JP2002522441A5 - - Google Patents

Description

【請求項５】 一般式
Ｒ¹ ₃Ｐ （ＩＩ）
の化合物の製造方法であり、一般式
Ｒ¹ −Ｈ （Ｖ）
の化合物を用いて開始し（式中、Ｒ¹ は請求項１又は２に定義したとおりである）請求項１〜４の任意の１項の方法を行い、その後結果として生ずる化合物Ｒ¹−Ｌｉを、好ましくはそれらを単離しないで、請求項１、３及び４のいずれか１項に定義されたエーテル化合物を含む溶媒中で三塩化燐と反応させる該方法。

【請求項８】 Ｌが式−ＺＲ’’（式中、Ｚは酸素又は硫黄原子、Ｒ’’基はアルキル基を表す）である請求項６に記載の方法。

【請求項１５】 一般式
Ｒ₂ Ｐ−Ｘ−ＰＲ₂ （Ｉ）
の化合物の製造方法であり、一般式
Ｒ₂ Ｐ−Ｌ （ＩＶ）
の化合物を用いて開始して（式中、Ｒは請求項１０の定義どおりであり、Ｘは２価の架橋基であり、Ｌは請求項６〜８に定義されたとおりである）請求項１０又は１１の方法により一般式Ｒ_L-Ｐ−Ｌｉ （ＩＸ）の化合物を製造し、続いて一般式Ｈａｌ−Ｘ−Ｈａｌの化合物と反応させる（好ましくは中間化合物Ｒ₂Ｐ−Ｌｉを単離しない）該方法（式中、Ｈａｌはハロゲン原子である）。

【請求項１８】 一般式
Ｒ₂ Ｐ⁺ （Ｌ）−Ｘ−Ｐ ⁺ （Ｌ）Ｒ₂ ２Ｈａｌ- （ＸＩ）
の製造方法であり（式中、Ｒは随意に置換されたヒドロカルビル基であり、Ｘは請求項１５の定義どおりであり、Ｈａｌはハロゲン原子、Ｌは請求項７に記載された残基である）、一般式
Ｒ₂ Ｐ−Ｌ （ＩＶ）
の化合物と、一般式
Ｈａｌ−Ｘ−Ｈａｌ （Ｘ）
の化合物との反応による該方法。

【請求項２０】 一般式
Ｒ¹ ₂Ｐ⁺（Ｌ）−Ｘ−Ｐ ⁺ （Ｌ）Ｒ¹ ₂ ２Ｈａｌ- （ＸＩ）
の化合物の製造方法であり（式中、Ｒ¹ は請求項１又は２の定義どおりである）、一般式
Ｒ¹ −Ｌｉ （ＩＩＩ）
の化合物を用いて開始し、請求項７の方法に続けて請求項１８又は１９の方法による該方法（式中、Ｌ、Ｘ及びＨａｌは請求項２２に述べられたとおりである）。

【請求項２１】 一般式
Ｒ¹ ₂Ｐ⁺（Ｌ）−Ｘ−Ｐ ⁺ （Ｌ）Ｒ¹ ₂ ２Ｈａｌ- （ＸＩ）
の化合物の製造方法であり（式中、Ｒ¹ は請求項１又は２の定義どおりである）一般式
Ｒ¹ −Ｈ （Ｖ）
の化合物を用いて開始し、請求項１〜４の任意の１項の方法に続けて請求項２０の方法による該方法（式中Ｌ、Ｘ及びＨａｌは請求項１８に述べられたとおりである）。

【請求項２２】 一般式
Ｒ₂ Ｐ−Ｘ−ＰＲ₂ （Ｉ）
の化合物の製造方法であり、一般式
Ｒ₂ Ｐ⁺ （Ｌ）−Ｘ−Ｐ ⁺ （Ｌ）Ｒ₂ （ＸＩＩ）
のカチオンの還元による該方法（式中、Ｒ、Ｌ、Ｘ及びＨａｌは請求項１８に述べられたとおりである）。

【請求項２５】 一般式
Ｒ¹ ₂Ｐ−Ｘ−ＰＲ¹ ₂ （Ｉ）
の化合物の製造方法であり（式中、Ｒ¹ は請求項１又は２の定義どおりであり、Ｘは請求項１８に述べられたとおりである）一般式
Ｒ¹ −Ｌｉ （ＩＩＩ）
の化合物を用いて開始し、請求項７の方法に続いて請求項２４の方法による該方法。