JP2003005139A - 可変光減衰器 - Google Patents

可変光減衰器

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JP2003005139A
JP2003005139A JP2001194376A JP2001194376A JP2003005139A JP 2003005139 A JP2003005139 A JP 2003005139A JP 2001194376 A JP2001194376 A JP 2001194376A JP 2001194376 A JP2001194376 A JP 2001194376A JP 2003005139 A JP2003005139 A JP 2003005139A
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optical attenuator
variable
optical waveguide
attenuation
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JP2001194376A
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Tomonori Ichikawa
智徳 市川
Masaru Sadayuki
勝 定行
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FDK Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光導波路で形成される干渉計と薄膜ヒータに
よる位相変調器を用いて構成される可変光減衰器におい
て、減衰利得の制御を円滑かつ安定に行うことができる
とともに、WDM光通信用途等にて使用頻度の高いアッ
テネーション領域におけるPDLとTDLを共に低減さ
せる。 【解決手段】 複数の可変光減衰器50,50を直列に
多段接続するとともに、各可変光減衰器50,50の薄
膜ヒータ40,40への通電を互いに連動させることに
より全体として一つの減衰制御特性を得るように構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光導波路で形成
される干渉計と薄膜ヒータによる位相変調器を用いて構
成される可変光減衰器に関し、たとえば、WDM(波長
多重)光通信において分波された各信号光の強度調整に
利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】可変光減衰器は、たとえばWDM光通信
においてEDF(エルビウムドープ光ファイバ増幅器)
の出力レベルを一定にフィードバック制御することなど
に利用される。この可変光減衰器は、図4に示すよう
に、イオン交換型光導波路20で形成される干渉計30
と薄膜ヒータ40による位相変調器を用いて構成するこ
とができる。
【0003】図4は従来の可変光減衰器を示す。同図に
示す可変光減衰器50は、ガラス基板10に形成された
光導波路20でM−Z(マッハ・ツェンダー)干渉計3
0を形成するとともに、このM−Z干渉計30内の光導
波路部24上に薄膜ヒータを形成することによって構成
される。
【0004】光導波路20は、ガラス基板10にイオン
交換法によって所定パターンに形成されている。M−Z
干渉計30は、入力光を2分波するY分岐部22と、各
分波光をそれぞれに伝播する一対の並行な光導波路部2
4,26と、各伝播光を合波するY分岐部28によって
形成されている。薄膜ヒータ40は一方の光導波路部2
4上にパターニング形成され、その光導波路部24を伝
播する光の位相を熱光学的に制御する。つまり、位相変
調器として機能する。薄膜ヒータ40への通電電力を変
化させると、2つの分波光間の位相差が変化して、位相
干渉による減衰状態が変化する。したがって、ヒータ4
0への通電電力によって減衰利得を制御することができ
る。図5は、上述した可変光減衰器50のヒータ通電電
力に対する減衰利得の変化状態を示す。
【0005】上述した光導波路型の可変光減衰器50
は、減衰利得を電気的に制御することができるととも
に、次のような利点を有する。すなわち、その構成に必
要な干渉計30と位相変調器(ヒータ40)をガラス等
の基板10上に集積形成することができるので、小形化
および量産化に適している。機械駆動システムを使用し
ないので、動作の信頼性が高い。光導波路20はフォト
リゾグラフィ技術などを用いて任意のパターンに再現性
良く形成できるので、構成の柔軟性が高いといった利点
がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】干渉を利用して減衰利
得の制御を行う上述した可変光減衰器50では、図5に
示すように、ヒータ通電電力対して減衰利得が指数関数
的に変化する。その減衰利得は、減衰利得が小さい領域
ではヒータ通電電力を変化させてもほとんど変化しない
が、減衰利得があるレベルを越えたところから急激に増
大する。しかも、その減衰利得の急激な増大は制御レン
ジ(ヒータ通電電力の可変操作範囲)の上限に極端に偏
ったところで生じる。このため、減衰利得の制御を円滑
かつ安定に行うことが困難であるという問題があった。
【0007】たとえば、WDM光通信用途の場合、10
dB〜30dBの辺りが使用頻度の最も高いアッテネー
ション領域であるが、図5に示すような制御特性だと、
そのアッテネーション領域において、ヒータ通電電力が
わずかに変動して減衰利得が大きく変動してしまうた
め、減衰利得を正確あるいは安定に設定することが非常
に困難であった。
【0008】また、PDL(偏波依存損失)について
も、図5に示すように、上記制御レンジの上限近くで急
激に増大するため、上記アッテネーション領域ではPD
Lが大きくなってしまうという問題があった。さらに、
上記可変光減衰器50のTDL(温度依存損失)につい
ても、図6に示すように、上記制御レンジの上限近くで
温度による減衰利得の変動幅が急激に拡大するため、上
記アッテネーション領域ではTDLが大きくなってしま
うという問題があった。
【0009】図6は、上記可変光減衰器50において、
制御入力電圧に対する減衰利得の変化状態と、制御入力
電圧に対するTDLの変化状態を示す。TDL(温度依
存損失)は一定制御電圧(または電力)下における減衰
利得の温度変化量である。このTDL(dB)は、同図
に示すように、制御入力電圧によって変化する。制御入
力電圧は、ヒータ40の電気抵抗が一定であるとみなせ
ば、制御入力電力と等価になる。したがって、同図にお
いて、横軸の制御入力電圧はそのまま制御入力電力に置
き換えて見ることができる。
【0010】この発明は以上のような問題を鑑みてなさ
れたものであって、その目的は、光導波路で形成される
干渉計と薄膜ヒータによる位相変調器を用いて構成され
る可変光減衰器において、減衰利得の制御を円滑かつ安
定に行うことができるとともに、WDM光通信用途等に
て使用頻度の高いアッテネーション領域におけるPDL
とTDLを共に低減することができる解決手段を提供す
ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による手段は、光
導波路で形成される干渉計と薄膜ヒータによる位相変調
器を用いて構成される可変光減衰器において、複数の可
変光減衰器を直列に多段接続するとともに、各可変光減
衰器の薄膜ヒータへの通電を互いに連動させることによ
り全体として一つの減衰制御特性を得るようにしたこと
を特徴とする。これにより、減衰利得の制御を円滑かつ
安定に行うことができるとともに、WDM光通信用途等
にて使用頻度の高いアッテネーション領域におけるPD
LとTDLを共に低減させることができる。
【0012】上記手段において、光導波路は、ガラス基
板にイオン交換法によって形成された光導波路を使用す
ることができる。この光導波路は2段階のイオン交換法
によってガラス基板表面下に埋込形成することができ
る。光減衰器を形成する干渉計としてはM−Z干渉計が
利用できる。薄膜ヒータは、干渉計を形成する光導波路
部の真上よりも横方向にオフセットした位置に形成する
ことにより、その光導波路部におけるPDLの増大を防
止することができる。この場合、そのオフセットの大き
さは1μm以上が望ましい。
【0013】多段接続された複数の可変光減衰器は互い
に同特性となるように構成すればよい。しかし、要すれ
ば、特性の異なる組み合わせも可能である。多段接続さ
れた複数の可変光減衰器の各ヒータに対する通電駆動は
均等に行うようにすればよい。しかしこれも、要すれ
ば、各ヒータに対する通電量にヒータごとの重みづけを
行うようにしてもよい。
【0014】そして、多段接続された複数の可変光減衰
器は、同一基板に集積形成することにより、小形化およ
び量産化に適した構成とすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は本発明による可変光減衰器
の一実施例を示す。同図に示す可変光減衰器100は、
一つの基板10に集積形成された2つの光可変減衰器5
0,50を用いて構成されている。2つの可変光減衰器
50,50は同一基板10内にて直列に多段接続されて
全体として一つの光伝送路を形成する。各光可変減衰器
50,50はそれぞれ、光導波路20で形成される干渉
計30と薄膜ヒータ40による位相変調器とによって構
成されている。
【0016】各可変光減衰器50,50はそれぞれ、互
いに同一の可変減衰特性を持つよう、同一基板10内に
同一条件で構成されている。各可変光減衰器50,50
の薄膜ヒータ40,40は、基板10上または基板10
外にて互いに並列または直列に結線されていて、外部か
ら通電操作により互いに連動して減衰制御(位相制御)
を行うようになっている。これにより、上記2つの可変
光減衰器50,50は、外部から見てあたかも単一の可
変光減衰器100として使用されるようになっている。
【0017】上記基板10は、1価のアルカリイオンた
とえばNaイオンを含んだ多成分ガラスを母材とする。
このガラス基板10にはイオン交換法による光導波路2
0が形成されている。この光導波路20は、2段階のイ
オン交換によって基板表面下に埋込形成されている。1
段階目のイオン交換では、所定パターンのイオン交換制
御膜を形成したガラス基板10を溶融塩中に浸漬するこ
とにより、そのガラス基板10中に含まれている1価の
アルカリイオン(たとえばNaイオン)を、そのガラス
基板10の光屈折率を増大させる別のイオン(たとえば
Agイオン)に選択的に交換させる。2段階目のイオン
交換では、上記ガラス基板10を、このガラス基板10
と同じイオン成分(Naイオン)を有する溶融塩中に浸
漬して電界をかけることにより、1段階目のイオン交換
によって形成された光導波路20をガラス基板10中に
移動させる。
【0018】上記のようにして形成された光導波路20
により、2つのM−Z干渉計30,30が同一基板10
内に形成されている。M−Z干渉計30は、入力光を2
分波するY分岐部22と、各分波光をそれぞれに伝播す
る一対の並行な光導波路部24,26と、各伝播光を合
波するY分岐部28によって形成されている。
【0019】薄膜ヒータ40は、上記M−Z干渉計30
内の一対の光導波路部24,26のうち、その片方の光
導波路部24の真上よりも横方向へ若干距離hオフセッ
トした位置にパターニング形成されている。この薄膜ヒ
ータ40は通電によって発熱させられる。ヒータ40へ
の通電方式としては、通電電力を直接可変制御する方
式、通電電力を電圧によって可変制御する方式、あるい
は通電電力を電流によって可変制御する方式などがあ
る。
【0020】上記ヒータ40の発熱が光導波路部24に
伝わることにより、その光導波路部24での光屈折率が
変化して光路長が変化し、伝播光の位相が変化する。こ
のようにして、薄膜ヒータ40は、光導波路部24を伝
播する光の位相を熱光学的に制御する位相変調器として
機能する。この薄膜ヒータ40への通電電力を変化させ
ると、2つの分波光間の位相差が変化して、位相干渉に
よる減衰状態が変化する。これにより、ヒータ40への
通電電力によって減衰利得を制御することができる。
【0021】上述した2つの可変光減衰器50,50は
同一基板10内に同一条件で構成されることによって互
いにほぼ同一の特性を持つようになっている。いわゆる
ペア特性を持つように構成されている。ここで、上記2
つの可変光減衰器50,50がそれぞれ単独で示す特性
すなわち個別特性は、図5に示したような利得制御特性
およびPDL特性と、図6に示したように温度依存特性
をそれぞれ示す。
【0022】しかし、上述したように、上記2つの可変
光減衰器50,50を直列接続して全体として一つの光
伝送路を形成するとともに、各可変光減衰器50,50
の薄膜ヒータ40,40に対する通電駆動を連動させる
ことにより、図2および図3に示すような特性を持つ複
合型の可変光減衰器100を構成することができる。
【0023】図2は、図5と同様、可変光減衰器の制御
電力に対する減衰利得とPDLの変化状態を示す。ま
た、図3は、図6と同様、可変光減衰器の制御電圧に対
する減衰利得とTDLの変化状態を示す。
【0024】図2に示すように、上述した複合型の可変
光減衰器100では、制御入力(電力)に対する減衰利
得の変化特性が改善されるとともに、使用頻度の高いア
ッテネーション領域でのPDLが大幅に低減されてい
る。すなわち、従来の可変光減衰器50では減衰利得の
可変制御が制御レンジの上限付近のごく狭い範囲でしか
行えなかったが、本発明の可変光減衰器100ではその
減衰利得の可変制御が制御レンジの広い範囲にわたって
ほぼ均等に行うことができるようになっている。これに
より、たとえば、WDM光通信用途で使用頻度の高い1
0dB〜30dBの辺りにおける利得制御(アッテネー
ション)も、正確かつ安定に行わせることができる。
【0025】上述のような利得制御特性は、2つの可変
光減衰器50,50にそれぞれ設定された減衰利得が加
算されることより得られる。つまり、2つの可変光減衰
器50,50の合成特性として得られる。したがって、
目的とする減衰利得を得るためには、その1/2を減衰
利得を各可変光減衰器50,50に設定すればよい。こ
れにより、使用頻度の高い10dB〜30dBの減衰利
得が制御レンジの中央に近いところで得ることができ
る。
【0026】ここで留意すべきことは、可変光減衰器5
0のPDLは前述したように制御レンジの上限近くで急
激に増大するということである。このため、その制御レ
ンジの上限近くで利得制御を行っていた従来の可変光減
衰器50では、目的の制御利得が得られる制御ポイント
が制御レンジの上限付近になってしまうことにより、P
DLが大きくなってしまうという問題が生じていた。し
かし、本発明の可変光減衰器100では、目的の制御利
得が得られる制御ポイントが制御レンジの中央寄りへ移
動して、PDLが急増する領域から離れるので、同じ制
御利得を得る場合でも、従来よりも大幅にPDLを低減
させることができる。
【0027】たとえば、従来の単連式可変光減衰器50
の場合、20dBの減衰利得を得る制御ポイントでは、
5〜6dBのPDLが生じていたが、この単連式を2つ
直列にして本発明の2連式複合型可変光減衰器100を
構成したところ、同じ20dBの減衰利得を得る制御ポ
イントでのPDLを3dB付近にまで低減させることが
できた。
【0028】同様に、TDLについても、本発明の可変
光減衰器100では、目的とする減衰利得を得るための
制御ポイントが、TDLが拡大する制御レンジの上限付
近から、TDLが比較的現われにくい制御レンジの中央
寄りに移動することにより、上記PDLと同様に低減さ
せることができた。
【0029】図3は、上記可変光減衰器50において、
制御入力電圧に対する減衰利得の変化状態と、制御入力
電圧に対するTDLの変化状態を示す。TDL(温度依
存損失)は一定制御電圧(または電力)下における減衰
利得の温度変化量である。このTDL(dB)は、同図
に示すように、制御入力電圧によって変化する。制御入
力電圧は、ヒータ40の電気抵抗が一定であるとみなせ
ば、制御入力電力と等価になる。したがって、同図にお
いて、横軸の制御入力電圧はそのまま制御入力電力に置
き換えて見ることができる。
【0030】以上のように、上述した実施例の可変光減
衰器100は、複数の可変光減衰器50,50を直列に
多段接続するとともに、各可変光減衰器50,50の薄
膜ヒータ40,40への通電を互いに連動させることに
より、減衰利得の制御を円滑かつ安定に行うことができ
るとともに、WDM光通信用途等にて使用頻度の高いア
ッテネーション領域におけるPDLとTDLを共に低減
させることができる。
【0031】上記複数の可変光減衰器50,50は、イ
オン交換法によって光導波路20が形成されるガラス基
板10を用いることにより、単一のガラス基板10内に
集積形成することができる。これにより、小形化および
量産化にとくに適した構成とすることができる。可変光
減衰器100はM−Z干渉計30を利用して構成される
が、干渉計30については、他の形式の干渉計も利用可
能である。
【0032】薄膜ヒータ40について、従来においては
光導波路部24の真上に形成していたが、上述した実施
例では、図1に示すように、光導波路部24の真上より
も横方向へ所定距離hだけオフセットした位置に形成し
てある。これは次のような理由による。
【0033】本発明者が知得したところによれば、薄膜
ヒータ40を光導波路部24の真上に形成した場合、光
導波路部24での光伝播状態が薄膜ヒータ40の影響を
受けやすくなることが判明した。この影響は光導波路部
24の幅方向と深さ方向とで異なる方向性を持つため、
PDL増大の原因となる。ヒータ40から光導波路部2
4への熱の伝わり方についても、薄膜ヒータ40を光導
波路部24の真上に形成した場合は、同様の方向性が生
じてPDLを増大させる。これらの要因によるPDLの
増大は、上記オフセットによって効果的に抑えることが
できる。この場合、そのオフセットの大きさは1μm以
上(h>1μm)が望ましい。
【0034】可変光減衰器50の接続段数について、上
述した実施例では2段としたが、3段以上の多段接続も
可能である。また、各段の可変光減衰器50,50は、
特性設計の簡便性等を考慮するならば、互いに特性の揃
ったものが好ましいが、特性の異なる複数の可変光減衰
器を組み合わせるようにしてもよい。この場合は非常に
多様な特性設計が可能となる。
【0035】ヒータ40の通電駆動について、上述した
実施例では、図1に示すように、多段接続された複数の
可変光減衰器50,50の各ヒータ40,40に対する
通電駆動を均等に行うようにしているが、ヒータ40,
40ごとに通電量を異ならせる重みづけを行うようにし
てもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明は、光導波路で形成される干渉計
と薄膜ヒータによる位相変調器を用いて構成される可変
光減衰器において、複数の可変光減衰器を直列に多段接
続するとともに、各可変光減衰器の薄膜ヒータへの通電
を互いに連動させることにより全体として一つの減衰制
御特性を得るようにしたことを特徴とし、これにより、
減衰利得の制御を円滑かつ安定に行うことができるとと
もに、WDM光通信用途等にて使用頻度の高いアッテネ
ーション領域におけるPDLとTDLを共に低減させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による可変光減衰器の一実施例を示す平
面図および断面模式図である。
【図2】本発明による可変光減衰器の利得制御特性およ
びPDL特性を示すグラフである。
【図3】本発明による可変光減衰器の温度依存特性を示
すグラフである。
【図4】従来の可変光減衰器の構成例を示す平面図およ
び断面模式図である。
【図5】従来の可変光減衰器の利得制御特性およびPD
L特性を示すグラフである。
【図6】従来の可変光減衰器の温度依存特性を示すグラ
フである。
【符号の説明】
10 ガラス基板 20 光導波路 22 分波用Y分岐部 24,26 光導波路部 28 合波用Y分岐部 30 M−Z干渉計 40 薄膜ヒータ 50 可変光減衰器 100 本発明による複合型の変光減衰器 h オフセット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H038 AA22 AA32 AA34 BA30 2H047 KA04 LA12 NA01 PA13 PA21 QA04 RA00 TA01 TA11 2H079 AA06 AA12 BA01 CA04 DA05 DA23 EA05 GA01 HA13

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光導波路で形成される干渉計と薄膜ヒー
    タによる位相変調器を用いて構成される可変光減衰器に
    おいて、複数の可変光減衰器を直列に多段接続するとと
    もに、各可変光減衰器の薄膜ヒータへの通電を互いに連
    動させることにより全体として一つの減衰制御特性を得
    るようにしたことを特徴とする可変光減衰器。
  2. 【請求項2】 請求項1の発明において、前記光導波路
    は、ガラス基板にイオン交換法によって形成された光導
    波路であることを特徴とする可変光減衰器。
  3. 【請求項3】 請求項1または2の発明において、前記
    光導波路は、ガラス基板に2段階のイオン交換法によっ
    て埋込形成された光導波路であることを特徴とする可変
    光減衰器。
  4. 【請求項4】 請求項1から3のいずれかの発明におい
    て、前記干渉計がマッハ・ツェンダー干渉計であること
    を特徴とする可変光減衰器。
  5. 【請求項5】 請求項1から4のいずれかの発明におい
    て、前記薄膜ヒータは前記干渉計を形成する光導波路部
    の真上よりも横方向にオフセットした位置に形成されて
    いることを特徴とする可変光減衰器。
  6. 【請求項6】 請求項5の発明において、前記オフセッ
    トの大きさが1μm以上であることを特徴とする可変光
    減衰器。
  7. 【請求項7】 請求項1から6のいずれかの発明におい
    て、多段接続された複数の可変光減衰器は互いに同特性
    となるように構成されていることを特徴とする可変光減
    衰器。
  8. 【請求項8】 請求項1から7のいずれかの発明におい
    て、多段接続された複数の可変光減衰器の各ヒータに対
    する通電駆動を均等に行うようにしたことを特徴とする
    可変光減衰器。
  9. 【請求項9】 請求項1から7のいずれかの発明におい
    て、多段接続された複数の可変光減衰器の各ヒータに対
    する通電量にヒータごとの重みづけを行うようにしたこ
    とを特徴とする可変光減衰器。
  10. 【請求項10】 請求項1から9のいずれかの発明にお
    いて、多段接続された複数の可変光減衰器が同一基板に
    集積形成されていることを特徴とする可変光減衰器。
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