JP2002509032A - ワークピース照明装置 - Google Patents

ワークピース照明装置

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JP2002509032A
JP2002509032A JP2000539968A JP2000539968A JP2002509032A JP 2002509032 A JP2002509032 A JP 2002509032A JP 2000539968 A JP2000539968 A JP 2000539968A JP 2000539968 A JP2000539968 A JP 2000539968A JP 2002509032 A JP2002509032 A JP 2002509032A
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シュヴァイツァー,ユルゲン
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カール・ツアイス・シュティフテュング・ハンデルンド・アルス・カール・ツアイス
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Abstract

(57)【要約】 この発明は、いくつかの個々に調節可能な偏向装置からなり、いくつかの物理的に分離された個々の加工光束が、これらの偏向装置によって導かれるようにし、これらの偏向装置が、ワークピースのいくつかの変更可能な点あるいは面に照射される加工光束の光路に別々に配置されているようにしたワークピース照射装置に関する。この発明によれば、少なくとも一つの測定光束を発生させるための補助的な光源が照射装置に配置され、この補助的な光源からの測定光束がいくつかの偏向装置を同時に照射する。測定光束の波長に感度を有する撮像装置が、ワークピース照射装置に配置され、偏向装置によって分けられた測定光束の少なくとも一部分を受けてそれらの偏向装置の偏向効果を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 この発明は、複数の個々に調節可能な偏向装置からなり、および、その際複数
の空間的に互いに分離された個々の、赤外線あるいは紫外線の波長領域の加工光
束が、その加工光束の光路に配置された偏向装置によって少なくとも一つの照射
対象であるワークピースの様々な点あるいは面上にその都度個々に導かれるよう
にしたワークピース照明装置に関する。
【0002】 このようなワークピース照明装置は、特にDE19513354、DE444
0117、および、DE19707834から周知である。
【0003】 セグメント反射鏡のフィールドの校正のための測定は、今日では光線(レーザ
)によって行われており、これにより材料加工も行われ、場合によっては、適当
な場所の光線の強度もここでのような測定部材を劣化させないように弱められる
。このようなやり方は、以下のような利点を備えている。 − 補助的なレーザが不要であり、および、 − 測定に使用される光は、加工光束の光の波長と同一の波長領域にあるとと
もに同一の光学的な部品により補正不要であるので、光路の決定的な歪みは生じ
ない(測定光路が異なる波長を有するときは、光路は、所定の他の光学系によっ
て屈折されねばならず、最終的にはCCDカメラに結像されないことになる)。
【0004】 加工レーザ光がCCDカメラによって問題なく処理されるので、このやり方は
長時間の使用が可能である。このやり方は、使用される広い面積のCCDアレイ
により、 − 400〜1,000nmの波長範囲で技術的に簡単であるとともに低コス
トであり、 − 200〜400nmの波長範囲で技術的に時間を浪費するとともに高コス
トであり、 − 1,000〜5,000nmの波長範囲で技術的に相当に時間を浪費する
とともにかなりの高コストであり、および、 − 5,000〜20,000nmの波長範囲で技術的に極めて時間を浪費す
るとともに極めて高コストとなる。
【0005】 プリント回路基板産業における材料加工のために通常使用される波長は、24
8nm(エキシマレーザ)、355nm(周波数3倍のヤグレーザ)、および、
9,600(炭酸ガスレーザ)である。この二つの紫外線に関しては従来周知の
技術は、なんとか採算のとれる限界にある。炭酸ガスレーザに関しては技術的な
および経済的な根拠から大量生産を可能にすることは難しい。
【0006】 この発明の目的は、揺動装置を、特にセグメント反射鏡のフィールドをワーク
ピース照射装置のために使用される光束の波長には関係無く定めることができる
ようにすることにある。
【0007】 この発明によれば、この目的は、特許請求の範囲第1項に記載の技術によって
達成される。この発明のいくつかの実施態様が、従属する特許請求に記載されて
いる。
【0008】 この発明によるワークピース照射装置は、複数の個々に調節可能な偏向装置か
らなり、および、複数の空間的に互いに分離された個々の、赤外線あるいは紫外
線の波長領域の加工光束が、前記加工光束の光路に配置された前記偏向装置によ
って少なくとも一つの照射対象であるワークピースの様々な点あるいは面上にそ
の都度個々に導かれるように構成されている。
【0009】 ワークピース照明装置は、ワークピース照明装置内に少なくとも測定光束を発
生させる補助的な光源が配置されて、この補助的な光源から発生させられた測定
光束が、複数の偏向装置に同時に入射し、および、ワークピース照明装置内に測
定撮像装置が配置されて、この装置が、照射された偏向装置から導かれた測定光
束の少なくとも一部分を偏向装置の偏向効果の検出のために測定を行うように構
成されている。
【0010】 この発明の第1の実施態様においては、加工光束の光路内の偏向装置の前方に
第1の光学部材が配置されており、この第1の光学部材が、加工光束を偏向装置
に入射させ、および、加工光束の光路内において測定光束が、偏向装置に向かっ
て収斂させられ、および、偏向装置の後方に第2の光学部材が配置され、この第
2の光学部材が、ワークピースの点あるいは面上に加工光束を入射させ、および
、加工光束の光路から測定光束が測定撮像装置の方向へ収斂させられることが好
ましい。これらの光学部材は、特にダイクロイックミラーあるいはダイクロイッ
ク光分解キューブからなることができる。
【0011】 これらの二つの光学部材の少なくとも一方は、加工光束の光路から離して配置
することができる。
【0012】 この発明の他の実施態様においては、測定光束は、加工光束とは異なる角度で
偏向装置に入射し、測定光束を発生させるための光源および測定撮像装置は、加
工光束の光路の側方に配置される。
【0013】 少なくとも撮像装置には評価装置が接続されねばならず、この評価装置は、記
憶されているあるいは予め定められている設定値とこの評価装置により測定され
た実測値とを比較する。
【0014】 測定光束の波長が可視光の波長領域にあるとき、特に加工光束の波長が赤外線
あるいは紫外線の波長領域にあるときは、コスト的な観点から有利である。
【0015】 偏向装置は、揺動反射鏡から構成されている。
【0016】 偏向装置は、電動で駆動調節されることが好ましい。
【0017】 偏向装置は、それぞれ揺動部材からなる揺動装置として実現される。この偏向
装置は、揺動反射鏡として知られており、揺動は通常、1個あるいは2個の軸に
おいて行われる。偏向装置は、それぞれの加工光束を他の加工光束とは無関係に
確実にガイドするためにそれぞれ分離して配置されなければならない。これはそ
れぞれの個々の加工光束は、その都度個々の加工光束に従属する偏向装置として
の揺動反射鏡によってのみ偏向させられるということに他ならず、その際この偏
向は反射によるものである。
【0018】 測定光束は、偏向装置の同一の表面に入射してはならず、その一部分(好まし
くは反射部分)にのみ入射する。
【0019】 偏向装置は、揺動部材からなる揺動装置であることができ、その前側は、少な
くとも部分的に反射鏡コーティングを施されていることが好ましく、測定光束は
、この反射鏡コーティングを施されている表面に入射させられる。
【0020】 偏向装置とワークピース表面との間には投影対物レンズ、好ましくはF−θ対
物レンズが、加工光束を結像するために配置されており、これにより、加工光束
は非常に精密にワークピース表面に結像され、このF−θ対物レンズの使用によ
ってワークピースへの光照射は、投影対物レンズの光軸にほぼ平行に行われる。
【0021】 測定撮像装置の前には、観察用の対物レンズが配置され、必要な精度で必要な
測定が迅速に認識できるようになる。
【0022】 反射鏡の表面が第1および/あるいは第2の光学部材に分割されているときは
、高い位置決め精度を持って移動させることができる。
【0023】 位置決めの誤差を最小にするためには、第1の反射鏡を構成する第1の光学部
材が、部分的に透明にされ、ワークピース照射光束の波長に対して反射特性を備
えるとともに測定光束の波長に対して透明であるようにされる。
【0024】 偏向装置として機能する揺動装置の後方に、第2の反射鏡を構成する第2の光
学部材が配置され、測定光束を測定撮像装置に偏向させるようにすることが好ま
しい。この第2の反射鏡は、ワークピース照射光束の光路から外れること、例え
ば、揺動可能であることが好ましい。この第2の反射鏡が部分的に透明にされ、
ワークピース照射光束の波長に対して反射特性を備えるとともに測定光束の波長
に対して透明であるようにされると位置決め精度の観点から望ましい。
【0025】 ワークピース照明光束が、レンズアレイから空間的に分離されて離されて射出
されるようにすると効果的である。このレンズアレイに全てのワークピース照射
光束に共通な結像レンズが隣接して配置されていると、比較的簡単な構成が得ら
れる。
【0026】 第1の反射鏡の前方で全ての光が共通の焦点を通過するようにされている。
【0027】 F−θ対物レンズの前方には、基本位置においてワークピース照射光束が共通
の瞳を通過する。
【0028】 反射鏡アレイの種々の反射鏡に対応する位置に複数の撮像装置を配置すること
もできる。
【0029】 この発明は、添付の図面を参照しつつ、実施形態に従って詳細に説明されるが
、以下の実施形態はこの発明の技術的な範囲を限定するものではなく、この発明
の好ましい実施形態を包含するものである。 第1図に示されている構成により、この発明の二つの実施形態が説明される。
【0030】 二つの実施形態において、主レーザとしての加工レーザは、レーザ光(1)で
あり、これはこの加工レーザに隣接して配置された光学的な構成(必要な基準に
従って)によって構成されている。この部分は当業者に周知であるので、図示さ
れていない。
【0031】 このレーザ光(1)は、光学的な構成(2)(例えばレンズアレイ)を通過す
る。この光学的な構成はレーザ光(1)多くの、互いに空間的に分離され、互い
に平行なマルチ光束(3a、3b...、3n)に分解する。全てのマルチ光束
(3a、3b...、3n)は、その他の光学的な構成(4)(この場合屈折作
用を備えた対応する大きさのレンズ)に入射する。この全てのマルチ光束(3a
、3b...、3n)は点(5)に結像される。マルチ光束(3a、3b...
、3n)はこの点を通過した後、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)に入射
する。その際、マルチ光束(3a、3b...、3n)のそれぞれの光束に対し
て、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)のそれぞれの反射鏡(7’a、7’
b、7’c)が配置されている。この反射鏡(7’a、7’b、7’c)の数は
、マルチ光束(3a、3b...、3n)の数に対応し、例えばこの図において
は、3個のみの反射鏡が示されている。
【0032】 セグメント反射鏡(7a、7b、7c)は、好ましくは複数のレンズ(11a
、11b、11c)によって構成されている投影対物レンズ(10)の個々のマ
ルチ光束(3a、3b...、3n)に共通の瞳(9)にマルチ光束(3a、3
b...、3n)を偏向させる。この投影対物レンズ(10)は、マルチ光束(
3a、3b...、3n)がワークピース面に直交して入射するとともに、その
面にそれぞれ焦点(13a、13b、13c)を有するように配置されている。
【0033】 光学的な構成(4)とセグメント反射鏡(7a、7b、7c)との間には、第
1の偏向反射鏡(6)が配置されている。この反射鏡はマルチ光束(3a、3b
...、3n)をセグメント反射鏡(7a、7b、7c)に偏向させる。その他
の反射鏡(8)が、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)と投影対物レンズ(
10)との間に配置されている。
【0034】 第2のレーザ(19)が、第1の反射鏡(6)によって偏向させられたマルチ
光束の後方の延長線側に配置されている。このレーザは測定レーザ光束を発生さ
せ、対応する光学的な構成(20)によって広げられ、偏向させられたマルチ光
束(3a、3b...、3n)を可能な限り包含するような開口角度を備えるよ
うに構成されている。測定光束(21)の光は従って、マルチ光束(3a、3b
...、3n)と正確に同じ角度でセグメント反射鏡(7a、7b、7c)の個
々の反射鏡(7’a、7’b、7’c)に入射する。
【0035】 この発明の第1の実施形態において、二つの偏向反射鏡(6、8)はダイクロ
イックコーティングされ、第1の偏向反射鏡(6)はそれに入射した加工レーザ
のレーザ光(1)のマルチ光束(3a、3b...、3n)に対しては高い反射
率を備え、一方、第2のレーザ(19)からの測定光束(21)に対してできる
だけ高い透過率を備えるようにされている。この測定レーザ(19)は可視域の
スペクトルを持つレーザ光(21)を出力する。この測定レーザ光(21)は、
加工レーザであるマルチ光束(3a、3b...、3n)と共にセグメント反射
鏡(7a、7b、7c)に集められて投影対物レンズ(10)の方向に反射され
る。
【0036】 その後方における第2の偏向反射鏡(8)は、測定レーザ(19)の入射レー
ザ光(21)に対しては高い反射率を備えるとともに、加工レーザのマルチ光束
(3a、3b...、3n)に対してはできるだけ高い透過率を備える。第2の
偏向反射鏡(8)によってセグメント反射鏡(7a、7b、7c)により発生さ
せられた測定レーザ光(21)の光束(14)は、好ましくは複数のレンズ(1
6a、16b、16c)からなる観察対物レンズ(15)に向けて偏向させられ
、CCDカメラ(17)の対物レンズ(18)によりこの光束(14)を結像さ
れる。
【0037】 この発明の第2の実施形態では、二つの偏向反射鏡(6、8)は光路から分離
でき、例えば、回動されるかあるいはシフトされるようになっている。第1の偏
向反射鏡(6)は一方の方向へ回動され、第2の偏向反射鏡(8)は他方の方向
へ回動される。測定のときにはそれとは反対に、第1の偏向反射鏡(6)は他方
の方向へ回動され、第2の偏向反射鏡(8)は一方の方向へ回動される。偏向反
射鏡(6、8)の反射率は、これらに入射する加工レーザのマルチ光束(3a、
3b...、3n)あるいは測定レーザ(19)の測定レーザ光(21)に対し
てその都度最適化される。測定レーザ光(21)は測定に際して常に加工レーザ
光(3a、3b...、3n)と同じ角度でセグメント反射鏡(7a、7b、7
c)に入射させられ、投影対物レンズ(10)の方向に同一の角度で反射される
。第2の偏向反射鏡(8)によってセグメント反射鏡(7a、7b、7c)によ
り発生させられた測定レーザ光(21)の光束(14)は観察対物レンズ(15
)にも偏向され、この対物レンズにより光束(14)はCCDカメラ(17)の
対物レンズ(18)に結像される。
【0038】 第1および第2のやり方の利点は、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)の
反射鏡(7’a、7’b、7’c)からの測定光束(14)が同一の角度で偏向
させられることにある。この第1のやり方は、測定と同時に加工が実施できるか
あるいは少なくとも加工直後に測定が実施できることに利点がある。第2の偏向
反射鏡(8)の残存反射率が加工レーザの波長に対してCCDカメラ(17)の
所定の感度において信号ノイズとなるときは、この加工レーザの残存光は、適当
なフィルタにより除去することができる。
【0039】 第2図には、この発明の第3の実施形態が示されている。この実施形態は前述
の二つの実施形態とは異なり、測定光束(21)(第1図に示す二つの実施形態
と同じように変形させることができる)は、加工レーザのマルチ光束(3a、3
b...、3n)とは異なる角度でセグメント反射鏡(7a、7b、7c)に入
射させ、測定光束(21、14)は追加の偏向反射鏡を必要としないようにした
ものである。第1の平面反射鏡(6)(これは別の構造を割り当てることもでき
る)を含む加工レーザのマルチ光束(3a、3b...、3n)の偏向のための
機構は、加工レーザのマルチ光束(3a、3b...、3n)の光路が同じよう
に構成できるので、第1図に示す構成と同一の構成を使うことができる。第2の
反射鏡(第1図における8)は測定光(14)をマルチ光束(3a、3b...
、3n)の光路から外すためのみに働くので、完全に削除することができる。
【0040】 反射鏡における入射角度と射出角度とは同一であるので、測定レーザ(19)
の光束(14)の観察から正確な計算(図示せぬ計算機によって)がセグメント
反射鏡(7a、7b、7c)の反射鏡(7’a、7’b、7’c)の位置を直接
定めることができ、あるいは、補正光学系(図示せぬが、例えばプリズムの形の
)が対応する個々の測定光束(14)の光路を補正する。測定光束(14)とマ
ルチ光束(3a、3b...、3n)との間の角度差は非常に小さいので、僅か
なひずみが、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)の光束(14、3a、3b
...、3n)角度の相違により生じる。精度を高めるために、測定レーザ(1
9)の光は、第1の平面反射鏡(6)のできるだけ近くに導かれる。
【0041】 セグメント反射鏡(7a、7b、7c)の方向に光軸を備えるように配置され
た観察対物レンズ(15)により、シリンドリカル、アナルモフィックガリレオ
望遠鏡対物レンズを使うことができ、特に楕円ひずみも補正することができ、こ
の楕円ひずみが無視できないときは、例えば、プリズムによって補正することが
できる。
【0042】 セグメント反射鏡(7a、7b、7c)の反射鏡(7’a、7’b、7’c)
の調節のための計算機およびセグメント反射鏡(7a、7b、7c)のそれぞれ
の反射鏡(7’a、7’b、7’c)ための技術的な観点から必要な調節装置は
、周知の技術であるので図示は省略する。
【0043】 最終的には、発明の解決は、測定レーザ(19)としての例えばHe−Neレ
ーザのような可視域範囲の波長の測定に適した補助的な光源(19)およびこれ
らの波長に対して広い領域を備えて技術的な問題無く入手可能で低コストの標準
のCCDチップあるいはカメラ(17)の使用を根拠としている。
【0044】 可視光は、特に赤外線光学系を透過するときは、赤外線とは全く別個に屈折さ
れるので、可視の測定光と加工レーザの赤外線あるいは紫外線とは同一の屈折率
の光学系を透過することは避けなければならない。上述の議論は、セグメント反
射鏡(7a、7b、7c)の反射に基づく測定に関してである。
【0045】 あるいは、上述の実施形態1あるいは2に対しては、測定と加工を同時に行わ
なくても良いときは、可視光を反射するIRあるいはUV透過の反射鏡(8)(
測定装置に対して)が使用できる。主レーザが測定過程のためにオフにされ、光
軸から離隔され、および、測定レーザが主レーザの光軸上に測定過程のために入
れられる。測定レーザ(19)がマルチ光束を発生させることは無い。重要なこ
とは、この測定レーザがその個々の揺動反射鏡(7’a、7’b、7’c)を備
えたセグメント反射鏡(7a、7b、7c)を適切な角度で完全に照射すること
である。一方で、個々の反射鏡(7’a、7’b、7’c)の境界は、反射によ
って必要なマルチ光束を発生させ、および、他方で、測定レーザ(19)のエネ
ルギ密度は、セグメント反射鏡(7a、7b、7c)の揺動反射鏡(7’a、7
’b、7’c)の間の中間空間に影を生じさせることのない僅かなものである。
【0046】 平面反射鏡(6、8)のコーティングは、加工レーザのマルチ光束(3a、3
b...、3n)を適切に反射あるいは透過させ、および、充分な強度を持った
測定レーザ(19)の光(21)が透過あるいは反射するように設定されなけれ
ばならない。これは、従来周知の技術の範囲に属し、対応するコーティング技術
を用いて光学系内に非常にしばしば使われるものである。
【0047】 二つの測定のやり方の第1のものによる測定レーザ(19)の測定光束(14
)の分離は、第1の屈折部材前方のセグメント反射鏡(7a、7b、7c)の後
方にいわゆる第2のフィルタ反射鏡(8)を配置することにより行われる。この
第2のフィルタ反射鏡(8)は、IRあるいはUV光を透過させ、および、例え
ば、ゲルマニウムをコーティングされた例えばHe−Neレーザを反射させる。
この第2のフィルタ反射鏡(8)は固定的に取り付けられる。
【0048】 あるいは、加工と同時に測定を行う必要が無ければ、He−Ne反射鏡(8)
のみを使っても良い。第2のフィルタ反射鏡(8)は、第1のフィルタ反射鏡(
6)と同時に出入される。
【0049】 観察対物レンズ(15)は、CCDカメラ(17)のチップ上に加工面(12
)における投影対物レンズ(10)と同じ像を生じることが好ましい。従って、
簡単なHe−Neレーザと標準のCCDカメラ(17)とによってセグメント反
射鏡(7a、7b、7c)の発生させた像および個々の揺動反射鏡揺動反射鏡(
7’a、7’b、7’c)は、加工レーザの波長に関係無くそれらのそれぞれの
反射面の位置に関して測定され、調節あるいは校正される。
【0050】 測定レーザ(19)は、補助光学系、あるいは、観察対物レンズ(15)が加
工レーザのマルチ光束(3a、3b...、3n)からずれている測定レーザ(
19)の測定光の焦点調節を補正するように配置されているときは、セグメント
反射鏡(7a、7b、7c)の前方の最後の屈折部材の前方にも配置することが
でき、セグメント反射鏡後方の第1の屈折部材後方に外すことができる。
【0051】 光路内のフィルタ反射鏡(6、8)の揺動角度は、主像から簡単に外すことが
可能であり、この構成が取り付けられる装置の構造に対応するように選択される
。それによって、制限された、特に楕円ひずみが、周知の数学的な計算プログラ
ムを用いることによって、あるいは、対応する必要な補正光学系(従来周知であ
るので図示しない)によって、容易に補正される。
【0052】 二つの揺動反射鏡(6、8)用いた解決によって、測定も加工も可能になり、
その際加工レーザも測定レーザ(19)も挿入される。加工に際しては、第1の
反射鏡(6)が一方の方向に回動され、および、第2の反射鏡(8)が他方の方
向に回動される。あるいは、第1の反射鏡(6)が他方の方向に回動され、およ
び、第2の反射鏡(8)が一方の方向に回動されるようにして、セグメント反射
鏡(7a、7b、7c)の測定が行われるようにする。二つの反射鏡(6、8)
の移動が行わなければならない限り、間違い無く測定の不確実性が生じる。この
測定の不確実性は、ダイクロイック反射鏡を用いる第1の実施形態によって回避
される。
【0053】 第3の実施形態において、測定光はセグメント反射鏡(7a、7b、7c)の
揺動反射鏡に異なる角度で入射するので、測定と加工は同時に行うことが可能で
あり、加工と測定の間に移動しないので、測定の確実性が高められる。
【図面の簡単な説明】
【第1図】 第1および第2の実施形態の光路の概略の構成を示し、および、
【第2図】 この発明の第3の実施形態の光路の概略の構成を示す。
【符号の説明】
3a、3b、3n 加工光束 7a、7b、7c 偏向装置 12 ワークピース 15、17、18 測定撮像装置 19 補助的な光源 21 測定光束
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年1月5日(2000.1.5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の個々に調節可能な偏向装置からなり、および、その際
    複数の空間的に互いに分離された個々の加工光束が、前記加工光束の光路に配置
    された前記偏向装置によって少なくとも一つの照射対象であるワークピースの様
    々な点あるいは面上にその都度個々に導かれるようにしたワークピース照明装置
    において、前記ワークピース照明装置内に少なくとも一つの測定光束を発生させ
    る補助的な光源が配置されて、前記補助的な光源から発生させられた前記測定光
    束が、複数の前記偏向装置に同時に入射し、および、前記ワークピース照明装置
    内に前記測定光束の波長に感度を有している測定撮像装置が配置されて、前記装
    置が、照射された前記偏向装置から導かれた前記測定光束の少なくとも一部分を
    前記偏向装置の偏向効果の検出のために測定を行うようにしたワークピース照明
    装置。
  2. 【請求項2】 前記加工光束の光路内の前記偏向装置の前方に第1の光学部
    材が配置されており、前記部材が、前記加工光束を前記偏向装置に入射させ、お
    よび、前記加工光束の光路内において前記測定光束が、前記偏向装置に向かって
    収斂させられ、および、前記偏向装置の後方に第2の光学部材が配置され、前記
    部材が、前記ワークピースの点あるいは面上に前記加工光束を入射させ、および
    、前記加工光束の前記光路から少なくとも前記測定光束が前記測定撮像装置の方
    向へ収斂させられるようにした特許請求の範囲第1項に記載のワークピース照明
    装置。
  3. 【請求項3】 二つの前記光学部材の少なくとも一方が、前記加工光束の光
    路から離隔可能であるようにした特許請求の範囲第1項に記載のワークピース照
    明装置。
  4. 【請求項4】 前記測定光束が、前記加工光束とは異なる角度で前記偏向装
    置に入射させられ、前記測定光束を発生させるための光源および前記測定撮像装
    置が、前記加工光束の光路の側方に配置されているようにした特許請求の範囲第
    1項に記載のワークピース照明装置。
  5. 【請求項5】 少なくとも前記測定撮像装置が、評価装置に接続され、前記
    装置が、記憶されているあるいは予め定められている設定値と前記評価装置によ
    り測定された実測値とを比較するようにした特許請求の範囲第1項〜第4項のい
    ずれかに記載のワークピース照明装置。
  6. 【請求項6】 少なくとも前記測定光束の波長が、可視波長領域内にあり、
    および、前記加工光束の波長が、赤外線あるいは紫外線の波長領域にあるように
    した特許請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに記載のワークピース照明装置。
  7. 【請求項7】 前記偏向装置のそれぞれが、揺動反射鏡からなるようにした
    特許請求の範囲第1項〜第6項のいずれかに記載のワークピース照明装置。
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