JP2002513157A - 相互接続回路網の試験装置及び試験方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 相互接続回路網の試験方法及び試験装置であって、少なくとも２つのプラズマジェットを異なる測定点（１２、１３）の近傍で発生させ、各プラズマジェットを介して測定点に電位差を与えて測定点間の回路に電流を発生させ、これを維持して試験工程を実施する試験方法及び試験装置である。各プラズマジェットはキャビティ内の２つの電極間で放電させることにより生成され、開口部を通り送出される。試験装置は、被試験回路の２測定点間に電流を流す少なくとも２つの射出電極（１４、１６）であって、生成したプラズマが２測定点の内の一方に向くように各々が配置されるか又は位置決め可能である射出電極（１４、１６）と、各プラズマ射出電極に電圧を供給する第1電気回路（２１、２７）と、各プラズマ射出電極にガスを供給する手段（１８、２０）と、放電を維持する第１電極と同一若しくは異なる第２電気回路（２１、２７）とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の分野】

本発明は相互接続回路網の電気試験に関し、特にプラズマを使用した相互接続
回路網の試験に関する。

【０００２】

【背景技術】

従来、相互接続回路網、特にプリント回路基板を試験する方法として、回路の
２つのパッド（pad）間に電位差を与え、パッド間に電流を発生させて２つのパ
ッドを接続する回路網の電気抵抗を決定する方法が知られているが、電圧源に接
続された電極をパッドに物理的に接触させることなくこのような試験を行うこと
が望ましい。非接触の導電性経路を生成するために、従来はレーザーが用いられ
てきた。例えば本出願と同じ譲受人による米国特許第５，５８７，６６４号にお
いては、電気部品の非接触試験のために、部品表面に作用して導電性経路を生成
するプラズマの生成が利用されている。

【０００３】 この従来技術では、主にターゲットとなっている導体から金属プラズマを発生
させることにより、導電性経路を生成することに焦点を当てている。この従来技
術で採用された条件下では、導電性を有する金属プラズマが除去された金属から
生成される。この方法は、いくつかのケースでは有用であるが、以下に示すいく
つかの欠点がある。金属プラズマは寿命が短く制御が難しい。また、十分な量の
金属プラズマを生成するためには、比較的大きなレーザーエネルギーを必要とす
る。つまり、比較的強力で高価なレーザーを必要とする。

【０００４】 同一出願人による共に係属中の出願第１２２６５４号では、一方の電極から他
方の電極へ至る電気経路を発生して誘導する方法を開示しており、必要であれば
、電気回路の試験のためにこの方法を用いることができる。又、この方法を実行
する装置を開示している。この方法では、電気経路を生成しようとする経路の一
部分にレーザーパルスを照射する。そのレーザーパルスのエネルギーは経路に沿
って媒体中でプラズマを生成するのに十分に大きい。レーザーパルスの照射後、
該経路において放電が持続するのに十分な大きさの電圧又は電流を与え続ける。
この方法と装置は従来技術において価値のある改良であるが、レーザービームの
生成と制御を必要とする。また、接触ヘッドに強力なレーザービームを伝達し、
被試験基板の小さなスポットに再照射（re-imaging）しなければならない。この
ため、装置は高価で複雑なものになる。

【０００５】 閉じ込めプラズマ雲の生成を含む方法や装置はいくつか他の出願において、プ
ラズマジェット、プラズマ（又はアーク）トーチ、プラズマトランスファー等の
名前で開示されている。

【０００６】 例えば、プラズマアーク溶接の方法と装置を開示する米国特許第３，５５３，
４２２号において上記の方法が実施されている。

【０００７】 例えば、アークトーチ切断の方法と装置を開示する米国特許第３，６１９，５
４９号においても上記の方法が実施されている。

【０００８】 両出願とも、プラズマ源として非常に強力なアークが使用されている。非常に
高温の気体プラズマがノズルを通って被加工物に射出される。これらの特許及び
他の多くの特許では、プラズマ雲を誘導したり集束したりする方法及び装置が開
示されており、溶接品質や切断品質を向上させることを目的としている。これら
の特許には、種々のタイプのプラズマ気体、プラズマジェットの周りに同心円状
に注入される遮蔽気体、様々な形状の射出ノズル、及びプラズマジェットを集束
させるためジェットの周りに渦巻く水渦の種々の組合せが含まれている。

【０００９】 プラズマインジェクションは、表面処理及びコーティングのアプリケーション
においても使用されており、粉状のコーティング物質が射出されるプラズマに混
合されている。

【００１０】 プラズマジェットは、刻印や印刷のアプリケーションにも使用された。

【００１１】 例えば、米国特許第４，９１１，０７５号においては、リトグラフ板に画像を
作成するために同様なアプローチが使用された。プラズマジェットヘッドがリト
グラフ板の印刷面の近くに配置され、プラズマジェットがヘッドから射出される
。このプラズマジェットが照射したリトグラフ板の表面の金属層の部分、又はコ
ーティングの一部が揮発し、それによりインク及び／又は水に対する親和性が変
化し、イメージスポットが生成される。

【００１２】 該プラズマジェットヘッドは、ガスを流す手段と、ノズルと、ノズルの後ろに
配置された電極に数千ボルトの高電圧パルスを供給して放電を開始させ、数十か
ら数百アンペアの電流を供給してプラズマジェットを発生させる手段とから成る
。

【００１３】 前記の全ての方法及び装置は、プラズマジェットにより電気的経路を生成する
ことに関するものではない。プラズマジェットは本質的には強力な熱源として作
用している。ここで利用されているのは、プラズマと対象物との間の熱的及び／
又は化学的作用である。

【００１４】 米国特許第５，２０２，６２３号では、プリント回路基板の非接触試験にレー
ザ誘導型プラズマが使用された。小さなチャンバ内の空気中でプラズマを生成し
、該プラズマに集中レーザーパルスを当てる。プラズマは開口部を通ってチャン
バから出るが、この開口部から出たプラズマ柱が回路を検査するために使用され
る。

【００１５】 本発明の目的は、相互接続回路網、特にプリント回路基板の非接触試験の方法
において、レーザーの生成や照射を必要としない方法を提供することである。

【００１６】 本発明の別の目的は、プラズマジェットを生成し、電圧を印加しようとする電
気回路の各ポイント又はパッドにプラズマジェットを向け、プラズマジェットを
介して電圧を印加する方法を提供することである。

【００１７】 本発明の更に別の目的は、プラズマによる接触を利用して、パッド間の電気回
路の抵抗を精密にかつ正確に計測する方法を提供することを目的とする。

【００１８】 本発明の更に別の目的は、電気回路、特にプリント回路基板の非接触試験のた
めの装置で、従来技術による装置よりも簡易で低コストな装置を提供することで
ある。

【００１９】 本発明の更に別の目的は、電気経路が、レーザービームを使用することなく、
プラズマによって生成される装置を提供することである。

【００２０】 本発明の更に別の目的は、相互接続回路網を高分解能で検査するために最も閉
じ込められ精密に制御されたプラズマジェットを生成する装置を提供することで
ある。

【００２１】 本発明の更に別の目的は、試験中に相互接続回路網に損傷を与えない微弱な（
delicate）プラズマジェットを生成する装置を提供することである。

【００２２】 以下の記載を読み進むに従い、本発明の更なる目的及び利点が明らかになるだ
ろう。

【００２３】

【発明の概要】

本発明による電気回路を試験する方法は、以下に示す工程を含む。 （ａ）少なくとも２つのプラズマジェットを被試験回路の１つの測定点の付近に
生成する。 （ｂ）対応するプラズマジェットを介して各測定点に異なる電圧を印加し、２つ
の測定点間の回路に電流を流す。 （ｃ）電流を維持して試験工程を実行する。

【００２４】 被試験電気回路の所望の特性を測定するために、電圧及び電流のデータは原則
として米国特許第５，５８７，６６４号に記述された方法と同じ方法で処理され
る。この米国特許の内容を本明細書の一部を構成するものとしてここに援用する
。データ処理に追加されたステップは接触電圧補償である。これは米国特許第５
，５８７，６６４号には記述されていない。プラズマ接触には電圧降下が伴うの
で、２点間の抵抗を正確に計算するためにこれを補償しなければならない。この
電圧降下を以降Ｖｃ（接触電圧）とする。Ｖｃの正確な補償を可能にするために
、低電圧で安定なＶｃが得られる構成を確立した。Ｖｃは、ジェットの形状及び
その動作パラメ−タと、動作距離（working distance）と、計測電流とに依存す
る。大抵抗計測、即ち２点間の絶縁状態を試験する場合、５ｍAより小さい弱電
流計測範囲が適当であり、低電圧で安定なＶｃが得られた。小抵抗計測、即ち２
点間の導通を試験する場合、０．１Ａより大きい電流範囲（アーク放電範囲）が
適当である。小抵抗計測では、計測電源として電流源を使用し、定電流を用いて
計測を行った。どちらの場合も、動作距離が１０μｍ〜１０００μｍの場合、標
準的な接触電圧値は数十ボルト以下である。実際の接触電圧は固有の形状により
調整及び補償される。

【００２５】 各プラズマジェットは対応する探知ヘッドから開口部を通り射出される。プラ
ズマは開口部の後ろのキャビティ内で生成される。プラズマを生成する方法の１
つは、キャビティ内に２つの電極を設け、電極間に高電圧パルスを印加し放電を
開始させ、続いて電流パルスを付加して放電を維持する。マイクロ波生成プラズ
マも同様に使用できる。

【００２６】 キャビティ内の気体はプラズマの生成に必要な電位差が比較的低い気体、例え
ばヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノンや他の不活発性ガスが好ましい。これ
らの気体には、電極と試験対象物との間で発生する化学反応が小さいという更な
る利点がある。

【００２７】 気体をキャビティを通り開口部から流出するように流すことにより、プラズマ
ジェットをより遠くに射出できる。ただし、プラズマジェットは気体の流れが無
くても放電の衝撃により生成される。

【００２８】 プラズマ射出器の特性は、形状、構造、素材に密接に関係し、特に電極の形状
と素材、電極間の距離、気体の種類、ノズルの形状に関係する。

【００２９】 本発明による電気回路試験のための装置は、被試験回路の２点間に電流を流す
電極として機能する、少なくとも２つのプラズマ射出器（以下、プラズマ射出電
極、又は単にプラズマ電極という）を含む。各プラズマ射出電極は、生成された
プラズマを２点のうちの一方に向けるように配置されるか、位置決め可能となっ
ている。本装置は更にプラズマ射出電極に電圧を供給する第１電気回路と、プラ
ズマ射出電極に気体を供給する手段と、プラズマ放電を維持する第１電気回路と
同一若しくは異なる第２電気回路とを有する。

【００３０】 プラズマ射出電極は、 （１）絶縁体と、 （２）キャビティに向けて絶縁体内部に設置された２つの電極と、 （３）電極に接続された放電開始（ignition）及び放電維持回路とを備え、 （４）キャビティは、気体が流れる通路と、生成されたプラズマジェットのため
のノズル開口部を形成するように、また、ジェットが被試験回路基板の２点の内
の１点に照射されるように構成及び配置されており、 （５）一方のプラズマ射出電極の電極は、他方のプラズマ射出電極の電極よりも
前記電流を発生させるために十分な量だけ電圧が低い。

【００３１】 説明を簡単にするために、プラズマ射出電極が生成したジェットを照射する電
気回路上の点を、プラズマ射出電極に対応する点という。

【００３２】 以下、説明を簡単にするために、各プラズマ射出電極の２電極間の電位差を「
放電電圧」といい、２つのプラズマ射出電極間の電位差を「測定電圧」という。
２つのプラズマ射出電極の放電電圧は同じであることが好ましい。

【００３３】 本発明の一実施態様では、プラズマ射出電極は多層の中空切頭円錐体であり、
絶縁体は入れ子になっている２つの金属円錐体形間のスペーサであるにすぎない
。開口部は円錐体の先端である。この実施態様では、プラズマ射出電極は第１電
極である内側の金属層と、それを囲む絶縁層と、第２電極である外側の金属層と
、第２電極を覆う外側の絶縁層で形成される。他のプラズマジェットの応用例で
幅広く利用されている別の形状では、一方の電極が針状部材であり、絶縁体のキ
ャビティ内で、他方の電極として動作する金属ノズルの方に向けて設置される。

【００３４】 しかし、プラズマ射出電極は、プラズマ生成手段を有しプラズマの通路を形成
し、その末端部がノズルであれば、これと異なる構造を有してもよい。ここで、
「ノズル」とはプラズマが電極から流出する際に通る開口部を示す。

【００３５】 プラズマ生成電極は放電電源に接続される。放電電圧は、使用される気体、電
極形状及び材質、２電極間のギャップに依存し、このギャップはプラズマ射出電
極の２電極間で気体を通して発生する放電の長さを決定する。このギャップを「
放電ギャップ」という。

【００３６】 プラズマ射出電極は放電の開始して維持するのに必要な電気エネルギーを最小
にするように設計される。放電技術において通常使用される様々なアプローチ、
例えば、パッシェン曲線の最小値に相当する放電ギャップと気体圧力で動作させ
ること、中空カソード及び／又はプラズマカソードを使用すること等がここでも
適用できる。放電エネルギーの減少により、放電回路への負荷が軽減されること
は明らかであるが、また検査分解能が向上し、試験パッド（tested pad）への損
傷が最小限に抑えられ、電極の寿命を延ばすことができる。

【００３７】 プラズマ電極の絶縁材は、放電開始（ignition）電圧に耐える絶縁耐力と熱及
びプラズマに対する高い耐性を有していなければならない。絶縁材はセラミック
材から選択することが好ましい。寿命の長い電極はタングステンのような耐熱性
金属で作成されたが、他の金属でもよい。

【００３８】 測定回路は、一方のプラズマ射出電極のプラズマ発生電極の１つと他方のプラ
ズマ射出電極のプラズマ発生電極の１つとの間に接続される。測定回路に接続さ
れるプラズマ発生電極は被試験回路に近い方の電極であることが好ましい。また
、この測定回路は針状部材の先端に位置する独立した電極に接続することもでき
る。

【００３９】

【好ましい実施形態の詳細説明】

図１において、１０は、本発明の一実施態様が適用されるプリント回路基板、
又は他の相互接続回路網を示す。１１は、本発明の手段により試験しようとする
パッド１２からパッド１３の回路を示す。矢印１５で示されるように、プラズマ
射出電極１４で生成されるプラズマがパッド１２に向くように、プラズマ射出電
極１４はパッド１２に面して配置される。同様に、矢印１７で示されるように、
プラズマ射出電極１６で生成されるプラズマがパッド１３に向くように、プラズ
マ射出電極１６はパッド１３に面して配置される。当然、測定点は回路上のいず
れの導体のいずれの場所でもよく、パッドである必要はない。絶縁試験の場合の
ように、測定点は異なる回路網の部分でもよい。

【００４０】 １８は、２つのプラズマ射出電極１４、１６に各々１９、２０を介してガスを
供給するガス供給源を示す。後述するように、電気回路２１が２つの線２２及び
２３を介してプラズマ射出電極１４の２つの電極に接続されている。電気回路２
４が２つの線２５及び２６を介してプラズマ射出電極１６の２つの電極に接続さ
れている。電気回路２７が、各プラズマ射出電極内の一方の電極に接続されてい
る。２つのプラズマ電極は同一の電極であることが望ましいが、厳密には同一で
無くてもよい。

【００４１】 図２は、本発明の実施態様において使用可能な２つのプラズマ射出電極を軸に
沿った概略断面図で示す。どちらも図１のプラズマ電極１４又はプラズマ電極１
６となり得る。１０は、図１と同様にプリント回路基板であり、面３０上に置か
れている。図中、プラズマ射出電極１４は円錐形となっているが、円錐形でなく
てもよい。図２ａは、絶縁材料から成る外層３１と、第２電極を構成し、絶縁層
３１のすぐ内側に配置された金属層３２と、第２電極３２のすぐ内側に配置され
た中間絶縁層３３と、第１電極を構成し、絶縁層３３のすぐ内側に配置されたも
う1つの金属層３４とを含む一実施態様を示す。

【００４２】 電極３４はキャビティ３５を形成し、このキャビティ３５には、３６で概略的
に示す導管を通ってガスが供給されている。プラズマ射出電極に供給されたガス
は、図示において上から下に流れて、最初に第１電極３４、次いで第２電極３２
に接触し、放電回路３７により与えられる２電極間の電位差によりプラズマに変
換される。放電距離は３８で示されるように絶縁層３３によって定義される。プ
ラズマはノズル３９から出てジェット４０を形成し回路基板１０に照射される。

【００４３】 図２ｂは、絶縁体４２のキャビティ内に配置された針状部材４１を含む実施態
様である。針状部材は金属ノズル４３の方を向き、この金属ノズル４３が他方の
電極として動作する。針状部材とノズルとの間隙４４が放電ギャップである。こ
のギャップを通って流れるガスは放電４５によりプラズマに変換され、ノズルを
通ってジェット４６の形で射出される。

【００４４】 以上述べた実施態様では、いくつかのプラズマ射出電極が、被試験回路の端子
パッドに対向して各々配置される。このため、回路上の異なる点に接触させる場
合、プラズマ射出電極を移動しなければならない。しかしながら、ある種の相互
接続回路網において試験すべき回路、即ち複数の被試験回路が予め決められてい
る場合、回路の端子パッドの位置も予め分かっているので、その所定の試験箇所
に複数のプラズマ射出電極を配置し、各回路の端子パッドにプラズマジェットを
射出する射出電極を選択的に作動させることにより各回路の試験が行われる。こ
のため、射出電極を１つの測定点から他の測定点に移動させる必要がなく、固定
的、即ち互いに一体化してもよい。この場合、複数の射出電極は構造が簡素化さ
れた射出電極システムを構成する。このような構造には、概略的に、２つの絶縁
層と２つの導電層とから成る４つの層が含まれ、下から上に絶縁−導電−絶縁−
導電の順に重ね合わせられている。導電層は２つの電極を構成し、前述の実施態
様に関連して記述された回路手段により必要な電圧が印加される。これらの層を
貫通し、プラズマノズルとして動作する位置合わせされた開口部が各端子パッド
に対向して設けられ、この開口部を通り端子パッドにガスを供給するための導管
が設けられている。開口部を流れるガスは最初に第１電極（すなわち、被試験回
路との距離が長い方の電極）に接触し、次いで第２電極に接触してプラズマに変
換され、このプラズマがノズルから流出してジェットを形成し端子パッドに当た
る。例えば、このような構造は、図２ａの射出電極に似た複数の射出電極を扁平
形状にし、相互に一体化したものと考えられる。また、以下に示すような別のア
プローチも可能である。２つの隣り合う開口部間の間隙が試験対象パッドで最も
接近したパッド間と同じ程度に高い密度で開口部がマトリックス状に配置される
。射出電極が位置する２つのパッド間の試験を実行するとき、電気アドレッシン
グ機構を使用して２つの射出電極を作動させる。

【００４５】 図３は本発明を実施するために使用される電気回路の一例である。５０及び５
１で示される部分は、放電の開始／維持回路であり、各々が１つのプラズマ射出
電極の２つの電極に接続されている。それらの回路は同一であることが好ましい
。放電回路５０及び５１は、放電開始（ignition）のための高電圧パルス源Ｖ１
及びＶ３を各々含み、放電を維持するための電流源Ｉ２及びＩ４を各々含む。２
つの回路はスイッチＳ１〜Ｓ４を介して並列に接続されている。放電開始のため
に必要な標準的な電圧は１００Ｖ〜１０００Ｖである。放電開始（ignition）の
直後に、放電電圧は数十ボルトに低下する。そして、放電を維持するために０．
１アンペア〜１０アンペアの電流が必要である。

【００４６】 図中、５２で示される部分は測定回路である。この測定回路は、一方のプラズ
マ射出電極の内の１電極と他方のプラズマ射出電極の内の１電極との間に接続さ
れる。また、独立した電極を介して接続されてもよい。この回路はプラズマ接触
により閉じた回路となり、回路網の試験が行われる。回路は電源Ｖ５と電圧及び
電流計測手段とを含む。大抵抗計測モード（絶縁試験）では電源は電圧源として
動作し、（数マイクロアンペアの）低レベルの電流が計測される。小抵抗計測モ
ード（導通試験）では、電源は電流源として動作する。どちらの場合も、回路網
抵抗Ｒｘは回路網の電圧値（接触電圧の補償後の値）を回路網に流れる電流値で
割ることにより計算される。同様に、純粋抵抗以外のインピーダンスを計測でき
る。

【００４７】 図４は、プラズマ射出電極とパッドとの距離に対するプラズマジェットを介し
てのパッドとの適当な電気的接触を得られない確率をパーセントで示す。ここで
、「適当な接触」とは回路網抵抗を計測可能な接触を意味する。これは明らかに
固有の射出器形状と動作パラメータに依存するが、この場合では、０．５ｍｍの
距離まで非常によい結果が得られた。

【００４８】 図５はプラズマ射出電極とパッド間の距離に対する接触電圧を示す。明らかに
、接触電圧は距離と共に増加する。これは、プラズマがいくらかの抵抗を有する
からである。しかし、この依存性はあまり強くない。これは、接触電圧には一定
の初期値があることを示唆している。この影響は文献に記述されている陰極降下
や陽極降下によく一致している。

【００４９】 図６に示すパッシェン曲線は、様々な気体における放電を開始するために必要
な電圧とｐ×ｄ値との関係を示す。ｐ×ｄ値は放電ギャップと気体の圧力の積で
ある。この曲線の最も重要な特性は最小値であり、電極がより接近し放電ギャッ
プが減少すると「放電開始（breakdown）電圧」は低下するが、放電ギャップが
ある値より小さくなると放電開始電圧は再び上昇することを示す。大気圧のアル
ゴン中では、放電ギャップが約５０ミクロンのときにパッシェン曲線の値が最小
となる。本プラズマ射出電極における放電ギャップはパッシェン曲線の最小値で
動作するように設計されることが好ましい。

【００５０】 図７は放電のＩ−Ｖ曲線（負荷曲線）を示す。我々のアプリケーションでは、
低電圧降下の領域が必要である。大抵抗計測では最も左の領域を使用し、小抵抗
計測ではプラズマ源が動作する領域でもある最も右の領域（アーク領域）を使用
する。

【００５１】 本発明の実施態様を図を用いて説明してきたが、本発明は、本発明の精神から
逸脱することなく、又請求の範囲を超えることなく、多くの変形、変更、改造を
加えて実施することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施態様による装置をプリント回路基板の回路網の試験に適用した
例を示す概略図。

【図２】 （図２ａ，ｂ） 本発明によるプラズマ射出電極の２実施態様の軸に沿った断面概略図。

【図３】 本発明を実施するために使用される電気回路の概略図。

【図４】 プラズマ射出電極と被試験回路中の対応するパッドとの距離に対する、プラズ
マジェットを介して適当な電気接触を得られる確率を示すグラフ。

【図５】 プラズマ射出電極と被試験回路において対応するパッドとの距離に対する、接
触電圧（Ｖｃ）のグラフ。

【図６】 よく使用される数種類の気体についてのパッシェン曲線。

【図７】 放電Ｉ−Ｖ曲線。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１２年４月２５日（２０００．４．２５）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５１】 本発明の実施態様を図を用いて説明してきたが、本発明は、請求の範囲を超え
ることなく、多くの変形、変更、改造を加えて実施することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＡ，ＣＮ，Ｊ Ｐ，ＫＲ，ＵＳ (72)発明者 ネグリ，シャブタイ イスラエル国 ギバット シュムエル 54056 ラチャヴァト イラン 10 (72)発明者 ベン シュロモ，モーシェ イスラエル国 マッカビム 71908 ロー タス ストリート 71 (72)発明者 バニット，デイビッド イスラエル国 ディー．エヌ． ソレキュ 76805 タル シャチャー 18 Ｆターム(参考） 2G011 AA01 AB00 AE01 2G014 AA01 AA15 AB59 AC19 2G132 AA00 AB00 AF11 AL12 AL15

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 相互接続回路網の試験方法において、 （ａ）少なくとも２つのプラズマジェットを被試験回路の異なる測定点の付近
   で発生する工程と、 （ｂ）対応するプラズマジェットにより各測定点に異なる電圧を印加して、測
   定点間の回路に電流を流す工程と、 （ｃ）電流を維持して試験工程を実行する工程とを含む方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法であって、キャビティ内の２つの電極
   間で放電を生成することにより各プラズマジェットを発生させ、該プラズマは開
   口部を通り射出される方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の方法であって、各プラズマジェットをマイ
   クロ波生成プラズマを使用して生成し、該プラズマは開口部を通り射出される方
   法。
4. 【請求項４】 請求項１、２、又は３に記載の方法であって、前記キャビテ
   ィを流れ、プラズマ状態に変換されて被試験回路の１点に射出されるように気体
   流を供給する工程を含む方法。
5. 【請求項５】 請求項１，２，３、又は４に記載の方法であって、放電開始
   （breakdown）電圧の低い気体が使用される方法。
6. 【請求項６】 請求項１、２、３、又は４に記載の方法であって、ヘリウム
   、ネオン、アルゴン、キセノン等の不活発性ガスが使用される方法。
7. 【請求項７】 請求項２に記載の方法であって、放電開始（ignition）のた
   めに高放電電圧が使用され、その後、放電電圧は低下させられる方法。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の方法であって、放電開始（ignition）電圧
   が１００ボルト〜１０００ボルトであり、放電開始（ignition）後に数十ボルト
   に低下する方法。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の方法であって、更にプラズマ接触によって
   発生する電圧降下（接触電圧）を補償することを含む方法。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の方法であって、前記接触電圧が数十ボル
    ト以下である方法。
11. 【請求項１１】 請求項２に記載の方法であって、各プラズマジェットを生
    成するため同一の放電電圧が印加される方法。
12. 【請求項１２】 電気回路試験装置であって、 被試験回路の２点間に電流を流す少なくとも２つのプラズマ射出電極であって
    、生成されたプラズマを２測定点のうちの一方に向くように各々が配置されるか
    又は位置決め可能であるプラズマ射出電極と、各プラズマ射出電極に電圧を供給
    する第１電気回路と、 各プラズマ射出電極に気体を供給する手段と、 前記放電を維持するための第１電気回路と同一若しくは異なる第２電気回路と
    を有する装置。
13. 【請求項１３】 請求項１２に記載の装置であって、試験が実施されている
    間、電気回路に電流が流れ続けるように、電極に接続された電源を有する装置。
14. 【請求項１４】 請求項１２に記載の装置であって、各プラズマ射出電極が （ａ）絶縁体と、 （ｂ）キャビティに向けて絶縁体内部に設置された２つの電極と、 （ｃ）電極に接続された放電開始（ignition）／維持回路とを備え、 （ｄ）２つのプラズマ射出電極の各々は、気体が流れる通路と、生成されたプ
    ラズマジェットのためのノズル開口部とを形成するように、また、ジェットが被
    試験回路基板の２点の内の１点に照射されるように構成及び配置され、 （ｅ）一方のプラズマ射出電極の電極は、他方のプラズマ射出電極の電極より
    も電流を発生させるために十分な量だけ電圧が低い、装置。
15. 【請求項１５】 請求項１４に記載の装置であって、各プラズマ射出電極の
    絶縁体は中空であって、第１電極は前記絶縁体の内面の少なくとも一部を覆う金
    属層又はコーティングで形成され、第２電極は第１電極と同じような形状の金属
    層又はコーティングで形成され、第１電極の外側に設けられて絶縁材料により第
    １電極と分離されている装置。
16. 【請求項１６】 請求項１４に記載の装置であって、初めに第１電極に放電
    開始（breakdown）電圧を印加し、次いでプラズマ形成を維持するために該放電
    開始電圧より低い電圧を印加する電源を有する装置。
17. 【請求項１７】 請求項１４に記載の装置であって、プラズマ射出電極の絶
    縁材料がセラミック材である装置。
18. 【請求項１８】 請求項１４に記載の装置であって、電極がタングステンで
    作成された装置。
19. 【請求項１９】 請求項１２に記載の装置であって、複数のプラズマ射出電
    極を有し、生成されたプラズマを被試験回路の端子パッドに向けるように各々の
    電極が位置決めされている装置。
20. 【請求項２０】 請求項１９に記載の装置であって、固定されたプラズマ射
    出電極のアレーを使用し、各プラズマ射出電極を選択的に作動させて対応する端
    子パッドに接触させる装置。
21. 【請求項２１】 明細書に記述され、図示されたものと実質的に同一の電気
    回路の試験方法。
22. 【請求項２２】 明細書に記述され、図示されたものと実質的に同一の電気
    回路の試験装置。