JP2002533749A - 暗い縁部を有する反射型lcd - Google Patents

暗い縁部を有する反射型lcd

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Abstract

(57)【要約】 入射光を反射することにより下側駆動回路を入射光からシールドすると共に、無駆動電界時にアクティブ表示領域が見る者に対して暗となるように入射光の複屈折性を制御する表示装置のアクティブ表示領域の周囲にダムを具える縁構造体を含む投影表示装置を提供する。好ましくは、ダムは接着性シール部材とアクティブ領域との間に配置し、ダムの厚さはダムの上側に液晶材料の薄い層を形成してLC効果が補償される厚さとする。この場合、接着性シール部材とアクティブ領域との間の縁構造体は、組み立て中にシール部材が押しつぶされた場合に接着性シール部材がアクティブ領域に滲み出るのを阻止するのに効果的である。高い複屈折性材料と外部補償膜を用いることにより、縁部全体にわたって高い消光が達成される。また、アクティブプレート上に縁を形成することは、受動側のプレートの厳格な整列が不要になることを意味する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、請求項1の前半部において規定さた表示装置に関するものである。 さらに、本発明は、このような表示装置を具える投影表示装置に関するもので
ある。
【0002】 シリコンを主体とする反射型LCDは、業務用及び民生用の市場において高い
性能及び高解像度のディジタル投影を行うために潜在的に最も経済的に有効な方
策である。この経済的な有効性を達成するため、単一パネルの試みが望まれてい
る。この試みに対して反射型とすることが有益である。この理由は、LCDを一
層薄く且つ一層高速にすることができ、単一パネルの試みにより高性能の市場に
おいて望まれる輝度及びカラー品質を呈するからである。暗状態に高速で切り換
えることができるLC効果は、単一パネル動作にとって望ましいものである。こ
の理由は、このLC効果は、走査中に走査カラー間の暗領域(ガード帯域)の最
小の使用で不所望な色を阻止できるからである。この結果、透過型LCDのよう
な低応答性デバイスと比較した場合、高い色純粋性及び一層高い輝度が得られる
。液晶の物理的な性能は、電界の印加による遷移時に暗状態にしてこの要件を満
たす必要があることを意味する。従って、最適な場合、無電界時に「ノーマリホ
ワイト」すなわち完全に透過性となる必要がある。これは、電極に最も高い電圧
を印加した場合、これらの領域/画素から見る者に光が入射せず、従ってこれら
の画素が暗く見えることを意味する。
【0003】 ノーマリホワイトLC効果は2つの異なるカテゴリーに分類することができ、
外側膜による補償を必要とするもの及び外側膜の補償を必要としないものに分類
することができる。これらのものは共に、表示装置の縁のアクティブではない領
域(電圧が印加されない受動領域)が明るくなることである。
【0004】 さらに、アクティブ領域の外側のシリコンに駆動電子回路を組み込むことは望
ましいことである。適切に機能するためこれらの領域は光からシールドする必要
がある。これらの回路の上側の簡単なアルミニウム層は光から回路をシールドす
るので最も有効であるが、このアルミニウム層は多くの入射光を「ノーマリホワ
イト」のLC効果と共に見る者に直接反射するミラーとして作用する。予防措置
として、例えばアルミニウムを黒のクロミウム層で置き換えることによりこれら
の領域を見る者に対して暗にすることが提案されている。この方策は表示装置の
コストを高価にする特別なマスキング工程を必要とすると共に、2個の基板を結
合する工程に対して困難性が生じてしまう。さらに、クロミウムはシリコンのプ
ロセスにおいて一般的に用いられていない材料であり、汚染により回路を不作動
にする危険性がある。
【0005】 このような光吸収性マスクは受動プレート上で用いることができるが、シリコ
ンチィップのアクティブ領域に対して厳格に整列させる必要がある。さらに、十
分に吸収するためには、材料の最小厚さが必要であり、薄いセルのギャップの均
一性を維持するためにそれなりの補償を行う必要がある。さらに、投影装置にお
いて予期される強度のもとでは、吸収された光エネルギーが相当な熱量に変換さ
れる。
【0006】 本発明の目的は、ノーマリホワイトLC効果の不具合の無い或いは上述した欠
点が解消されたノーマリホワイトLC効果を利用する必要装置を提供することに
ある。
【0007】 この目的は、請求項1に規定さた本発明による表示装置により達成される。
【0008】 有益な実施例は従属請求項に記載されている。
【0009】 本発明の別の目的は、駆動電子回路をアクティブ領域の外側のシリコンに一体
化する領域を、見る者に対して暗にすると共に下側の回路に対して有効に光シー
ルドするように構成することにある。
【0010】 本発明の別の目的は、反射型として用いられ、アクティブ表示領域の周囲に縁
構造体が設けられ、この縁構造体が表示装置のアクティブ領域をシールドすると
共にこのシールドされた領域を非駆動状態において見る者に対して暗にするのに
有効な表示装置を提供することにある。
【0011】 本発明のこれらの及び他の目的は、第1の基板と第2の基板との間に液晶材料
層を具え、これら基板には選択的に及び好ましくは配向手段及び捩れ角fを有す
る液晶材料の分子が設けられ、さらに光源からの光を第1の基板まで案内する手
段も具え、第2の基板には液晶材料層好ましくは基板の画素アレイアクティブ領
域を通過した光を反射する手段が設けられ、さらに当該投影装置は光源と第1の
電極との間の光路中に偏光手段を具えるると共に好ましくは反射した後の液晶表
示装置と表示面との間の光路中に検光手段を具え、 液晶材料の一部が、SiNX のような透明で非複屈折性の材料のダムで置換さ
れ、このダムが縁を、好ましくは表示装置の画素アレイアクティブ領域をほぼ包
囲するほぼ連続する縁を形成し、より好ましくは液晶表示装置にはリターデーシ
ョン膜又は表示装置の全ての領域を入射光のエネルギーを吸収することなく非駆
動状態において暗にする他の補償装置を具える本発明の実施例による投影表示装
置により達成される。
【0012】 本明細書で用いられているように、用語「非駆動状態」は、セルギャップに印
加される液晶材料を再配向させる閾値以下の電圧を意味する。
【0013】 本発明の別の実施例として、上述した表示装置に入射する光を発生する少なく
とも1個の光源を具え、この光は非複屈折性材料のダムを有するほぼ連続する縁
により包囲される画素電極により規定される画素の光学的状態に応じて反射し、
変調された光は投影手段により結像され、例えば表示装置の画像表示区域の縁に
沿って集積化された電子回路のような他の非スイッチィング領域と電極との間に
位置する領域が入射光を有効にシールドし、非駆動状態においてほぼ暗にする投
影表示装置を提供する。
【0014】 本発明はLC表示装置のアクティブマトリックスの周囲のアクティブプレート
上に非複屈折性材料を用いることにより縁を暗にする概念及びこのような縁を有
するLCDを利用する概念を含む。この縁は、非複屈折性材料好ましくはアクテ
ィブプレート上にパターン化され又は形成されている光学的に規定可能なスペー
サ材料のダムにより形成され。好ましくは、ダムの厚さはダムの上側に液晶材料
の薄い層が形成される厚さとし、より好ましくは縁構造体が接着性シール部材と
アクティブ領域との間の下側回路の領域をシールドする。
【0015】 設計により、この縁は膜補償された場合の効果及び膜補償されない場合の効果
の両方について有効である。
【0016】 前述したように、本発明は、非駆動状態において画素電極だけでなく画素電極
間及びその周囲に位置する構造体及び光シールド材料も光を反射し、この介在材
料を見えないようにするために特別な工程を必要とする「ノーマリホワイトLC
モード」を利用する装置に特に好適である。このノーマリホワイトLCモードは
2個の異なるカテゴリー、外部膜補償を必要とするものと、外部膜補償を必要と
しないものに通常分類することができる。以下の表は、これら表示装置を列挙す
る。
【0017】
【表1】
【0018】 本発明の検討及び図示するため、本発明はノーマリホワイト装置45−TNO
について説明するが、本発明は上述した全ての装置に用いることができる。
【0019】 例えば、このような効果及び装置は、1996年2月に発行されたVan S
prangの米国特許第5490003号に記載されているように利用すること
ができる。このVan Sprangの特許によれば、偏光手段の偏光方向(偏
光方向はLC配向方向間の二等分線の方向とする)に対してLC配列層(配向手
段)の配向方向を制御することにより暗状態において明白な消光が得られる。5
0°と68°との間の捩れ角並びに液晶材料層の厚さdと0.58λ0 と0.6
8λ0 (ここで、λ0 は中心波長)の範囲内での液晶材料の複屈折性Δnとの積
(d・Δn)を用いて良好なコントラストを得ることができる。さらに、2つの
限界透過状態において、反射後の常光線と異常光線との間の光路長差は約0.5
λ0 であり、反射型液晶表示装置は電気的に制御可能なλ/4板として機能する
【0020】 1998年12月に公開された欧州特許第97201795.8号に記載され
ている別の装置は本発明において特に有用であることが判明している。欧州特許
第97201795.8号によれば、この反射型表示装置は30°と55°との
間の値の捩れ角及びリターデーション膜を用い、駆動電圧を低くできると共に高
いコントラストを維持することができる。完全に駆動した表示素子の「残留透過
性」はリターデーション膜のリターデーション値により補償され、厚さdを一層
薄くすることができるので、この装置は一層高速で切り換えられる。
【0021】 偏光手段の側の液晶分子の配向方向を入射光の偏光方向とほぼ平行になるよう
に選択することにより、或いはこの配向方向を偏光方向と直交するように選択す
ることにより、反射手段側の再配向可能な液晶表面層に起因する複屈折性を補償
することだけ必要となる。また、リターデーション膜の光学軸と第1の基板の領
域の配向手段の配向方向との間の角度γは、例えば80±φ/2°と100±φ
°との間で変化する。
【0022】 米国特許第5490003号及び欧州特許第9720195.8号の開示内容
は参考として本明細書に記載する。
【0023】 上述したように、ノーマリホワイトのLCDが暗になった場合、表示装置の縁
の領域に白に維持される(「不作動電圧が印加されない」)領域が存在する。本
発明の好適実施例は、LCDアクティブ表示領域の周囲にダムを具え縁領域の不
作動領域を常時暗にする縁構造体を設ける。好ましくは、このダムは接着性シー
ル部材とアクティブ領域との間に配置し、ダムの厚さはダムの上側に液晶材料の
薄い層が形成されるようにする。この場合、組立中にシール部材が押しつぶされ
たとき、接着剤がアクティブ領域にしみ出るのを防止するためにも有効である。
複屈折性の大きな液晶材料及び外部補償膜を用いれば、縁全体にわたって高い消
光性が達成される。また、アクティブプレートに縁を形成することは、受動側プ
レートの厳格な整列が不要になることを意味する。
【0024】 従って、本発明はノーマリホワイト液晶効果を利用する表示装置及びノーマリ
ホワイト液晶効果の非駆動領域を暗にする方法を提供するものであり、以下の作
用効果により特徴付けられる。 1.高レベルの消光 2.光の吸収が低くほとんど生じない 3.受動プレートの厳格なアラインメントが不要になる 4.暗の縁を形成するため付加的なセルの処理工程が不要である 5.アクティブ領域LCDのエッジシール領域との間に効果的なイオン汚染バ リアが形成される 6.上記領域の液晶は通常印加される電界により再配向することができず、縁 の消光が減少する
【0025】 後述する実施例に基づき、本発明のこれらの及び他の概念を明確に説明する。
【0026】 図1を参照するに、投影装置は、ランプ1と、偏光ビームスプリッタ(PBS
)2と、反射型液晶セル(LCD)10と、表示スクリーン5とを具える。ラン
プ1から放出された光は、PBS2により、水平方向に偏光した光のビーム3と
垂直方向に偏光した光のビーム3’とに分離される。ビーム3は反射型LCD1
0に入射し、そこで反射する。LCD10の個別の画素の状態に応じて、反射し
たビーム4は楕円偏光した光となる。PBS2はビーム4を水平方向に偏光した
成分と垂直方向に偏光した成分とに分離する。垂直方向に偏光した成分である光
ビーム4’は表示スクリーン5に入射する。図面を明瞭にするため、別の光学素
子及び駆動ユニットは省略した。図1は、電極15,16が設けられている2個
の基板13,14間に存在する捩れネマティク液晶材料12を有する液晶セル1
0の一部の断面を線図的に示す。この装置は、基板の内側壁上の液晶材料をセル
が捩れ角Φを有するように配向させる配向層17,18も具える。この場合、液
晶材料は正の光学的異方性及び正の誘電異方性を有する。電極15,16が(駆
動)電圧により付勢されると、分子の長軸(分子ディレクタ)は電界の方向に配
向する。第1の基板13は光透過性とし、例えばインジウム錫酸化物の光透過性
駆動電極15を設けられる。第2の電極14はシリコン基板で構成され、半導体
技術により駆動電子回路が形成されて個別の画素16を駆動する。ミラー形成さ
れた画素電極16は、半導体本体のほぼ全体少なくとも画素を規定する部分を覆
う。
【0027】 所望の又は必要な場合、暗状態の残留複屈折性を補償するため、表示セル10
はリターデーション膜19も具える。
【0028】 特に図2及び図3に示すように、本発明の反射型LCDは、例えばアルミニウ
ムから構成され各画素16’に対して光反射膜とし用いられる電極がシリコン基
板14上に形成されているパターン形成された反射性画素アレイアクティブ領域
16を具える構造を有する。SiNx 又は他の好適なスペーサ材料のスペーサ2
0を既知の技術により画素16’間に形成する。画素アレイアクティブ領域16
''を包囲する部材は、好ましくは画素間に形成したスペーサ材料と同一の材料の
スペーサ材料のダムを有する縁部21とする。さらに、基板をポリイミドの配向
層18で覆う。ガラス基板13のような対向する基板は、インジウム錫酸化物の
ようなパターン形成された透明導体で覆い、別のポリイミドの配向層17で覆わ
れたカウンタ電極15を形成する。2個の基板は、セルの内側のポリイミド層と
共に接着シールを用いて密封する。好ましくは、熱硬化性エポキシのような当該
技術分野において既知の他の接着剤を用いることができるが、UV硬化性接着剤
を用いる。基板間のギャップはスペーサにより望まれるように維持される。本例
において、組み立てる前に、LC材料の捩れ角が450°となるように整列層を
ラップングした。試験セルは例えばTL−210のような液晶材料で充填した。
このセルに、適当な向きの単軸リターデーション膜を形成した。
【0029】 さらに、第2の基板14は、駆動電極31及び駆動電極31を投影装置の制御
ユニットに接続するために用いることができる結合パッド30を具える。
【0030】 本発明においては、縁領域は、反射により適当な偏光状態に戻すことにより偏
光ビームスプリッタの利点を利用して暗にされるので、縁領域からの光は視認ス
クリーンに入射することはない。スクリーンからの不所望な反射光は適当な偏光
状態に十分に変換され、消光がLCDアクティブ領域の暗状態の消光に等しいか
又はそれよりも良好にする必要がある。図3に図示する実施例に示すように形成
する場合、アクティブ領域を包囲する広いダムはこれらの機能を達成できること
が判明している。
【0031】 この縁部において、(SlNx ),(SiOx ),TEOS,p−TEOS等
のような非複屈折性のスペーサ材料により液晶材料の一部を置換する。このダム
領域の材料は透明であり、光はこのダム領域を通過し、入射光から下側の駆動回
路を保護する下側のAlの光シールドで反射する。この構成はf2.5光学系の
図3に表わされている。この光学系において、本例の対向電極15又は能動プレ
ートは700μmの厚さである。アクティブ領域の端の画素に入射する光を遮光
しないようにするため、外側マスク25をこの画素16’から水平方向に150
μmの最小距離で配置する。300μmのダム21は、厳格なアラインメントを
行うことなく、この要件を容易に満たす。
【0032】 図3は、外側補償膜19を必要とする液晶セル10と共に広いダム21を有効
に用いることも示す。下側駆動回路の光シールドは、2個の金属層、ミラー金属
(24)及び通路金属(23)により行う。画素を駆動する信号線はこの領域の
下側の別の金属(図示せず)に形成する。この形態は、設計によりダムと対向電
極15との間のダム21の上側に液晶材料の薄い層12’が存在するので、補償
された効果と共に極めて有効である。ダム21を超えるガスケット領域のスペー
サ20は、ダム21が存在しない光シールド24の上側においてパターン化され
ている。この結果として、この領域にミラー金属光シールド24の厚さ(通常、
約1000Åと1500Åと間の厚さ)に等しい一層大きな間隔が得られる。対
向電極のガラス13はその幅にわたってダム21と接触するように湾曲しなので
、ダムの上側に薄い液晶層12’が形成される。いかなる捩れた状態においても
、この薄い層12’により形成される光学的な位相シフトは、アクティブ領域の
電界印加時の暗状態の残留複屈折にほぼ等しい。これは、能動的に駆動されて消
光する液晶を補償するために用いられる同一の補償膜がこの縁領域を暗すること
を意味する。
【0033】 図4Aは450捩れたLTNの典型的な液晶材料の1500A層の反射した偏
光状態を示し、図4Bはほぼ6Vの駆動電界のもとでの1μmのセルギャップ中
の同一材料からの反射した偏光状態を示す。両方の偏光状態は同一の向き(回転
方向)にあり、本例では左回りの偏光とする。これら2個の偏光した光は、偏光
により生ずる回転角においてだけ互いい相違する。図4Aの場合において、15
0045°捩れたLTNの場合、ほとんど回転しない6V駆動1μmギャップと
比較して0.66°の有効回転が得られる。単一の膜が直線偏光した光を十分に
補償するので、偏光ビームスプリッタにおいてほぼ完全な消光が達成される。
【0034】 これらの計算は、駆動される暗状態の残留複屈折は小さいので(10〜50ナ
ノメータ)、ダム領域21の上側の薄い液晶層は種々の捩れ角及び暗状態駆動電
圧に対してほぼ等しい複屈折を用いて設計することができることを示している。
同様に、本例の膜19のような残留複屈折を補償する外部光学膜を有しないノー
マリホワイト自己補償効果は、ダムの上側にいかなる液晶材料を具えることなく
縁部暗設計を有することができる。この場合、ミラー金属光シールドの上側で階
段状にされず、すなわちこの場合ダムはミラー金属光シールドの上側で延在して
いない。表Iに列挙した全ての液晶効果は、このようにして設計した極めて大き
な消光比を有する暗の縁部を有することができる。
【0035】 図5は本発明によるダムと共に構成される試験セルを示す。本例において、0
.5mm幅の連続する(SiNX )の縁を用いてセルを適切に満たすことができ
るか否か決定した。写真から決定されるように、良好な均一な充填が達成された
。この試験セルにおいて、(SiNX )ダムを画素金属の縁上にオーバラップさ
せることにより1000A工程が達成された。この工程により決定される透過率
の差は顕微鏡により観察てきた。輝度状態について測定したコントラストは、ダ
ムの周囲の種々の点においては300〜600:1であった。コーナ部において
はほぼ低く測定された。この理由は、2個の基板の組立歪みに起因してダムの上
側では液晶層がより薄くなったためである。
【0036】 連続するダムを用いることは、縁部シール材料により汚染された液晶が表示装
置のアクティブ領域に拡散するのを制限するように作用することになる。この(
SiNX )ダムの上側の薄い液晶層の光学性能は通常の表示動作条件のもとで乱
されないことも重要である。このダムの直列容量は、その上側の薄い液晶層の容
量のほぼ1/10である。従って、ノーマリホワイトの液晶を再配向させるため
の2Vの閾値を達成するためには、ギャップ間に20V以上の電圧を印加する必
要がある。この形式の表示装置の典型的な再配向電圧は通常10V以下である。
【0037】 本発明の精神及び範囲から逸脱しない範囲において、本発明は別の形態として
構成することもでき、開示した例は本発明の好適実施例に過ぎないものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例による投影表示装置の一部を示す線図的断面図である
【図2】 本発明の実施例による反射型表示装置の一部を拡大して示す上面図で
ある。
【図3】 図2の3−3線に沿うアクティブ領域の縁部における図2の表示装置
の一部の線図的断面図である。
【図4】 45°捩れLTNの液晶材料の1500A層の反射した偏光楕円のグ
ラフ、及び約6Vで駆動されるLTN
【図5】 本発明による幅の広いダム構造体により構成される試験セルの写真で ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/35 G09F 9/35 (71)出願人 Groenewoudseweg 1, 5621 BA Eindhoven, Th e Netherlands Fターム(参考) 2H088 EA12 HA04 HA08 HA14 JA05 JA09 JA10 MA02 MA16 MA18 2H092 GA59 JB51 JB56 KA03 NA01 NA25 PA04 PA09 PA12 RA05 5C094 AA06 AA10 AA16 BA03 BA43 CA19 DA14 EA04 EA07

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の基板と第2の基板との間に液晶材料層を有し、前記第2の
    基板には液晶材料層を通過した光を反射する手段が設けられている表示装置にお
    いて、前記液晶材料の一部が、透明な非複屈折性材料のダムにより置き換えられ
    、前記ダムが、表示装置のアクティブ領域と隣接し、表示装置の第1の基板の領
    域を入射光からシールドすると共にシールドされた領域を非駆動状態で見る者に
    対して暗にする縁構造体を形成することを特徴とする表示装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の表示装置において、当該表示装置が画素の光学
    的な状態を規定する画素電極を具え、前記ダムが画素電極を包囲するほぼ連続す
    る縁を形成し、画素電極と、表示装置の画像表示区域の縁に沿って集積化された
    電子回路を含む非スイッチィング領域との間に位置する領域を入射光からシール
    ドする表示装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の表示装置において、前記液晶材料の分子
    が捩れ角を有する表示装置。
  4. 【請求項4】 請求項1、2又は3に記載の表示装置において、前記アクティブ
    領域を、前記基板の画素アレイアクティブ領域とした表示装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の表示装置において、前記ダムをSiNX で構成
    した表示装置。
  6. 【請求項6】 請求項4又は5に記載の表示装置において、前記縁部を、画素ア
    レイアクティブ領域をほぼ包囲するほぼ連続する縁部とした表示装置。
  7. 【請求項7】 請求項1から6までのいずれか1項に記載の表示装置において、
    当該表示装置に、リターデーション膜が設けられている表示装置。
  8. 【請求項8】 請求項1から7までのいずれか1項に記載の表示装置において、
    前記縁部と第1の基板との間に第2の液晶材料層が存在する表示装置。
  9. 【請求項9】 請求項1から8までのいずれか1項に記載の表示装置において、
    前記縁部が、アクティブプレート上にスペーサとして存在する光学的に規定可能
    なスペーサ材料のダムを有する表示装置。
  10. 【請求項10】 前記アクティブプレート上に存在する光学的に規定可能なスペ
    ーサ材料を、画素間にスペーサ材料として存在するSiNとした表示装置。
  11. 【請求項11】 請求項1から10までのいずれか1項に記載の表示装置にお
    いて、前記基板は接着剤を用いて互いにシールされ、前記縁構造体が接着性シー
    ル部材と前記アクティブ領域との間の領域をシールドする表示装置。
  12. 【請求項12】 請求項11に記載の表示装置において、前記縁構造体が下側の
    領域を入射光からシールドする手段を有し、この手段が、前記接着性シール部材
    の外側縁部を越える位置からダムの内側縁部を越える位置まで延在するミラー金
    属光シールド領域と、前記ダムと隣接し、前記ダムの両側に位置する液晶材料の
    一方の部分から他方の部分まで延在する通路金属シールド領域とを有し、前記ダ
    ムが画素金属の縁でオーバラップして表示装置の第1の基板の領域を入射光から
    シールドするのに有効な階段部を形成する表示装置。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載の表示装置において、前記ミラー金属光シー
    ルドの厚さをほぼ100nm〜150nmとした表示装置。
  14. 【請求項14】 請求項1から13までのいずれか1項に記載の表示装置におい
    て、前記ダムの上側に液晶材料の薄い層が存在する表示装置。
  15. 【請求項15】 請求項1から14までのいずれか1項に記載の表示装置を具え
    る投影表示装置。
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