JP2002510797A - 軸外球面鏡と屈折素子を用いる分光計測システム - Google Patents
軸外球面鏡と屈折素子を用いる分光計測システムInfo
- Publication number
- JP2002510797A JP2002510797A JP2000542645A JP2000542645A JP2002510797A JP 2002510797 A JP2002510797 A JP 2002510797A JP 2000542645 A JP2000542645 A JP 2000542645A JP 2000542645 A JP2000542645 A JP 2000542645A JP 2002510797 A JP2002510797 A JP 2002510797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- sample
- lenses
- optical system
- sampling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 title 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 91
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 89
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 65
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 84
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 14
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 10
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000000391 spectroscopic ellipsometry Methods 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 230000001594 aberrant effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 abstract description 15
- 238000007516 diamond turning Methods 0.000 abstract description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 2
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0208—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
- G01N21/211—Ellipsometry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
Abstract
Description
を合焦する球面鏡を含む分光光学計測システムに関する。
に使用される。高い入射角で試料に光ビームを向け、反射ビームまたは透過ビー
ムの偏光に対する試料の影響を分析することにより楕円偏光計は機能する。集積
回路のようなパターン化された試料の計測に使用される楕円偏光計は、完全に異
なる材料あるいはフィルムスタックによって囲まれた狭いフィーチャ(幅50ミ
クロン以下のことが多い)の範囲内で計測可能でなければならない。この囲まれ
たフィーチャに当たる、検知器によって集束された極く小量の光でさえ、計測時
に誤差を引き起こす可能性がある。したがって、試料上へ光を合焦し、また、試
料からの光を集束する光学系は、測定可能な最少フィーチャの外側の領域に当た
る放射や、その領域から検知される放射を最少化するように設計されなければな
らない。そしてこの条件は装置が使用する波長の範囲全体にわたって満たされな
ければならない。またこの光学系は光の偏光に対する影響が最低限のものとなる
ようにする必要がある。さらに光学系は、しばしば非常に大きなものになる場合
がある平らな試料を物理的に妨げてはならない。
の狭いスポットに合焦する。波長範囲が広い場合、屈折対物レンズは非常に大き
な色収差を示す。凹凸面鏡を用いる(Schwarzchild設計のような)反射対物レンズ
が知られているがこれらには色収差がない。しかし、狭いスポットと高い開口数
(NA)とを設けるために何らかの著しい縮小化を必要とする場合、内部鏡に対す
る入射角が非常に高くなり、偏光が変更される。小さな開口数ビームの処理しか
できない偏光プリズムの中を光はまず通過しなければならないので、縮小化が必
要となる。次いで、この光は、狭いスポットをつくるために合焦用光学系によっ
てより大きなNAビームへ変換されなければならない。
る理想的反射光学素子は軸外放物面鏡であり、(光ファイバーの端部のような)小
さな光源を試料上へ合焦するための理想的形状は軸外楕円面鏡である。軸外楕円
面鏡は、米国特許第5,508,526号に記載されているような分光楕円偏光
計の中で従来用いられてきた。このような非球面鏡は、その表面に対する小さな
入射角で広範囲の可能な縮小化を行うことができる。非球面鏡には色収差が発生
せず、(少なくとも理論的には)その他の収差も発生しない。これらの鏡は、光学
性能に対して最低限のインパクトしか持たないいくつかのタイプの低倍率または
ゼロ倍率の屈折素子と組み合わせることができる。このような素子の例として、
(偏光状態を故意に変えるために楕円偏光法で頻繁に使用される)補償板や波長板
と、(気流の制御を行ったり、真空中または気体中に試料を囲むために用いられ
る)ウィンドウと、(1997年4月8日出願の米国特許出願第08/835,5
33号に記載されているような)アポダイズ用フィルタと、(較正と診断を行うの
に役に立つ)その他の光学フィルタと、(合焦や倍率の調節に潜在的に有用な)低
倍率レンズがある。一般に、これらの素子の最大許容厚や倍率はビームのNAに
依存して逆比例する。
ンド旋削処理によってつくられるため、広範囲の空間周波数をカバーする多数の
溝とリッジから成る形状誤差が表面に残るという事実である。各空間周波数成分
によって特徴的角度で光が回折され、これによって試料上の所望の狭いスポット
の外側に迷光が増加する。ダイヤモンド旋削により生成されるこの特徴的誤差が
、的確な楕円偏光計測が可能な最小ボックスサイズを制限する主要要因の1つで
ある。従来型の研磨によってつくられた非球面鏡の方がより適正に機能するがこ
の系が必要とする開口と焦点距離とを設けなければならないので非常に費用がか
かる。ガラス上のエポキシからなる薄い層に複製を行う手法も存在するが、これ
らの鏡の性能と耐久性は本出願ではまだ証明されていない。
から成る光学系と非球面鏡を交換することが望ましい。しかも光学系は依然とし
て上述のすべての要件を満たさなければならない。非球面鏡を傾斜した球面鏡と
交換した場合、球面収差と、非点収差と、コマ(非対称収差)とが非常に大きくな
る。傾斜した球面鏡から収差を補正するために存在する多くの設計がある。しか
し、これらいずれの設計も楕円偏光法用として適切に機能するように適合させる
ことができない。
8,468号とでは、傾斜した球面鏡の前か後のいずれかの位置に、傾斜したガ
ラス・プレートが使用されている。楕円偏光法システムに対して適用する場合こ
のアプローチには多くの欠点がある。これらの欠点として、紫外線(UV)と可視
波長とでこのアプローチを使用する場合に、スペース上の制約、不適切な収差補
正、過度の色収差が存在する。
面鏡を直交平面で傾斜させるアプローチの利用が記載されている。この設計は、
多くの楕円偏光法システムに必要な18:1という近似的縮小化を特に考慮して
、楕円偏光法を行うために適切に収差を補正するものではない。
4つの球面鏡から成るレリー・システムが用いられている。各鏡に対する入射角
は比較的小さいものの、4つの鏡が組み合わされる結果、光の偏光に対して非常
に大きな影響が生じる。
正メニスカス・レンズが用いられ、入射光線と反射光線の双方がこの正メニスカ
ス・レンズによってインターセプトされる位置にレンズを配置することができる
。この設計は、狭い波長範囲については適正に機能するが、可視波長と紫外線(
UV)波長とを含むような広い波長範囲については非常に多くの色収差を生じる
。
ンバイナが用いられる。楕円偏光法を行うには、フェーセットの角が非常に多く
の光を散乱して隣接パターンの中へ入り、フェーセットに対する入射角が非常に
大きくなる。
とによって設定される)の軸外セクションと考えることができる。共役比が1:1
以外のとき、軸方向に左右対称の球面鏡によって純粋な球面収差が示される。軸
外セグメントは、非点収差とコマ(非対称収差)の成分とを含むように思われる収
差を生み出し、傾斜した球面鏡がこのような収差を有すると言われることが多い
。しかし、レンズ設計を行うためには、軸外セグメントの収差は、軸方向に左右
対称のより大きな鏡の球面収差のサブセットであると考える方がさらに有益であ
る。
すべての鏡とレンズの軸外セグメントを切り出すことにより楕円偏光法を利用で
きるようにすることもできよう。球面鏡の補正にレンズを使用するこのような多
くの反射屈折による設計が存在する。古典的な例の中にはシュミット・カメラと
マクストフ望遠鏡が含まれる(Kingslake著、“レンズ設計原理”14章、アカデ
ミック・プレス社、カリフォルニア州サンディエゴ、1978年刊参照)。これ
らの設計のほとんどの適合に関する主要な問題点として、深紫外線から近赤外域
(IR)を通じて使用するとき、これらの設計ではあまりに大きな色収差が発生す
るという事実がある。レンズの色収差の補正を行う古典的方法は異なる分散能を
有するガラスから作られた2つの素子を用いてレンズを製作することである。U
Vの色収差は、UVを透過する材料は限定された数のものしか存在しないので、
特殊な問題であるが、深紫外線を透過しかつ複屈折もしない材料は2つしか存在
しない。複屈折材料によってビームの偏光が変わるので、偏光子や波長板の中で
好適に使用されない場合、複屈折材料は望ましいものではない。さらに、ほとん
どの光学系がかなり広い視野にわたって適正に補正像を生成しなければならない
という点で、上記の系のほとんどの設計目標は楕円偏光法の設計目標とは異なる
。これ対して、多くの楕円偏光法システムでは、視野の中心の実質的に単一点に
おいてのみシステムによる最適化が必要とされる。
ング・フィールド”システムとして知られる1クラスの反射屈折システムも存在
する。このような系は米国特許第3,748,015号によって例示されている
。楕円偏光法アプリケーション用のこのようなレンズシステムに関する主要な問
題点は、縮小化が約5:1未満に限定されることである。またこれらのレンズシ
ステムは鏡に対する高い入射角を持つ傾向があり、これは望ましいことではない
。さらに、上記レンズシステムはリング形状の広い視野にわたって良好な結像特
性を持つように設計されていて、この特性のために上記レンズシステムは楕円偏
光法に用いるには複雑なものになっている。
いるためには完全に良好なものであるとはいえない。したがって、改善された特
徴を備えた球面鏡を使用する望ましい広帯域分光計測システムを提案する。
目的とし、該装置は、サンプリング・ビームを生成するための該広帯域放射を出
射する光源及び広帯域放射を偏光する偏光計と、試料上の狭いスポット上にサン
プリング・ビームを合焦する実質的に色収差のない光学系とを有し、前記光学系
には球面鏡及び少なくとも2つの屈折素子とが含まれる。この場合、前記サンプ
リング・ビームは、鏡の軸から離れた方向から鏡に対して入射し、鏡からの軸外
反射によって生じた球面収差が前記素子の中の少なくとも1つによって補正され
る。上記装置は、試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を分析し、そ
れによって出力ビームを生成する検光子と、出力を検知して検知出力を供給する
検知手段と、該検知出力を処理して、試料との相互作用によって生じた、サンプ
リング・ビームの振幅と位相中の偏光状態の変化を測定する手段とをさらに有す
る。本発明のこの態様並びにその他の態様の文脈において、偏光子と検光子とは
、放射の偏光を修正するいかなる素子あるいは素子の組合せをも含むことが可能
であり、鏡の曲率中心と鏡上の照射領域の中心に関して鏡軸を設定することがで
きる。
、試料と相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出力する光
源と、検知手段と、試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビームを合焦
する、あるいは、該試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて検知手段に対
して、該試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する光学系とを
有する。前記光学系の中には球面鏡と少なくとも2つのレンズとが含まれ、前記
サンプリング・ビームまたは修正ビームは鏡の軸から離れた方向から鏡に対して
入射する。これらのレンズの中の少なくとも1つによって、鏡からの軸外反射に
よって生じた球面収差が補正され、前記光学系は可視波長と紫外線波長とにわた
って実質的に色収差を生じない。
装置は、試料との相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出
力する光源と、検知手段と、試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビー
ムを合焦する、あるいは、試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて検知手
段に対して、試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する、実質
的に色収差のない光学系とを有する。この光学系の中には球面鏡と少なくとも2
つのレンズとが含まれるサンプリング・ビームまたは修正ビームは鏡軸から離れ
た方向から鏡に対して入射する。これらのレンズの中の少なくとも1つは鏡から
の軸外反射によって生じた球面収差を補正するメニスカス・レンズである。
装置は、試料との相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出
力する光源と、検知手段と、試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビー
ムを合焦するか、あるいは、試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて検知
手段に対して、試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する、実
質的に色収差のない光学系とを有する。これらの光学系の中には球面鏡と少なく
とも2つのレンズとが含まれる。前記サンプリング・ビームまたは修正ビームは
鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射する。これらのレンズの中の少なくとも
1つが鏡からの軸外反射によって生じた球面収差を補正し、前記レンズの中の2
つのレンズは実質的に逆数の倍率を有する。
方法を目的とし、該方法は、広帯域放射を出力するステップと、該広帯域放射を
偏光してサンプリング・ビームを生成するステップと、球面鏡と少なくとも2つ
の屈折素子とを含む実質的に色収差のない光学系によって試料上の狭いスポット
に対してサンプリング・ビームを合焦するステップとを有する。サンプリング・
ビームは鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射する。この場合、これらの素子
の中の少なくとも1つが鏡からの軸外反射によって生じた球面収差を補正する。
上記方法は、試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を分析し、それに
よって出力ビームを生成するステップと、検知出力を供給する出力ビームを検知
するステップと、検知出力を処理して試料との相互作用によって生じたサンプリ
ング・ビームの振幅と位相における偏光状態の変化を測定するステップと、をさ
らに有する。
し、該方法は試料との相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビーム
を出力するステップと、試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビームを
合焦するか、狭いスポットの試料からの、試料と相互作用したサンプリング・ビ
ームの放射を修正ビームに変えて光学系によって合焦するステップとを有する。
前記光学系には球面鏡と少なくとも2つのレンズとが含まれる。このサンプリン
グ・ビームまたは修正ビームは鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射する。こ
の場合、レンズの中の少なくとも1つが、鏡からの軸外反射によって生じた球面
収差を補正し、上記光学系は可視波長と紫外線波長とにわたって実質的に色収差
が生じない。上記方法は試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を検知
するステップをさらに有する。
って、広帯域放射を出射する光源と、広帯域放射を偏光して試料との相互作用を
行うためのサンプリング・ビームを生成する偏光計と、検光子と、試料上の狭い
スポットから修正ビームに変えて検光子に対して、試料と相互作用したサンプリ
ング・ビームの放射を合焦する実質的に色収差のない光学系とを有し、前記検光
子がこのサンプリング・ビームの入力に応答して出力ビームを出力する装置を目
的する。この光学系には球面鏡と少なくとも2つの屈折素子が含まれる。修正ビ
ームは鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射する。これらの素子の中の少なく
とも1つによって、鏡からの軸外反射によって生じた球面収差が補正される。上
記装置は、出力ビームを検知して検知出力を供給する検知手段と、該検知出力を
処理して、試料との相互作用によって生じたサンプリング・ビームの振幅と位相
中の偏光状態の変化を測定する手段とをさらに有する。
めの方法を目的とし、広帯域放射を出力するステップと、該広帯域放射を偏光し
て試料との相互作用を行うためのサンプリング・ビームを生成するステップと、
試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて、試料と相互作用したサンプリン
グ・ビームの放射を光学系によって合焦するステップとを有する。この光学系に
は球面鏡と少なくとも2つの屈折素子とが含まれ、前記修正ビームは鏡軸から離
れた方向から鏡に対して入射する。この場合、前記素子の中の少なくとも1つに
よって鏡からの軸外反射によって生じた球面収差が補正される。上記方法は、修
正ビームの放射を分析して出力ビームを生成するステップと、該出力ビームを検
知して、検知出力を供給するステップと、該検知出力を処理して、試料との相互
作用によって生じたサンプリング・ビームの振幅と位相中の偏光状態の変化を測
定するステップと、をさらに有する。
灯)12によって、開口14を通って光路16に沿って偏光子18への放射が行
われる。偏光計18は放射を偏光し、この偏光放射は、システム10用の開口絞
りとして機能するアポダイザ20の中を通過する。アポダイザ20からのビーム
はレンズ22と24を通って球面鏡30まで通され、この球面鏡30によって試
料32の表面の狭いスポット32a上へ放射が合焦される。このようにして開口
の像はスポット32aで像面上へ合焦され、開口とスポットをつなぐ点線34が
システム10の光軸となる。試料32から反射された放射は集束鏡40によって
集束され、集束鏡40は検光子42とその関連する開口(図示せず)を備えた分光
計44へ集束された光を合焦する。分光計の出力はコンピュータ46によって分
析され、試料とサンプリング・ビームとの相互作用によって生じた偏光の振幅と
位相の変化が測定される。
とにより、ダイヤモンド旋削によって生じる誤差という制限要因が取り除かれ、
楕円偏光による的確な計測を行うことができる範囲を成す最小ボックス・サイズ
からそのような制限が除かれる。本発明で達成されるボックス・サイズは40×
40ミクロン以下にすることができる。好ましい実施例またはその他の実施例で
は、偏光子と検光子の中に、線形偏光子とウェーブ・プレートあるいは音響光学
変調器のような、放射の偏光を修正する任意の素子を含むことができる。図1に
図示のように、推奨実施例では、照射領域の鏡の曲率中心30bと中心30cに
関して鏡上に鏡軸30aを設定することができる。図2と図3の構成用として同
様の方法でこの鏡軸を設定することができる。
する場合、鏡40'によって試料中を透過する放射の検知を行うことも可能であ
る。この鏡40'は、図3の点線で示される検光子42'と分光計44'及びコン
ピュータ46'へ集束された放射を合焦し、それによってサンプリング・ビーム
と試料との相互作用によって生じた偏光の振幅と位相の変化が測定される。さら
にその他の変更例では、試料によってまたは試料の中を通って散乱した放射を集
束して、サンプリング・ビームと試料との相互作用によって生じた偏光の振幅と
位相の変化を測定することが可能となる。
スカス・レンズであることが望ましい。実施例では、素子22、24は、紫外線
波長範囲において、並びに、可視波長のような他の波長範囲において複屈折しな
い同じ光学材料からつくられる。素子22、24用の適切な光学材料には弗化カ
ルシウムと融解石英が含まれる。
対してある角度をなしているが、これはこの鏡が軸外位置でビーム46を反射す
る場合の条件である。ビーム46とこの鏡の軸外との相対的位置に起因して、鏡
の軸外反射は通常球面収差が生じる。負メニスカス・レンズを使用することによ
り、鏡30からのこのような軸外反射によって生じる球面収差が補正される。
、全体として考えるとき、レンズ22、24と球面鏡30は可視波長と紫外線波
長にわたって実質的に色収差のない光デバイスを形成することになる。
て分光楕円偏光計で使用するための偏楕円面軸外鏡のための交換用光学系を設計
することであった。この交換用光学系は、好適には、次の特徴、すなわち、すべ
て球面を備えた素子からつくられるという特徴を有することが望ましい。この交
換用光学系は、好適には少なくとも250と800ナノメータの間で、さらに好
適には190と850ナノメータの間で色収差がないことが望ましい。視野の中
心においてのみ回折限界性能に近づくようにこれらの収差を補正する必要がある
場合がある。上記のように、この光学系は軸外球面鏡と少なくとも2つのレンズ
とを有するものである。
円偏光計のシステム設計に依存して、好適には、約60°と80°の間の範囲に
わたることが可能な、試料に対する入射角を有することが望ましい。集束光学系
によって像面中のスポット・サイズを決定する場合、主光線は、好適には、やは
り楕円偏光計のシステム設計に依存して、60°と80°の間の範囲にわたるこ
とが可能な、試料からの集束角を有することが望ましい。
の間で変動することが望ましい。球面鏡を使用する光学系は、好適には、ビーム
光の偏光に対して大きな影響を与えないこと、また、大きな平らな試料を妨げな
いことが望ましい。この光学系は好適には、本来の非球面鏡系の場合のように、
長い共役側の中へ挿入される、小倍率、ゼロ倍率または低倍率の屈折素子と互換
性があることが望ましい。
が望ましい。屈折素子22は弗化カルシウムから好適につくられた正レンズであ
ることが望ましい。素子24は同じ材料からつくられた負メニスカス・レンズで
ある。好適には、素子22、24は実質的に同じアッベ数を持つことが望ましい
。アポダイザはこの系用の開口絞りとして機能する。レンズ22、24の頂点は
、開口14と試料上の像によって設定された軸34上に配置される。オプション
として、レンズ22、24を平行に移動し、次いで一緒にわずかに傾斜させて色
収差補正の波長範囲をほんの少し拡げることもできる。通常の像面から試料32
を90°傾けて、鏡に対する低い入射角で試料に対する高い入射角が生じるよう
にする。また、これによって物体と光学系をすべて試料と同じ側に在るようにす
ることができる。残りの特定条件については以下に示す。この特定条件の中で、
レンズ22、24の表面22a、24aは光源12からの到来ビームに面し、レ
ンズ表面22b、24bは入来ビームから離れる方に面する。
直径の半分は3mmであり、軸の上方で4.5mm偏心している。試料に対する
主光線の入射角は72.95°であり、縮小化は16.98である。
ができる。試料側に口径食(けられ)あるいは非常に非テレセントリックな状態を
生じるほど物体平面に近接していない限り、アポダイザの軸方向位置は重要では
ない。アポダイザを物体から遠く離すことにより、アポダイザをより大きく製造
し、また製造し易くすることが可能になる。
24だけが、傾斜した球面鏡によって導入された球面収差を適切に補正するもの
となる。色収差を補正するために素子22が追加される。素子22によって素子
自身の球面収差がほんの小量付加されることになるが、この球面収差も素子3に
よって補正される。しかし素子22は素子24に対して逆のバランスをとる色収
差をつくりだす形状をしている。言い換えれば、レンズ24によって、鏡30に
よる軸外反射によって生じた球面収差の補正(好適には過補正)が行われる。また
レンズ24によってそれ自身の色収差が導入される。レンズ22は、レンズ24
によって生じた色収差を補正するだけでなく、レンズ24によって生じた球面収
差の補正も行う。理想的にはレンズ22、24の組合せはゼロ倍率ではあるが、
システムによっては、何らかの倍率を持つこの2つのレンズの組合せがシステム
のパフォーマンスに著しい影響を与えることはないであろう。
ロセスである。設計をし易くする1つのファクタとして、視野の中心においてだ
け最適化を達成しなければならないということがある。別のポジティブなファク
タとして、欠落している開口の軸上部分にわたって収差を補正する必要はないと
いうことがある。互いに対面する素子22、24の表面は異なる形状または曲率
を有する。
ルシウムがUVを良好に透過し、補正しなければならない色収差を最少化する低
い分散を有するためである。実際問題として、弗化カルシウムは非常に多くの残
留応力誘起複屈折を有してもよい。この場合、融解石英を用いることもできるが
、その結果は僅かに劣るものとなる。レンズ・グループの傾斜は、弗化カルシウ
ム設計よりも融解石英設計の方により効果がある。300nm以上の波長を使用
するために波長範囲を狭めた場合、さらにいくつかのタイプのガラスが透過的に
なり、350nm以上の波長を使用するために波長範囲を狭めた場合には、多く
の他のタイプのガラスが透過的になる。狭められた波長範囲に対して、高価でな
いガラスを使用することができ、おそらく異なる分散を持つ2枚のガラスの選択
によって性能にわずかな改善がある。これらのUV材料は、狭められた波長範囲
にわたって優れた結果を生み出す。
フトウェア社から入手可能)のようなレイ・トレーシング・ソフトウェアを利用
して所定の構成に対して最適化される。この設計を最適化するための変数と制約
には多くの組合せがあり得る。1つの実験では、2つの共役距離と開口位置とサ
イズを固定した。2つのレンズ厚もまた固定し、中心が接触する実際に使用する
薄さにした。すべての6つ曲率を変更可能とし、また、屈折レンズ・グループの
位置も同様に変更可能にした。設計クライテリアによって、210〜800ナノ
メータの波長範囲にわたってRMS波面誤差が最少化された。この結果生じたピ
ークから谷の波面誤差はすべての波長について0.15ウェーブ未満であった。
この波長範囲は190〜850nmまで拡げることができるが、ただ性能がわず
かに減損する。
の貢献より少ないものの、光学表面に対する入射角に起因して偏光に対する影響
を無視できないということがある。このような影響は計算可能であり、次いで、
この影響を減じて少なくすることができる。
計を最適化して、ウェーハに対する広範囲の倍率と入射角に対応できる変更例が
ある。前述した種々の平らな光学素子は、その厚さが約20mm未満であれば、
設計の開示されたバージョンの長い共役中に挿入することが可能である。補正の
ためにレンズを再設計する場合、平らな素子は以前より厚くなることさえあり得
る。鏡の前または後のいずれかにほとんど任意の厚さを有する、レイ・ファン(r ay fan)に対して垂直な表面を有する不遊素子を挿入することができる。残りの
素子を再び最適化して低倍率のレンズを適合するようにする限り、光路のほとん
どどの位置にでも低倍率レンズを挿入することが可能である。既存のレンズの各
々を2つまたはそれ以上のレンズに“分割”して、最適化により多くの自由度を
与えることもできる。わずかな性能の改善のためにレンズ対を傾斜させる代わり
に、2つの素子を互いに対して平行に移動してもよい。わずかな性能の改善のた
めに球面鏡をマンジャン・ミラーにしてもよい。
な所要の機能を有する他の光学素子であってもよい。
本発明の第2の実施例を例示するために、入力開口が楕円偏光計の光路の異なる
位置に配置されている。図1のように光源12と偏光子18の間に開口14を配
置する代わりに、図2に図示のように偏光子18とアポダイザ20との間に開口
14を配置してもよい。コンピュータ46、46'は図を単純化するために図2
では省かれている。
、図3に示すように集束側にこのような光学系を用いることも可能である。図3
は、本発明の第3の実施例を例示するために試料と相互作用した球面鏡とそれに
関連する屈折素子が、放射集束用として使用される楕円偏光計100の概略図で
ある。図3に示すように、光源12からの放射は偏光子18の中を通り、鏡40
によって試料32上へ合焦される。試料の狭いスポット32aから反射された放
射は、球面鏡30によって集束され、レンズ24、22及びアポダイザ20の中
を通って検光子42の中を通り開口14へ合焦され、次いで、分光計44まで達
する。分光計の出力44はコンピュータ46へ出力され、試料とサンプリング・
ビームの相互作用によって生じた偏光の振幅と位相の変化が測定される。したが
って、物体はスポット32aであり、また、像は開口14において形成される。
したがって、これらをつなぐ点線34がシステム100の軸となる。スポット3
2aのサイズは開口14によって限定される。試料から反射された放射を検知す
る代わりに、図3の点線で示すように、偏光子18'の中を通り鏡40'によって
合焦された後、光源12'が試料の中を通って透過(あるいは試料によって修正)
した放射を検知することもまた可能である。
ームの開口数と、鏡30による反射後の図3の修正ビームの開口数とはアポダイ
ザ42によって好適に0.43以下に限定される。球面鏡30に対する、図1と
図2のサンプリング・ビームの入射角と図3の修正ビームの入射角とは、好適に
は、鏡軸30aから1°〜10°の範囲内にあることが望ましい。レンズ22、
24のアッベ数は好適には2%以上異動しないことが望ましい。
回折構造の線幅や他のパラメータを計測する散乱計測法(scatterometry)のよう
な、楕円偏光法以外の分光計測用として利用することができる。そのような利用
を行うとき、偏光子と検光子とを省くことにより図1〜3に示すような構成を修
正したり、同じ偏光状態で放射を通過させるように構成を配置することが可能で
ある。したがって、本発明のさらに一般的な応用では、本発明のシステムは、試
料との相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを提供するもの
となる。このシステムの光学系は、試料上の狭いスポットにサンプリング・ビー
ムの合焦を行うか、狭いスポットの試料からの、試料と相互作用したサンプリン
グ・ビームの放射を修正ビームに変えて合焦を行うものである。この光学系には
球面鏡と少なくとも2つのレンズとが含まれる。サンプリング・ビームまたは修
正ビームは鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射し、そこでレンズの中の少な
くとも1つによって、鏡からの軸外反射によって生じた球面収差の補正が行われ
る。このシステムでは、試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射の検知
がさらに行われる。一実施例では、この光学系は可視波長と紫外線波長とにわた
って実質的に色収差が生じない。別の実施例では、光学系のレンズの中の少なく
とも1つは、球面鏡による軸外反射によって生じた球面収差を補正するメニスカ
ス・レンズである。さらに別の実施例では、2つのレンズが実質的に逆数の倍率
を有するため光学系は広帯域の波長にわたって実質的に色収差が生じない。
よって画定される本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更と改変を行う
ことができることは理解できるであろう。
図である。
光計の概略図であるが、この場合、入力開口が楕円偏光計の光路中の異なる位置
に配置される。
、球面鏡とこれに関連する屈折素子とを用いる楕円偏光計の概略図である。説明
を単純にするために、異なる図中の同一のいくつかの部分は同じ参照番号によっ
て同一のものであることを示す。
Claims (60)
- 【請求項1】 試料に対して分光楕円偏光法計測を行う装置において、 広帯域放射を出射する光源と、 前記広帯域放射を偏光してサンプリング・ビームを生成する偏光子と、 試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビームを合焦する実質的に色収
差のない光学系であって、前記光学系が球面鏡と少なくとも2つの屈折素子とを
含み、前記サンプリング・ビームが鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射し、
前記素子の中の少なくとも1つが前記鏡からの軸外反射によって生じた前記鏡か
らの軸外反射によって生じた球面収差を補正するようになされる前記光学系と、 試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を分析し、それによって出力
ビームを生成する検光子と、 出力ビームを検知して検知出力を供給する検知手段と、 前記検知手段からの出力を処理して、試料との相互作用によって生じたサンプ
リング・ビームの振幅と位相の偏光状態の変化を測定する手段と、を有すること
を特徴とする装置。 - 【請求項2】 前記少なくとも2つの屈折素子が2つまたはそれ以上のレン
ズを有することを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 前記2つまたはそれ以上のレンズがメニスカス・レンズを含
むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項4】 前記メニスカス・レンズが、前記鏡からの軸外反射によって
生じた前記球面収差の補正または過補正を行うことを特徴とする請求項3に記載
の装置。 - 【請求項5】 前記レンズの中の1つが正レンズであり、かつ、前記レンズ
の中の別のレンズが負レンズであることを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項6】 前記2つのレンズのアッベ数が2%以下で異動することを特
徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項7】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じ光学材料を有するこ
とを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項8】 前記レンズの中の2つが紫外線放射を透過し、かつ、複屈折
しない光学材料を有することを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項9】 前記レンズのうちの2つが弗化カルシウムまたは融解石英を
有することを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 【請求項10】 前記レンズのうちの2つが互いに対面する表面を持ち、前
記表面が異なる形状または曲率を有することを特徴とする請求項2に記載の装置
。 - 【請求項11】 前記光学系が少なくとも前記可視波長と紫外線波長とにわ
たって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項12】 前記光学系が、約250nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項11に記載
の装置。 - 【請求項13】 前記光学系が、約190nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項11に記載
の装置。 - 【請求項14】 前記光学系が、40×40ミクロン未満のサイズの前記試
料上のスポットに対してサンプリング・ビームを合焦することを特徴とする請求
項1に記載の装置。 - 【請求項15】 前記光学系が法線方向から約60°〜約80°の間の入射
角で前記試料に対してサンプリング・ビームを合焦することを特徴とする請求項
1に記載の装置。 - 【請求項16】 前記光源と前記偏光子との間または前記偏光子と前記光学
系との間の光路に配置された開口をさらに有することを特徴とする請求項1に記
載の装置。 - 【請求項17】 前記鏡による反射に先行するサンプリング・ビームの開口
数を約0.03未満に限定するアポダイザをさらに有することを特徴とする請求
項1に記載の装置。 - 【請求項18】 サンプリング・ビームの前記鏡軸に対する入射角が実質的
に1°〜10°の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項19】 試料に対して分光計測を行う装置において、 前記試料と相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出力す
る光源と、 検知手段と、 前記試料上の狭いスポットに対して前記サンプリング・ビームを合焦する、あ
るいは、前記試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて前記検知手段に対し
て、前記試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する、実質的に
色収差のない光学系とを有し、前記光学系が球面鏡と少なくとも2つのレンズと
を含み、前記サンプリング・ビームまたは修正ビームが鏡軸から離れた方向から
鏡に対して入射し、前記レンズの中の少なくとも1つが、前記鏡からの軸外反射
によって生じた球面収差を補正し、前記光学系が可視波長と紫外線波長とにわた
って実質的に色収差がないことを特徴とする装置。 - 【請求項20】 前記2つまたはそれ以上のレンズがメニスカス・レンズを
含むことを特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項21】 前記メニスカス・レンズが、前記鏡からの軸外反射によっ
て生じた球面収差の補正または過補正を行うことを特徴とする請求項20に記載
の装置。 - 【請求項22】 前記レンズの中の1つが正レンズであり、かつ、前記レン
ズの中の別のレンズの1つが負レンズであることを特徴とする請求項19に記載
の装置。 - 【請求項23】 前記2つのレンズのアッベ数が2%以下で異動することを
特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項24】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じ光学材料を有する
ことを特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項25】 前記レンズのうちの2つが弗化カルシウムまたは融解石英
を有することを特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項26】 前記レンズのうちの2つが互いに対面する表面を持ち、前
記表面が異なる形状または曲率を持つことを特徴とする請求項19に記載の装置
。 - 【請求項27】 前記光学系が、約250nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項19に記載
の装置。 - 【請求項28】 前記光学系が、約190nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項19に記載
の装置。 - 【請求項29】 前記光学系が、40×40ミクロン未満のサイズの前記試
料上のスポットに対してサンプリング・ビームを合焦することを特徴とする請求
項19に記載の装置。 - 【請求項30】 前記光学系が法線方向から約60°〜約80°の間の入射
角で前記試料に対してサンプリング・ビームを合焦することを特徴とする請求項
19に記載の装置。 - 【請求項31】 前記レンズのうちの2つが紫外線放射を透過し、複屈折し
ない光学材料を有することを特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項32】 前記鏡による反射に先行するサンプリング・ビームの開口
数または反射後の前記修正ビームの開口数を約0.03未満に限定するアポダイ
ザをさらに有することを特徴とする請求項19に記載の装置。 - 【請求項33】 前記鏡軸に対する、サンプリング・ビームまたは修正ビー
ムの入射角が実質的に1°〜10°の範囲内にあることを特徴とする請求項19
に記載の装置。 - 【請求項34】 試料に対して分光計測を行う装置において、 前記試料と相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出力す
る光源と、 検知手段と、 試料上の狭いスポットに対して前記サンプリング・ビームを合焦する、あるい
は、前記試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて前記検知手段に対して、
前記試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する、実質的に色収
差のない光学系とを有し、前記光学系が球面鏡と少なくとも2つのレンズとを含
み、前記サンプリング・ビームまたは修正ビームが鏡軸から離れた方向から鏡に
対して入射し、前記レンズの中の少なくとも1つが、前記鏡からの軸外反射によ
って生じた球面収差を補正し、前記レンズの中の少なくとも1つはメニスカス・
レンズであることを特徴とする装置。 - 【請求項35】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じ光学材料を有する
ことを特徴とする請求項34に記載の装置。 - 【請求項36】 前記レンズのうちの2つが紫外線放射を透過し、複屈折し
ない光学材料を有することを特徴とする請求項34に記載の装置。 - 【請求項37】 前記レンズの中の1つが正レンズであり、かつ、前記レン
ズの中の別のレンズの1つが負レンズであることを特徴とする請求項34に記載
の装置。 - 【請求項38】 試料に対して分光計測を行う装置において、 前記試料と相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出力す
る光源と、 検知手段と、 試料上の狭いスポットに対して前記サンプリング・ビームを合焦する、あるい
は、前記試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて前記検知手段に対して、
前記試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する、実質的に色収
差のない光学系とを有し、前記光学系が球面鏡と少なくとも2つのレンズとを含
み、前記サンプリング・ビームまたは修正ビームが鏡軸から離れた方向から鏡に
対して入射し、前記レンズの中の少なくとも1つが、前記鏡からの軸外反射によ
って生じた球面収差を補正し、前記レンズのうちの2つが実質的に逆数の倍率度
を有することを特徴とする装置。 - 【請求項39】 前記レンズの中の少なくとも1つが、前記鏡からの軸外反
射によって生じた球面収差を補正または過補正するメニスカス・レンズであるこ
とを特徴とする請求項38に記載の装置。 - 【請求項40】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じ光学材料を有する
ことを特徴とする請求項38に記載の装置。 - 【請求項41】 前記レンズのうちの2つが紫外線放射を透過し、複屈折し
ない光学材料を有することを特徴とする請求項38に記載の装置。 - 【請求項42】 試料に対して分光楕円偏光法計測を行うための方法におい
て、 広帯域放射を出力するステップと、 前記広帯域放射を偏光してサンプリング・ビームを生成するステップと、 球面鏡と少なくとも2つの屈折素子とを含む実質的に色収差のない光学系によ
って試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビームを合焦するステップで
あって、前記サンプリング・ビームが鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射し
、前記素子の中の少なくとも1つが前記鏡からの軸外反射によって生じた球面収
差を補正するようになされる前記ステップと、 前記試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を分析し、それによって
出力ビームを生成するステップと、 前記出力ビームを検知して検知出力を供給するステップと、 前記検知出力を処理して、試料との相互作用によって生じたサンプリング・ビ
ームの振幅と位相における偏光状態の変化を測定するステップと、を有すること
を特徴とする方法。 - 【請求項43】 試料に対して分光計測を行うための方法において、 前記試料と相互作用を行うための広帯域放射のサンプリング・ビームを出力す
るステップと、 前記試料上の狭いスポットに対してサンプリング・ビームを合焦するか、ある
いは、前記試料と相互作用したサンプリング・ビームの放射を前記試料上の狭い
スポットから修正ビームに変えて光学系によって合焦するステップであって、前
記光学系が球面鏡及び少なくとも2つのレンズを含み、前記サンプリング・ビー
ムまたは修正ビームが、鏡軸から離れた方向から鏡に対して入射し、前記レンズ
の中の少なくとも1つが、前記鏡からの軸外反射によって生じた球面収差を補正
し、前記光学系が可視波長と紫外線波長とにわたって実質的に色収差がないよう
になされる前記ステップと、 前記試料と相互作用した前記サンプリング・ビームの放射を検知するステップ
と、を有することを特徴とする方法。 - 【請求項44】 試料に対して分光楕円偏光法計測を行うための装置におい
て、 広帯域放射を出射する光源と、 前記広帯域放射を偏光して前記試料との相互作用を行うためのサンプリング・
ビームを生成する偏光子と、 検光子と、 前記試料上の狭いスポットから修正ビームに変えて前記検光子に対して、試料
と相互作用したサンプリング・ビームの放射を合焦する実質的に色収差のない光
学系であって、前記検光子が前記修正ビームに応答して出力ビームを出力し、前
記光学系は球面鏡と少なくとも2つの屈折素子とを含み、前記修正ビームが鏡軸
から離れた方向から鏡に対して入射し、前記素子の中の少なくとも1つが前記鏡
からの軸外反射によって生じた球面収差を補正するようになされる前記光学系と
、 前記出力ビームを検知して検知出力を供給する検知手段と、 前記検知出力を処理して試料との相互作用によって生じた振幅と位相における
偏光状態の変化を測定する手段と、を有することを特徴とする装置。 - 【請求項45】 前記少なくとも2つの屈折素子が2つまたはそれ以上のレ
ンズを有することを特徴とする請求項44に記載の装置。 - 【請求項46】 前記2つまたはそれ以上のレンズがメニスカス・レンズを
含むことを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 【請求項47】 前記メニスカス・レンズが、前記鏡からの軸外反射によっ
て生じた球面収差の補正または過補正を行うことを特徴とする請求項46に記載
の装置。 - 【請求項48】 前記レンズの中の1つが正レンズであり、かつ、前記レン
ズの中の別のレンズが負レンズであることを特徴とする請求項45に記載の装置
。 - 【請求項49】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じアッベ数を有する
ことを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 【請求項50】 前記レンズのうちの2つが実質的に同じ光学材料を有する
ことを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 【請求項51】 前記レンズのうちの2つが紫外線放射を透過し、複屈折し
ない光学材料を有することを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 【請求項52】 前記レンズのうちの2つが弗化カルシウムまたは融解石英
を有することを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 【請求項53】 前記レンズのうちの2つが互いに対面する表面を持ち、前
記表面が異なる形状または曲率を有することを特徴とする請求項45に記載の装
置。 - 【請求項54】 前記光学系が少なくとも前記可視波長と紫外線波長とにわ
たって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項44に記載の装置。 - 【請求項55】 前記光学系が、約250nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項44に記載
の装置。 - 【請求項56】 前記光学系が、約190nmより大きい紫外線波長を含む
紫外線波長にわたって実質的に色収差がないことを特徴とする請求項44に記載
の装置。 - 【請求項57】 前記光学系が、40×40未満のサイズの前記試料上のス
ポットから開始した出力ビームを前記検知手段上へ合焦することを特徴とする請
求項44に記載の装置。 - 【請求項58】 前記光学系が前記試料に対して法線方向から約60°〜約
80°の間の集束角で出力ビームを合焦することを特徴とする請求項44に記載
の装置。 - 【請求項59】 前記光源と前記検光子との間または前記検光子と前記光学
系との間の光路に配置された開口をさらに有することを特徴とする請求項44に
記載の装置。 - 【請求項60】 試料に対して分光楕円偏光法計測を行う方法において、 広帯域放射を出力するステップと、 前記広帯域放射を偏光して前記試料と相互作用を行うためのサンプリング・ビ
ームを生成するステップと、 前記試料と相互作用した前記サンプリング・ビームの放射を光学系によって合
焦して、前記試料上の狭いスポットから修正ビームに変えるステップであって、
前記光学系が球面鏡と少なくとも2つの屈折素子とを含み、前記修正ビームが前
記鏡軸から離れた方向から前記鏡に対して入射し、前記素子の中の少なくとも1
つが前記鏡からの軸外反射によって生じた球面収差を補正するステップと、 前記修正ビームの放射を分析して出力ビームを生成するステップと、 前記出力ビームを検知して検知出力を供給するステップと、 前記検知出力を処理して、試料との相互作用によって生じたサンプリング・ビ
ームの振幅と位相における偏光状態の変化を測定するステップと、を有すること
を特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/057,245 | 1998-04-08 | ||
US09/057,245 US5917594A (en) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
PCT/US1999/006608 WO1999051955A1 (en) | 1998-04-08 | 1999-03-25 | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002510797A true JP2002510797A (ja) | 2002-04-09 |
JP2002510797A5 JP2002510797A5 (ja) | 2006-04-06 |
JP4464561B2 JP4464561B2 (ja) | 2010-05-19 |
Family
ID=22009410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000542645A Expired - Fee Related JP4464561B2 (ja) | 1998-04-08 | 1999-03-25 | 軸外球面鏡と屈折素子を用いる分光計測システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5917594A (ja) |
JP (1) | JP4464561B2 (ja) |
AU (1) | AU3205999A (ja) |
WO (1) | WO1999051955A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004504590A (ja) * | 2000-07-17 | 2004-02-12 | ソシエテ・ドゥ・プロデュクシオン・エ・ドゥ・ルシェルシェ・アプリケ | コンパクトな分光エリプソメータ |
JP2005530152A (ja) * | 2002-06-17 | 2005-10-06 | オリバ ジョビン イボン エス. アー. エス. | 空間分解能の高い色消し分光偏光解析器 |
JP2006519364A (ja) * | 2003-02-27 | 2006-08-24 | ヴァリアン オーストラリア ピーティーワイ.エルティーディー. | 分光光度計 |
JP2008534963A (ja) * | 2005-03-31 | 2008-08-28 | ケイエルエイ−テンコー・テクノロジーズ・コーポレーション | 広帯域のウェーハ検査用反射光学システム |
Families Citing this family (91)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6268917B1 (en) | 1992-09-18 | 2001-07-31 | J.A. Woollam Co. Inc. | Combined polychromatic electromagnetic beam source system with application to ellipsometers, spectrophotometers and polarimeters |
US7518725B1 (en) | 1995-09-20 | 2009-04-14 | J.A. Woollam Co., Inc. | Temperature controlled lens |
US7304792B1 (en) | 2003-08-25 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc. | System for sequentially providing aberation corrected electromagnetic radiation to a spot on a sample at multiple angles of incidence |
US6804004B1 (en) * | 1998-03-03 | 2004-10-12 | J. A. Woollam Co., Inc | Multiple-element lens systems and methods for uncorrelated evaluation of parameters in parameterized mathematical model equations for lens retardance, in ellipometry and polarimetry |
US7215424B1 (en) | 1998-03-03 | 2007-05-08 | J.A. Woollam Co., Inc. | Broadband ellipsometer or polarimeter system including at least one multiple element lens |
US7304737B1 (en) | 1995-09-20 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc | Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence |
US6930813B1 (en) | 2000-04-25 | 2005-08-16 | J.A. Woollam Co. Inc. | Spatial filter source beam conditioning in ellipsometer and the like systems |
US7317530B2 (en) * | 2003-08-28 | 2008-01-08 | J.A. Woollam Co., Inc. | Combined spatial filter and relay systems |
US7245376B2 (en) * | 1995-09-20 | 2007-07-17 | J. A. Woollam Co., Inc. | Combined spatial filter and relay systems in rotating compensator ellipsometer/polarimeter |
US7193710B1 (en) | 1995-09-20 | 2007-03-20 | J.A. Woollam Co., Inc. | Rotating or rotatable compensator spectroscopic ellipsometer system including multiple element lenses |
US6483580B1 (en) | 1998-03-06 | 2002-11-19 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Spectroscopic scatterometer system |
US20020030813A1 (en) * | 1999-03-29 | 2002-03-14 | Norton Adam E. | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
US5917594A (en) | 1998-04-08 | 1999-06-29 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
JP4168543B2 (ja) * | 1998-10-08 | 2008-10-22 | 株式会社ニコン | 光学特性測定ユニット |
US6184984B1 (en) * | 1999-02-09 | 2001-02-06 | Kla-Tencor Corporation | System for measuring polarimetric spectrum and other properties of a sample |
US7215423B1 (en) | 1999-10-18 | 2007-05-08 | J.A. Woollam Co., Inc | Control of beam spot size in ellipsometer and the like systems |
US6950182B1 (en) | 1999-10-18 | 2005-09-27 | J. A. Woollam Co. | Functional equivalent to spatial filter in ellipsometer and the like systems |
US7468794B1 (en) | 1999-10-18 | 2008-12-23 | J.A. Woollam Co., Inc. | Rotating compensator ellipsometer system with spatial filter equivalent |
US6429943B1 (en) * | 2000-03-29 | 2002-08-06 | Therma-Wave, Inc. | Critical dimension analysis with simultaneous multiple angle of incidence measurements |
US6590655B2 (en) | 2000-04-25 | 2003-07-08 | J.A. Woollam Co. Inc. | System and method of improving electromagnetic radiation beam characteristics in ellipsometer and the like systems |
DE10021378A1 (de) * | 2000-05-02 | 2001-11-08 | Leica Microsystems | Optische Messanordnung mit einem Ellipsometer |
US6689519B2 (en) | 2000-05-04 | 2004-02-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for lithography process control |
DE10023477C2 (de) * | 2000-05-10 | 2002-09-19 | Sentech Instr Gmbh | Ellipsometer |
US6462817B1 (en) | 2000-05-12 | 2002-10-08 | Carlos Strocchia-Rivera | Method of monitoring ion implants by examination of an overlying masking material |
US6829049B1 (en) * | 2000-05-15 | 2004-12-07 | Therma-Wave, Inc. | Small spot spectroscopic ellipsometer with refractive focusing |
FR2809491B1 (fr) * | 2000-05-26 | 2008-07-04 | Production Rech S Appliquees | Procede et appareil de metrologie ellipsometrique pour echantillon contenu dans une chambre ou analogue |
US7345762B1 (en) | 2000-05-30 | 2008-03-18 | J.A. Woollam Co., Inc. | Control of beam spot size in ellipsometer and the like systems |
DE60021556T2 (de) * | 2000-06-05 | 2006-05-24 | Galileo Avionica- S.P.A., Campi Bisenzio | Spektrometer mit doppeltem ausseraxialen Schmidt-Teleskop |
US6891627B1 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension and overlay of a specimen |
US6782337B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-08-24 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension an a presence of defects on a specimen |
US6812045B1 (en) | 2000-09-20 | 2004-11-02 | Kla-Tencor, Inc. | Methods and systems for determining a characteristic of a specimen prior to, during, or subsequent to ion implantation |
US6694284B1 (en) | 2000-09-20 | 2004-02-17 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining at least four properties of a specimen |
US6891610B2 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining an implant characteristic and a presence of defects on a specimen |
US6673637B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-01-06 | Kla-Tencor Technologies | Methods and systems for determining a presence of macro defects and overlay of a specimen |
US6831742B1 (en) | 2000-10-23 | 2004-12-14 | Applied Materials, Inc | Monitoring substrate processing using reflected radiation |
US6597463B1 (en) | 2001-06-13 | 2003-07-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | System to determine suitability of sion arc surface for DUV resist patterning |
US6713753B1 (en) | 2001-07-03 | 2004-03-30 | Nanometrics Incorporated | Combination of normal and oblique incidence polarimetry for the characterization of gratings |
US6587282B1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-07-01 | Therma-Wave, Inc. | Broadband refractive objective for small spot optical metrology |
US6898596B2 (en) * | 2001-10-23 | 2005-05-24 | Therma-Wave, Inc. | Evolution of library data sets |
AU2002360738A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-07-09 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Parametric profiling using optical spectroscopic systems |
US7050162B2 (en) | 2002-01-16 | 2006-05-23 | Therma-Wave, Inc. | Optical metrology tool having improved contrast |
IL148484A (en) * | 2002-03-04 | 2008-11-26 | Nova Measuring Instr Ltd | Optical measurements of patterned structures |
US7671989B2 (en) * | 2002-06-24 | 2010-03-02 | J. A. Woollam Co., Inc. | Information maintenance during intensity attenuation in focused beams |
US8013996B1 (en) | 2002-06-24 | 2011-09-06 | J.A. Woollam Co., Inc. | Spatial filter in sample investigation system |
US7554662B1 (en) | 2002-06-24 | 2009-06-30 | J.A. Woollam Co., Inc. | Spatial filter means comprising an aperture with a non-unity aspect ratio in a system for investigating samples with electromagnetic radiation |
US6867862B2 (en) * | 2002-11-20 | 2005-03-15 | Mehrdad Nikoonahad | System and method for characterizing three-dimensional structures |
US7190460B2 (en) * | 2002-11-26 | 2007-03-13 | Therma-Wave, Inc. | Focusing optics for small spot optical metrology |
US7026626B2 (en) * | 2003-01-16 | 2006-04-11 | Metrosol, Inc. | Semiconductor processing techniques utilizing vacuum ultraviolet reflectometer |
US20080246951A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-09 | Phillip Walsh | Method and system for using reflectometry below deep ultra-violet (DUV) wavelengths for measuring properties of diffracting or scattering structures on substrate work-pieces |
US7394551B2 (en) * | 2003-01-16 | 2008-07-01 | Metrosol, Inc. | Vacuum ultraviolet referencing reflectometer |
US8564780B2 (en) * | 2003-01-16 | 2013-10-22 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Method and system for using reflectometry below deep ultra-violet (DUV) wavelengths for measuring properties of diffracting or scattering structures on substrate work pieces |
US7067818B2 (en) * | 2003-01-16 | 2006-06-27 | Metrosol, Inc. | Vacuum ultraviolet reflectometer system and method |
US7126131B2 (en) * | 2003-01-16 | 2006-10-24 | Metrosol, Inc. | Broad band referencing reflectometer |
US8034048B2 (en) * | 2003-05-05 | 2011-10-11 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Tissue patches and related delivery systems and methods |
GB0311128D0 (en) * | 2003-05-14 | 2003-06-18 | Seos Ltd | Image display apparatus |
US7430898B1 (en) | 2003-09-04 | 2008-10-07 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for analyzing a specimen using atomic force microscopy profiling in combination with an optical technique |
US7106415B2 (en) * | 2003-12-09 | 2006-09-12 | Anvik Corporation | Illumination compensator for curved surface lithography |
US7327457B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-02-05 | N&K Technology, Inc. | Apparatus and method for optical characterization of a sample over a broadband of wavelengths while minimizing polarization changes |
WO2005069082A1 (en) | 2003-12-19 | 2005-07-28 | International Business Machines Corporation | Differential critical dimension and overlay metrology apparatus and measurement method |
US7248364B2 (en) * | 2003-12-19 | 2007-07-24 | N&K Technology, Inc. | Apparatus and method for optical characterization of a sample over a broadband of wavelengths with a small spot size |
US7301638B1 (en) | 2004-01-31 | 2007-11-27 | Kla Tencor, Inc. | Dimensional calibration standards |
US7511265B2 (en) * | 2004-08-11 | 2009-03-31 | Metrosol, Inc. | Method and apparatus for accurate calibration of a reflectometer by using a relative reflectance measurement |
US7804059B2 (en) * | 2004-08-11 | 2010-09-28 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Method and apparatus for accurate calibration of VUV reflectometer |
US7282703B2 (en) * | 2004-08-11 | 2007-10-16 | Metrosol, Inc. | Method and apparatus for accurate calibration of a reflectometer by using a relative reflectance measurement |
US7399975B2 (en) * | 2004-08-11 | 2008-07-15 | Metrosol, Inc. | Method and apparatus for performing highly accurate thin film measurements |
US7663097B2 (en) * | 2004-08-11 | 2010-02-16 | Metrosol, Inc. | Method and apparatus for accurate calibration of a reflectometer by using a relative reflectance measurement |
WO2006069255A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for controlling variation in dimensions of patterned features across a wafer |
US7777883B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-08-17 | J.A. Woollam Co., Inc. | Ellipsometric investigation of anisotropic samples |
US7636161B1 (en) | 2005-06-17 | 2009-12-22 | J.A. Woollam Co., Inc. | Back surface reflection reduction systems and methodology |
US7349103B1 (en) | 2005-10-31 | 2008-03-25 | N&K Technology, Inc. | System and method for high intensity small spot optical metrology |
DE102006022717A1 (de) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | Büromat IT Systeme Zwickau GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Erkennen von Objekten |
US20080129986A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Phillip Walsh | Method and apparatus for optically measuring periodic structures using orthogonal azimuthal sample orientations |
US8179581B1 (en) | 2007-03-28 | 2012-05-15 | University Of South Florida | Electrostatically-addressed MEMS array system and method of use |
US7932896B2 (en) * | 2007-06-13 | 2011-04-26 | Apple Inc. | Techniques for reducing jitter for taps |
US20090219537A1 (en) * | 2008-02-28 | 2009-09-03 | Phillip Walsh | Method and apparatus for using multiple relative reflectance measurements to determine properties of a sample using vacuum ultra violet wavelengths |
US8610986B2 (en) * | 2009-04-06 | 2013-12-17 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Mirror arrays for maskless photolithography and image display |
US8153987B2 (en) * | 2009-05-22 | 2012-04-10 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Automated calibration methodology for VUV metrology system |
US8253940B1 (en) | 2009-08-24 | 2012-08-28 | J. A. Woollam Co., Inc. | UV-IR range variable angle spectroscopic ellipsometer |
US8441639B2 (en) * | 2009-09-03 | 2013-05-14 | Kla-Tencor Corp. | Metrology systems and methods |
US8416410B1 (en) | 2010-04-26 | 2013-04-09 | J.A. Woollam Co., Inc | Conjugate ratio adjustable lens system |
US8867041B2 (en) | 2011-01-18 | 2014-10-21 | Jordan Valley Semiconductor Ltd | Optical vacuum ultra-violet wavelength nanoimprint metrology |
US8565379B2 (en) | 2011-03-14 | 2013-10-22 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Combining X-ray and VUV analysis of thin film layers |
CN102253489B (zh) * | 2011-05-27 | 2012-09-05 | 清华大学 | 单位放大倍率多光程光路像散补偿方法及其系统 |
RU2521249C1 (ru) * | 2012-12-19 | 2014-06-27 | Открытое акционерное общество "Красногорский завод им. С.А. Зверева" | Зеркальный автоколлимационный спектрометр |
US9921395B1 (en) | 2015-06-09 | 2018-03-20 | J.A. Woollam Co., Inc. | Beam focusing and beam collecting optics with wavelength dependent filter element adjustment of beam area |
US10018815B1 (en) | 2014-06-06 | 2018-07-10 | J.A. Woolam Co., Inc. | Beam focusing and reflective optics |
US10338362B1 (en) | 2014-06-06 | 2019-07-02 | J.A. Woollam Co., Inc. | Beam focusing and reflecting optics with enhanced detector system |
US9442016B2 (en) | 2014-06-06 | 2016-09-13 | J.A. Woollam Co., Inc | Reflective focusing optics |
US10151631B2 (en) | 2016-10-04 | 2018-12-11 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopy with tailored spectral sampling |
US11215564B2 (en) * | 2020-04-30 | 2022-01-04 | Renesas Electronics Corporation | Visual inspections device, method of manufacturing and program the same |
CN112684609B (zh) * | 2021-03-19 | 2021-06-22 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种分孔径的紧凑型宽波段偏振同时成像装置及系统 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3598468A (en) * | 1970-02-02 | 1971-08-10 | Donald M Perry | Optical system with tilted concave mirror and astigmatism compensator |
US3748015A (en) * | 1971-06-21 | 1973-07-24 | Perkin Elmer Corp | Unit power imaging catoptric anastigmat |
CA1048829A (en) * | 1975-09-09 | 1979-02-20 | Udo W. Drews | Optical beam combining apparatus |
DE2622113C3 (de) * | 1976-05-18 | 1982-04-08 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Optische Vorrichtung zur Korrektur der sphärischen Aberration eines sphärischen Hohlspiegels |
DE2740183A1 (de) * | 1977-09-07 | 1979-03-08 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Einrichtung zur fokussierung elektromagnetischer strahlung auf eine probe |
US4226501A (en) * | 1978-10-12 | 1980-10-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Four mirror unobscurred anastigmatic telescope with all spherical surfaces |
US4230394A (en) * | 1979-04-02 | 1980-10-28 | Xerox Corporation | Mirror facet tracker using spherical mirrors |
US4588269A (en) * | 1984-07-05 | 1986-05-13 | Eastman Kodak Company | Apparatus which shapes gaussian beams by spherical mirrors |
US5168386A (en) * | 1990-10-22 | 1992-12-01 | Tencor Instruments | Flat field telecentric scanner |
US5608526A (en) * | 1995-01-19 | 1997-03-04 | Tencor Instruments | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
US5859424A (en) | 1997-04-08 | 1999-01-12 | Kla-Tencor Corporation | Apodizing filter system useful for reducing spot size in optical measurements and other applications |
US5917594A (en) | 1998-04-08 | 1999-06-29 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
-
1998
- 1998-04-08 US US09/057,245 patent/US5917594A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-03-25 WO PCT/US1999/006608 patent/WO1999051955A1/en active Application Filing
- 1999-03-25 JP JP2000542645A patent/JP4464561B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-25 AU AU32059/99A patent/AU3205999A/en not_active Abandoned
- 1999-03-29 US US09/280,752 patent/US6323946B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004504590A (ja) * | 2000-07-17 | 2004-02-12 | ソシエテ・ドゥ・プロデュクシオン・エ・ドゥ・ルシェルシェ・アプリケ | コンパクトな分光エリプソメータ |
JP2005530152A (ja) * | 2002-06-17 | 2005-10-06 | オリバ ジョビン イボン エス. アー. エス. | 空間分解能の高い色消し分光偏光解析器 |
JP2006519364A (ja) * | 2003-02-27 | 2006-08-24 | ヴァリアン オーストラリア ピーティーワイ.エルティーディー. | 分光光度計 |
JP2008534963A (ja) * | 2005-03-31 | 2008-08-28 | ケイエルエイ−テンコー・テクノロジーズ・コーポレーション | 広帯域のウェーハ検査用反射光学システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6323946B1 (en) | 2001-11-27 |
WO1999051955A1 (en) | 1999-10-14 |
JP4464561B2 (ja) | 2010-05-19 |
AU3205999A (en) | 1999-10-25 |
US5917594A (en) | 1999-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4464561B2 (ja) | 軸外球面鏡と屈折素子を用いる分光計測システム | |
US5581350A (en) | Method and system for calibrating an ellipsometer | |
US5608526A (en) | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system | |
US7239446B2 (en) | Optical reduction system with control of illumination polarization | |
US6734967B1 (en) | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system | |
US7471392B2 (en) | Polarimetric scatterometry methods for critical dimension measurements of periodic structures | |
US6744505B1 (en) | Compact imaging spectrometer | |
US6583877B2 (en) | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements | |
EP1311893B8 (en) | Small-spot spectrometry instrument with reduced polarization | |
US6587282B1 (en) | Broadband refractive objective for small spot optical metrology | |
US7755775B1 (en) | Broadband optical metrology with reduced wave front distortion, chromatic dispersion compensation and monitoring | |
KR101922973B1 (ko) | 4-반사경을 적용한 마이크로 스폿 분광 타원계 | |
JP4399126B2 (ja) | 分光エリプソメータ | |
US6940596B2 (en) | Refractive focusing element for spectroscopic ellipsometry | |
US7248364B2 (en) | Apparatus and method for optical characterization of a sample over a broadband of wavelengths with a small spot size | |
US6972850B2 (en) | Method and apparatus for measuring the shape of an optical surface using an interferometer | |
KR100992839B1 (ko) | 마이크로 스폿 분광타원계 | |
US7327457B2 (en) | Apparatus and method for optical characterization of a sample over a broadband of wavelengths while minimizing polarization changes | |
JPH07120385A (ja) | 分光光度計 | |
JP2003254730A (ja) | 干渉計を用いた形状測定方法および装置 | |
JP2001267660A (ja) | 半導体露光用レーザ光のための波長モニタ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060210 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090210 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090501 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090513 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100219 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |