JP2002506962A - インテリジェント・ミニ環境 - Google Patents
インテリジェント・ミニ環境Info
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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- G05D27/02—Simultaneous control of variables covered by two or more of main groups G05D1/00 - G05D25/00 characterised by the use of electric means
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F11/00—Control or safety arrangements
- F24F11/30—Control or safety arrangements for purposes related to the operation of the system, e.g. for safety or monitoring
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ミニ環境内の性能を最適化し、数百万ドルする設備の保護を改善し、工場従業員の安全状態を改善するように設計されたインテリジェント・ミニ環境制御システムを提供すること。
【解決手段】 インテリジェント・ミニ環境制御システムは、複数のミニ環境制御及び監視システム（ＭＣＭＳ）を含み、１つのＭＣＭＳは工場内の各ミニ環境と関連付けられている。ＭＣＭＳはミニ環境内の環境状態（３０、４０、３８）を絶えず監視する。ＭＣＭＳのそれぞれはローカル・エリア・ネットワーク（ＬＡＮ）に一緒に接続されて、統合化された工場全体ミニ環境管理システムを形成する。管理システムはさらにネットワークに接続されたワークステーション（１０４）を含み、経歴データ（１０２）を記憶し、そしてシステム内の各ＭＣＭＳへの遠隔アクセスを可能にする。
Description
【０００１】
本発明は、半導体ウエハーが処理されるミニ環境に関し、より詳細にはミニ環
境機能とパラメータを制御し及び監視するための統合化システムに関する。
境機能とパラメータを制御し及び監視するための統合化システムに関する。
【０００２】
ヒューレッドパッカード社により提案されたＳＭＩＦシステムが米国特許番号
第４，５３２，９７０号及び第４，５３４，３８９号に開示されている。ＳＭＩ
Ｆシステムの目的は、半導体製造プロセス中、ウエハーを輸送し貯蔵する際の半
導体ウエハー上の粒子の流れを減少することである。この目的は部分的に、輸送
及び貯蔵中にウエハーを囲む気体媒体（例えば、空気又は窒素）がウエハーに対
して本質的に相対的に静止することを機械的に確保し、そして雰囲気中のからの
粒子がウエハー環境に直接入らないように確保することにより達成される。
第４，５３２，９７０号及び第４，５３４，３８９号に開示されている。ＳＭＩ
Ｆシステムの目的は、半導体製造プロセス中、ウエハーを輸送し貯蔵する際の半
導体ウエハー上の粒子の流れを減少することである。この目的は部分的に、輸送
及び貯蔵中にウエハーを囲む気体媒体（例えば、空気又は窒素）がウエハーに対
して本質的に相対的に静止することを機械的に確保し、そして雰囲気中のからの
粒子がウエハー環境に直接入らないように確保することにより達成される。
【０００３】 ＳＩＭＦ環境は三つの主要素を有する。（１）ウエハー及び／又はウエハーカ
セットを輸送し及び貯蔵するために使用される最小体積の密封されたポッド、（
２）露出されたウエハー及び／又はウエハーカセットが製造装置の中に及びから
移送されることのできる小さな清浄空間（清浄空気により満たされた際）を提供
するために半導体製造装置上に位置する閉じられた空間、又はミニ環境、（３）
ＳＭＩＦポッドとＳＩＭＦミニ環境の間をウエハー又はカセットを粒子に露呈せ
ずにウエハー及び／又はウエハーカセットを移送するためのインターフエイスで
ある。提案された１つのＳＭＩＦシステムのさらに詳細が論文、「ＳＭＩＦ：Ｖ
ＬＳＩ製造中のウエハーカセット移送のための技術」、ミヒール・パリキ、ユー
ルリッヒ・ケンプ、ソリッド・ステート・テクノロジー、１９８４年７月、１１
１−１１５頁に掲載されている。
セットを輸送し及び貯蔵するために使用される最小体積の密封されたポッド、（
２）露出されたウエハー及び／又はウエハーカセットが製造装置の中に及びから
移送されることのできる小さな清浄空間（清浄空気により満たされた際）を提供
するために半導体製造装置上に位置する閉じられた空間、又はミニ環境、（３）
ＳＭＩＦポッドとＳＩＭＦミニ環境の間をウエハー又はカセットを粒子に露呈せ
ずにウエハー及び／又はウエハーカセットを移送するためのインターフエイスで
ある。提案された１つのＳＭＩＦシステムのさらに詳細が論文、「ＳＭＩＦ：Ｖ
ＬＳＩ製造中のウエハーカセット移送のための技術」、ミヒール・パリキ、ユー
ルリッヒ・ケンプ、ソリッド・ステート・テクノロジー、１９８４年７月、１１
１−１１５頁に掲載されている。
【０００４】 上記タイプのシステムは、０．０２ミクロン（μｍ）以下から２００μｍ以上
までの範囲の粒子大きさに関する。この大きさの粒子は、半導体装置製造に用い
られる小さな幾何学形状のために半導体プロセスにおいて非常に損害を与える。
今日の先進半導体プロセスは典型的に半μｍ又はそれ以下の幾何学形状を使用す
る。０．１μｍより大きい幾何学形状を有する好まれない汚染粒子は、実質的に
１μｍ幾何学形状の半導体装置と干渉する。もちろん、より小さい半導体プロセ
ス幾何学形状を目指す傾向があり、開発研究所では０．１μｍ及びそれ以下に近
づいている。将来では、幾何学形状はより小さくなり、このためにより小さい汚
染粒子が興味の対象となる。
までの範囲の粒子大きさに関する。この大きさの粒子は、半導体装置製造に用い
られる小さな幾何学形状のために半導体プロセスにおいて非常に損害を与える。
今日の先進半導体プロセスは典型的に半μｍ又はそれ以下の幾何学形状を使用す
る。０．１μｍより大きい幾何学形状を有する好まれない汚染粒子は、実質的に
１μｍ幾何学形状の半導体装置と干渉する。もちろん、より小さい半導体プロセ
ス幾何学形状を目指す傾向があり、開発研究所では０．１μｍ及びそれ以下に近
づいている。将来では、幾何学形状はより小さくなり、このためにより小さい汚
染粒子が興味の対象となる。
【０００５】 ウエハー及び／又はウエハーカセットをＳＭＩＦポッド内からプロセス装置の
ミニ環境内に移送するために、ポッドのドアがミニ環境のＩ／Ｏポート上で支持
されている。ポッドはポッドのドアがミニ環境のＩ／Ｏポートを覆うポートドア
の上にかぶさり、そしてポッドのカバーがポートドアを囲むポートプレートの上
にかぶさるように設計されている。一旦、Ｉ／Ｏポートに位置すると、ポートド
ア内の機構が解放されて、ポッドドアをポッドカバーから分離する。その後、ポ
ートドア及びポッドドアがＩ／Ｏミニ環境内に持ち込まれて、そして一緒にミニ
環境ポートの上、下、又は側方に動かされてウエハー及び／又はウエハーカセッ
トがポートを通過するための経路を開ける。ポート及びポッドドアはミニ環境内
に引っ込むが、ポッドカバーは一般にＩ／Ｏポートに付けられたままとどまり、
汚染がミニ環境に入ることを防止する。
ミニ環境内に移送するために、ポッドのドアがミニ環境のＩ／Ｏポート上で支持
されている。ポッドはポッドのドアがミニ環境のＩ／Ｏポートを覆うポートドア
の上にかぶさり、そしてポッドのカバーがポートドアを囲むポートプレートの上
にかぶさるように設計されている。一旦、Ｉ／Ｏポートに位置すると、ポートド
ア内の機構が解放されて、ポッドドアをポッドカバーから分離する。その後、ポ
ートドア及びポッドドアがＩ／Ｏミニ環境内に持ち込まれて、そして一緒にミニ
環境ポートの上、下、又は側方に動かされてウエハー及び／又はウエハーカセッ
トがポートを通過するための経路を開ける。ポート及びポッドドアはミニ環境内
に引っ込むが、ポッドカバーは一般にＩ／Ｏポートに付けられたままとどまり、
汚染がミニ環境に入ることを防止する。
【０００６】 クリーンルーム状態を維持することは非常に高価である。そして、ミニ環境の
外側の工場内に清浄空気を供給する必要のないことが望まれる。しかし、ミニ環
境を囲む空気が単位体積当たり多数の粒子を含む場合には、ミニ環境内の状態を
所望のクリーンルームレベルに維持することがより困難となる。現在、ミニ環境
内においてクラス１クリーンルーム環境よりも良好に維持することが望まれるが
、しかるに工場内の雰囲気の状態は約クラス１００そしてクラス１００，０００
まで高い。このようなミニ環境の内側と外側の本質的に相違するクリーンルーム
状態は、ミニ環境内に雰囲気中の粒子が侵入しないように確保するため、ミニ環
境と関連した圧力差制御について厳格な要件を課す。
外側の工場内に清浄空気を供給する必要のないことが望まれる。しかし、ミニ環
境を囲む空気が単位体積当たり多数の粒子を含む場合には、ミニ環境内の状態を
所望のクリーンルームレベルに維持することがより困難となる。現在、ミニ環境
内においてクラス１クリーンルーム環境よりも良好に維持することが望まれるが
、しかるに工場内の雰囲気の状態は約クラス１００そしてクラス１００，０００
まで高い。このようなミニ環境の内側と外側の本質的に相違するクリーンルーム
状態は、ミニ環境内に雰囲気中の粒子が侵入しないように確保するため、ミニ環
境と関連した圧力差制御について厳格な要件を課す。
【０００７】 圧力差に加えて、例えば粒子数、温度、及び湿気などのミニ環境内の他の環境
状態をしっかりと監視し制御することが重要である。パーテイクル・メジャーリ
ング・システム社、ボルダー、コロラド、は例えば、圧力、温度、及び粒子数な
どあるクリーンルーム環境状態に関するデータを収集して、解析してオペレータ
に表示することができる「フアシリテイービュー」と呼ばれるソフトウエアパッ
ケージを提供している。別のクリーンルーム監視システムが、ライトハウス・ア
ソシエイト、ミイリピタス、カリフォルニアから入手可能である。ライトハウス
監視システムはまた例えば、圧力、温度、相対的湿度、粒子数などのあるクリー
ンルーム状態を監視して、グラフ、チャート、データテーブル及びマップを含む
多様な形式でリアルタイムデータを表示する能力を有する。
状態をしっかりと監視し制御することが重要である。パーテイクル・メジャーリ
ング・システム社、ボルダー、コロラド、は例えば、圧力、温度、及び粒子数な
どあるクリーンルーム環境状態に関するデータを収集して、解析してオペレータ
に表示することができる「フアシリテイービュー」と呼ばれるソフトウエアパッ
ケージを提供している。別のクリーンルーム監視システムが、ライトハウス・ア
ソシエイト、ミイリピタス、カリフォルニアから入手可能である。ライトハウス
監視システムはまた例えば、圧力、温度、相対的湿度、粒子数などのあるクリー
ンルーム状態を監視して、グラフ、チャート、データテーブル及びマップを含む
多様な形式でリアルタイムデータを表示する能力を有する。
【０００８】 現在まで、クリーンルーム監視システムで、装置及び工場全体に基づいた各ミ
ニ環境内の全てのバラメータの完全に統合された監視及び制御を行なうことを提
供するものはなかった。さまざまなパラメータの各々を別個のコントローラ及び
／又はホストシステムへの別個のネットワーク接続により従来より監視すること
が知られている。さらに、従来のクリーンルーム監視システムは一旦、システム
がクリーンルーム内に置かれると、システムを拡張することができなかった。
ニ環境内の全てのバラメータの完全に統合された監視及び制御を行なうことを提
供するものはなかった。さまざまなパラメータの各々を別個のコントローラ及び
／又はホストシステムへの別個のネットワーク接続により従来より監視すること
が知られている。さらに、従来のクリーンルーム監視システムは一旦、システム
がクリーンルーム内に置かれると、システムを拡張することができなかった。
【０００９】
従って、本発明の利点は、装置及び工場全体レベルの両方について完全に統合
化されたミニ環境制御及び監視システムを提供することである。
化されたミニ環境制御及び監視システムを提供することである。
【００１０】 本発明のさらなる利点は、ミニ環境内の全ての機能及びパラメータの広範な監
視及び制御を提供する統合化されたシステムを提供することである。
視及び制御を提供する統合化されたシステムを提供することである。
【００１１】 本発明の別の利点は、ミニ環境内の全ての環境状態を監視しそして制御するた
めの単一のネットワーク接続を有する単一のコントローラを提供することである
。
めの単一のネットワーク接続を有する単一のコントローラを提供することである
。
【００１２】 本発明のさらに別の利点は、工場内の全てのミニ環境をローカルエリアネット
ワークに接続してホストとミニ環境との間の通信を可能にし、そして各ミニ環境
の遠隔監視と制御を可能にすることである。
ワークに接続してホストとミニ環境との間の通信を可能にし、そして各ミニ環境
の遠隔監視と制御を可能にすることである。
【００１３】 本発明の別の利点は、ミニ環境制御と他の装置制御及び自動システムとの統合
を可能にするために標準のプロトコルの選択を持った統合化された通信リンクを
提供することである。
を可能にするために標準のプロトコルの選択を持った統合化された通信リンクを
提供することである。
【００１４】 本発明のさらに別の利点は、設備のメインテナンス及びダウン時間を減少する
ために設備のための早期警告システムと自動保護を提供することである。
ために設備のための早期警告システムと自動保護を提供することである。
【００１５】 本発明のさらに別の利点は、ミニ環境品質確認と問題識別のために各ミニ環境
からの経歴データを収集しそして保存するためのシステムを提供することである
。
からの経歴データを収集しそして保存するためのシステムを提供することである
。
【００１６】 本発明のさらに別の利点は、煙、火、又は化学物質流出のような災害状態に対
する早期発見と即座の応答により災害制御及び防御システムを提供することであ
る。
する早期発見と即座の応答により災害制御及び防御システムを提供することであ
る。
【００１７】 これらの利点及び他の利点は、一般にインタリジェント・ミニ環境制御システ
ムに関する本発明の実施の形態により提供される。このシステムは、ミニ環境性
能を最適化し、工場内の数百万ドル相当の高価な設備の保護を改善し、そして工
場従業員の安全状態を改善するように設計される。インテリジェント・ミニ環境
制御システムは、複数のミニ環境制御及び監視システム（ＭＣＭＳ）を含み、こ
のシステムの１つは工場内の各ミニ環境に関連付けられる。ＭＣＭＳは、例えば
圧力差、空中の粒子レベル、温度、湿気、及び煙に関するミニ環境内の環境状態
を連続して監視する。もし環境パラメータのいづれかがそれの所定の予め設定さ
れた値から外れると、パラメータは即座に修正され及び／又は他の適当な動作が
取られる。例えば、煙センサーがミニ環境内と外側の両方に設けられる。もしミ
ニ環境内又は周囲で煙が検出されると、関連したＭＣＭＳは自動的に警報を発生
し、設備の汚染の可能性を最小にするためにミニ環境内の空気循環システムを遮
断し、及び／又はミニ環境内のスプリンクラーシステムを活動する。
ムに関する本発明の実施の形態により提供される。このシステムは、ミニ環境性
能を最適化し、工場内の数百万ドル相当の高価な設備の保護を改善し、そして工
場従業員の安全状態を改善するように設計される。インテリジェント・ミニ環境
制御システムは、複数のミニ環境制御及び監視システム（ＭＣＭＳ）を含み、こ
のシステムの１つは工場内の各ミニ環境に関連付けられる。ＭＣＭＳは、例えば
圧力差、空中の粒子レベル、温度、湿気、及び煙に関するミニ環境内の環境状態
を連続して監視する。もし環境パラメータのいづれかがそれの所定の予め設定さ
れた値から外れると、パラメータは即座に修正され及び／又は他の適当な動作が
取られる。例えば、煙センサーがミニ環境内と外側の両方に設けられる。もしミ
ニ環境内又は周囲で煙が検出されると、関連したＭＣＭＳは自動的に警報を発生
し、設備の汚染の可能性を最小にするためにミニ環境内の空気循環システムを遮
断し、及び／又はミニ環境内のスプリンクラーシステムを活動する。
【００１８】 各ＭＣＭＳは、統合化工場全体ミニ環境管理システムを形成するローカルエリ
アネットワークの一部として一緒に接続される。システムはＩＰ／ＩＰＸプロト
コルを使用し、そしてＩＰＸプロトコルをサポートするどんなコンピュータもＭ
ＣＭＳと通信することを可能にする。測定システムはまたネットワークに接続さ
れたワークステーションを含み、システム内の各ＭＣＭＳの経歴データを記憶し
、そして遠隔アクセスを可能にする。 以下、本発明を添付図面を参照して詳細に説明する。
アネットワークの一部として一緒に接続される。システムはＩＰ／ＩＰＸプロト
コルを使用し、そしてＩＰＸプロトコルをサポートするどんなコンピュータもＭ
ＣＭＳと通信することを可能にする。測定システムはまたネットワークに接続さ
れたワークステーションを含み、システム内の各ＭＣＭＳの経歴データを記憶し
、そして遠隔アクセスを可能にする。 以下、本発明を添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
図１及び図２を参照して、装置及び工場全体レベルで完全に自動化され統合化
されたミニ環境制御を提供するためのインテリジェント・ミニ環境制御システム
に一般的に関する本発明が説明される。装置レベルにおいて、上述した様に全体
のインテリジェント制御システムは、工場内の各ミニ環境において例えばプログ
ラマブルロジックコントローラのようなコントローラにより構成されたミニ環境
制御及び監視システム（ＭＣＭＳ）を含む。工場全体レベルにおいて、上述した
様に全体インテリジェント制御システムは各ＭＣＭＳをローカルエリアネットワ
ークに一緒に接続する統合化工場全体ミニ環境管理システムを含む。各ＭＣＭＳ
に加えて、ネットワークは各ＭＣＭＳへ遠隔又はオンサイトアクセスを可能にす
るためそして経歴データを記録するために１又は複数のワークステーションを追
加的に含むことができる。
されたミニ環境制御を提供するためのインテリジェント・ミニ環境制御システム
に一般的に関する本発明が説明される。装置レベルにおいて、上述した様に全体
のインテリジェント制御システムは、工場内の各ミニ環境において例えばプログ
ラマブルロジックコントローラのようなコントローラにより構成されたミニ環境
制御及び監視システム（ＭＣＭＳ）を含む。工場全体レベルにおいて、上述した
様に全体インテリジェント制御システムは各ＭＣＭＳをローカルエリアネットワ
ークに一緒に接続する統合化工場全体ミニ環境管理システムを含む。各ＭＣＭＳ
に加えて、ネットワークは各ＭＣＭＳへ遠隔又はオンサイトアクセスを可能にす
るためそして経歴データを記録するために１又は複数のワークステーションを追
加的に含むことができる。
【００２０】 図１を参照してＭＣＭＳ１０を説明する。各ミニ環境内のＭＣＭＳ１０はミニ
環境内の全ての機能及び環境パラメータを包括的に且つ完全に統合化した監視及
び制御を提供する。このような環境パラメータは限定的ではなく例えば、圧力差
、災害的状態検出、粒子数、温度、湿度、振動、空気流速、抵抗、ｐＨ、導電率
、及び全有機炭素（ＴＯＣ）内容を含む。
環境内の全ての機能及び環境パラメータを包括的に且つ完全に統合化した監視及
び制御を提供する。このような環境パラメータは限定的ではなく例えば、圧力差
、災害的状態検出、粒子数、温度、湿度、振動、空気流速、抵抗、ｐＨ、導電率
、及び全有機炭素（ＴＯＣ）内容を含む。
【００２１】 ミニ環境２０内のＭＣＭＳ１０は、好ましくは制御された領域外のミニ環境の
ベース内に搭載されたプログラマブルロジックコントロール（ＰＬＣ）２２を含
む。ＰＬＣ２２は電源ベース、中央処理ユニット、アナログＩ／Ｏモジュール、
イーサネットカード及び追加のプラグインＩ／Ｏモジュールのような他のモジュ
ールのための拡張スロットを有する。以下に詳述するように、アナログＩ／Ｏモ
ジュールは複数のチャンネルを備えていてもよい。１つのチャンネルがミニ環境
内の各センサーに対応する。代替的に、各センサーはＰＬＣ拡張スロットに適合
するそれ自身のプラグインＩ／Ｏモジュールを有しても良い、本発明の代替的な
実施の形態では、他の処理ユニット、例えばリレーロジックコントローラがＰＬ
Ｃ２２の代わりに使用できる。
ベース内に搭載されたプログラマブルロジックコントロール（ＰＬＣ）２２を含
む。ＰＬＣ２２は電源ベース、中央処理ユニット、アナログＩ／Ｏモジュール、
イーサネットカード及び追加のプラグインＩ／Ｏモジュールのような他のモジュ
ールのための拡張スロットを有する。以下に詳述するように、アナログＩ／Ｏモ
ジュールは複数のチャンネルを備えていてもよい。１つのチャンネルがミニ環境
内の各センサーに対応する。代替的に、各センサーはＰＬＣ拡張スロットに適合
するそれ自身のプラグインＩ／Ｏモジュールを有しても良い、本発明の代替的な
実施の形態では、他の処理ユニット、例えばリレーロジックコントローラがＰＬ
Ｃ２２の代わりに使用できる。
【００２２】 ＰＬＣ２２はミニ環境内の各センサーについての制御アルゴリズムを構成する
。図１に示すように、ＰＬＣ２２はＰＬＣにより監視されたさまざまなパラメー
タの可視的な表示を提供するＬＣＤ２４と通信することができる。オペレータ・
インターフエイス装置２６がＰＬＣをオペレータによりアクセスして手動制御可
能にするためＰＬＣ２２に追加的に接続されてもよい。ＬＣＤ２４はオペレータ
・インターフエイス２６の一部として又は別部品として含まれる。
。図１に示すように、ＰＬＣ２２はＰＬＣにより監視されたさまざまなパラメー
タの可視的な表示を提供するＬＣＤ２４と通信することができる。オペレータ・
インターフエイス装置２６がＰＬＣをオペレータによりアクセスして手動制御可
能にするためＰＬＣ２２に追加的に接続されてもよい。ＬＣＤ２４はオペレータ
・インターフエイス２６の一部として又は別部品として含まれる。
【００２３】 ＰＬＣ２２はフアンフイルタユニット２８コントローラ及び圧力差センサー３
０と一緒に圧力差制御を構成する。ミニ環境２０を周囲の雰囲気環境に関してわ
ずかながら上昇した圧力に維持することが重要である。従って、汚染された雰囲
気の空気がミニ環境内に流れ込むとは逆に、空気流がミニ環境から流出する。追
加として、粒子をミニ環境内から運び去るためにミニ環境中を流れる清浄化気体
流れを供給することが好ましい。
０と一緒に圧力差制御を構成する。ミニ環境２０を周囲の雰囲気環境に関してわ
ずかながら上昇した圧力に維持することが重要である。従って、汚染された雰囲
気の空気がミニ環境内に流れ込むとは逆に、空気流がミニ環境から流出する。追
加として、粒子をミニ環境内から運び去るためにミニ環境中を流れる清浄化気体
流れを供給することが好ましい。
【００２４】 正の圧力差と清浄化流れを維持するために、ミニ環境２０は通常の設計のフア
ンフイルタユニット２８を含む。フアンフイルタユニットはミニ環境内に超清浄
空気の流れを供給する。フアンフイルタユニット２８がミニ環境内に適当な体積
の流れを供給することを確保するために、圧力差センサー３０がミニ環境内の圧
力と雰囲気圧力の差を測定するために設けられる。フアンフイルタ２８と圧力差
センサー３０の両方はＰＬＣ内に挿入されたＩ／Ｏモジュールを介してＰＬＣに
結合される。圧力差センサー３０は圧力差の頻繁な読出しを行ない（例えば、毎
１０ミリ秒）、これによりＰＬＣに内部と外部圧力差のリアルタイム読出しを供
給する。
ンフイルタユニット２８を含む。フアンフイルタユニットはミニ環境内に超清浄
空気の流れを供給する。フアンフイルタユニット２８がミニ環境内に適当な体積
の流れを供給することを確保するために、圧力差センサー３０がミニ環境内の圧
力と雰囲気圧力の差を測定するために設けられる。フアンフイルタ２８と圧力差
センサー３０の両方はＰＬＣ内に挿入されたＩ／Ｏモジュールを介してＰＬＣに
結合される。圧力差センサー３０は圧力差の頻繁な読出しを行ない（例えば、毎
１０ミリ秒）、これによりＰＬＣに内部と外部圧力差のリアルタイム読出しを供
給する。
【００２５】 圧力差制御は四つのモード、自動、手動、自動調整、及び自動ゼロ、内の１つ
が動作可能である。自動モードは、ミニ環境内に実質的に一定の圧力差を維持す
るために圧力差制御が自動的に絶えずフアン速度を調節する通常動作モードであ
る。以下に説明するように、最適な圧力差値はＰＬＣ内に記憶されてもよい。圧
力差センサー３０からのフイードバックは、ＰＬＣがほぼ一定のベースで実際の
圧力差を期待されたセットポイント値と比較できるようにＰＬＣに送られる。も
し実際と期待されるセットポイント圧力差値の間に変化があると、ＰＬＣはフア
ンフイルタに信号を送って、ミニ環境内への流れを増大し又は減少し、これによ
り圧力差の閉じられたループフイードバック制御を提供する。実際は、フアンは
フアンモーター制御を含む。ＰＬＣ２２がフアンモーター制御に信号を送り、フ
アンの速度を増加又は減少させて、これによりミニ環境内に流入する気体体積を
増加又は減少させる。
が動作可能である。自動モードは、ミニ環境内に実質的に一定の圧力差を維持す
るために圧力差制御が自動的に絶えずフアン速度を調節する通常動作モードであ
る。以下に説明するように、最適な圧力差値はＰＬＣ内に記憶されてもよい。圧
力差センサー３０からのフイードバックは、ＰＬＣがほぼ一定のベースで実際の
圧力差を期待されたセットポイント値と比較できるようにＰＬＣに送られる。も
し実際と期待されるセットポイント圧力差値の間に変化があると、ＰＬＣはフア
ンフイルタに信号を送って、ミニ環境内への流れを増大し又は減少し、これによ
り圧力差の閉じられたループフイードバック制御を提供する。実際は、フアンは
フアンモーター制御を含む。ＰＬＣ２２がフアンモーター制御に信号を送り、フ
アンの速度を増加又は減少させて、これによりミニ環境内に流入する気体体積を
増加又は減少させる。
【００２６】 手動モードは、フアンフイルタを介してミニ環境内に流入する空気体積を、オ
ペレータインターフエイス２６を介して手動で調節できる。手動モードは、ＰＬ
Ｃがオフラインの時に好ましくは一時的なバックアップ動作モードとして使用さ
れる。このモードにおいて、フアンによる空気流れは圧力差の変化に関係無く一
定に維持される。
ペレータインターフエイス２６を介して手動で調節できる。手動モードは、ＰＬ
Ｃがオフラインの時に好ましくは一時的なバックアップ動作モードとして使用さ
れる。このモードにおいて、フアンによる空気流れは圧力差の変化に関係無く一
定に維持される。
【００２７】 従来の圧力差センサーは使用中に変動する。このために、事実として内部と外
部環境との間にゼロ圧力差である時にゼロ差の読取りを保証するために使用開始
時に、圧力差センサーを較正する必要がある。従来の圧力監視システムにおいて
、この使用開始時の較正はオペレータにより実行されなければならなかった。そ
して一般に時間を消費する。本発明の特徴として、ＰＬＣ２２が自動的に初期圧
力センサー較正を実行する。この自動較正は制御システム動作を単純化し、そし
て従来の監視及び制御システムと比較して開始時間を減少する。
部環境との間にゼロ圧力差である時にゼロ差の読取りを保証するために使用開始
時に、圧力差センサーを較正する必要がある。従来の圧力監視システムにおいて
、この使用開始時の較正はオペレータにより実行されなければならなかった。そ
して一般に時間を消費する。本発明の特徴として、ＰＬＣ２２が自動的に初期圧
力センサー較正を実行する。この自動較正は制御システム動作を単純化し、そし
て従来の監視及び制御システムと比較して開始時間を減少する。
【００２８】 自動初期圧力センサー較正はＰＬＣにより自動ゼロモードで実行できる。この
モードでは、ＰＬＣが自動的に気体の体積から自動的に圧力を読取る（読取りに
ついて実際の圧力差が存在しないことを確保するため同じ体積について読取りが
行なわれる）。ＰＬＣはそしてもしセンサーが非ゼロ圧力差を記録する時、圧力
センサーについて調整を行なう。自動ゼロモードの代替として、圧力差センサー
のゼロ較正はオペレータインターフエイスを介して手動モードで手動で実行でき
る。
モードでは、ＰＬＣが自動的に気体の体積から自動的に圧力を読取る（読取りに
ついて実際の圧力差が存在しないことを確保するため同じ体積について読取りが
行なわれる）。ＰＬＣはそしてもしセンサーが非ゼロ圧力差を記録する時、圧力
センサーについて調整を行なう。自動ゼロモードの代替として、圧力差センサー
のゼロ較正はオペレータインターフエイスを介して手動モードで手動で実行でき
る。
【００２９】 ミニ環境の内部と外部の間の圧力差の大きさを正確に制御することが重要であ
る。圧力差が小さすぎると、雰囲気環境からの汚染がミニ環境内に潜在的に侵入
できる。圧力差が大きすぎる場合は、ミニ環境内に乱流と局所化した低圧力領域
が発生されて、ミニ環境の外側からの空気がミニ環境内に吸い込まれる結果を生
ずる。装置とミニ環境幾何学的形状は変わる時、最適なフアンフイルタ容量が計
算されて、その特定のシステムに対する圧力差がＰＬＣ内に調整されなければな
らない。
る。圧力差が小さすぎると、雰囲気環境からの汚染がミニ環境内に潜在的に侵入
できる。圧力差が大きすぎる場合は、ミニ環境内に乱流と局所化した低圧力領域
が発生されて、ミニ環境の外側からの空気がミニ環境内に吸い込まれる結果を生
ずる。装置とミニ環境幾何学的形状は変わる時、最適なフアンフイルタ容量が計
算されて、その特定のシステムに対する圧力差がＰＬＣ内に調整されなければな
らない。
【００３０】 最適圧力差は本発明によれば自動的に自動調整モードのＰＬＣでもって決定で
きる。自動調整モードにおいて、圧力差制御は自動的にフアン速度を変化して、
圧力差応答を記録する。一旦、十分な観測がなされると、自動調整モードは特定
のミニ環境に対して圧力差制御の最適値を自動的に選択する。自動調整モードの
代替としては、最適な差がオペレータインターフエイスを介して自動モードで手
動で設定できる。
きる。自動調整モードにおいて、圧力差制御は自動的にフアン速度を変化して、
圧力差応答を記録する。一旦、十分な観測がなされると、自動調整モードは特定
のミニ環境に対して圧力差制御の最適値を自動的に選択する。自動調整モードの
代替としては、最適な差がオペレータインターフエイスを介して自動モードで手
動で設定できる。
【００３１】 本発明による包含的統合化された制御及び監視の別の特徴は、ミニ環境内の個
別の要素とセンサーの自動診断特徴である。ＰＬＣは圧力差センサー電子回路の
診断解析を予め設定された時間間隔内で１回、実行できる。エラー検出の場合に
は、ＰＬＣはフアンフイルタ流れの閉ループフイーデバック調整を停止し、警告
を発する。当業者には理解されるように、この警告は、ＬＣＤ２４上の視覚的読
取り、光タワー３２内のインジケータ光の活性、又は他の類似の警告メカニズム
を含むことができる。
別の要素とセンサーの自動診断特徴である。ＰＬＣは圧力差センサー電子回路の
診断解析を予め設定された時間間隔内で１回、実行できる。エラー検出の場合に
は、ＰＬＣはフアンフイルタ流れの閉ループフイーデバック調整を停止し、警告
を発する。当業者には理解されるように、この警告は、ＬＣＤ２４上の視覚的読
取り、光タワー３２内のインジケータ光の活性、又は他の類似の警告メカニズム
を含むことができる。
【００３２】 本発明によるインテリジェント監視及び制御システムの別の特徴は、災害的な
状態の検出と応答である。ミニ環境とウエハー工場は一般に高価（数百万ドル）
な設備を収容し、例えば煙、火、化学物質の流出のような災害的な状態の存在下
でこれらの設備は簡単に破壊される。ウエハー工場内のオペレータの安全を提供
するためと同じく設備を保護するために、本発明は内部及び外部災害検出センサ
ー３４及び３６をそれぞれ有する。センサー３４及び３６は事実、煙、火及び科
学物質流出を含むさまざまな災害的状態を検出する能力のあるさまざまな既知の
センサーを含むセンサーグループを有する。
状態の検出と応答である。ミニ環境とウエハー工場は一般に高価（数百万ドル）
な設備を収容し、例えば煙、火、化学物質の流出のような災害的な状態の存在下
でこれらの設備は簡単に破壊される。ウエハー工場内のオペレータの安全を提供
するためと同じく設備を保護するために、本発明は内部及び外部災害検出センサ
ー３４及び３６をそれぞれ有する。センサー３４及び３６は事実、煙、火及び科
学物質流出を含むさまざまな災害的状態を検出する能力のあるさまざまな既知の
センサーを含むセンサーグループを有する。
【００３３】 内部センサー３４が例えば煙又は火などの災害的状態を検出する場合、直ちに
警告を発声し、そしてフアンフイルタユニットを遮断し、ミニ環境内の煙の流れ
を最小にし、煙や火が工場内の他の位置に広がることを防止する。内部災害検出
センサー３４が火又は煙を検出した場合、ＰＬＣは追加的にミニ環境内に局所化
されたスプリンクラーシステム３５を活動させてもよい。当業者には理解される
ように、このようなスプリンクラーシステムは二酸化炭素、ハロン又は他の既知
の消火剤を含むことができる。
警告を発声し、そしてフアンフイルタユニットを遮断し、ミニ環境内の煙の流れ
を最小にし、煙や火が工場内の他の位置に広がることを防止する。内部災害検出
センサー３４が火又は煙を検出した場合、ＰＬＣは追加的にミニ環境内に局所化
されたスプリンクラーシステム３５を活動させてもよい。当業者には理解される
ように、このようなスプリンクラーシステムは二酸化炭素、ハロン又は他の既知
の消火剤を含むことができる。
【００３４】 外部のハザード検出センサー３６により災害が検出される場合、ＰＬＣは内部
災害検出センサーによる検出に関して上述したのと同様に応答する。ＰＬＣは警
告を発声し、フアンフイルタユニットを遮断して災害的状態をミニ環境の外側に
とどめる試みを行ない、そして消火器を作動させる。外部災害検出センサー３６
はまた製造工場内の有害な蒸気を検出するための装置を有してもよい。圧力差セ
ンサー３０と同じく、センサー３４及び３６とＰＬＣは電子センサー回路を監視
し、エラーが検出された場合に警報を発生するするための自己診断回路を含んで
もよい。
災害検出センサーによる検出に関して上述したのと同様に応答する。ＰＬＣは警
告を発声し、フアンフイルタユニットを遮断して災害的状態をミニ環境の外側に
とどめる試みを行ない、そして消火器を作動させる。外部災害検出センサー３６
はまた製造工場内の有害な蒸気を検出するための装置を有してもよい。圧力差セ
ンサー３０と同じく、センサー３４及び３６とＰＬＣは電子センサー回路を監視
し、エラーが検出された場合に警報を発生するするための自己診断回路を含んで
もよい。
【００３５】 本発明による制御システムはさらに、ミニ環境内に搭載された粒子数センサー
３８とＰＬＣ２２によりミニ環境２０内の粒子数を監視する。当業者には理解さ
れるように、粒子数センサー３８はミニ環境内の単位体積当たりの液体、気体及
び／又はエアロゾル内容を測定できる。粒子数センサー３８は予め設定された時
間間隔（例えば、１０ミリ秒）中に１回、読取りを行ない、その読取りをＩ／Ｏ
モジュールを介してＰＬＣへ送る。ＰＬＣは読取りを期待されるセットポイント
数と比較し、期待されるセットポイント粒子数値と実際との間の違いの場合に警
告を発声する。上述したセンサーと同じく、制御システムは粒子数センサー電子
回路を監視し、エラーが検出された場合に警告を発声し又は表示を送るための自
己診断ルーチンを含む。ミニ環境内の粒子数のフイードバック制御は、ミニ環境
内の空気の清浄さを保証するために必要となるミニ環境のダウン時間を減少する
。
３８とＰＬＣ２２によりミニ環境２０内の粒子数を監視する。当業者には理解さ
れるように、粒子数センサー３８はミニ環境内の単位体積当たりの液体、気体及
び／又はエアロゾル内容を測定できる。粒子数センサー３８は予め設定された時
間間隔（例えば、１０ミリ秒）中に１回、読取りを行ない、その読取りをＩ／Ｏ
モジュールを介してＰＬＣへ送る。ＰＬＣは読取りを期待されるセットポイント
数と比較し、期待されるセットポイント粒子数値と実際との間の違いの場合に警
告を発声する。上述したセンサーと同じく、制御システムは粒子数センサー電子
回路を監視し、エラーが検出された場合に警告を発声し又は表示を送るための自
己診断ルーチンを含む。ミニ環境内の粒子数のフイードバック制御は、ミニ環境
内の空気の清浄さを保証するために必要となるミニ環境のダウン時間を減少する
。
【００３６】 本発明による制御システムはさらに、温度及び湿度センサー４０とＰＬＣ２２
を介して温度及び湿度制御を含む。センサー４０はミニ環境内に搭載でき、予め
設定された時間間隔（例えば１０ミリ秒）中に１回、ミニ環境内の温度と湿度レ
ベルの読取りを行なう。そしてこの読取りは、プラグインＩ／Ｏモジュールを介
してＰＬＣへ送信され、ＰＬＣは実際の読取りと期待される予め設定されたセッ
トポイント値と比較する。このセットポイント値はオペレータインターフエイス
２６を介してＰＬＣ２２に初期に入力されてもよい。実際の読取り値が期待値と
異なる場合、フアンフイルタを介しての気体入力の温度及び／又は湿度が、ミニ
環境内の温度と湿度の閉ループフイードバック制御を提供することで調節される
。温度及び湿度制御システムはセンサー電子回路を監視し、そしてエラーが検出
される場合に警告を発声し又は表示を送る自己診断ルーチンを含む。
を介して温度及び湿度制御を含む。センサー４０はミニ環境内に搭載でき、予め
設定された時間間隔（例えば１０ミリ秒）中に１回、ミニ環境内の温度と湿度レ
ベルの読取りを行なう。そしてこの読取りは、プラグインＩ／Ｏモジュールを介
してＰＬＣへ送信され、ＰＬＣは実際の読取りと期待される予め設定されたセッ
トポイント値と比較する。このセットポイント値はオペレータインターフエイス
２６を介してＰＬＣ２２に初期に入力されてもよい。実際の読取り値が期待値と
異なる場合、フアンフイルタを介しての気体入力の温度及び／又は湿度が、ミニ
環境内の温度と湿度の閉ループフイードバック制御を提供することで調節される
。温度及び湿度制御システムはセンサー電子回路を監視し、そしてエラーが検出
される場合に警告を発声し又は表示を送る自己診断ルーチンを含む。
【００３７】 上述されたミニ環境２０内のさまざまなセンサーは単に例示的であり、そして
本発明の代替的な実施の形態においてＭＣＭＳ１０はミニ環境内に上述よりも多
い又は少ないセンサーを含んでもよい。さらに、上述したセンサーを介して環境
内のさまざまな環境状態を監視しそして制御することに加えて、ＰＬＣ２２は追
加的にウエハーを処理しそしてプロセスすることに関連して用いられる環境内の
さまざまな要素を監視しそして制御してもよい。例えば、フアンフイルタユニッ
ト２８に加えて、ミニ環境は典型的にウエハーカセットとプロセス又は計測装置
２１との間にウエハーを移送することができるウエハー処理ロボットを含む。本
発明の実施の形態のＰＬＣは、このような要素の動作を監視及び制御し、同じく
このような要素の診断を実行するようにプログラムされてもよい。
本発明の代替的な実施の形態においてＭＣＭＳ１０はミニ環境内に上述よりも多
い又は少ないセンサーを含んでもよい。さらに、上述したセンサーを介して環境
内のさまざまな環境状態を監視しそして制御することに加えて、ＰＬＣ２２は追
加的にウエハーを処理しそしてプロセスすることに関連して用いられる環境内の
さまざまな要素を監視しそして制御してもよい。例えば、フアンフイルタユニッ
ト２８に加えて、ミニ環境は典型的にウエハーカセットとプロセス又は計測装置
２１との間にウエハーを移送することができるウエハー処理ロボットを含む。本
発明の実施の形態のＰＬＣは、このような要素の動作を監視及び制御し、同じく
このような要素の診断を実行するようにプログラムされてもよい。
【００３８】 上述した様に、ミニ環境の各機能とパラメータの監視と制御は、単一のネット
ワーク接続を有する単一のＰＬＣ２２により制御される包括的なシステム内に統
合できる。これはミニ環境内さまざまなセンサーのために別個のコントローラ及
び／又はセンサーと遠隔に位置するコントローラとの間に別個のコントローラを
含んだ従来技術に対して改善を提供する。本発明により提供されるさらなる利点
は、ＰＬＣ２２内のさまざまな制御システムが互いに通信することができること
である。従って、例えば、温度制御システムが所望の温度からの変化を検出する
と、ＰＬＣは部分的にこの変化を圧力差制御システムを介してフアンフイルタか
らの空気流れを増加させて修正してもよい。本発明によるインテリジェント・コ
ントローラはさらにミニ環境制御を他の設備及び材料制御及び自動システムと統
合してサイクル時間と生産性を最適化することを可能にする。上述した特徴は従
来のシステムには見られない。
ワーク接続を有する単一のＰＬＣ２２により制御される包括的なシステム内に統
合できる。これはミニ環境内さまざまなセンサーのために別個のコントローラ及
び／又はセンサーと遠隔に位置するコントローラとの間に別個のコントローラを
含んだ従来技術に対して改善を提供する。本発明により提供されるさらなる利点
は、ＰＬＣ２２内のさまざまな制御システムが互いに通信することができること
である。従って、例えば、温度制御システムが所望の温度からの変化を検出する
と、ＰＬＣは部分的にこの変化を圧力差制御システムを介してフアンフイルタか
らの空気流れを増加させて修正してもよい。本発明によるインテリジェント・コ
ントローラはさらにミニ環境制御を他の設備及び材料制御及び自動システムと統
合してサイクル時間と生産性を最適化することを可能にする。上述した特徴は従
来のシステムには見られない。
【００３９】 さらに、本発明の別の特徴は制御システムが接地されそして工場内で動作した
後で、センサーをミニ環境２０から取り外し又はへ追加することができるモジュ
ラー制御システムを提供することである。ＰＬＣ２２には、構成されたシステム
が完全なセンサーよりも少なくセンサーを使用する場合においても、広範囲のさ
まざまなセンサーを監視し制御するのに必要なソフトウエアが提供されている。
従って、カスタマーが特定の構成のミニ環境を購入した場合、ミニ環境はその後
に追加のセンサーを加え、又は既存のセンサーを取り外すことにより修正できる
。追加のセンサーを加えるために、センサーは単にＰＬＣ内の既存のＩ／Ｏモジ
ュール内のチャンネル内に又はＰＬＣの拡張スロット内に挿入された追加のＩ／
Ｏモジュール内に挿入できる。ＰＬＣは既にセンサーを認識しそして動作するこ
とのできるプログラムを含むので、センサーの追加は単にプラグアンドプレイ操
作である。
後で、センサーをミニ環境２０から取り外し又はへ追加することができるモジュ
ラー制御システムを提供することである。ＰＬＣ２２には、構成されたシステム
が完全なセンサーよりも少なくセンサーを使用する場合においても、広範囲のさ
まざまなセンサーを監視し制御するのに必要なソフトウエアが提供されている。
従って、カスタマーが特定の構成のミニ環境を購入した場合、ミニ環境はその後
に追加のセンサーを加え、又は既存のセンサーを取り外すことにより修正できる
。追加のセンサーを加えるために、センサーは単にＰＬＣ内の既存のＩ／Ｏモジ
ュール内のチャンネル内に又はＰＬＣの拡張スロット内に挿入された追加のＩ／
Ｏモジュール内に挿入できる。ＰＬＣは既にセンサーを認識しそして動作するこ
とのできるプログラムを含むので、センサーの追加は単にプラグアンドプレイ操
作である。
【００４０】 図２は上述したように、ＭＣＭＳ１０に加えて、本発明による全体的インテリ
ジェント・ミニ環境制御がさらに統合化された工場全体ミニ環境管理システムを
含むことを示す。ＭＣＭＳの各ＰＬＣ２２は好ましくはイーサーネットＩ／Ｏモ
ジュールを含み、各ＭＣＭＳ１０が互いに工場全体ローカルエリアネットワーク
（ＬＡＮ）１００の一部として接続できるようになっている。このイーサーネッ
トプラグインモジュールは好ましくはＩＰ／ＩＰＸプロトコルをサポートし、そ
してＩＰＸプロトコルをサポートするどんなコンピュータもＭＣＭＳ１０と通信
可能となっている。上記に代えて又は上記に加えて、他のネットワークプロトコ
ル及び他のネットワーク接続も提供できることが理解される。
ジェント・ミニ環境制御がさらに統合化された工場全体ミニ環境管理システムを
含むことを示す。ＭＣＭＳの各ＰＬＣ２２は好ましくはイーサーネットＩ／Ｏモ
ジュールを含み、各ＭＣＭＳ１０が互いに工場全体ローカルエリアネットワーク
（ＬＡＮ）１００の一部として接続できるようになっている。このイーサーネッ
トプラグインモジュールは好ましくはＩＰ／ＩＰＸプロトコルをサポートし、そ
してＩＰＸプロトコルをサポートするどんなコンピュータもＭＣＭＳ１０と通信
可能となっている。上記に代えて又は上記に加えて、他のネットワークプロトコ
ル及び他のネットワーク接続も提供できることが理解される。
【００４１】 ネットワーク接続に加えて、ＭＣＭＳ２２はまたミニ環境内に入るさまざまな
ＳＭＩＦポッド（図示しない）上に設けられるＳＭＡＲＴタグと通信できる。工
場内のウエハーロットを識別し又は監視するためのＳＭＡＲＴタグシステムの１
例は、本発明の所有者に譲渡された米国特許第４，９７４，１６６号、第５，０
９７，４２１号及び第５，１６６，８８４号に記載されている。ＰＬＣは無線送
信を介してポッドＳＭＡＲＴタグと例えば、ポッドを識別して特定のウエハーロ
ットが特定のミニ環境に正しく位置していることを確認するために通信できる。
ＳＭＩＦポッド（図示しない）上に設けられるＳＭＡＲＴタグと通信できる。工
場内のウエハーロットを識別し又は監視するためのＳＭＡＲＴタグシステムの１
例は、本発明の所有者に譲渡された米国特許第４，９７４，１６６号、第５，０
９７，４２１号及び第５，１６６，８８４号に記載されている。ＰＬＣは無線送
信を介してポッドＳＭＡＲＴタグと例えば、ポッドを識別して特定のウエハーロ
ットが特定のミニ環境に正しく位置していることを確認するために通信できる。
【００４２】 ＭＣＭＳ１０に加えて、統合化された工場全体ミニ環境管理システムは好まし
くは、工場内の各ＭＣＭＳ１０からデータを収集してそして記憶するための専用
の少なくとも１つのワークステーション１０２を含む。この経歴データは、各ミ
ニ環境とその中の要素が正しく動作することを確認するために品質保証目的のた
めに使用できる。これに加えて、経歴データは問題識別のために使用できる。例
えば、問題が発生した場合、ワークステーション１０２からの経歴データは問題
の特定の源を識別するためにレビューできる。さらに、ワークステーション１０
２内の集中化データ記憶位置の設備は技術者がデータ収集のために工場内の各ミ
ニ環境に行く必要を除去する。アクセス時に、集中化データ記憶ワークステーシ
ョン１０２内に記憶されたデータは、グラフ、チャート、データ表、マップ、又
は他の便利で使用し易い形式を含むさまざまな形式で表示できる。
くは、工場内の各ＭＣＭＳ１０からデータを収集してそして記憶するための専用
の少なくとも１つのワークステーション１０２を含む。この経歴データは、各ミ
ニ環境とその中の要素が正しく動作することを確認するために品質保証目的のた
めに使用できる。これに加えて、経歴データは問題識別のために使用できる。例
えば、問題が発生した場合、ワークステーション１０２からの経歴データは問題
の特定の源を識別するためにレビューできる。さらに、ワークステーション１０
２内の集中化データ記憶位置の設備は技術者がデータ収集のために工場内の各ミ
ニ環境に行く必要を除去する。アクセス時に、集中化データ記憶ワークステーシ
ョン１０２内に記憶されたデータは、グラフ、チャート、データ表、マップ、又
は他の便利で使用し易い形式を含むさまざまな形式で表示できる。
【００４３】 統合化された工場全体ミニ環境管理システムは追加的に、個別のＭＣＭＳ１０
及び／又は集中化データ収集ワークステーション１０２に遠隔アクセスするため
の少なくとも１つの遠隔アクセスワークステーション１０４を含んでもよい。ワ
ークステーション１０４は工場内又はどんな遠隔地に位置して、ＩＳＤＮ線、又
は他の既知の通信プロトコル、モデムを介してネットワークに接続している。ワ
ークステーション１０４は管理者、監督者、技術者等がネットワーク及びＭＣＭ
Ｓの管理、修正、メインテナンス、アドミニストレーションのために使用するこ
とを考慮している。当業者には周知の様に、さまざまなセキュリテイプロトコル
がネットワークへのアクセスを得るためそしてネットワークへのアクセスへのレ
ベルを制限するために設けられている。
及び／又は集中化データ収集ワークステーション１０２に遠隔アクセスするため
の少なくとも１つの遠隔アクセスワークステーション１０４を含んでもよい。ワ
ークステーション１０４は工場内又はどんな遠隔地に位置して、ＩＳＤＮ線、又
は他の既知の通信プロトコル、モデムを介してネットワークに接続している。ワ
ークステーション１０４は管理者、監督者、技術者等がネットワーク及びＭＣＭ
Ｓの管理、修正、メインテナンス、アドミニストレーションのために使用するこ
とを考慮している。当業者には周知の様に、さまざまなセキュリテイプロトコル
がネットワークへのアクセスを得るためそしてネットワークへのアクセスへのレ
ベルを制限するために設けられている。
【００４４】 以上、本発明が詳細に説明されたが、本発明は開示された実施の形態に限定さ
れるものではないことを理解すべきである。当業者によりさまざまな変形、修正
、置換えが特許請求の範囲に記載されて画定された本発明の精神と範囲に逸脱す
ることなく実施の形態についてできる。
れるものではないことを理解すべきである。当業者によりさまざまな変形、修正
、置換えが特許請求の範囲に記載されて画定された本発明の精神と範囲に逸脱す
ることなく実施の形態についてできる。
【図１】 本発明によるインテリジェント・ミニ環境制御及び監視システム
を含むミニ環境を示すブロック図
を含むミニ環境を示すブロック図
【図２】 本発明による統合化工場全体ミニ環境管理システムの工場内及び
遠隔のローカルエリアネットワークとしての設定を示すブロック図
遠隔のローカルエリアネットワークとしての設定を示すブロック図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘー シャオヒュア ジョージ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94025 メンロ パーク コーリー レー ン 46 (72)発明者 ターノース ジョージ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95050 サンタ クララ ボハーノン ド ライヴ 2061 Ｆターム(参考） 3L060 AA02 AA08 CC01 CC06 CC14 CC19 DD02 EE26 EE45
Claims (9)
- 【請求項１】 インテリジェント・ミニ環境制御システムにおいて、 圧力差及び災害状態の検出を含むミニ環境内の複数の環境パラメータを監視し
及び制御するためのプログラマブルロジックコントローラを含んだミニ環境制御
及び監視システムを有するインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項２】 前記複数の環境パラメータがさらに粒子数を含む、請求項１
に記載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項３】 前記複数の環境パラメータがさらに温度を含む、請求項１に
記載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項４】 前記複数の環境パラメータがさらに湿度を含む、請求項１に
記載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項５】 前記ミニ環境に接続された少なくとも１つのワークステーシ
ョンと前記ミニ環境制御および監視システムとを含んだ統合化された工場全体ミ
ニ環境管理システムをさらに有する請求項１に記載のインテリジェント・ミニ環
境制御システム。 - 【請求項６】 インテリジェント・ミニ環境制御システムにおいて、 複数のミニ環境を監視しそして制御するためのミニ環境制御及び監視システム
であって、前記複数のミニ環境のそれぞれ内にプログラムロジックコントローラ
を含み、複数のプログラムロジックコントローラの内の１つが特定のミニ環境に
関連付けられてその特定のミニ環境内の圧力差と災害的状態の検出を含む複数の
環境パラメータの監視と制御をするものと、 統合化された工場全体ミニ環境システムであって、 前記ミニ環境制御及び監視システムと少なくとも１つの前記ミニ環境に接続
されたワークステーションと、 前記ミニ環境制御及び監視システムからの情報を記憶するためのワークステ
ーションと、 前記ミニ環境制御及び監視システムへ遠隔アクセスするためのワークステー
ションと、 を有するものと、を含むことを特徴とするインテリジェント・ミニ環境制御シ
ステム。 - 【請求項７】 前記複数の環境パラメータが粒子数をさらに含む請求項６に
記載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項８】 前記複数の環境パラメータが温度をさらに含む請求項６に記
載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。 - 【請求項９】 前記複数の環境パラメータが湿度をさらに含む請求項６に記
載のインテリジェント・ミニ環境制御システム。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3980898A | 1998-03-16 | 1998-03-16 | |
| US09/039,808 | 1998-03-16 | ||
| PCT/US1999/005430 WO1999047864A1 (en) | 1998-03-16 | 1999-03-15 | Intelligent minienvironment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002506962A true JP2002506962A (ja) | 2002-03-05 |
| JP2002506962A5 JP2002506962A5 (ja) | 2006-05-11 |
Family
ID=21907449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000537015A Pending JP2002506962A (ja) | 1998-03-16 | 1999-03-15 | インテリジェント・ミニ環境 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6473668B2 (ja) |
| EP (1) | EP1064503A4 (ja) |
| JP (1) | JP2002506962A (ja) |
| KR (1) | KR100626857B1 (ja) |
| TW (1) | TW426623B (ja) |
| WO (1) | WO1999047864A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003083591A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Daikin Ind Ltd | 空気調和機および空気調和システム |
| JP2005504947A (ja) * | 2001-02-07 | 2005-02-17 | エアキュイティ・インコーポレーテッド | 空気品質監視システムおよび方法 |
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