JP2002516392A - 方向付けられたガス噴流を発生させる方法及び装置 - Google Patents
方向付けられたガス噴流を発生させる方法及び装置Info
- Publication number
- JP2002516392A JP2002516392A JP2000549956A JP2000549956A JP2002516392A JP 2002516392 A JP2002516392 A JP 2002516392A JP 2000549956 A JP2000549956 A JP 2000549956A JP 2000549956 A JP2000549956 A JP 2000549956A JP 2002516392 A JP2002516392 A JP 2002516392A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- sample
- jet
- gas jet
- auxiliary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H3/00—Production or acceleration of neutral particle beams, e.g. molecular or atomic beams
- H05H3/02—Molecular or atomic beam generation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/313—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced in the centre of the conduit
- B01F25/3131—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced in the centre of the conduit with additional mixing means other than injector mixers, e.g. screens, baffles or rotating elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/40—Static mixers
- B01F25/42—Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
- B01F25/43—Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
- B01F25/433—Mixing tubes wherein the shape of the tube influences the mixing, e.g. mixing tubes with varying cross-section or provided with inwardly extending profiles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/40—Static mixers
- B01F25/42—Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
- B01F25/43—Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
- B01F25/433—Mixing tubes wherein the shape of the tube influences the mixing, e.g. mixing tubes with varying cross-section or provided with inwardly extending profiles
- B01F25/4334—Mixers with a converging cross-section
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/71—Feed mechanisms
- B01F35/712—Feed mechanisms for feeding fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/71—Feed mechanisms
- B01F35/717—Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer
- B01F35/71755—Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer using means for feeding components in a pulsating or intermittent manner
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0329—Mixing of plural fluids of diverse characteristics or conditions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87676—With flow control
- Y10T137/87684—Valve in each inlet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87676—With flow control
- Y10T137/87684—Valve in each inlet
- Y10T137/87692—With common valve operator
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
本発明は、方向付けられたガス噴流を発生する方法及び装置に関する。本発明の課題は、前記方法及び装置を、最大の粒子密度を発生するように構成することである。前記課題は、ガイドされたサンプルガス噴流を発生させ、ガイドされたサンプルガス噴流から分離されて同じ方向に延びる、方向付けられかつガイドされた補助ガス噴流を発生させかつ一定の区間にわたりサンプルガス噴流と補助ガス噴流を合流させることにより、かつ供給導管を有する中央サンプルガイド部材(7)と、供給導管(6)を有しかつ前記ガイドを同心的に包囲する補助ガスガイド部材(8)とからなり、その際サンプルガスガイド部材(7)が補助ガスガイド部材(8)内で終わっており、その際補助ガスのための供給導管内にパルス弁(4)を有する装置により解決される。
Description
【0001】 本発明は、方向付けられたガス噴流を発生させる方法及び装置に関する。
【0002】 ガス状サンプルのための急速オンライン分析は、研究さらにまた工業の多くの
領域において挑戦されている。該分析は、例えばごみ焼却装置からの煙道ガス、
コーヒー焙焼の際の焙焼ガスの調査、監視、鉱油、土質サンプルのヘッドスペー
ス分析及びそれから得られた情報をプロセス制御のパラメータとして利用するこ
とができる。この場合、しばしば工業用燃焼装置の煙道ガス内の例えば多環式芳
香族炭化水素のような芳香族基礎骨核を有する化合物が重要である。個々のPA
Kの種々の異性体は種々異なった環境重要性もしくは毒性を有しているので、こ
れらを選択的に検出ことが重要である。
領域において挑戦されている。該分析は、例えばごみ焼却装置からの煙道ガス、
コーヒー焙焼の際の焙焼ガスの調査、監視、鉱油、土質サンプルのヘッドスペー
ス分析及びそれから得られた情報をプロセス制御のパラメータとして利用するこ
とができる。この場合、しばしば工業用燃焼装置の煙道ガス内の例えば多環式芳
香族炭化水素のような芳香族基礎骨核を有する化合物が重要である。個々のPA
Kの種々の異性体は種々異なった環境重要性もしくは毒性を有しているので、こ
れらを選択的に検出ことが重要である。
【0003】 ガス状サンプル場合急速オンライン分析のためには、特に超音波分子ビーム技
術を使用した分子分光法が適当である。この場合には、サンプルビームが断熱的
に真空内で膨張される、このことはサンプル分子の内部エネルギーの低下をもた
らす。この内部エネルギーの低下は、低下された温度と同義である。従って、サ
ンプル分子は断熱膨張により冷却される。このことは分子の励起のために、冷却
されないサンプルとは反対にオーバーラップしない狭いエネルギー帯を生じる。
励起のための必要なエネルギーは種々の化合物においても及びまた化合物の種々
の異性体においても異なるので、該エネルギーを異性体選択性の調査のために使
用することができる。そうして、例えば励起及び引き続いての狭帯域のレーザを
用いた光イオン化(REMPI)により、異性体選択性までの極めて高い光学的
選択性が達成される。
術を使用した分子分光法が適当である。この場合には、サンプルビームが断熱的
に真空内で膨張される、このことはサンプル分子の内部エネルギーの低下をもた
らす。この内部エネルギーの低下は、低下された温度と同義である。従って、サ
ンプル分子は断熱膨張により冷却される。このことは分子の励起のために、冷却
されないサンプルとは反対にオーバーラップしない狭いエネルギー帯を生じる。
励起のための必要なエネルギーは種々の化合物においても及びまた化合物の種々
の異性体においても異なるので、該エネルギーを異性体選択性の調査のために使
用することができる。そうして、例えば励起及び引き続いての狭帯域のレーザを
用いた光イオン化(REMPI)により、異性体選択性までの極めて高い光学的
選択性が達成される。
【0004】 通常、超音波分子ビームは連続的あるいはまたパルス化されたガス噴流を小さ
なノズルを経て真空内に膨張させることにより発生される。この方法は従来就中
、検出感度が重要視されない分光的検査のために使用される。サンプルガス噴流
は膨張の際に急速に膨張する(このことはサンプル密度の低下をもたらす)ので
、達成可能な検出感度は、例えばサンプル分子の冷却が行われない噴散ガス流入
におけるような選択的流入技術よりも明らかに悪い。従って、オンライン分析に
おける選択的超音波分子ビーム技術を使用するための目的は検出感度の改良であ
る。
なノズルを経て真空内に膨張させることにより発生される。この方法は従来就中
、検出感度が重要視されない分光的検査のために使用される。サンプルガス噴流
は膨張の際に急速に膨張する(このことはサンプル密度の低下をもたらす)ので
、達成可能な検出感度は、例えばサンプル分子の冷却が行われない噴散ガス流入
におけるような選択的流入技術よりも明らかに悪い。従って、オンライン分析に
おける選択的超音波分子ビーム技術を使用するための目的は検出感度の改良であ
る。
【0005】 このための提案は、刊行文献スチラー(S. W. Stiller)及びジョンストン(M
. V. Johnston)著“Supersonic Jet Spectroscopy with a Capillary Gas Chro
mtographic Inlet”. Anal. Chem. 1978 59 567-572に記載されている。スチラ
ー及びジョンストンは、ガスクロマトグラフィー(GC)及びレーザ誘導蛍光分
光分析(LIF)と超音波分子ビーム技術(Jet)との結合装置を開発した。
このために、GCキャピラリが中心部で補助ガス噴流の同心ガイド部材内に突入
する装置を利用する。GCキャピラリを介して供給されたサンプルガスは、補助
ガス噴流のコア(中心軸線)に供給される。先細の開口を経て、補助ガス噴流内
で中心軸線に沿って収束されたサンプルガス噴流は真空内で連続的に膨張され、
この場合連続的超音波分子ビームが形成される。
. V. Johnston)著“Supersonic Jet Spectroscopy with a Capillary Gas Chro
mtographic Inlet”. Anal. Chem. 1978 59 567-572に記載されている。スチラ
ー及びジョンストンは、ガスクロマトグラフィー(GC)及びレーザ誘導蛍光分
光分析(LIF)と超音波分子ビーム技術(Jet)との結合装置を開発した。
このために、GCキャピラリが中心部で補助ガス噴流の同心ガイド部材内に突入
する装置を利用する。GCキャピラリを介して供給されたサンプルガスは、補助
ガス噴流のコア(中心軸線)に供給される。先細の開口を経て、補助ガス噴流内
で中心軸線に沿って収束されたサンプルガス噴流は真空内で連続的に膨張され、
この場合連続的超音波分子ビームが形成される。
【0006】 真空内でのガス噴流の断熱的膨張は、補助ガス分子及びサンプルガス分子の冷
却をもたらす。断熱的冷却により、分子の励起された状態のための鮮鋭に規定さ
れたバンドを生じる。その際には、鮮鋭に規定されたエネルギー(レーザ波長)
の場合には、一定のサンプル分子だけを励起することができ、このことは高い光
学的選択性を惹起する。高い光学的選択性により、サンプル分子を部分的にしか
も異性体選択的に検出することができる。
却をもたらす。断熱的冷却により、分子の励起された状態のための鮮鋭に規定さ
れたバンドを生じる。その際には、鮮鋭に規定されたエネルギー(レーザ波長)
の場合には、一定のサンプル分子だけを励起することができ、このことは高い光
学的選択性を惹起する。高い光学的選択性により、サンプル分子を部分的にしか
も異性体選択的に検出することができる。
【0007】 真空室に向かってガス噴流ガイド部材の同心的に先細の開口は補助ガス噴流の
中心軸線へのサンプルガス噴流の付加的収束を惹起するので、真空内への膨張の
際にサンプルガス噴流の拡大された空間的膨張が生じる。その際、後続のイオン
化又は蛍光励起の際に、流入するサンプル分子の大部分を放射することができ(
より高い感度)、しかもレーザビームの空間的広がり(より低い出力密度)によ
る励起もしくはイオン化のための作用横断面は縮小されない。
中心軸線へのサンプルガス噴流の付加的収束を惹起するので、真空内への膨張の
際にサンプルガス噴流の拡大された空間的膨張が生じる。その際、後続のイオン
化又は蛍光励起の際に、流入するサンプル分子の大部分を放射することができ(
より高い感度)、しかもレーザビームの空間的広がり(より低い出力密度)によ
る励起もしくはイオン化のための作用横断面は縮小されない。
【0008】 確かに、スチラー及びジョンストンにより記載された装置により励起もしくは
イオン化容積内のサンプルガス密度は高められるが、しかし連続的ガス噴流によ
り、一面では高真空条件は、サンプル分子間もしくは補助ガスとの衝突が重要な
測定を不可能にする程に強度に妨害される。他面では、レーザパルスの間にイオ
ン化されない、ひいては検出されないサンプルの大部分が消滅される。
イオン化容積内のサンプルガス密度は高められるが、しかし連続的ガス噴流によ
り、一面では高真空条件は、サンプル分子間もしくは補助ガスとの衝突が重要な
測定を不可能にする程に強度に妨害される。他面では、レーザパルスの間にイオ
ン化されない、ひいては検出されないサンプルの大部分が消滅される。
【0009】 超音波分子ビーム技術を使用する際の検出感度を改良するための別の装置は、
ペピッヒ(B. V. Pepich)、カリス(J. B. Callis)、シェッルドン(J. D. Sh
eldon Danielson)及びゴーターマン(M. Gouterman)により刊行文献“Pulsed
free jet expansion system for high-resolution fluoresence spectroscopy o
f capillary gas chromatographic effluents”, Rev. Sci. Instrum. 57 (5),
1986, 878-887に記載されている。ペピッヒ他は、該刊行文献にレーザ誘導蛍光
分光分析のためのGC超音波分子ビーム結合を提案している。パルス化した流入
により、就中噴散流入に比較して分析のために採用されるサンプル量の最初の増
加が達成される。GC流をパルス化した流入により中断しないために、ペピッヒ
はサンプルを噴散的にフロントチャンバに流入させることを提案している。この
フロントチャンバに、同時に膨張冷却のために必要なガスを供給するパルス化し
たキャリヤガスが押し込まれる。この場合、このキャリヤガスは、フロントチャ
ンバ内のサンプルガスをピストンのように小さい開口を通して下に向かって、蛍
光励起が行われる光学チャンバに押し込む。サンプルガスのパルス化した圧縮及
び光学チャンバへの噴射により、後続のレーザ励起の際により多数のサンプル分
子を捕捉することができる(検出感度の上昇)。この場合、弁開放及びレーザパ
ルスは、実際にガスパルス内の圧縮したサンプルガスの範囲に当たるように、時
間的に相互に同調させねばならない。
ペピッヒ(B. V. Pepich)、カリス(J. B. Callis)、シェッルドン(J. D. Sh
eldon Danielson)及びゴーターマン(M. Gouterman)により刊行文献“Pulsed
free jet expansion system for high-resolution fluoresence spectroscopy o
f capillary gas chromatographic effluents”, Rev. Sci. Instrum. 57 (5),
1986, 878-887に記載されている。ペピッヒ他は、該刊行文献にレーザ誘導蛍光
分光分析のためのGC超音波分子ビーム結合を提案している。パルス化した流入
により、就中噴散流入に比較して分析のために採用されるサンプル量の最初の増
加が達成される。GC流をパルス化した流入により中断しないために、ペピッヒ
はサンプルを噴散的にフロントチャンバに流入させることを提案している。この
フロントチャンバに、同時に膨張冷却のために必要なガスを供給するパルス化し
たキャリヤガスが押し込まれる。この場合、このキャリヤガスは、フロントチャ
ンバ内のサンプルガスをピストンのように小さい開口を通して下に向かって、蛍
光励起が行われる光学チャンバに押し込む。サンプルガスのパルス化した圧縮及
び光学チャンバへの噴射により、後続のレーザ励起の際により多数のサンプル分
子を捕捉することができる(検出感度の上昇)。この場合、弁開放及びレーザパ
ルスは、実際にガスパルス内の圧縮したサンプルガスの範囲に当たるように、時
間的に相互に同調させねばならない。
【0010】 超音波分子ビーム技術により、サンプルの断熱冷却が達成され、それにより方
法の選択性が著しく高められる。
法の選択性が著しく高められる。
【0011】 従って、ペピッヒ他によって選択された構造は、サンプルのガス流動方向での
繰り返しの、時間的に制限された圧縮、ひいては検出感度の改良を可能にする。
該構造はもちろん超音波分子ビーム技術のための典型的な、サンプルの急速な空
間的膨張を妨害しない、それによりサンプルガスの大部分は励起又はイオン化の
際に励起もしくはイオン化容積の外部にある。レーザビームの広がりは、この場
合もイオン化作用横断面の強度の悪化にために不可能である。
繰り返しの、時間的に制限された圧縮、ひいては検出感度の改良を可能にする。
該構造はもちろん超音波分子ビーム技術のための典型的な、サンプルの急速な空
間的膨張を妨害しない、それによりサンプルガスの大部分は励起又はイオン化の
際に励起もしくはイオン化容積の外部にある。レーザビームの広がりは、この場
合もイオン化作用横断面の強度の悪化にために不可能である。
【0012】 本発明の課題は、冒頭に記載した形式の方法及び装置を、最大の粒子密度が発
生されるように構成することである。
生されるように構成することである。
【0013】 前記課題は、請求項1及び9に記載の特徴により解決される。従属請求項は本
発明の有利な構成を記載しかつ請求項15〜17は装置の有利な使用を挙げる。
発明の有利な構成を記載しかつ請求項15〜17は装置の有利な使用を挙げる。
【0014】 方向付けられたガス噴流は、本発明による概念によれば、ガイドされたサンプ
ルガス噴流及び方向付けられかつガイドされたサンプルガス噴流を発生させ、そ
の際方向付けられ、ガイドされた補助ガス噴流をサンプルガス噴流から分離し、
但しサンプルガス噴流と同じ方向に進行し、引き続きサンプルガス噴流と補助ガ
ス噴流の一定の区間にわたりを一緒にガイドすることにより実現される。この場
合、補助ガス噴流ガイド部材、サンプルガス噴流ガイド部材及び両者のガス噴流
の合流ガイドの区間の長さは、その都度の要求に合わせねばならない。両者のガ
ス噴流の合流ガイドの長い区間(数センチメートル)の場合には、短い区間(数
ミリメートル)の場合よりサンプルガスと補助ガスの一層強度の混合が生じる。
その都度混合を所望するか又はまさに回避すべきかに基づき、両者のガス噴流の
合流ガイドのための区間の長さを種々に選択しなければならない。
ルガス噴流及び方向付けられかつガイドされたサンプルガス噴流を発生させ、そ
の際方向付けられ、ガイドされた補助ガス噴流をサンプルガス噴流から分離し、
但しサンプルガス噴流と同じ方向に進行し、引き続きサンプルガス噴流と補助ガ
ス噴流の一定の区間にわたりを一緒にガイドすることにより実現される。この場
合、補助ガス噴流ガイド部材、サンプルガス噴流ガイド部材及び両者のガス噴流
の合流ガイドの区間の長さは、その都度の要求に合わせねばならない。両者のガ
ス噴流の合流ガイドの長い区間(数センチメートル)の場合には、短い区間(数
ミリメートル)の場合よりサンプルガスと補助ガスの一層強度の混合が生じる。
その都度混合を所望するか又はまさに回避すべきかに基づき、両者のガス噴流の
合流ガイドのための区間の長さを種々に選択しなければならない。
【0015】 本発明による方法に相応して、補助ガス噴流をパルス化して発生させるのが有
利である。それというのも、それによりできるだけ良好な高真空条件を保ちかつ
そうしてサンプル分子の相互の又は補助ガス分子との衝突による妨害影響を回避
することができるからである。
利である。それというのも、それによりできるだけ良好な高真空条件を保ちかつ
そうしてサンプル分子の相互の又は補助ガス分子との衝突による妨害影響を回避
することができるからである。
【0016】 合流ガイドされるガス噴流の一定の共通の区間後にその横断面を狭窄させるの
が望ましい。それにより、イオン化チャンバ内でのサンプルの急速な空間的膨張
が回避されかつ前記述べたように、サンプルの大きな割合がイオン化される、こ
のことは感度上昇をもたらす。サンプルガス噴流と補助ガス噴流を補助ガス噴流
の中心軸線に沿って合流ガイドする場合には、横断面狭窄は補助ガス噴流の中心
軸線に沿ったサンプルガスの一層強い収束(流動方向に対して横方向)を惹起す
る(サンプル分子の高い密度)。レーザビームを補助ガス噴流の中心軸線に収束
させると、イオン化位置でのレーザ出力密度の上昇及びイオン化ボリウム内での
サンプル密度の上昇からなる組み合わせにより感度上昇が達成される。
が望ましい。それにより、イオン化チャンバ内でのサンプルの急速な空間的膨張
が回避されかつ前記述べたように、サンプルの大きな割合がイオン化される、こ
のことは感度上昇をもたらす。サンプルガス噴流と補助ガス噴流を補助ガス噴流
の中心軸線に沿って合流ガイドする場合には、横断面狭窄は補助ガス噴流の中心
軸線に沿ったサンプルガスの一層強い収束(流動方向に対して横方向)を惹起す
る(サンプル分子の高い密度)。レーザビームを補助ガス噴流の中心軸線に収束
させると、イオン化位置でのレーザ出力密度の上昇及びイオン化ボリウム内での
サンプル密度の上昇からなる組み合わせにより感度上昇が達成される。
【0017】 サンプルガス噴流をパルス化したキャリヤガス噴流内に埋包するのが特に有利
である。それというのも、それによりサンプルガス噴流がガス噴流の流動方向で
圧縮されるからである。
である。それというのも、それによりサンプルガス噴流がガス噴流の流動方向で
圧縮されるからである。
【0018】 この圧縮されたサンプルガスパルスがイオン化容積内に達すると、レーザパル
スでサンプルガス分子の大きな割合がイオン化され、このことは流入したサンプ
ル量の有効な利用、ひいては感度上昇をもたらす。
スでサンプルガス分子の大きな割合がイオン化され、このことは流入したサンプ
ル量の有効な利用、ひいては感度上昇をもたらす。
【0019】 有利にはキャリヤガス噴流と補助ガス噴流のパルスの間の時間的相関関係を調
整すれば、それによりキャリヤガスパルス内での圧縮されたサンプルガスパルス
の好ましい位置を選択することができる。そのようにして、ガス噴流の流動方向
でのキャリヤガスパルスによるサンプルの圧縮と、流動方向に対して横方向の補
助ガス噴流によるサンプルの圧縮の最適な組み合わせを達成することができる。
それにより、サンプル容量をレーザビーム内のイオン化容積に近付けることがで
きる。ガスパルスとレーザパルスとの付加的時間的相関関係において、サンプル
パルスを常に、レーザがイオン化容積を照射する時点だけに、イオン化容積内に
流入させかつそうしてレーザパルス間のサンプル分子の消滅(サンプル分子のイ
オン化が行われず、ひいては検出が行われない)が回避される。このことは流入
したサンプル量の最大の利用、ひいては従来の超音波分子ビーム導入技術に比し
て著しい感度上昇をもたらす。
整すれば、それによりキャリヤガスパルス内での圧縮されたサンプルガスパルス
の好ましい位置を選択することができる。そのようにして、ガス噴流の流動方向
でのキャリヤガスパルスによるサンプルの圧縮と、流動方向に対して横方向の補
助ガス噴流によるサンプルの圧縮の最適な組み合わせを達成することができる。
それにより、サンプル容量をレーザビーム内のイオン化容積に近付けることがで
きる。ガスパルスとレーザパルスとの付加的時間的相関関係において、サンプル
パルスを常に、レーザがイオン化容積を照射する時点だけに、イオン化容積内に
流入させかつそうしてレーザパルス間のサンプル分子の消滅(サンプル分子のイ
オン化が行われず、ひいては検出が行われない)が回避される。このことは流入
したサンプル量の最大の利用、ひいては従来の超音波分子ビーム導入技術に比し
て著しい感度上昇をもたらす。
【0020】 横断面狭窄後にガス噴流を真空中に放圧するのが有利である。横断面狭窄部に
より既に、超音波分子ビームを形成するために、少ない容量流及び低いガス貯蔵
圧が達成される。この超音波分子ビーム内で、ガス噴流の断熱性膨張により分子
の冷却が行われ、このことは前記のように、本方法の光学的選択性を著しく向上
させる。
より既に、超音波分子ビームを形成するために、少ない容量流及び低いガス貯蔵
圧が達成される。この超音波分子ビーム内で、ガス噴流の断熱性膨張により分子
の冷却が行われ、このことは前記のように、本方法の光学的選択性を著しく向上
させる。
【0021】 補助ガスガイド部材内への開口部の前方のサンプルガスガイド部材の狭窄部は
、一面では有利にサンプルガスの圧縮のために作用する。それというのも、パル
ス化されたキャリヤガスの流入の際にサンプルは補助ガスガイド部材内への開口
部でせき止められかつピストンによるように補助ガス噴流内へ押し込まれないか
らである。しかしながら、せき止めにより、サンプルガスガイド部材を空にする
のが緩慢になり、それにより時間的に広幅のサンプルガスパルスが生じる。他面
、狭窄部は、補助ガス噴流の中心軸線へのサンプルガス噴流の収束を惹起する。
、一面では有利にサンプルガスの圧縮のために作用する。それというのも、パル
ス化されたキャリヤガスの流入の際にサンプルは補助ガスガイド部材内への開口
部でせき止められかつピストンによるように補助ガス噴流内へ押し込まれないか
らである。しかしながら、せき止めにより、サンプルガスガイド部材を空にする
のが緩慢になり、それにより時間的に広幅のサンプルガスパルスが生じる。他面
、狭窄部は、補助ガス噴流の中心軸線へのサンプルガス噴流の収束を惹起する。
【0022】 サンプルガス噴流及び/又は合流ガイドされるガス噴流の狭窄部は、様々に構
成されていてもよい。ラバル形又はベンチュリ形の狭窄部が有利であることが立
証された。この場合、補助ガスガイド部材内へのサンプルガスガイド部材の開口
部及び真空内への補助ガスガイド部材の開口部のための種々のノズル形を組み合
わせることができる。
成されていてもよい。ラバル形又はベンチュリ形の狭窄部が有利であることが立
証された。この場合、補助ガスガイド部材内へのサンプルガスガイド部材の開口
部及び真空内への補助ガスガイド部材の開口部のための種々のノズル形を組み合
わせることができる。
【0023】 非導電性材料からなる真空内への補助ガスガイド部材の開口部にノズルを使用
するのが有利なこともある。
するのが有利なこともある。
【0024】 本発明による方法の有利な実施態様によれば、例えば石英ガラスのような不活
性材料を、サンプルガスが接触する全てのガスガイドのための表面で使用するこ
とができる。それにより、サンプル組成の変換を生じる接触プロセスを回避する
ことができる。
性材料を、サンプルガスが接触する全てのガスガイドのための表面で使用するこ
とができる。それにより、サンプル組成の変換を生じる接触プロセスを回避する
ことができる。
【0025】 さらに、サンプルガスガイド部材及び供給導管内でのサンプル成分の凝結によ
るメモリー効果が阻止されるように、真空室内への出口までの全てのサンプルガ
スガイド部材が加熱可能であるように、本発明による方法を実施するのが有利で
ある。
るメモリー効果が阻止されるように、真空室内への出口までの全てのサンプルガ
スガイド部材が加熱可能であるように、本発明による方法を実施するのが有利で
ある。
【0026】 さらに、本発明による課題はまた、方向付けられたガス噴流を発生させる装置
により解決され、該装置においては、ガイドされたサンプルガス噴流、及びガイ
ドされたサンプルガス噴流から分離されて同じ方向に延びる、方向付けられ、ガ
イドされたサンプルガス噴流が発生され、かつ、引き続きサンプルガス噴流と補
助ガス噴流が一定区間にわたり一緒にガイドされる。
により解決され、該装置においては、ガイドされたサンプルガス噴流、及びガイ
ドされたサンプルガス噴流から分離されて同じ方向に延びる、方向付けられ、ガ
イドされたサンプルガス噴流が発生され、かつ、引き続きサンプルガス噴流と補
助ガス噴流が一定区間にわたり一緒にガイドされる。
【0027】 本発明による装置は、サンプルガス噴流が補助ガス噴流の中心軸線に沿ってガ
イドされるように、サンプルガス噴流を補助ガス噴流内に配置することができ、
それによって真空内への膨張の際にサンプルガス噴流の急速な空間的膨張が十分
に阻止されるという利点を提供する。
イドされるように、サンプルガス噴流を補助ガス噴流内に配置することができ、
それによって真空内への膨張の際にサンプルガス噴流の急速な空間的膨張が十分
に阻止されるという利点を提供する。
【0028】 次に、本発明を実施例により図面を用いて詳細に説明する。
【0029】 本発明による装置の有利な実施例(この場合には、サンプルガス11からなる
ガス噴流は補助ガス6からなる補助ガス噴流内に埋包される)は、供給導管を有
する中央サンプルガスガイド部材8及び該部材を同心的に包囲しかつ供給導管を
有する補助ガスガイド部材8からなり、この場合サンプルガスガイド部材7は補
助ガスガイド部材8内で終わっている。この際、補助ガス6は、補助ガス6のた
めの供給導管内のパルス弁4を経て供給される。補助ガス6、キャリヤガス3及
びサンプルガス11は、入口フランジを貫通して真空内に導かれる。
ガス噴流は補助ガス6からなる補助ガス噴流内に埋包される)は、供給導管を有
する中央サンプルガスガイド部材8及び該部材を同心的に包囲しかつ供給導管を
有する補助ガスガイド部材8からなり、この場合サンプルガスガイド部材7は補
助ガスガイド部材8内で終わっている。この際、補助ガス6は、補助ガス6のた
めの供給導管内のパルス弁4を経て供給される。補助ガス6、キャリヤガス3及
びサンプルガス11は、入口フランジを貫通して真空内に導かれる。
【0030】 サンプルガスガイド部材7が終わる補助ガスガイド部材8の端部の狭窄部は極
めて有利である。それというのも、それにより既に比較的低いガス貯蔵圧及び少
ない容量流(良好な真空条件を保つために重要である)において真空内にガス噴
流を膨張させる超音波分子ビームを形成させることができるからである。それに
よりサンプルの断熱冷却が生じかつそうして光イオン化又は吸収プロセスの際の
光学的選択性の向上をもたらす。さらに、サンプルガスガイド部材7が終わる補
助ガスガイド部材8の端部の狭窄部は、一緒にガイドされるガス噴流の狭窄を惹
起し、ひいては真空内に膨張する際のガス噴流の緩慢な空間的膨張を生じる。そ
れによりイオン化ボリウム内での高いサンプル密度、従って測定感度の上昇が達
成される。
めて有利である。それというのも、それにより既に比較的低いガス貯蔵圧及び少
ない容量流(良好な真空条件を保つために重要である)において真空内にガス噴
流を膨張させる超音波分子ビームを形成させることができるからである。それに
よりサンプルの断熱冷却が生じかつそうして光イオン化又は吸収プロセスの際の
光学的選択性の向上をもたらす。さらに、サンプルガスガイド部材7が終わる補
助ガスガイド部材8の端部の狭窄部は、一緒にガイドされるガス噴流の狭窄を惹
起し、ひいては真空内に膨張する際のガス噴流の緩慢な空間的膨張を生じる。そ
れによりイオン化ボリウム内での高いサンプル密度、従って測定感度の上昇が達
成される。
【0031】 流動方向でのサンプルガス11の圧縮は、サンプルガスガイド部材7内でキャ
リヤガス3からガスパルスを発生させるためのパルス弁ノズル2を有するパルス
弁1により達成される。サンプルガス11の圧縮により、レーザビームの照射容
積内のサンプルガス分子の密度、ひいては測定感度を高めることができる。この
場合サンプルガス流を中断させないために、サンプルガス11をサンプルガスガ
イド部材7内に開口する補助導管10を介して供給することができる。
リヤガス3からガスパルスを発生させるためのパルス弁ノズル2を有するパルス
弁1により達成される。サンプルガス11の圧縮により、レーザビームの照射容
積内のサンプルガス分子の密度、ひいては測定感度を高めることができる。この
場合サンプルガス流を中断させないために、サンプルガス11をサンプルガスガ
イド部材7内に開口する補助導管10を介して供給することができる。
【0032】 両者のパルス弁1及び4のためのプログラム可能な制御ユニットにより、キャ
リヤガス3及び補助ガスのパルスを時間的に、流動方向及び流動方向に対して横
方向へのサンプルガス11の圧縮の最適な組み合わせが達成されるように相互に
調和させることが可能である。そうして、サンプルガス容量の空間的膨張を、就
中レーザビーム横断面によって与えられるイオン化容積に近付けることができる
。
リヤガス3及び補助ガスのパルスを時間的に、流動方向及び流動方向に対して横
方向へのサンプルガス11の圧縮の最適な組み合わせが達成されるように相互に
調和させることが可能である。そうして、サンプルガス容量の空間的膨張を、就
中レーザビーム横断面によって与えられるイオン化容積に近付けることができる
。
【0033】 補助ガスガイド部材8内への開口部におけるサンプルガスガイド部材7の狭窄
部(図示されてない)は、補助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12へのサン
プルガスのより良好な収束、ひいては補助ガス11からなるガス噴流中心軸線1
2に沿ったサンプル密度の上昇をもたらす。サンプルガスガイド部材7内におけ
るキャリヤガス3からなるガスのパルスによりサンプルガス11が圧縮されると
、補助ガスガイド部材8内への開口部での狭窄は狭窄部の前方でのサンプルのせ
き止めによるサンプルガス11の強化された圧縮を惹起する。さらに、該狭窄部
はサンプルガスガイド部材7を緩慢に空にする。
部(図示されてない)は、補助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12へのサン
プルガスのより良好な収束、ひいては補助ガス11からなるガス噴流中心軸線1
2に沿ったサンプル密度の上昇をもたらす。サンプルガスガイド部材7内におけ
るキャリヤガス3からなるガスのパルスによりサンプルガス11が圧縮されると
、補助ガスガイド部材8内への開口部での狭窄は狭窄部の前方でのサンプルのせ
き止めによるサンプルガス11の強化された圧縮を惹起する。さらに、該狭窄部
はサンプルガスガイド部材7を緩慢に空にする。
【0034】 サンプルガス11からなるガス噴流及び/又は合流ガイドされたガス噴流の狭
窄部は、種々の形式で構成されていてもよい。本発明による装置のための有利な
実施形としては、ラバル形又はベンチュリ形の狭窄部がであることが立証された
。この場合には、補助ガスガイド部材8内へのサンプルガスガイド部材7の開口
部のため及び真空内への補助ガスガイド部材8の開口部9ために種々のノズル形
を組み合わせることができる。
窄部は、種々の形式で構成されていてもよい。本発明による装置のための有利な
実施形としては、ラバル形又はベンチュリ形の狭窄部がであることが立証された
。この場合には、補助ガスガイド部材8内へのサンプルガスガイド部材7の開口
部のため及び真空内への補助ガスガイド部材8の開口部9ために種々のノズル形
を組み合わせることができる。
【0035】 本発明による装置はイオン源のためのインレット部として特に適当である。ガ
ス流動方向に沿った及びガス流動方向に対して横方向のサンプルの圧縮により、
高いサンプル利用度、ひいては向上せしめられた測定感度が達成される。
ス流動方向に沿った及びガス流動方向に対して横方向のサンプルの圧縮により、
高いサンプル利用度、ひいては向上せしめられた測定感度が達成される。
【0036】 本発明による装置は、蛍光スペクトロメータ又は吸収スペクトロメータのため
のインレット部材としても有利である。
のインレット部材としても有利である。
【0037】 本発明による装置は、上記の特性に基づきパルス化したエーロゾル噴流を発生
させるためにも有利である。
させるためにも有利である。
【0038】 方向付けられたガス噴流を発生させるために記載の装置を用いて、本発明によ
る方法を以下のようにして実施する: 本発明による装置は、真空室内でイオン源もしくは光励起のための光チャンバ
の直ぐ上に、励起もしくはイオン化容積までの距離が超音波分子ビーム内でのサ
ンプルガスの最大の冷却を達成するために必要な距離(典型的には3〜5cm;
R. Zimmermann, H. J. Heger, E. R. Rohwer, E. W. Schlag, A. Kettrup, U. B
oesl: "Coupling of Gas Chromatography with Jet-REMPI Spectroscopy and Ma
ss Spectroscopy", Proceedings of the 8th Resonance Ionization Spectros
copy Symposium (RIS-96); AIP-Conference Proceedings 388; 1997; 119-122参
照)にまさに相当するように設置されている。
る方法を以下のようにして実施する: 本発明による装置は、真空室内でイオン源もしくは光励起のための光チャンバ
の直ぐ上に、励起もしくはイオン化容積までの距離が超音波分子ビーム内でのサ
ンプルガスの最大の冷却を達成するために必要な距離(典型的には3〜5cm;
R. Zimmermann, H. J. Heger, E. R. Rohwer, E. W. Schlag, A. Kettrup, U. B
oesl: "Coupling of Gas Chromatography with Jet-REMPI Spectroscopy and Ma
ss Spectroscopy", Proceedings of the 8th Resonance Ionization Spectros
copy Symposium (RIS-96); AIP-Conference Proceedings 388; 1997; 119-122参
照)にまさに相当するように設置されている。
【0039】 ガス供給は、真空密に真空室を経て本発明による装置に対して行われる。キャ
リヤガス3及び補助ガス6のためのガス貯蔵圧は、典型的には1〜10バール(
好ましくは1〜3バール)であり、この場合キャリヤガス圧は好ましくは補助ガ
スよりも高い。
リヤガス3及び補助ガス6のためのガス貯蔵圧は、典型的には1〜10バール(
好ましくは1〜3バール)であり、この場合キャリヤガス圧は好ましくは補助ガ
スよりも高い。
【0040】 サンプルガス供給10は、好ましくは噴散的にGCキャピラリ(不活性表面)
を介して行われる。サンプルガスガイド部材7は、触媒プロセスを回避するため
に好ましくは石英ガラスからなる。噴散的に流入するサンプルガス11は連続的
にサンプルガスガイド部材7に充満する。制御ユニットにより制御されて、補助
ガス6からなるガス噴流のためのパルス弁4は開かれる(典型的には開放時間4
00μs)。さらに、補助ガス6からなるガス噴流は、補助ガスガイド部材8に
充満する。時間的遅延(典型的には300μs)をもって、キャリヤガス噴流3
のためのパルス弁1は第2の制御ユニットにより開かれる。キャリヤガス3はサ
ンプルガスガイド7に流入し、サンプルガスガイド7に充満するサンプルガス1
1を圧縮しかつ該サンプルガスをピストンのように下に向かって補助ガスガイド
部材8内に押し込む。サンプルガスガイド7の開口部(補助ガスガイド部材8の
中心軸線12上)の位置によりガス流動方向に圧縮されたサンプルガス11は補
助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12に沿って富化される。
を介して行われる。サンプルガスガイド部材7は、触媒プロセスを回避するため
に好ましくは石英ガラスからなる。噴散的に流入するサンプルガス11は連続的
にサンプルガスガイド部材7に充満する。制御ユニットにより制御されて、補助
ガス6からなるガス噴流のためのパルス弁4は開かれる(典型的には開放時間4
00μs)。さらに、補助ガス6からなるガス噴流は、補助ガスガイド部材8に
充満する。時間的遅延(典型的には300μs)をもって、キャリヤガス噴流3
のためのパルス弁1は第2の制御ユニットにより開かれる。キャリヤガス3はサ
ンプルガスガイド7に流入し、サンプルガスガイド7に充満するサンプルガス1
1を圧縮しかつ該サンプルガスをピストンのように下に向かって補助ガスガイド
部材8内に押し込む。サンプルガスガイド7の開口部(補助ガスガイド部材8の
中心軸線12上)の位置によりガス流動方向に圧縮されたサンプルガス11は補
助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12に沿って富化される。
【0041】 補助ガスガイド部材8内へのサンプルガスガイド部材7の開口部の狭窄部(図
示されていない)は、一方では補助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12に沿
ったサンプルガス11の比較的小さい空間的膨張(高いサンプルガス密度)を惹
起しかつ他方では狭窄部の前方でのサンプルガス11及びキャリヤガス3のせき
止めによりサンプルガスガイド7が空になるのを緩慢にする。
示されていない)は、一方では補助ガス6からなるガス噴流の中心軸線12に沿
ったサンプルガス11の比較的小さい空間的膨張(高いサンプルガス密度)を惹
起しかつ他方では狭窄部の前方でのサンプルガス11及びキャリヤガス3のせき
止めによりサンプルガスガイド7が空になるのを緩慢にする。
【0042】 例えば円錐形インサートを有するノズルにより、真空内への補助ガスガイド部
材8の開口部の狭窄部は、一方では、サンプル分子の断熱的冷却を惹起する超音
波分子ビームの形成ために必要な圧力差を生じる。他方では、該狭窄部は合流ガ
イドされるガス噴流を生じる。それにより、サンプルガス11からなるガス噴流
を包囲する補助ガス噴流6は、合流ガイドされるガス噴流を流動方向に対して横
方向に圧縮しかつそうしてサンプルガス11からなるガス噴流を補助ガス6から
なるガス噴流の中心軸線12に付加的に収束する。それにより真空内への膨張の
際にサンプルガス11からなるガス噴流の急速な空間的膨張が阻止されかつそう
してイオン化容積内に高いサンプルガス密度が達成される(高い測定感度)。
材8の開口部の狭窄部は、一方では、サンプル分子の断熱的冷却を惹起する超音
波分子ビームの形成ために必要な圧力差を生じる。他方では、該狭窄部は合流ガ
イドされるガス噴流を生じる。それにより、サンプルガス11からなるガス噴流
を包囲する補助ガス噴流6は、合流ガイドされるガス噴流を流動方向に対して横
方向に圧縮しかつそうしてサンプルガス11からなるガス噴流を補助ガス6から
なるガス噴流の中心軸線12に付加的に収束する。それにより真空内への膨張の
際にサンプルガス11からなるガス噴流の急速な空間的膨張が阻止されかつそう
してイオン化容積内に高いサンプルガス密度が達成される(高い測定感度)。
【0043】 超音波分子ビーム内の冷却特性を調査するためには、ベンゼンがサンプルガス
11として傑出して好適である。良好な冷却を達成するために、アルゴン又はヘ
リウムをキャリヤガス3もしくは補助ガス6として使用する。
11として傑出して好適である。良好な冷却を達成するために、アルゴン又はヘ
リウムをキャリヤガス3もしくは補助ガス6として使用する。
【0044】 キャリヤガス圧が補助ガス圧よりも高い場合には、補助ガス11を良好に埋包
することができる。補助ガス6からなるガス噴流において時間的に短いサンプル
ガスパルスが生じる。
することができる。補助ガス6からなるガス噴流において時間的に短いサンプル
ガスパルスが生じる。
【0045】 補助ガスのパルス弁4の開口と、キャリヤガスのパルス弁1との間の最適な時
間的相関関係を見出すためには、固定のレーザ波長(ベンゼンのためのS1 ←
S0転移のための励起波長の場合補助ガスのパルス弁4の開口とキャリヤガスの
パルス弁1の開口との間の遅延時間を変動させかつそれに属するREMPI信号
(イオン化収率)を記録する。REMPI信号の最大の位置から、補助ガスのパ
ルス弁4の開口と、キャリヤガスのパルス弁1との間の最適な時間的相関関係が
得られる。
間的相関関係を見出すためには、固定のレーザ波長(ベンゼンのためのS1 ←
S0転移のための励起波長の場合補助ガスのパルス弁4の開口とキャリヤガスの
パルス弁1の開口との間の遅延時間を変動させかつそれに属するREMPI信号
(イオン化収率)を記録する。REMPI信号の最大の位置から、補助ガスのパ
ルス弁4の開口と、キャリヤガスのパルス弁1との間の最適な時間的相関関係が
得られる。
【0046】 イオン化のためのレーザパルスの最適な時間的相関関係及び両者のガスパルス
6,3に関して、パルス弁4と1の開放の間の一定の(最適な)相関関係でガス
パルスに対してレーザパルスの時間的遅延を変更する。その際、図2A)に示さ
れた信号特性が得られる。図2A)において、右に向かって補助ガスのパルス弁
1の開放に対するレーザパルスの遅延時間がマイクロ秒でかつ上に向かってそれ
に属するREMPI信号が任意の単位でプロットされている。圧縮されたサンプ
ルガスパルスにより生じる1070μsでの本来の信号ガス最大の他に、850
μsの遅延時間の際に別のより小さい信号突出が生じる。図2Bは、1070μ
s遅延時間での信号最大で記録されたベンゼンの60 1バンドの回転輪郭を示す
。図2C)は、850μs遅延時間(小さい信号突出)で記録されたベンゼンの
60 1バンドの回転輪郭を示す。両者の図面において、右に向かって入射したレ
ーザ波長がナノメータでかつ上に向かってそれに属するREMPI信号が任意の
単位でプロットされている。図2C)における回転輪郭に基づき、信号最大(遅
延時間1070μs)におけるサンプルに約15Kの回転温度を対応させること
ができ、一方図2B)に示された回転輪郭は冷却されないサンプルに相当する。
1070μs遅延時間におけるような数ケルビンの回転温度は、多くの場合個々
の目的化合物の異性体選択性の検出を可能にし、一方より高い回転温度(図2B
)では分子バンドは、大抵全ての物質部類が検出される程強度にオーバーラップ
する。
6,3に関して、パルス弁4と1の開放の間の一定の(最適な)相関関係でガス
パルスに対してレーザパルスの時間的遅延を変更する。その際、図2A)に示さ
れた信号特性が得られる。図2A)において、右に向かって補助ガスのパルス弁
1の開放に対するレーザパルスの遅延時間がマイクロ秒でかつ上に向かってそれ
に属するREMPI信号が任意の単位でプロットされている。圧縮されたサンプ
ルガスパルスにより生じる1070μsでの本来の信号ガス最大の他に、850
μsの遅延時間の際に別のより小さい信号突出が生じる。図2Bは、1070μ
s遅延時間での信号最大で記録されたベンゼンの60 1バンドの回転輪郭を示す
。図2C)は、850μs遅延時間(小さい信号突出)で記録されたベンゼンの
60 1バンドの回転輪郭を示す。両者の図面において、右に向かって入射したレ
ーザ波長がナノメータでかつ上に向かってそれに属するREMPI信号が任意の
単位でプロットされている。図2C)における回転輪郭に基づき、信号最大(遅
延時間1070μs)におけるサンプルに約15Kの回転温度を対応させること
ができ、一方図2B)に示された回転輪郭は冷却されないサンプルに相当する。
1070μs遅延時間におけるような数ケルビンの回転温度は、多くの場合個々
の目的化合物の異性体選択性の検出を可能にし、一方より高い回転温度(図2B
)では分子バンドは、大抵全ての物質部類が検出される程強度にオーバーラップ
する。
【0047】 従って、急速な実験制御により、本発明による装置では、レーザの遅延時間を
個々のレーザパルスの間又は複数のレーザ信号(イオン化収率)の後で、交互に
異性体選択的(信号最大において)及び物質分類選択的(小さい信号突出におい
て)に測定されるように変更することが可能である。それにより、1つの測定で
特に環境に重要な、しかし化合物の多数の異性体によりオーバーラップした目的
化合物(例えば全てのベンズピレンからのベンゾ[a]ピレン)を異性体選択的
に検出しかつ同時に全物質分類(例えば工業的燃焼装置の煙道ガス内の全てのP
AK)に関する概要を得ることが可能である。
個々のレーザパルスの間又は複数のレーザ信号(イオン化収率)の後で、交互に
異性体選択的(信号最大において)及び物質分類選択的(小さい信号突出におい
て)に測定されるように変更することが可能である。それにより、1つの測定で
特に環境に重要な、しかし化合物の多数の異性体によりオーバーラップした目的
化合物(例えば全てのベンズピレンからのベンゾ[a]ピレン)を異性体選択的
に検出しかつ同時に全物質分類(例えば工業的燃焼装置の煙道ガス内の全てのP
AK)に関する概要を得ることが可能である。
【図1】 方向付けられたガス噴流を発生させるための本発明による装置の断面図であり
、この場合ガス供給装置及びイオン源に対する位置は示されてない。
、この場合ガス供給装置及びイオン源に対する位置は示されてない。
【図2】 Aは図1の本発明による装置により得られたベンゼンのスペクトルを示し、B
及びCは図2Aからの2つの異なる遅延時間に対するベンゼンの60 1バンドの
回転輪郭を示し、これからこれらの遅延時間に対するベンゼンサンプルの回転温
度を測定することができる。
及びCは図2Aからの2つの異なる遅延時間に対するベンゼンの60 1バンドの
回転輪郭を示し、これからこれらの遅延時間に対するベンゼンサンプルの回転温
度を測定することができる。
1 パルス弁、 2 パルス弁ノズル、 3 キャリヤガス、 4 パルス弁
、 5 パルス弁ノズル、 6 補助ガス、 7 サンプルガスガイド部材、
8 補助ガスガイド部材、 9 円錐形インサート、 10 補助ガス供給導管
、 11 サンプルガス、 12 ガスガイド部材8の中心軸線
、 5 パルス弁ノズル、 6 補助ガス、 7 サンプルガスガイド部材、
8 補助ガスガイド部材、 9 円錐形インサート、 10 補助ガス供給導管
、 11 サンプルガス、 12 ガスガイド部材8の中心軸線
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年5月31日(2000.5.31)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0001
【補正方法】変更
【補正内容】
【0001】 本発明は、Chung Hang Sin et al. : "Supercritical Fluid/Supersonic Jet
Spektroscopy with a Sheath-Flow Nozzle" Analytical Chemistry, Bd 64, No.
2. 15. Januar 1992 (1992-01-15), p. 233-238, XP000248258 ISSN: 0003-277
0から公知であるような、請求項1及び9の上位概念に記載の方向付けられたガ
ス噴流を発生させる方法及び装置に関する。
Spektroscopy with a Sheath-Flow Nozzle" Analytical Chemistry, Bd 64, No.
2. 15. Januar 1992 (1992-01-15), p. 233-238, XP000248258 ISSN: 0003-277
0から公知であるような、請求項1及び9の上位概念に記載の方向付けられたガ
ス噴流を発生させる方法及び装置に関する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Ingolstadter Landst rasse 1,D−85764 Neuhe rberg,Germany (72)発明者 ラルフ ツィンマーマン ドイツ連邦共和国 ミュンヘン トラッペ ントロイシュトラーセ 29 (72)発明者 ハンス イェルク ヘーガー ドイツ連邦共和国 ミュンヘン リカルダ −フーフ−シュトラーセ 7 (72)発明者 ラルフ ドルフナー ドイツ連邦共和国 ミュンヘン ヨーゼフ −フェッター−シュトラーセ 10 (72)発明者 ウルリヒ ベースル ドイツ連邦共和国 ランツフート タール −ヨザファート−ヴェーク 38 (72)発明者 アントニウス ケットルプ ドイツ連邦共和国 アンスベルク ルムベ ーカー ヘーエ 10 Fターム(参考) 2G043 AA03 BA14 DA05 EA01 JA01 KA08 KA09 2G059 AA05 CC12 DD12 EE01 GG01 GG08 JJ01 MM08
Claims (17)
- 【請求項1】 以下のプロセスステップ: a)ガイドされたサンプルガス噴流を発生させる、 b)ガイドされたサンプルガス噴流から分離されて同じ方向に延びる、方向付け
られかつガイドされた補助ガス噴流を発生させる、及び c)一定の区間にわたりサンプルガス噴流と補助ガス噴流を合流ガイドする からなる、方向付けられたガス噴流を発生させる方法。 - 【請求項2】 補助ガス噴流をパルス化して発生させることを特徴とする請
求項1記載の方法。 - 【請求項3】 一定の共通の区間後に合流ガイドされたガス噴流の横断面を
狭窄させることを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 サンプルガス噴流をパルス化されたキャリヤガス噴流に埋包
し、それによりサンプルガス噴流を圧縮することを特徴とする請求項1から3ま
でのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項5】 キャリヤガス噴流と補助ガス噴流のパルス間の時間的相関関
係を調整することを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 横断面狭窄後にガスを放圧し、その際ガスを断熱的に冷却す
ることを特徴とする請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項7】 補助ガス噴流と合流する前にサンプルガス噴流を狭窄させる
ことを特徴とする請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項8】 ガス噴流の狭窄のためにラバルノズル又はベンチュリノズル
を使用することを特徴とする請求項3から7までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項9】 方向付けられたガス噴流を発生させる装置であって、その際
サンプルガス噴流(11)が補助ガス噴流(6)内に埋包されており、供給導管
を有する中央サンプルガスガイド部材(7)と、供給導管を有しかつ前記ガイド
を同心的に包囲する補助ガスガイド部材(8)とからなり、その際サンプルガス
ガイド部材(7)が補助ガスガイド部材(8)内で終わっている形式のものにお
いて、補助ガス(6)のための供給導管内にパルス弁(4)を有することを特徴
とする、方向付けられたガス噴流を発生させる装置。 - 【請求項10】 サンプルガス部材(7)が終わる補助ガスガイド部材(8
)の端部に狭窄部を有することを特徴とする請求項9記載の装置。 - 【請求項11】 サンプルガス(7)内にサンプルガス(11)を加えるた
めの補助導管(10)及びサンプル噴流ガイド部材(7)内でキャリヤガス(3
)からガスパルスを発生させるためのパルス弁(1)を有し、その際キャリヤガ
スからのガスパルスによりサンプルガス(11)が圧縮されることを特徴とする
請求項9又は10記載の装置。 - 【請求項12】 キャリヤガス(3)及び補助ガス(6)のパルスの相互の
時間的同調を変化させるためにパルス弁(1,4)のプログラム可能な制御弁を
有することを特徴とする請求項9から11までのいずれか1項記載の装置。 - 【請求項13】 補助ガスガイド部材(8)内への開口部にサンプル噴流ガ
イド部材(7)の狭窄部を有することを特徴とする請求項9から12までのいず
れか1項記載の装置。 - 【請求項14】 サンプルガイド部材(7)及び/又は補助ガスガイド部材
(8)の狭窄部がラバル弁又はベンチュリノズルからなることを特徴とする請求
項10から13までのいずれか1項記載の装置。 - 【請求項15】 請求項9から14までのいずれか1項記載の装置の、イオ
ン源のためのインレット部材としての使用。 - 【請求項16】 請求項8から14までのいずれか1項記載の装置の、蛍光
又は吸収スペクトロメータのためのインレット部材としての使用。 - 【請求項17】 請求項8から14までのいずれか1項記載の装置の、パル
ス化したエーロゾル噴流を発生させるための使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19822672.1 | 1998-05-20 | ||
DE1998122672 DE19822672B4 (de) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines gerichteten Gasstrahls |
PCT/EP1999/003419 WO1999060395A1 (de) | 1998-05-20 | 1999-05-18 | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines gerichteten gasstrahls |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002516392A true JP2002516392A (ja) | 2002-06-04 |
JP3426214B2 JP3426214B2 (ja) | 2003-07-14 |
Family
ID=7868434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000549956A Expired - Fee Related JP3426214B2 (ja) | 1998-05-20 | 1999-05-18 | 方向付けられたガス噴流を発生させる方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6390115B1 (ja) |
EP (1) | EP1088222A1 (ja) |
JP (1) | JP3426214B2 (ja) |
DE (1) | DE19822672B4 (ja) |
WO (1) | WO1999060395A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100775437B1 (ko) * | 1997-01-29 | 2008-04-22 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 패턴검사장치및그방법 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7045015B2 (en) | 1998-09-30 | 2006-05-16 | Optomec Design Company | Apparatuses and method for maskless mesoscale material deposition |
US8110247B2 (en) * | 1998-09-30 | 2012-02-07 | Optomec Design Company | Laser processing for heat-sensitive mesoscale deposition of oxygen-sensitive materials |
US7108894B2 (en) * | 1998-09-30 | 2006-09-19 | Optomec Design Company | Direct Write™ System |
US7938079B2 (en) * | 1998-09-30 | 2011-05-10 | Optomec Design Company | Annular aerosol jet deposition using an extended nozzle |
US20050156991A1 (en) * | 1998-09-30 | 2005-07-21 | Optomec Design Company | Maskless direct write of copper using an annular aerosol jet |
JP3349965B2 (ja) * | 1998-11-05 | 2002-11-25 | 松下電器産業株式会社 | 微粒子分級方法及び装置 |
DE19913451C2 (de) * | 1999-03-25 | 2001-11-22 | Gsf Forschungszentrum Umwelt | Gaseinlaß zur Erzeugung eines gerichteten und gekühlten Gasstrahls |
ATE312680T1 (de) * | 2000-06-13 | 2005-12-15 | Element Six Pty Ltd | Verbunddiamantkörper |
JP3530942B2 (ja) * | 2002-03-05 | 2004-05-24 | 独立行政法人通信総合研究所 | 分子ビーム発生方法及び装置 |
JP4214925B2 (ja) * | 2004-02-26 | 2009-01-28 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
WO2005088294A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Kabushiki Kaisha Idx Technologies | レーザーイオン化質量分析装置 |
US7674671B2 (en) | 2004-12-13 | 2010-03-09 | Optomec Design Company | Aerodynamic jetting of aerosolized fluids for fabrication of passive structures |
US7938341B2 (en) * | 2004-12-13 | 2011-05-10 | Optomec Design Company | Miniature aerosol jet and aerosol jet array |
US20100310630A1 (en) * | 2007-04-27 | 2010-12-09 | Technische Universitat Braunschweig | Coated surface for cell culture |
TWI482662B (zh) * | 2007-08-30 | 2015-05-01 | Optomec Inc | 機械上一體式及緊密式耦合之列印頭以及噴霧源 |
TW200918325A (en) * | 2007-08-31 | 2009-05-01 | Optomec Inc | AEROSOL JET® printing system for photovoltaic applications |
TWI538737B (zh) * | 2007-08-31 | 2016-06-21 | 阿普托麥克股份有限公司 | 材料沉積總成 |
TWI464017B (zh) * | 2007-10-09 | 2014-12-11 | Optomec Inc | 多鞘多毛細管霧劑噴射技術 |
US8887658B2 (en) * | 2007-10-09 | 2014-11-18 | Optomec, Inc. | Multiple sheath multiple capillary aerosol jet |
CN102262050A (zh) * | 2011-04-28 | 2011-11-30 | 抚顺新钢铁有限责任公司 | 一种激光检测探头防护装置 |
EP2992950A1 (en) * | 2014-09-03 | 2016-03-09 | The Procter and Gamble Company | Method for producing aqueous emulsions or suspensions |
EP3256308B1 (en) | 2015-02-10 | 2022-12-21 | Optomec, Inc. | Fabrication of three-dimensional structures by in-flight curing of aerosols |
CN111655382B (zh) | 2017-11-13 | 2022-05-31 | 奥普托美克公司 | 气溶胶流的阻挡 |
KR20220102141A (ko) | 2019-11-21 | 2022-07-19 | 노르스크 티타늄 아에스 | 직접 에너지 증착에서의 왜곡 완화 |
KR20240007941A (ko) | 2021-05-21 | 2024-01-17 | 노르스크 티타늄 아에스 | 마운트 시스템, 핀 지지 시스템 및 왜곡을 완화시키기 위한 금속 작업물을 생성하기 위한 지향성 에너지 증착 방법 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3224801C2 (de) * | 1982-07-02 | 1986-04-30 | Edward William Prof. Dr. 8000 München Schlag | Verfahren und Einrichtung zum Erzeugen von gepulsten Molekularstrahlen, die große, thermisch instabile Moleküle enthalten |
DE3424696A1 (de) * | 1984-07-05 | 1986-02-06 | Ringsdorff-Werke GmbH, 5300 Bonn | Vorrichtung zur zufuehrung von analysensubstanz in ein plasma |
DE3716289A1 (de) * | 1987-05-15 | 1988-11-24 | Leybold Ag | Einrichtung fuer die herstellung bestimmter konzentrationen gasfoermiger stoffe sowie zum mischen verschiedener gasfoermiger stoffe in einem vorgegebenen verhaeltnis |
JP2765890B2 (ja) * | 1988-12-09 | 1998-06-18 | 株式会社日立製作所 | プラズマイオン源微量元素質量分析装置 |
US5362328A (en) * | 1990-07-06 | 1994-11-08 | Advanced Technology Materials, Inc. | Apparatus and method for delivering reagents in vapor form to a CVD reactor, incorporating a cleaning subsystem |
DE4108462C2 (de) * | 1991-03-13 | 1994-10-13 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Ionen aus thermisch instabilen, nichtflüchtigen großen Molekülen |
CA2062629C (en) * | 1992-03-10 | 1999-06-15 | John Barry French | Apparatus and method for liquid sample introduction |
US5311016A (en) * | 1992-08-21 | 1994-05-10 | The United States Of America As Represented By The United State Department Of Energy | Apparatus for preparing a sample for mass spectrometry |
DE4441972C2 (de) * | 1994-11-25 | 1996-12-05 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Verfahren und Vorrichtung zum Nachweis von Probenmolekülen in einem Trägergas |
DE19539589C2 (de) * | 1995-10-25 | 1999-01-28 | Boesl Ulrich Priv Doz Dr | Gepulstes Ventil für die Kopplung einer Gaschromatographie-Kapillare an ein sekundäres Spurenanalysegerät mittels eines Überschallstrahles |
US5742050A (en) * | 1996-09-30 | 1998-04-21 | Aviv Amirav | Method and apparatus for sample introduction into a mass spectrometer for improving a sample analysis |
-
1998
- 1998-05-20 DE DE1998122672 patent/DE19822672B4/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-05-18 WO PCT/EP1999/003419 patent/WO1999060395A1/de not_active Application Discontinuation
- 1999-05-18 EP EP99926325A patent/EP1088222A1/de not_active Withdrawn
- 1999-05-18 JP JP2000549956A patent/JP3426214B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-11-17 US US09/722,445 patent/US6390115B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100775437B1 (ko) * | 1997-01-29 | 2008-04-22 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 패턴검사장치및그방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6390115B1 (en) | 2002-05-21 |
WO1999060395A1 (de) | 1999-11-25 |
DE19822672B4 (de) | 2005-11-10 |
JP3426214B2 (ja) | 2003-07-14 |
DE19822672A1 (de) | 1999-12-09 |
EP1088222A1 (de) | 2001-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002516392A (ja) | 方向付けられたガス噴流を発生させる方法及び装置 | |
JP4838423B2 (ja) | 指向性かつ冷却されたガス噴流を発生させるためのガス入口 | |
Hayes | Analytical spectroscopy in supersonic expansions | |
US4968885A (en) | Method and apparatus for introduction of liquid effluent into mass spectrometer and other gas-phase or particle detectors | |
Anselment et al. | Optical emission studies on graphite in a laser/vaporization supersonic jet cluster source | |
Ng et al. | Laser-induced plasma atomic emission spectrometry in liquid aerosols | |
Bitto et al. | Rotational state distribution of CO photofragments from triplet ketene | |
JPS6257067B2 (ja) | ||
JPS6318320B2 (ja) | ||
US5359196A (en) | Mass spectrometry with gas counterflow for particle beam | |
AU646072B2 (en) | Method and apparatus for analytical sample preparation | |
JP2000162188A (ja) | 溶液中のサンプルを分析する質量分析法及び装置 | |
EP1315962B1 (en) | Analyte detection system | |
Cable et al. | The electronic spectra of small peptides in the gas phase | |
Onoda et al. | Scheme for collinear ionization in supersonic jet/multiphoton ionization/time-of-flight mass spectrometry | |
Todolí et al. | Optimization of the evaporation cavity in a torch integrated sample introduction system based ICP-AES system. Applications to matrix and transient effects, analysis of microsamples and analysis of certified solid samples | |
Pepich et al. | Pulsed free jet expansion system for high‐resolution fluorescence spectroscopy of capillary gas chromatographic effluents | |
Melchior et al. | The photodissociation of ground and vibrationally excited halogenated alkanes | |
Makarov et al. | Selective infrared multiphoton dissociation of molecules in a pulsed gasdynamic flow of small extent | |
Cheatham et al. | Optimization of experimental parameters and procedures for fluorescence excitation spectroscopy | |
Goates et al. | Supersonic jet spectroscopy coupled to chromatography for very high resolution chemical analysis | |
Heger et al. | A novel interface for optimized coupling of gas chromatography and supersonic jet spectroscopy | |
Richard et al. | Fourier transform UV/VIS emission spectroscopy of jet-cooled CN (B 2Σ+) | |
Goates et al. | Supercritical fluid chromatography–supersonic jet spectroscopy: II. Capillary column SFC with a sheath‐flow nozzle | |
Lubman et al. | A system for pulsed laser desorption of small biomolecules with supersonic jet injection using resonant two-photon ionization (R2PI) detection |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |