上の耐熱樹脂または耐熱塗料を被覆し
ていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項６３】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末が、Ｓｍ（Ｃ
ｏ_ｂａｌＦｅ_{０．１５〜０．２５}Ｃｕ_０．０
_{５〜０．０６}Ｚｒ_{０．０２〜０．０３}）_{７．０〜８．５}
で表される合金粉末であることを特徴とするインダク
タンス部品。
【請求項６４】請求項５７に記載のインダクタンス部
品において、前記樹脂の含有量は体積比で３０％以上で
あり、該樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、
シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、液晶ポリマーから選択された少なくとも１種である
ことを特徴とするインダクタンス部品。