JP2002507815A5 - - Google Patents

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【特許請求の範囲】
【請求項1】 反応容器に収容された反応混合物を熱的に制御するためのシステムであって、このシステムが、
a) 容器を受容するための熱交換モジュールであって、このモジュールが、
i) 容器に接触するための少なくも一つの板と、
ii) この板に結合された加熱要素と、
iii) 板の温度を計測するための温度検知器、
とを備えるモジュールと、
b) 加熱要素に供給される電力の量を調整するための少なくも一つ電力調整器と、
c) 電力調整器および温度検知器と通信せるコントローラであって、このコントローラが、
i) 板用の可変な目標温度を設定することであって、この可変な目標温度は、初期には、混合物に対し所望される設定点温度を越えているのであり、
ii) 板の温度を可変な目標温度まで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この電力のレベルは、可変な目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのであり、
iii) 決定されたレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する制御信号を送信することと、
板の計測温度が所定の温度に到達した際には、
iv) 可変な目標温度を減少させることと、
v) 板の温度を、減少された目標温度まで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この新たな電力のレベルは、減少された目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのであり、
vi) 新たなレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する新たな制御信号を送信することと、
vii) 可変な目標温度が所望の設定点温度以下になるまで、(iv)〜(vi)のステップを反復すること、
により反応混合物を加熱するためのプログラム命令を備えるコントローラ、
とを備えるシステム。
【請求項2】 請求項1のシステムであって、コントローラが、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量を指数関数的に減少させることにより可変な目標温度を減少させるためのプログラム命令を備えるシステム。
【請求項3】 請求項2のシステムであって、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量が、次式
Δ=(Δmax)*e(-t/tau)
によって、時間の関数として指数関数的に減少されるのであり、ここで、Δは、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量に等しく、Δmaxは、可変な目標温度の初期値と所望の設定点温度との間の差に等しく、tは、減少開始から経過時間に等しく、tauは、減少時定数に等しいのであるシステム。
【請求項4】 請求項1のシステムであって、コントローラが、可変な目標温度を直線的に減少させるためのプログラム命令を備えるシステム。
【請求項5】 請求項1のシステムであって、板を冷却するための冷却装置を更に備えており、コントローラが、
i) 板用の第2の可変な目標温度を設定することであって、この第2の可変な目標温度は、初期には、混合物に対し所望される第2の設定点温度より低いのである、設定することと、
ii) 板の計測温度が、第2の所定温度に下降するまで、板を冷却する冷却装置を作動させることと、
iii) 第2の可変な目標温度を増加させることと、
iv) 板の温度を増加された目標温度にまで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この電力のレベルは、増加された目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのである、決定することと、
v) 決定されたレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する制御信号を送信することと、
vi) 第2の可変な目標温度が第2の設定点温度以上となるまで、(iii)〜(v)のステップを反復すること、
により混合物を冷却するためのプログラム命令を更に備えるシステム。
【請求項6】 請求項1のシステムであって、熱交換モジュールが、容器内の反応混合物に関する光学的データを生成するためにコントローラと通信せる少なくも一つ光学的検出器を更に備え、コントローラが、光学的データを処理して光学的検出パラメータを調節するためのプログラム命令を更に備えるシステム。
【請求項7】 請求項1のシステムであって、熱交換モジュールが、容器内の反応混合物に関する光学的データを生成するためにコントローラと通信せる少なくも一つ光学的検出器を更に備え、コントローラが、光学的データを処理して、温度制御、反応の完了、プロファイル表示、および試薬添加に関する信号の発生、から成るグループから選択された少なくも一つのプロセス制御を調節するためのプログラム命令を更に備えるシステム。
【請求項8】 反応容器に収容された反応混合物を熱的に制御するための方法であって、この方法が、
a) 容器を、結合された加熱要素有する板に接触させて載置するステップと、
b) i) 板用の可変な目標温度を設定することであって、この可変な目標温度は、初期には、混合物に対し所望される設定点温度を越えているのであり、
ii) 板の温度を可変な目標温度まで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この電力のレベルは、可変な目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのであり、
iii) 決定されたレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する制御信号を送信することと、
板の計測温度が所定のしきい温度に到達した際には、
iv) 可変な目標温度を減少させることと、
v) 板の温度を、減少された目標温度まで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この新たな電力のレベルは、減少された目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのであり、
vi) 新たなレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する新たな制御信号を送信することと、
vii) 可変な目標温度が所望の設定点温度以下になるまで、(iv)〜(vi)のステップを反復すること、
により反応混合物を加熱するステップ、
とを含む方法。
【請求項9】 請求項8の方法であって、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量を指数関数的に減少させることにより可変な目標温度が減少される方法。
【請求項10】 請求項9の方法であって、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量が、次式
Δ=(Δmax)*e(-t/tau)
によって、時間の関数として指数関数的に減少されるのであり、ここで、Δは、可変な目標温度が所望の設定点温度を超過する量に等しく、Δmaxは、可変な目標温度の初期値と所望の設定点温度との間の差に等しく、tは、減少開始から経過時間に等しく、tauは、減少時定数に等しいのである方法。
【請求項11】 請求項8の方法であって、可変な目標温度が直線的に減少される方法。
【請求項12】 請求項8の方法であって、
i) 板用の第2の可変な目標温度を設定することであって、この第2の可変な目標温度は、初期には、混合物に対し所望される第2の設定点温度より低いのであり、
ii) 板の計測温度が、第2の所定温度に下降するまで、板を冷却する冷却装置を作動させることと、
iii) 第2の可変な目標温度を増加させることと、
iv) 板の温度を増加された目標温度にまで上昇させるために加熱要素に供給されるべき電力のレベルを決定することであって、この電力のレベルは、増加された目標温度と、板の計測温度との間の差に従って決定されるのであり、
v) 決定されたレベルで加熱要素に電力を供給するよう電力調整器に命令する制御信号を送信することと、
vi) 第2の可変な目標温度が第2の設定点温度以上となるまで、(iii)〜(v)のステップを反復すること、
により混合物を冷却するステップを更に含む方法。
【請求項13】 請求項12の方法であって、第2の設定点温度より高い設定点温度を有する先行せる温度プロファイルステップの終了に先だって、冷却装置が作動される方法。
【請求項14】 請求項8の方法であって、
a) 容器内の反応混合物に関する光学的データを生成するステップと、
b) 光学的データを処理して光学的検出パラメータを調節するステップ、
とを更に含む方法。
【請求項15】 請求項8の方法であって、
a) 容器内の反応混合物に関する光学的データを生成するステップと、
b) 光学的データを処理して、温度制御、反応の完了、プロファイル表示、および試薬添加に関する信号の発生、から成るグループから選択された少なくも一つのプロセス制御を調節するステップ、
とを更に含む方法。
JP2000537649A 1998-03-23 1999-03-23 個々の反応サイトの動的かつ独立な制御を行なうマルチサイト反応器システム Pending JP2002507815A (ja)

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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6660228B1 (en) 1998-03-02 2003-12-09 Cepheid Apparatus for performing heat-exchanging, chemical reactions
GB9915953D0 (en) * 1999-07-07 1999-09-08 Stem Corp Limited Improvements relating to multi-station reaction apparatus
US6699713B2 (en) 2000-01-04 2004-03-02 The Regents Of The University Of California Polymerase chain reaction system
US6403037B1 (en) 2000-02-04 2002-06-11 Cepheid Reaction vessel and temperature control system
US6783934B1 (en) * 2000-05-01 2004-08-31 Cepheid, Inc. Methods for quantitative analysis of nucleic acid amplification reaction
FR2829338B1 (fr) * 2001-09-03 2003-10-31 Schneider Automation Equipement d'automatisme equipe d'une liaison de type usb
GB2399776A (en) * 2003-03-24 2004-09-29 Pa Knowledge Ltd Cyclical heating and cooling device and associated methods
DE04752947T1 (de) * 2003-05-23 2006-11-16 Bio-Rad Laboratories, Inc., Hercules Lokalisierte temperaturregelung für raumanordnungen von reaktionsmedien
GB2404098A (en) * 2003-07-14 2005-01-19 Reckitt Benckiser Controller for heater of a chemical vaporiser
JPWO2008146754A1 (ja) * 2007-05-23 2010-08-19 トラストメディカル株式会社 反応液用容器、及びそれを用いる反応促進装置、並びにその方法
WO2009024956A1 (en) * 2007-08-17 2009-02-26 James Walsh A cuvette assembly, and a method for producing a cuvette assembly
EP2060324A1 (en) 2007-11-13 2009-05-20 F.Hoffmann-La Roche Ag Thermal block unit
EP2108451A1 (de) * 2008-04-11 2009-10-14 Eppendorf AG Vorrichtung zum Durchführen von Reaktionen in Proben
EP2746777A3 (en) * 2010-07-23 2014-08-27 Beckman Coulter, Inc. System or method of including analytical units
JP6717195B2 (ja) * 2014-09-26 2020-07-01 東洋紡株式会社 反応促進装置及び核酸検査装置
CN112934142B (zh) * 2021-02-01 2023-06-06 山东大学 一种基于反步法的均相管式反应器温度控制方法及系统
CN115145329B (zh) * 2021-07-16 2023-11-28 武汉帝尔激光科技股份有限公司 一种用于电池片激光加工的温度控制系统及温度控制方法
WO2023049349A1 (en) * 2021-09-23 2023-03-30 N6 Tec, Inc. Methods and systems for sample analysis

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02132502A (ja) * 1988-07-28 1990-05-22 Omron Tateisi Electron Co ファジィ制御装置における動作方法および調整装置
US5207987A (en) * 1990-05-21 1993-05-04 Pb Diagnostic Systems Inc. Temperature controlled chamber for diagnostic analyzer
US5180896A (en) * 1990-10-11 1993-01-19 University Of Florida System and method for in-line heating of medical fluid
US5088098A (en) * 1990-10-16 1992-02-11 General Instrument Corporation Thermoelectric cooler control circuit
US5687077A (en) * 1991-07-31 1997-11-11 Universal Dynamics Limited Method and apparatus for adaptive control
AT400201B (de) * 1991-11-11 1995-11-27 Vaillant Gmbh Verfahren zum betreiben einer regeleinrichtung und vorrichtung zu seiner durchführung
FI915731A0 (fi) * 1991-12-05 1991-12-05 Derek Henry Potter Foerfarande och anordning foer reglering av temperaturen i ett flertal prov.
DE4319652C2 (de) * 1993-06-14 2002-08-08 Perkin Elmer Bodenseewerk Zwei Verfahren zur Temperatursteuerung
US5415346A (en) * 1994-01-28 1995-05-16 American Standard Inc. Apparatus and method for reducing overshoot in response to the setpoint change of an air conditioning system
US5371665A (en) * 1994-03-14 1994-12-06 Quisenberry; Tony M. Power control circuit for improved power application and temperature control of thermoelectric coolers and method for controlling thereof
US5589136A (en) * 1995-06-20 1996-12-31 Regents Of The University Of California Silicon-based sleeve devices for chemical reactions
ATE509263T1 (de) * 1997-02-28 2011-05-15 Cepheid Chemischer reaktor mit wärmetauscher und optischem detektor, und reaktionsbehälter
WO1998043740A2 (en) * 1997-03-28 1998-10-08 The Perkin-Elmer Corporation Improvements in thermal cycler for pcr

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