JP2003006929A

JP2003006929A - 光ディスク

Info

Publication number: JP2003006929A
Application number: JP2001184776A
Authority: JP
Inventors: Naoki Okawa; 直樹大川; Masaaki Iwasaki; 真明岩崎
Original assignee: Sony Disc Technology Inc
Current assignee: Sony Music Solutions Inc
Priority date: 2001-06-19
Filing date: 2001-06-19
Publication date: 2003-01-10
Anticipated expiration: 2021-06-19
Also published as: JP4339530B2

Abstract

(57)【要約】【課題】半透過反射膜の材料としてアルミニウムを使
用することにより製造コストを低減でき、しかも半透過
反射膜が、要求される十分な耐久性を備える光ディスク
を提供すること。【解決手段】円板状のディスク基板１２の少なくとも
片面にて、重ねて配設された二つ以上の信号記録層１
３，１４を含んでおり、前記ディスク基板を透過させて
光を前記信号記録層に照射し、記録された信号を読み取
るようにした光ディスクであって、前記信号記録層のう
ち、読み出し側から最も遠い信号記録層１３が反射膜と
して形成され、他の信号記録層１４が、半透過反射膜で
あり、前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、
他の金属として、少なくとも、シリコン（Ｓｉ）または
チタン（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金により形成され
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも一つ以上の
半透過反射膜から成る信号記録層を備えた情報記録媒体
としての多層光ディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば高密度情報記録用の光ディ
スクは、その情報記録の方式により、両面記録，片面記
録そして記録層の数により単層または多層の種類に分か
れており、例えば片面単層，片面二層，両面単層及び両
面二層の型式がある。これらの型式のうち、片面二層の
光ディスクは、以下のように構成されている。

【０００３】図１は、片面二層の光ディスクを示してい
る。図において、光ディスク１は、例えばポリカーボネ
イト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のディスク
基板２の表面（下面）が、情報を表わす形状に形成され
ていて、この下面に対してアルミニウム薄膜による反射
膜３が形成され、この反射膜３の表面に保護膜４が形成
され、さらにその表面に対して、第一のディスク基板２
と同様の第二のディスク基板５が、接着層６を介して当
接され、前記接着層６を硬化させることにより、ディス
ク基板２，５を貼り合わせることにより、構成されてい
る。

【０００４】ここで、第一のディスク基板２の外側面に
は、例えば記録内容を示すための不定形の印刷パターン
７が形成されている。また、第二のディスク基板５の内
側面は、情報を表わす凹凸形状に形成された後、反射膜
３の代わりに、半透過反射膜５ａが形成されている。

【０００５】このような構成の片面二層の光ディスクに
よれば、図において、下方から光ビームを反射膜３また
は半透過反射膜５ａに照射して、その反射光ビームを検
出することにより、信号読取を行なうようになってい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
片面二層の光ディスクにおいては、その半透過反射膜５
ａは、一般的に金，シリコンやこれらの化合物から構成
されている。しかしなから、金は、貴金属であることか
ら、材料コストが高くなってしまうため、光ディスク一
枚当たりの製造コストに占める成膜材料の割合が高くな
ってしまう。

【０００７】シリコンは、金と比較して低価格である
が、硬くて脆い特性であることから、ディスク基板への
スパッタリング法による成形時に、ターゲットとして加
工することが困難である。また、スパッタチャンバー壁
や防着板に堆積したシリコンがフレーク状となってスパ
ッタチャンバー内に剥がれ落ちることにより、ディスク
基板表面やシリコンによる半透過反射膜の表面が汚染さ
れてしまう等のトラブルが発生しやすい。このため、シ
リコンをターゲットとして使用した場合、半透過反射膜
を成膜するための装置を頻繁に停止させて、スパッタチ
ャンバ壁や防着板等を洗浄する必要があった。

【０００８】さらに、銀またはその合金は、高反射率で
あり、上述した成膜時の問題も発生しないので、半透過
反射膜の材料として使用することが可能である。しかし
ながら、銀またはその合金は、耐久性に乏しいことか
ら、まだ実用化はされていない。

【０００９】これに対して、コストの面から、アルミニ
ウムを半透過反射膜の材料として使用することも考えら
れる。しかし、金属膜形成等に通常用いるアルミニウム
は耐久性が低いという欠点があること等から、全反射膜
よりも薄い膜厚でなる半透過反射膜に適用する場合、純
アルミニウムにより成膜することができないことは明ら
かである。このような観点から、アルミニウムを使用し
た場合に、いかなる合金とすればよいか等については、
未だ十分な検討がなされていない。

【００１０】本発明は、以上の点に鑑み、半透過反射膜
の材料としてアルミニウムを使用することにより製造コ
ストを低減でき、しかも半透過反射膜が、要求される十
分な耐久性を備える光ディスクを提供することを目的と
している。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記目的は、請求項１の
発明によれば、円板状のディスク基板の少なくとも片面
にて、重ねて配設された二つ以上の信号記録層を含んで
おり、前記ディスク基板を透過させて光を前記信号記録
層に照射し、記録された信号を読み取るようにした光デ
ィスクであって、前記信号記録層のうち、読み出し側か
ら最も遠い信号記録層が反射膜として形成され、他の信
号記録層が、半透過反射膜であり、前記半透過反射膜
が、アルミニウム（Ａｌ）と、他の金属として、少なく
とも、シリコン（Ｓｉ）またはチタン（Ｔｉ）を含むア
ルミニウム合金により形成されている、光ディスクによ
り、達成される。

【００１２】請求項１の構成によれば、半透過反射膜を
構成するアルミニウム合金においてシリコン（Ｓｉ）ま
たはチタン（Ｔｉ）が添加されていることにより、アル
ミニウム結晶粒が微細化される。これにより、転位の発
生が抑制され、半透過反射膜の強度が高められるので、
膜変形が発生しにくくなり、安定した状態に保持される
と共に、アルミニウム結晶粒の微細化により、結晶粒界
腐蝕が防止され、半透過反射膜の耐久性が高められるこ
とになる。

【００１３】また、半透過反射膜を構成するアルミニウ
ム合金において、シリコン（Ｓｉ）に代えて、チタン
（Ｔｉ）が添加される場合には、チタン（Ｔｉ）の添加
により、シリコン（Ｓｉ）と同様に、アルミニウム結晶
粒が微細化がされるだけでなく、アルミニウムの電気伝
導度が低下することになり、アルミニウムと異種金属と
の電食作用が防止されるので、より一層半透過反射膜の
耐久性が高められることになる。

【００１４】請求項２の発明は、請求項１の構成におい
て、前記半透過反射膜のアルミニウム合金のシリコン
（Ｓｉ）含有量が、０．２重量パーセント以上とされて
いることを特徴とする。請求項２の構成によれば、特
に、アルミニウムにシリコンだけを添加する場合には、
その含有量を０．２重量パーセント以上とした場合に、
より十分な膜耐久性を得ることができる。

【００１５】請求項３の発明は、請求項１の構成におい
て、前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、他
の金属として、少なくとも、シリコン（Ｓｉ）及びチタ
ン（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金により形成されてい
ることを特徴とする。請求項３の構成によれば、アル
ミニウムにシリコン及びチタンが添加されることで、上
述した各金属を加える場合の効果が相乗効果となって発
揮されることになる。

【００１６】請求項４の発明は、請求項１ないし３のい
ずれかの構成において、前記半透過反射膜が、シリコン
（Ｓｉ）及び／またはチタン（Ｔｉ）に加えて、さらに
マンガン（Ｍｎ）を添加したアルミニウム合金から構成
されていることを特徴とする。請求項４の構成によれ
ば、半透過反射膜を構成するアルミニウム合金に対して
さらにマンガン（Ｍｎ）が添加されることにより、アル
ミニウムに含まれる不純物としての鉄（Ｆｅ）がアルミ
ニウムと反応してＦｅＡｌ₃になることが防止される。
これにより、針状結晶であるＦｅＡｌ₃によってアルミ
ニウム合金が硬く且つ脆くなることが阻止され、アルミ
ニウム合金そして半透過反射膜の腐蝕が防止されること
になる。

【００１７】請求項５の発明は、請求項１、３、４のい
ずれかの構成において、前記半透過反射膜が、アルミニ
ウム（Ａｌ）に、シリコン（Ｓｉ）と、チタン（Ｔｉ）
を含むアルミウム合金、またはアルミニウム（Ａｌ）
に、チタン（Ｔｉ）とマンガン（Ｍｎ）を含むアルミニ
ウム合金のいずれかであって、シリコン（Ｓｉ）の含有
量が０．３ないし２．０重量パーセント、マンガン（Ｍ
ｎ）の含有量が０．２ないし２．０重量パーセント、チ
タン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし２．０重量パー
セントとされていることを特徴とする。請求項５の構成
によれば、半透過反射膜を、アルミニウム（Ａｌ）に、
シリコン（Ｓｉ）と、チタン（Ｔｉ）を含むアルミウム
合金で形成する場合、もしくはアルミニウム（Ａｌ）
に、チタン（Ｔｉ）とマンガン（Ｍｎ）を含むアルミニ
ウム合金で形成する場合の含有量は、シリコン（Ｓｉ）
が０．３ないし２．０重量パーセント、マンガン（Ｍ
ｎ）が０．２ないし２．０重量パーセント、チタン（Ｔ
ｉ）が０．０５ないし２．０重量パーセントとするもの
である。

【００１８】すなわち、シリコン（Ｓｉ）の含有量が
０．３重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐
久性について、要求される効果を得られない。シリコン
（Ｓｉ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、
半透過反射膜の反射率が低下する。マンガン（Ｍｎ）の
含有量が０．２重量パーセントよりも少ないと、上述し
た膜の耐久性について、要求される効果を得られない。
マンガン（Ｍｎ）の含有量が２．０重量パーセントを超
えると、半透過反射膜の反射率が低下する。チタン
（Ｔｉ）の含有量が０．０５重量パーセントよりも少な
いと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を
得られない。チタン（Ｔｉ）の含有量が２．０重量パー
セントを超えると、製造過程における溶融が極端に困難
になり、合金の形成を妨げる。

【００１９】請求項６の発明は、請求項５の構成におい
て、前記マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．３ないし２．
０重量パーセントであることを特徴とする。請求項６の
構成によれば、好ましくは、前記半透過反射膜を形成す
るためのアルミニウム合金に含有されるマンガン（Ｍ
ｎ）の含有量を０．３重量パーセント以上とすること
で、より十分な膜耐久性を得ることができる。

【００２０】請求項７の発明は、請求項５の構成におい
て、前記チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし１．
０重量パーセントであることを特徴とする。請求項７の
構成によれば、好ましくは、前記半透過反射膜を形成す
るためのアルミニウム合金に含有されるチタン（Ｔｉ）
含有量を１．０重量パーセントまでに抑えることで、製
造過程においてチタン（Ｔｉ）を溶融しやすくして、合
金の形成を容易にすることができる。

【００２１】請求項８の発明は、請求項１ないし７のい
ずれかの構成において、前記半透過反射膜の膜厚が、９
ｎｍないし１２ｎｍであることを特徴とする。請求項８
の構成によれば、前記半透過反射膜の膜厚が、９ｎｍ以
上ないと、当該半透過反射膜における反射光量が不足す
る。また、半透過反射膜の膜厚が、１２ｎｍを超える
と、当該半透過反射膜よりも奥側の膜による反射光量が
不足する。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図１を参照しながら、詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技
術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の
範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の
記載がない限り、これらの態様に限られるものではな
い。

【００２３】本実施形態を説明するために図面に表れる
形状は、従来の光ディスク１の断面の形状と同じである
ことから、上述した従来の光ディスク１の構造を説明す
るための図１を用いて、従来の光ディスクと本実施形態
の光ディスクとを共通の図面を参照して本実施形態の構
成を説明する。このため、従来の光ディスク１と対応す
る本実施形態の各構成には、従来の光ディスク１と異な
る符号を併記して示している。図１において、光ディス
ク１０は、片面二層式の光ディスクであって、例えばポ
リカーボネート，アクリル樹脂，ポリオレフィン等のプ
ラスチックから成る円板状の第一のディスク基板１１及
び第二のディスク基板１２と、各ディスク基板１１，１
２の互いに対向する内面にそれぞれ形成された反射膜１
３及び半透過反射膜１４と、これらの反射膜１３及び半
透過反射膜１４の表面を覆う保護膜１５，１６と、保護
膜１５，１６を貼り合わせる接着層１７とを有してい
る。この光ディスク１０は、図において下方から光ビー
ムが照射され、反射膜１３及び半透過反射膜１４でなる
各信号記録層に記録された情報が片側から読みだされる
ようになっている。

【００２４】前記ディスク基板１１，１２は、それぞれ
読み出し側から見て、最も奥側の反射膜１３とこれより
手前の半透過反射膜１４による信号記録層のベースとし
て使用されるものであり、射出成形法等により成形さ
れ、その際内面が、例えばスタンパを利用することによ
り、情報を表わす形状（例えばピット）に形成される。

【００２５】前記反射膜１３は、従来の光ディスク１の
反射膜と同様に、例えばアルミニウム合金により、例え
ば膜厚４５乃至６０ｎｍで形成されている。ここで、反
射膜１３を構成する材料は、反射膜１３の耐久性やコス
トの点で可能であるならば、半透過反射膜１４と同じ材
料であることが望ましい。この反射膜１３においては、
アルミ合金の膜厚が厚いことにより、十分に高い反射率
が得られる。

【００２６】半透過反射膜１４は、本実施形態では、特
に、アルミニウム合金で形成されている。半透過反射膜
１４は、例えば、ディスク基板１２の表面に、後述する
合金のターゲットを用いたスパッタリングにより形成さ
れる。このスパッタ条件としては、チャンバー内に、５
ないし１２ｓｃｃｍの流量でアルゴンガスを導入し、出
力２．００ｋＷの電力を印加して、成膜時間を１．００
秒とすることで、後述する膜厚の半透過反射膜１４を形
成することができる。図２は、実際に半透過反射膜１４
をアルミニウム合金で形成した場合の実施例１ないし１
１と比較例を示しており、その際の合金の組成と各金属
の合金中への含有量（重量パーセント）を示しており、
あわせて、膜の耐久性をテストした表である。

【００２７】半透過反射膜１４は、アルミニウムと、シ
リコン（Ｓｉ）またはチタン（Ｔｉ）を含むアルミニウ
ム合金にマンガン（Ｍｎ）を添加したもの、あるいは、
これら全てを含有するアルミニウム合金で形成される。
このように、半透過膜１４を形成するためのアルミニウ
ム合金では、アルミニウムにシリコン（Ｓｉ）またはチ
タン（Ｔｉ）が添加されていることにより、アルミニウ
ム結晶粒が微細化される。これにより、転位の発生が抑
制され、半透過反射膜の強度が高められるので、膜変形
が発生しにくくなり、安定した状態に保持されると共
に、アルミニウム結晶粒の微細化により、結晶粒界腐蝕
が防止され、半透過反射膜の耐久性が高められる。図２
の実施例１１は、アルミニウムとシリコンで合金を形成
した場合である。

【００２８】図２の実施例１ないし４及び実施例１０
は、半透過反射膜１４を、アルミニウムに対して、シリ
コンとマンガンを加えたアルミニウム合金で形成した例
を示している。また、実施例６と実施例７及び実施例９
は、半透過反射膜１４を、アルミニウムに対して、チタ
ンとマンガンを加えたアルミニウム合金で形成した例を
示している。実施例８は、半透過反射膜１４を、アルミ
ニウムに対して、シリコンとチタンとマンガンを加えた
アルミニウム合金で形成した例を示している。

【００２９】これらの実施例において、半透過膜１４を
形成するためのアルミニウム合金では、アルミニウム
に、チタン（Ｔｉ）が添加される場合には、チタン（Ｔ
ｉ）の添加により、シリコン（Ｓｉ）と同様に、アルミ
ニウム結晶粒が微細化がされるだけでなく、アルミニウ
ムの電気伝導度が低下することになり、アルミニウムと
異種金属との電食作用が防止されるので、より一層半透
過反射膜の耐久性が高められることになる。

【００３０】そして、半透過反射膜１４が、アルミニウ
ム（Ａｌ）と、シリコン（Ｓｉ）及びチタン（Ｔｉ）を
含むアルミニウム合金により形成されている場合には、
各金属を加える場合の効果が相乗効果となって発揮され
る

【００３１】さらに、半透過反射膜１４が、シリコン
（Ｓｉ）及び／またはチタン（Ｔｉ）に加えて、さらに
マンガン（Ｍｎ）を添加したアルミニウム合金から構成
されている場合には、次のような効果がある。すなわ
ち、アルミニウム合金に対してさらにマンガン（Ｍｎ）
が添加されることにより、アルミニウムに含まれる不純
物としての鉄（Ｆｅ）がアルミニウムと反応してＦｅＡ
ｌ₃になることが防止される。これにより、針状結晶で
あるＦｅＡｌ₃によってアルミニウム合金が硬く且つ脆
くなることが阻止され、アルミニウム合金そして半透過
反射膜の腐蝕が防止されることになる。

【００３２】次に、図２に基づいて、上述のアルミニウ
ム合金が含有するアルミニウム以外の他の金属の含有量
について説明する。実施例１１に見るように、半透過反
射膜１４を形成するアルミニウム合金を得る上で、アル
ミニウムにシリコンだけを添加する場合には、その含有
量を０．２重量パーセント以上とした場合に、成膜後、
半透過反射膜１４を大気暴露して、１０日以上２０日未
満の耐久性を得ることができた。また、これとは逆にア
ルミニウムにシリコンだけを添加する場合には、その含
有量が０．２重量パーセントを下回ると、耐久性が損な
われると考えられる。ここで、半透過反射膜１４の耐久
性は、大気暴露された半透過反射膜１４が腐食して、光
反射率が低下し、この状態で光ディスク１０を形成した
時に、再生信号のジッター（Ｊｉｔｔｅｒ）が増大す
る。図２では、ジッターが８．０パーセント以下を、耐
久性に関して良品として○印を付している。

【００３３】また、実施例１１を除く他の実施例に示さ
れているように、シリコン（Ｓｉ）の含有量が０．３重
量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性につ
いて、要求される効果を得られない。シリコン（Ｓｉ）
の含有量が２．０重量パーセントを超えると、後述する
半透過反射膜１４の反射率が低下する。マンガン（Ｍ
ｎ）の含有量が０．２重量パーセントよりも少ないと、
上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られ
ない。マンガン（Ｍｎ）の含有量が２．０重量パーセン
トを超えると、後述する半透過反射膜１４の半透過反射
膜の反射率が低下する。チタン（Ｔｉ）の含有量が０．
０５重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久
性について、要求される効果を得られない。チタン（Ｔ
ｉ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、製造
過程における溶融が極端に困難になり、合金の形成を妨
げる。

【００３４】しかも、好ましくは、半透過反射膜１４を
形成するためのアルミニウム合金に含有されるマンガン
（Ｍｎ）の含有量を０．３重量パーセント以上とするこ
とで、より十分な膜耐久性を得ることができる。すなわ
ち、実施例１と実施例１０とを対比すると、実施例１の
方が膜の耐久性が高い。

【００３５】さらに、半透過反射膜１４を形成するため
のアルミニウム合金に含有されるチタン（Ｔｉ）含有量
を１．０重量パーセントまでに抑えることで、製造過程
において、合金の溶融温度が摂氏９５０度程度となるこ
とから、合金の形成をより容易にすることができる。そ
して、図２に示していないが、実施例１２として、半透
過反射膜１４を形成するためのアルミニウム合金をアル
ミニウム（Ａｌ）に、シリコン（Ｓｉ）、チタン（Ｔ
ｉ）、マンガン（Ｍｎ）の全てを含有させてアルミニウ
ム合金を形成した場合において、種々試みた結果、シリ
コン（Ｓｉ）の含有量が１．１重量パーセントないし
１．３重量パーセント、チタン（Ｔｉ）の含有量が０．
１２重量パーセントないし０．１７重量パーセント、マ
ンガン（Ｍｎ）の含有量が０．８重量パーセントないし
１．０重量パーセントとするのが最も好ましい。すなわ
ち、このような組成とすると、半透過反射膜１４の膜の
耐久性が高く、また、合金化することによる光の反射率
の低下が少なく、さらに、この組成によれば、溶融しや
すく、合金の作成が容易であり、金属間化合物が生成さ
れにくいという点で、最も優れた半透過反射膜１４を得
ることができる。

【００３６】図３は、このようなアルミニウム合金で形
成された半透過反射膜１４と読み取り（もしくは記録
用）光ビームＬ１，Ｌ２（図１参照）の反射率との関係
を示している。この半透過反射膜１４の膜厚は、光ディ
スクの規格書に規定された反射率（例えばＤＶＤ規格に
おいては、１８パーセント以上３０パーセント以下）と
なるように選定される必要がある。したがって、図３の
表より、半透過反射膜１４の膜厚は、９ｎｍ以上で、１
２ｎｍ以下に設定される。

【００３７】図１の保護膜１５，１６は、例えばエポキ
シアクリレート系の紫外線硬化樹脂を反射膜１３または
半透過反射膜１４の表面にコーティングし、紫外線照射
により硬化させることにより、形成される。尚、この保
護膜１５，１６は、省略されてもよい。

【００３８】図１の接着層１７は、第一の基板１１また
は第二の基板１２の内面（実際には、前記保護膜１５，
１６の表面）に対して、例えば、スピンコート法等によ
り塗布された所定厚さの接着剤により形成されており、
第一の基板１１及び第二の基板１２を貼り合わせること
により、第一の基板１１と第二の基板１２を貼り合わせ
た状態で固定保持する。尚、接着層１７により互いに貼
り合わされた第一の基板１１及び第二の基板１２のう
ち、第一の基板１１の信号記録層とは反対側の面（外
面）は、直接にまたは所謂レーベルにより、品番，記録
内容等の必要事項の表示（図示せず）等が印刷される。

【００３９】本実施形態による光ディスク１０は、以上
のように構成されており、以下のように再生される。図
１において、光ディスク１０の反射膜１３による信号記
録層の再生の場合には、その下方から信号読取用の光ビ
ームＬ１が照射されることにより、この光ビームＬ１
は、半透過反射膜１４を透過して、反射膜１３に入射
し、この反射膜１３による戻り光が、再び半透過反射膜
１４を透過して、下方に向かって進む。この戻り光を光
学ピックアップの光検出器により検出することにより、
前記反射膜１３による信号記録層に記録された信号の読
取が行なわれることになる。

【００４０】また、光ディスク１０の半透過反射膜１４
による信号記録層の再生の場合には、その下方から信号
読取用の光ビームＬ２が照射されることにより、この光
ビームＬ２は、半透過反射膜１４に入射し、この半透過
反射膜１４による戻り光が、下方に向かって進む。この
戻り光を光学ピックアップの光検出器により検出するこ
とにより、前記半透過反射膜１４による信号記録層に記
録された信号の読取が行なわれることになる。

【００４１】この場合、前記半透過反射膜１４は、膜厚
９乃至１２ｎｍと薄く形成されていることから、光ビー
ムＬ１に対する光吸収率が低減されるので、反射膜１３
による信号記録層からの戻り光の光量が十分高くなり、
反射膜１３による信号記録層の再生が確実に行なわれる
ことになる。

【００４２】半透過反射膜１４がアルミニウム合金から
構成されていることにより、膜厚が薄くても十分に高い
反射率を確保することができると共に、半透過反射膜１
４が容易に形成されることから、光ディスクの生産効率
が向上することになる。また、半透過反射膜１４がアル
ミニウム合金から構成されていることにより、材料コス
トが低いことから、光ディスクの製造コストが低減され
ると共に、半透過反射膜１４がＤＣスパッタにより形成
されるので、スパッタ装置に特別な構造が不要となり、
光ディスクの製造装置の設備コストが低減される。

【００４３】ここで、前記半透過反射膜１４は、アルミ
ニウムにシリコン（Ｓｉ）を添加することによって、ア
ルミニウムの結晶粒が微細化される。これにより、アル
ミニウムの転位の発生が防止され、膜強度が高められる
ので、膜変形の発生が抑制され、安定した状態に保持さ
れることになる。また、アルミニウムの結晶粒の微細化
により、結晶粒界腐蝕が防止されるので、半透過反射膜
１４の耐久性が高められ得る。さらに、前記半透過反射
膜１４は、アルミニウムにマンガンＭｎを添加すること
によって、アルミニウムに含まれる不純物としての鉄Ｆ
ｅが、アルミニウムと結合してＦｅＡｌ₃となることが
防止される。これにより、アルミニウムの所謂錆びが防
止され、半透過反射膜１４の腐蝕が防止されることにな
る。

【００４４】また、反射膜１３が半透過反射膜１４と同
じ材料により形成される場合には、さらに以下のような
利点が得られる。即ち、異種金属と近接された際に、電
位差が発生するガルバニック電池が構成されないので、
光ディスクの耐久性がより一層高められることになる。
また、反射膜１３及び半透過反射膜１４が同じスパッタ
装置により形成されることになるので、製造装置が低コ
ストで実現できると共に、製造装置全体が小型に構成さ
れることになる。さらに、光ディスクの廃材としてのリ
サイクルの際に、反射膜１３及び半透過反射膜１４が同
じ材料から構成されていることにより、分離処理が容易
に行なわれることになり、リサイクルに要するコストが
低減される。

【００４５】半透過反射膜１４が、アルミニウムにチタ
ン（Ｔｉ）を添加して形成した場合、このような構成の
光ディスク１０においては、前述したシリコン（Ｓｉ）
を添加したアルミニウム合金から成る半透過反射膜１４
を備えた光ディスク１０の場合と同様の効果が得られる
と共に、チタンＴｉの添加により、アルミニウムの電気
伝導度が低下することになり、アルミニウムと異種金属
との電食作用が防止されるので、より一層半透過反射膜
の耐久性が高められることになる。さらに、膜形成のた
めのスパッタリング工程の際に、シリコンを使用しない
ことから、シリコンの場合のように、防着板に付着した
シリコンが、フレーク状となって剥離することがないの
で、スパッタチャンバ汚染が少なくなり、安定稼働が容
易となる。

【００４６】上述した実施形態においては、光ディスク
１０は、片面二層式の光ディスクとして構成されてお
り、二層の信号記録層のうち、一層が半透過反射膜１４
により構成されているが、これに限らず、三層以上の信
号記録層を有する片面多層式の光ディスクや、それぞれ
二層以上の信号記録層を有する両面多層式の光ディスク
において、信号読取側と反対側の一層を除いた他の信号
記録層が半透過反射膜により構成されている光ディスク
に本発明を適用できることは明らかである。あるいはま
た、１枚のディスク基板に信号記録層を多層に形成する
光ディスクの半透過反射膜をアルミニウム合金で形成す
る場合にも適用することができる。また、光ディスク１
０において、図１の保護膜１５，１６は必要に応じて形
成され、必須の構成ではない。

【００４７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、半
透過反射膜の材料としてアルミニウムを使用することに
より製造コストを低減でき、しかも半透過反射膜が、要
求される十分な耐久性を備える光ディスクを提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光ディスクの第一の実施形態の構
成を示す概略断面図である。

【図２】図１の光ディスク１０の半透過反射膜１４の膜
組成と金属成分の含有量について、膜耐久性との関係を
示した表である。

【図３】図１の光ディスク１０の半透過反射膜１４の厚
みと反射率との関係を示した表である。

【符号の説明】

１０・・・光ディスク、１１，１２・・・ディスク基
板、１３・・・反射膜、１４・・・半透過反射膜、１
５，１６・・・保護層、１７・・・接着層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状のディスク基板の少なくとも片面
にて、重ねて配設された二つ以上の信号記録層を含んで
おり、前記ディスク基板を透過させて光を前記信号記録
層に照射し、記録された信号を読み取るようにした光デ
ィスクであって、前記信号記録層のうち、読み出し側から最も遠い信号記
録層が反射膜として形成され、他の信号記録層が、半透
過反射膜であり、前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、他の金
属として、少なくとも、シリコン（Ｓｉ）またはチタン
（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金により形成されている
ことを特徴とする、光ディスク。
【請求項２】前記半透過反射膜のアルミニウム合金の
シリコン（Ｓｉ）含有量が、０．２重量パーセント以上
とされていることを特徴とする、請求項１に記載の光デ
ィスク。
【請求項３】前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａ
ｌ）と、他の金属として、少なくとも、シリコン（Ｓ
ｉ）及びチタン（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金により
形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の光
ディスク。
【請求項４】前記半透過反射膜が、シリコン（Ｓｉ）
及び／またはチタン（Ｔｉ）に加えて、さらにマンガン
（Ｍｎ）を添加したアルミニウム合金から構成されてい
ることを特徴とする、請求項１または３のいずれかに記
載の光ディスク。
【請求項５】前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａ
ｌ）に、シリコン（Ｓｉ）と、チタン（Ｔｉ）を含むア
ルミウム合金、またはアルミニウム（Ａｌ）に、チタン
（Ｔｉ）とマンガン（Ｍｎ）を含むアルミニウム合金の
いずれかであって、シリコン（Ｓｉ）の含有量が０．３
ないし２．０重量パーセント、マンガン（Ｍｎ）の含有
量が０．２ないし２．０重量パーセント、チタン（Ｔ
ｉ）の含有量が０．０５ないし２．０重量パーセントと
されていることを特徴とする、請求項１、３、４のいず
れかに記載の光ディスク。
【請求項６】前記マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．３
ないし２．０重量パーセントであることを特徴とする、
請求項５に記載の光ディスク。
【請求項７】前記チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５
ないし１．０重量パーセントであることを特徴とする、
請求項５に記載の光ディスク。
【請求項８】前記半透過反射膜の膜厚が、９ｎｍない
し１２ｎｍであることを特徴とする、請求項１ないし７
のいずれかに記載の光ディスク。