JP2002520154A - 微小測定濃度化学反応装置 - Google Patents

微小測定濃度化学反応装置

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JP2002520154A JP2000559936A JP2000559936A JP2002520154A JP 2002520154 A JP2002520154 A JP 2002520154A JP 2000559936 A JP2000559936 A JP 2000559936A JP 2000559936 A JP2000559936 A JP 2000559936A JP 2002520154 A JP2002520154 A JP 2002520154A
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エム． グべルナトール，クラウス
コーエン，ジョー
エー． ザムビアス，ロバート
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デュポン ファーマシューティカルズ リサーチ ラボラトリーズ，インコーポレイティド
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Abstract

(57)【要約】 微小濃度測定反応装置（１５）が、 支持ラック（１６）がそこに配置される反応ウェル（１８）の列を有しており、各反応ウェル（１８）が開いた頂端部（３０）及び閉じた底端部（３２）を有する、支持ラック（１６）と、各反応ウェル（１８）の開いた頂端部（３０）内に収容される各反応器キャップ（２０）を有する複数の一般的に煙突形状の反応器キャップ（２０）と、支持ラック（１６）上に位置していて、各複数の反応ウェル（１８）の開いた頂端部（３０）上に配置された各孔（２３）によりそこに孔（２３）の列を有する、多孔性のガス透過可能な層（２２）と、多孔性のガス透過可能な層（２２）上に配置されたガスケット（２４）と、更にガスケット（２２）上に配置された頂部カバー（２６）とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 ・発明の分野 本発明は、反応ウェルに係わり、より特別には微小測定濃度（ｍｉｃｒｏｔｉ
ｔｒｅ）反応ウェルの列を組み込む装置に関する。
【０００２】 ・発明の背景 微小測定濃度板は、少量の液体サンプルの処理、輸送及び貯蔵のための便利な
ハンドリングシステムを提供する。その様な装置は、高い処理量のスクリーニン
グ（ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ）及び組み合わせの化学的用途において特に有用であり
、種々の物質を微小測定濃度板の異なる別個のウェルに選択的に吐出するように
適応されるロッボット式自動システムの使用に非常に適している。従って微小測
定濃度板は、多数の少量の液体サンプルを解析及び／又は合成する種々の生物学
的、薬学的及び関連する処理において特に有用であることが分かっている。
【０００３】 標準的な多数のウェルの微小測定濃度板は、２００から３００マイクロリッタ
ー程度のウェル容積を有する浅いウェル板及び１．２ｍＬ又は２．０ｍＬのウェ
ル容積を一般的に有する深いウェル板の、寸法の範囲にある。多数ウェルの微小
測定濃度板装置（システム）の通常の例は、標準の９６ウェルの微小板（ｍｉｃ
ｒｏ−ｐｌａｔｅ）である。その様な微小板は、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン、ＰＴＦＥ、ガラス、セラミックス及び石英等の種々の材料
から一般的に製作される。
【０００４】 あいにく標準の微小測定濃度板は、特に化学合成に関する、多くの限界により
問題がある。例えば、飛散（ｓｐｉｌｌａｇｅ）、漏洩、蒸発損失、ウェル内容
物の空気媒介（ａｉｒｂｏｒｎｅ）汚染及び液体サンプルのウェル内の横断的な
汚染（ｃｒｏｓｓ−ｃｏｎｔａｍｉｎａｔｉｏｎ）等が、高い材料処理量の合成
システムにおける標準の微小測定濃度板アセンブリの適用を制限する一般的な欠
陥である。
【０００５】 既存の多数のウェルの反応列は、遠心分離機（ｃｅｎｔｒｉｆｕｇｅ）、軌道
式攪拌器（ｏｒｂｉｔａｌ ｓｈａｋｅｒ）、棚乾燥機（ｓｈｅｌｆ ｄｒｙｅ
ｒ）、解析用噴射器（ａｎａｌｙｔｉｃａｌ ｉｎｊｅｃｔｏｒ）及び液体処理
ロボット等の、標準の微小測定濃度板を扱う装置に都合良く搭載可能ではなく、
大きく、嵩張る装置であり、更に取り外し可能に交換可能ではない。更に既存の
多数ウェルの反応列のこれとは別の短所は、反応ウェルの好適な温度制御が全く
限られていることである。現状では温度制御は、液体処理ロボットにより便利に
使用できないものであって、大きく、嵩張る加熱及び冷却ブロックにより一般的
に実施される。
【０００６】 ・発明の概要 本発明は、横断的な汚染、飛散及び個別の反応ウェルからの蒸発を実質的に排
除するように適応される微小測定濃度板の形の反応ウェルアレイ（列）装置を提
供する。更に本装置は、反応ウェルの内部の内容物が外部環境に暴露されないよ
うに、シールされた環境を提供するように適応される。本反応ウェルアレイ装置
のこれとは別の利点は、ガス圧力が反応ウェルの列全体に渡って容易に均等化可
能であることである。本装置のこれとは別の利点は、反応ウェルの内容物を外部
環境に対して暴露することなく、ガスの反応環境への選択的な導入及び／又は排
除可能であることである。特に本装置は、装置の内部のシールされた反応環境を
損なうことなく、ロボット式又は手動で制御される噴射針（ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ
ｎｅｅｄｌｅ）により、導入及び／又は排除される液体サンプルを選択的に収
容するために特別に適用される。
【０００７】 本発明はまた、遠心分離機、軌道式攪拌機、棚乾燥機、解析用噴射器及び液体
処理ロボット等の、標準の微小測定濃度板の形態を取り扱う種々の別の装置に本
装置を好都合に設置するために、取り付け可能なベース板を提供する。更に本発
明はまた、反応ウェル内において好適に温度を調整し且つ維持するための小型の
効率的な温度制御装置を提供する。
【０００８】 １つの好適な実施の形態において本発明は、下に設置される支持ラック内に一
体で形成される反応チューブ又はウェルの列を有する微小測定濃度反応装置を提
供する。これとは別の好適な実施の形態において、本発明は、下に設置される支
持ラックからそれぞれ選択的に取り外し可能な反応ウェルの列を提供する。この
第２の実施の形態の利点は、各種々の反応ウェルが、必要に応じて、支持ラック
において選択的に除去及び／又は置換可能であることである。従って本微小濃度
測定装置は、個別の反応ウェルの手動除去のため又は個別の反応ウェルの除去及
び置換のための自動ロボット装置の使用のために、直ちに適用可能である。
【０００９】 多孔性のガス分配板が、反応ウェルの列上に配置される。好適な実施の形態に
おいて多孔性のガス分配板は、各反応ウェルの開いた頂端部上に設置された単一
の孔によりそこ（分配板）を通過する孔の列を有する。好適な実施の形態におい
て多孔性のガス分配板は、粒子間に残存する多孔性の通路又は溝と共に融合して
板を通るガスの拡散を可能にする小さなポリプロピレンの粒子から形成される。
多孔性のガス分配板は、近接する反応ウェルの列上の共通部分においてガスの通
過を可能にするように稼働する。
【００１０】 ガスケット及び頂部カバーは、シールされた反応環境が列の各種々の反応ウェ
ルに形成されるように、多孔性のガス分配板上に配置される。ガスパージ（一掃
）ベントは、ガスが反応環境から選択的に導入又は排除されても良い一方で、任
意の個別のウェルから又は任意の２つの隣接するウェル間の液体の移動が防止さ
れるように本装置に具備されることが好ましい。
【００１１】 選択可能なベース板は、支持ラック及び反応ウェルを深いウェルの微小濃度測
定板の形態に好都合に変換するために取り付け可能であるので、それは、遠心分
離機、軌道式攪拌機、棚乾燥機、ロボット式液体処理機及び解析及び調合のクロ
マトグラフィー（ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）用の自動噴射機等の、種々の
異なる装置に設置可能である。
【００１２】 更に本発明は、反応環境の温度制御を向上するように、それに取り付けられる
小型の加熱及び冷却装置を選択可能に具備しても良い。
【００１３】 選択可能に、一般的に煙突形状の反応器キャップは、そこの上へのガス分配板
の設置の前に、各反応ウェルの開いた頂端部内に具備され収容される。その様な
一般的に煙突形状の反応器キャップの例は、Ｔｅｘｐｅｒｔｓ, Ｉｎｃ． Ｄｅ
ｌａｗａｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎに譲渡された米国特許出願第０８／９５
３，４４１号に見られる。その様な煙突形状の反応器キャップの利点として、液
体の飛散（ｓｐｉｌｌａｇｅ）が反応ウェルアレイの全ての方向に関して実質的
に防止されるように、各反応ウェルから液体が通過することをそれらにより実質
的に遮断する事が含まれる。その様な煙突形状の反応器キャップは、インターロ
ックウェッブにより列の形で一般的に共に保持される。その様な列において、反
応器キャップは、単一のユニットとして反応ウェルの列内に容易に嵌合可能であ
る。
【００１４】 ・好適な実施の形態の説明 図１Ａ、１Ｂと２において示されるように、本発明は、支持ラック１６を具備
していて反応ウェル１８の列を有する多数ウェルの微小測定濃度反応装置（シス
テム）１５を提供する。選択可能に、装置（システム）１５は、ウェル１８内に
伸張する反応器キャップ２０の列を有する反応器キャップアセンブリ１９を具備
しても良い。そこ（ガス分配板）を通過する孔２３の列を有する多孔性のガス分
配板２２が、支持ラック１６とガスケット２４間に挟まれる。（これとは別にも
し選択可能なアセンブリ１９が具備される場合には、ガス分配板２２はアセンブ
リ１９とガスケット２４間に挟まれる。）装置１５は、全てのシステム構成要素
を共に保持するように使用されていて、そこ（頂部カバー）を通過する複数の孔
２７を有する、頂部カバー２６を更に具備する。保持クリップ２８は、頂部カバ
ー２６と一体で形成されることが好ましく、支持ラック１６の側部のノッチ２１
と適合するようにインターロックするために下方に伸張しており、それにより、
図２，３Ａと３Ｂで示されるように、装置を共に保持する。本考案（ｄｅｓｉｇ
ｎ）は、各反応ウェル１８のためのシールされた反応環境を形成し、飛散、漏洩
、蒸発損失、ウェル内容物の空気媒介汚染及び液体サンプルのウェル内の横断的
な汚染等の問題が、説明するように、排除される。
【００１５】 第１の好適な実施の形態において、図３Ａに示すように、反応ウェル１８の列
は、単一のユニットとして、好適には射出成形されたポリプロピレンのブロック
から支持ラック１６と共に一体で形成される。
【００１６】 第２の好適な実施の形態において、図３Ｂに示すように、反応ウェル１８の列
は、支持ラック１６に形成される通路１７の列に各々が別個に収容される選択的
に取り外し可能な反応チューブを具備する。この第２の実施の形態において、各
個別の取り外し可能な反応ウェル１８は個別の通路１７をシールするように稼働
するので、反応ウェル１８の列上のシールされた反応環境が形成される。この実
施の形態において、ウェル１８を具備する反応チューブは、ガラス又はポリプロ
ピレンから形成されることが好ましく、支持ラック１６はポリプロピレンから形
成されることが好ましい。
【００１７】 選択可能な反応器キャップ２０は、ポリプロピレンから形成されることが好ま
しく、飛散、漏洩、蒸発損失及びウェル１８の間のウェル内部の横断的な汚染を
、以下のように、実質的に排除するように稼働する。図３Ａから９で示されるよ
うに、各反応器キャップ２０は、上部のシールプラグ部３４及び下部の煙突コー
ン部３６を有する。シールプラグ部３４は、反応ウェル１８の開いた頂端部３０
内に滑動可能に圧入適合する（ｐｒｅｓｓ ｆｉｔ）ような寸法である。各反応
器キャップ２０の中央ベント３８を通り収容される液体は、図示するように、各
反応ウェル１８の閉じた底端部３２に溜まる（ｐｏｏｌ）。煙突コーン部３６は
反応ウェル１８内の内側に伸張する寸法であり、反応ウェル１８の一般的に中央
に設置される位置で終結することが好ましい。反応ウェルの頂部の開いた端部に
挿入されていて、反応ウェルの一般的に中央に設置される位置で終結する、その
様な一般的に煙突形の反応器キャップが存在することが知られる。
【００１８】 図示されるように、ガス分配板２２は、そこを通り通過する孔２３を有するこ
とが好ましい。孔２３は、単一の孔２３が各反応ウェル１８の開いた頂端部上に
位置決めされるように（図３Ａと３Ｂで最も良く分かる）、列の形で（図１Ａと
１Ｂで最も良く分かる）配置される。孔２３により、噴射針がガスケット２４を
通り種々の反応ウェル１８内に、以下で説明するように、挿入可能である。これ
とは別の実施の形態において、孔２３はガス分配器板２２内に最初事前に製作さ
れないで、液体サンプルを反応ウェル１８内に吐出する時に、ガスケット２４及
びガス分配器板２２を通り噴射針の貫通により、代わりに後で形成される。ガス
分配器板２２は、液体の透過に対して一般的に耐性のあるガス透過可能なシート
（板）から形成されることが好ましい。その様なシートは、粒状（ｇｒａｎｕｌ
ａｔｅｄ）のポリプロピレンから形成可能であり、その場合ポリプロピレンの小
粒子は、粒子間に残ってそこを通りガス拡散が可能にする多孔性の通路又は溝を
形成するように共に接着される。その様な材料の例は、Ｇｅｏｒｇｉａ，Ｆａｉ
ｒｂｏｒｎ，のＰｏｒｅｘ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓにより製造されており、
“Ｐｏｒｅｘ”の商標名で販売されている。板２２は、任意の２つの隣接する反
応ウェル１８間にガスの分配を可能にすることにより、ここでより十分に説明す
るように、反応ウェル１８の列全体の上にガスを分配可能に適応される。
【００１９】 ガスケット２４は、シリコンゴム等のガス不透過性材料から形成されることが
好ましく、反応ウェル１８の列上にシールされた環境を形成するように稼働する
。ガスケット２４は、支持ラック１６の外側周囲の周りにガスタイトなシールを
形成する周辺角部２５を有することが好ましい。特別には角部２５は下方に突き
出るので、十分な空間が、図３Ａと３Ｂに示すように、ガス分配器板２２と反応
器キャップ２０を収納するように形成される。
【００２０】 頂部板２６は、陽極処理（ａｎｏｄｉｚｅｄ）アルミニウムから形成されるこ
とが好ましく、保持クリップ２８が支持ラック１６内のノッチ２１に適合するよ
うにインターロックするために、ガスケット２４上に下方に圧着されることによ
り所定位置に固定される。頂部板２６をガスケット２４に下方に圧着して装置を
組み立てることにより、ガスケット２４は圧縮される。従ってそこを通過するサ
ンプル吐出噴射針を取り外す際に、圧縮されたガスケット２４が、噴射針により
形成されている孔の周りを閉じるように自己シールする。頂部カバー２６の孔２
７は、サンプルを反応ウェル１８内に吐出する時に、そこを通り噴射針の容易な
挿入を可能にする。
【００２１】 ガス口４０は、以下のように、ガスを反応ウェル１８の列上のシールされた環
境に選択的に導入及び／又は吸引（ｅｖａｃｕａｔｅ）可能に形成される。ガス
口４０を通り導入されるガスは、ガス口４０に近接する領域２２ａにおいて多孔
性のガス分配器板２２を通過する。従って、ガス口４０を通り導入されるガスは
、板２２の領域２２ａを通り拡散し、それにより反応ウェル１８ａに導入される
。同様にガスは、ガス板２２の領域２２ｂを通過することにより、反応ウェル１
８ａと１８ｂ間を通過可能である。認識可能なように、ガスは従って、ガス口４
０により反応ウェル１８の列全体の上から様々に導入及び／又は除去可能である
。ガス分配板２２を通る液体の透過に対する高い抵抗により、ガス分配板２２の
これとは別の利点は、それが任意の２つの隣接するウェル間の液体の任意の横断
的な汚染を防止することである。
【００２２】 同様なガス口は、ガスを一方の端部のガス口へ容易に導入可能であると共に、
同時に装置の別の対向する端部のガス口から容易に吸引可能であるように、図３
の部分図で示されるものに関して装置の対向する端部に配置されることが好まし
い。これとは別のガス口又は複数の口４３（図１Ａに示される）が具備可能であ
る。オペレーションにおいてガス口４０は、必要に応じてガスの導入及び除去の
ための空圧マニフォールドに一般的に接続する。
【００２３】 選択可能な反応器キャップ２０は、種々の反応ウェル１８内の液体サンプルを
効果的にシールするための便利な装置を提供しており、更にガスを、反応器キャ
ップの幾何学的形状により容易に導入又は除去可能である。特別には反応ウェル
１８内へ導入された液体サンプルは、装置の種々の方向に関してウェル内に実質
的に導入状態で維持される。
【００２４】 反応器キャップ２０の中央ベント３８は、反応器キャップ２０を取り外す必要
なしで、反応ウェル１８への材料の追加又は除去を可能にする。結局本発明の重
要な利点は、振動式のシェイカー（攪拌機）装置等により、反応ウェルの列の内
容物を混合する時に、この工程において、反応ウェル１８の頂端部を個別にシー
ルする必要がない。従って使用者は合成物を合成可能であり、その後反応ウェル
の開いた頂端部３０からの合成物の実質的な損失なしで、合成物を攪拌する（ｓ
ｈａｋｅ）か又はさもなければ混合可能である。
【００２５】 図４は、液体４２を含む直立する方向の単一の反応ウェル１８を示す。示され
るように液体４２は、反応ウェル１８の底端部３２に溜まる。煙突部３６は、反
応ウェル１８の全ての方向に関して反応ウェル１８内の液体サンプルを保持する
ように稼働する狭くて開いた端部３７を有する。図５は、逆さにされた方向の反
応ウェル１８を示す。この方向において液体４２は、図示されるように、液体上
の位置に配置された煙突部３６の狭い端部３７を備える頂端部３０に溜まる。従
って図示される様な逆にされた反応ウェル１８は、液体４２を反応ウェルから流
出させない。図６は、半分逆にされた方向の反応ウェル１８を示す。この方向に
おいて、煙突部３６の狭く開いた端部３７はやはり、液体４２上に留まる。従っ
て図４、５と６を一所に見た場合に認識できるように、ウェル１８が直立位置か
ら逆にされた位置へ回転する際に、液体４２は反応ウェル１８から外へ流出しな
い。更に狭く開いた端部３７は、液体の粘度及び表面張力が液体を狭い端部３７
を介して存在することを防止する傾向があるように、十分小さい直径の寸法であ
ることが好ましい。図７において、噴射針４４を反応ウェル１８の中央底部領域
方向に向けており、それにより液体サンプルが針４４により添加された際に、反
応ウェルの最も深い部分まで貫通することにより混合を促進するための好都合な
針のガイドを示している。
【００２６】 図８と９を参照すると、選択可能な反応器キャップアセンブリ１９の更に詳し
い構造的な詳細が図示される。例えば反応器キャップ２０は、インターロックウ
ェッブ３９により共に保持されることが好ましい。従ってアセンブリ１９の反応
器キャップ２０の列は、反応ウェル１８の列に簡単に且つ同時に挿入可能である
。従ってウェブ３９は、ポリプロピレン又は容易な位置決め可能に曲がるポリエ
チレンから形成されることが好ましい。製造を容易にするために、選択可能な反
応器キャップアセンブリ１９は、ポリプロピレンを具備しても良い一式の適当な
材料から一体で形成される。
【００２７】 図１０から分かるように、本発明の多数ウェルの微小測定濃度反応装置１５は
、反応ウェル１８の閉じた底部３２をそこに入れ子状の（ｎｅｓｔｅｄ）関係で
収容する寸法であって且つ配置される孔４８を有する選択可能なベース板４５に
設置可能であると共にそれより支持可能である。ベース板４５におけるその様な
一時的な入れ子状の関係で収容する場合に、装置１５はウェル１８を孔４８内に
圧入適合することにより、所定の位置に都合良く保持されても良い。但しベース
板４５の取り付けにより、装置１５は、遠心分離機、軌道式攪拌機、棚乾燥機、
解析用噴射器及び液体処理ロボット等の、標準の深いウェルの微小測定濃度板の
形と共に稼働する任意の装置に、その代わりに好都合に設置可能である。
【００２８】 図１１Ａ、１１Ｂ、１２と１３で示されるように、温度が選択可能な加熱及び
冷却ブロック４６がまた具備され得る。図１１Ａ、１１Ｂと１２で示されるよう
に、ブロック４６は、複数の別個の微小測定濃度反応装置１５をそこに収容する
寸法であり得る。この特定の例において、ブロック４６は、３基の微小測定濃度
装置を保持する寸法で示される。しかし、ブロック４６は代わりに、単一の微小
測定濃度反応装置だけの場合を含み、任意の数の微小測定濃度反応装置を収容す
る寸法であり得ることが理解されるべきである。ブロック４６は、装置１５の反
応ウェル１８の下部の閉じた端部３２に適合する寸法である孔４７の１つ以上の
列を有しており、それによりそこに入れ子状の関係でウェル１８を保持する。ブ
ロック４６は、アルミニウムから形成出来ることが好ましい。
【００２９】 図１３でやはり示されるように、熱電対で制御される加熱要素４９がまた具備
されても良い。加熱要素４９はブロック４６の底部全体を横切る長さに渡ること
が好ましい。加熱要素４９を横切って電流を適用することにより、ウェル１８が
孔４７に下方に収容される時に、その後種々の反応ウェル１８内に上方に放射さ
れる熱を発生するように稼働する。加熱要素４９を介して通過する電流量を制御
可能に変化することにより、反応ウェルに作用する加熱の程度を制御するように
稼働する。
【００３０】 図１４から分かるように、ブロック４６はまた、そこに切られる複数の側部の
入り口５０によりそこを通り通過する複数の内部溝５３を具備することが好まし
い。入り口５０は流体がブロック４６を通り流れることを可能にする。この流体
は、ウェルがブロック４６の孔４７に収容される場合に、反応ウェル１８の温度
を下げるように使用される冷却流体であることが好ましい。溝５３は任意の数の
幾何学的方向で、ブロック４６内に配置されても良いことが理解されるべきであ
る。しかし均一な冷却のために、溝５３は、各個別の反応ウェル１８が下に設置
される溝５３の一般的に近位に間隔を持って配置されるような方向で、ブロック
４６に配置されることが好ましい。
【００３１】 プラグ５１は、ブロック４６と同じ材料から形成されることが好ましく、ブロ
ック４６を通る流体の流路が、好適な経路の方向を向くことが可能なように、溝
５３に選択的に配置可能である。図１４に示すように、この好適な経路は、蛇行
する性質であり得る。その様な蛇行する流れの利点は、ブロック４６を流体が通
過するために要する時間が増大されることにより、プラグ５１が取り外されたと
きに比べて、反応ウェル及び冷却流体間で熱交換が改善されることである。更に
ブロック４６への流体管路の接続は、流体が単一の入り口５０ａを通り導入され
更に別の単一の口５０ｂから流出することだけが必要であると示されるように設
置されたプラグ５１により単純化される。
【００３２】 ブロック４６を通る冷却流体の温度、流路及び流量を制御することにより、又
は加熱要素４９を通過する電流量を制御することにより、反応ウェルの加熱及び
冷却効果は、所定の温度が必要に応じて素早く到達及び調整可能に制御可能にバ
ランスをとることが出来る。
【００３３】 修正及び変更が、記載された請求項に定義された発明の主題から逸脱しないで
、開示された実施の形態に対して実施されることが可能である。例えば種々の反
応ウェルに添加される材料は、液体、ガス又はペレットや粉体等の固体のいずれ
であっても可能である。更に流体の任意の温度が、温度制御のために、ブロック
４６内で使用可能である。例えば、加熱流体が冷却流体の代わりに使用されても
良く、それにより加熱要素４９による加熱の必要を減少又は排除しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】 図１Ａは、本発明の微小測定濃度反応装置の分解頂部概念図である。
【図１Ｂ】 図１Ｂは、図１Ａに対応する分解底部概念図である。
【図２】 図２は、図１Ａの微小測定濃度装置の、組み立て状態の、頂部立体図である。
【図３Ａ】 図３Ａは、図２の微小測定濃度装置の一部分の部分側断面図であり、支持ラッ
ク内に一体で形成された反応ウェルの列を示す。
【図３Ｂ】 図３Ｂは、図３Ａに対応する図面であるが、支持ラックを通過する通路に収容
された別個に取り外し可能な反応ウェルの列を有している。
【図４】 図４は、図３Ａと３Ｂの本発明の新規な装置に組み込まれる状態で、直立した
方向にある一式の従来技術の反応ウェルの側断面図である。
【図５】 図５は、逆にされた位置の図４の反応ウェルを図示する。
【図６】 図６は、部分的に逆にされた位置の図４の反応ウェルを図示する。
【図７】 図７は、図４の反応ウェルに収容された噴射針を図示する。
【図８】 図８は、図１Ａ、１Ｂ、３Ａと３Ｂの新規な装置に組み込まれた状態の従来技
術の反応器キャップの頂部立体図である。
【図９】 図９は、図８の反応器キャップの底部立体図である。
【図１０】 図１０は、図２の装置の反応ウェルの閉じた底端部の下に配置されると共にそ
の底端部を支持するように適合される取り外し可能なベース板の頂部立体図であ
る。
【図１１Ａ】 図１１Ａは、温度加熱及び冷却ブロック内に収容される１つの図２の装置の頂
部平面図である。
【図１１Ｂ】 図１１Ｂは、図１１Ａの線１１Ｂ−１１Ｂに沿った側断面図である。
【図１２】 図１２は、図１１Ａの温度加熱及び冷却ブロックの頂部平面図である。
【図１３】 図１３は、図１２の線１３−１３に沿って切断された図１２のブロックの側部
側断面図である。
【図１４】 図１４は、図１３の線１４−１４に沿って切断された図１２のブロックの頂部
断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ (72)発明者 コーエン，ジョー アメリカ合衆国，カリフォルニア 92014， デル マー，ビー27，ストラットフォード コート 424 (72)発明者 ザムビアス，ロバート エー． アメリカ合衆国，カリフォルニア 92122， サン ディエゴ，チャーマント ドライブ 7405，アパートメント ＃2224 Ｆターム(参考） 4G075 AA13 AA45 AA62 AA63 AA65 BB05 BD07 DA02 EA06 EC01 EC13 EC26 EE12 EE36 FA01 FA05 FA14 FB02 FB06 FB12 FB13

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 微小濃度測定（ｍｉｃｒｏｔｉｔｒｅ）反応装置において、
    この微小濃度測定反応装置が、 支持ラックがそこ（支持ラック）に配置される反応ウェルの列を有しており、
    各反応ウェルが開いた頂端部及び閉じた底端部を有する支持ラックと、 ガス透過可能な層が支持ラック上に位置しており、各複数の反応ウェルの開い
    た頂端部上に位置する各孔と共にそこ（ガス透過可能な層）に孔の列を有するガ
    ス透過可能な層と、更に ガス透過可能な層上に位置するガスケットと、 を具備する微小濃度測定反応装置。
  2. 【請求項２】 この微小濃度測定反応装置が、支持ラックの下に位置するよ
    うな寸法のベース板を更に具備しており、 ベース板が、そこに入れ子状の（ｎｅｓｔｅｄ）関係で反応ウェルの底端部を
    支持するような寸法の収容孔の列を有する請求項１に記載の微小濃度測定反応装
    置。
  3. 【請求項３】 ガスケットの外側角部が、支持ラックの外側角部に接してお
    り、それによりシールされた環境において複数の反応ウェルの内部容積を包囲す
    る請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  4. 【請求項４】 ガスケットが自己シール性（ｓｅｌｆ−ｓｅａｌｉｎｇ）で
    ある請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  5. 【請求項５】 ガスケット上に配置された頂部カバーを更に具備する請求項
    １に記載の微小濃度測定反応装置。
  6. 【請求項６】 頂部カバーが、支持ラックと適合するようにインターロック
    するために下方に伸張する複数の保持クリップを更に具備する請求項５に記載の
    微小濃度測定反応装置。
  7. 【請求項７】 ガス透過可能な層及び外部環境の間においてガスの交換を可
    能にするガス透過可能な層に流体的に接続するガス入り口を更に具備する請求項
    ３に記載の微小濃度測定反応装置。
  8. 【請求項８】 温度加熱及び冷却ブロックが支持ラックの下に位置するよう
    な寸法であり、該ブロックがそこに入れ子状の関係で反応ウェルの底端部を支持
    する寸法の孔の列を有する、温度加熱及び冷却ブロックを更に具備する請求項１
    に記載の微小濃度測定反応装置。
  9. 【請求項９】 熱電対により制御される加熱要素を更に具備する請求項８に
    記載の微小濃度測定反応装置。
  10. 【請求項１０】 ブロックを通過する複数の内部溝を更に具備する請求項８
    に記載の微小濃度測定反応装置。
  11. 【請求項１１】 複数の内部溝が蛇行する流路を形成する請求項１０に記載
    の微小濃度測定反応装置。
  12. 【請求項１２】 各反応ウェルの開いた頂端部内に収容される各反応器キャ
    ップを有する複数の一般的に煙突形状の反応器キャップを更に具備する請求項１
    に記載の微小濃度測定反応装置。
  13. 【請求項１３】 反応器キャップが、シールプラグ部及び端部の開いた煙突
    コーン部を具備する請求項１２に記載の微小濃度測定反応装置。
  14. 【請求項１４】 複数の反応器キャップが、インターロックウェッブにより
    列形態で共に保持される請求項１２に記載の微小濃度測定反応装置。
  15. 【請求項１５】 複数の反応器キャップ及びインターロックウェッブが、単
    一の材料から一体で形成される請求項１４に記載の微小濃度測定反応装置。
  16. 【請求項１６】 支持ラックがそこを通過する通路の列を有しており、各反
    応ウェルが、支持ラックの通路の１つに収容される個別に取り外し可能な反応ウ
    ェルを具備する請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  17. 【請求項１７】 反応ウェルが通路内に密着して収容されており、それによ
    り通路をシールする請求項１６に記載の微小濃度測定反応装置。
  18. 【請求項１８】 支持ラックがポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎ
    ｅ）から形成される請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  19. 【請求項１９】 反応ウェルがポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎ
    ｅ）から形成される請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  20. 【請求項２０】 反応ウェルがガラスから形成される請求項１に記載の微小
    濃度測定反応装置。
  21. 【請求項２１】 ガス透過可能な層がポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙ
    ｌｅｎｅ）から形成される請求項１に記載の微小濃度測定反応装置。
  22. 【請求項２２】 ガスケットがシリコンゴムから形成される請求項１に記載
    の微小濃度測定反応装置。
  23. 【請求項２３】 頂部カバーが陽極処理（ａｎｏｄｉｚｅｄ）アルミニウム
    から形成される請求項５に記載の微小濃度測定反応装置。
  24. 【請求項２４】 微小濃度測定反応装置において、この微小濃度測定反応装
    置が、 そこ（支持ラック）を通過する通路の列を有する支持ラックと、 通路内に配置されていて、各反応ウェルが開いた頂端部及び閉じた底端部を有
    する、個別に取り外し可能な反応ウェルの列と、 各反応ウェルの開いた頂端部内に収容される各反応器キャップを有する複数の
    一般的に煙突形状の反応器キャップと、 ガス透過可能な層が支持ラック上に位置しており、各複数の反応ウェルの開い
    た頂端部上に位置する各孔と共にそこ（ガス透過可能な層）に孔の列を有する、
    ガス透過可能な層と、 自己シール性（ｓｅｌｆ−ｓｅａｌｉｎｇ）のガスケットが、ガス透過可能な
    層上に位置しており、ガスケットの外側角部が支持ラックの外側角部に接してお
    り、それによりシールされた環境において複数の反応ウェルの内部容積を包囲す
    る、自己シール性のガスケットと、 ガスケット上に位置する頂部カバーと、更に 支持ラックに適合するようにインターロックするために下方に伸張する複数の
    保持クリップと、 を具備する微小濃度測定反応装置。
JP2000559936A 1998-07-15 1999-07-12 微小測定濃度化学反応装置 Pending JP2002520154A (ja)

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