JP2002367891A - 分割図形データ検証装置および描画用のソースデータの修正方法 - Google Patents
分割図形データ検証装置および描画用のソースデータの修正方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 可変成形型ＥＢ描画装置内において、描画用
ソースデータから分割図形データを得る際、分割に不具
合が発生しそうな箇所を選び、その箇所の分割状態を検
証できる検証装置を提供する。同時に、このような検証
方法を用い、描画用のソースデータを修正する方法を提
供する。 【解決手段】 描画の際、描画処理用のソースデータ
（元の図形データ）の目的とする所定領域のデータか
ら、図形分割されるデータの分割状態を検証するための
装置であって、描画処理用のソースデータを蓄えておく
記憶手段と、描画装置の処理用のソースデータの分割手
段と同じ分割機能を有し、描描画処理用のソースデータ
の少なくとも単位領域のデータを、分割図形データに分
割する手段と、分割された図形データないし描画処理の
ソースデータを表示する表示手段と、分割図形データの
図形表示および描画処理のソースデータの図形表示を制
御する手段とを備えている。
ソースデータから分割図形データを得る際、分割に不具
合が発生しそうな箇所を選び、その箇所の分割状態を検
証できる検証装置を提供する。同時に、このような検証
方法を用い、描画用のソースデータを修正する方法を提
供する。 【解決手段】 描画の際、描画処理用のソースデータ
（元の図形データ）の目的とする所定領域のデータか
ら、図形分割されるデータの分割状態を検証するための
装置であって、描画処理用のソースデータを蓄えておく
記憶手段と、描画装置の処理用のソースデータの分割手
段と同じ分割機能を有し、描描画処理用のソースデータ
の少なくとも単位領域のデータを、分割図形データに分
割する手段と、分割された図形データないし描画処理の
ソースデータを表示する表示手段と、分割図形データの
図形表示および描画処理のソースデータの図形表示を制
御する手段とを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、可変成形型描画装
置内において、描画の際に、描画処理用の描画用のソー
スデータ（元の図形データとも言う）から、図形分割さ
れ、得られる分割図形データの分割状態を検証し、ソー
スデータの不具合箇所を修正する、描画用のソースデー
タの修正方法と、これを実施するための、分割図形デー
タの分割状態を検証する分割図形データ検証装置に関す
る。
置内において、描画の際に、描画処理用の描画用のソー
スデータ（元の図形データとも言う）から、図形分割さ
れ、得られる分割図形データの分割状態を検証し、ソー
スデータの不具合箇所を修正する、描画用のソースデー
タの修正方法と、これを実施するための、分割図形デー
タの分割状態を検証する分割図形データ検証装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子（チップ）の高密度化
は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量
産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６
ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルール
まで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１
８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、０．１
５μｍから０. １３μｍ設計ルールへの切り換えが行わ
れている。
は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量
産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６
ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルール
まで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１
８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、０．１
５μｍから０. １３μｍ設計ルールへの切り換えが行わ
れている。
【０００３】このような中、レチクル等のフォトマスク
作製のためのパターン描画においては、その加工精度は
ますます厳しく求められ、矩形や４５°の斜線を有する
三角形に成形されたビームを用い、パターン部のみを照
射して描画を行うベクター型ＥＢ描画装置は、描画速度
の面でラスター型に比べ有利で、レチクルの作製におい
ても用いられるようになってきた。０．１８μｍ以下の
設計ルールでは、ラスター型は実用レベルではない。
尚、このようなベクター型の電子ビーム描画装置（以
下、ＥＢ描画装置と言う）を、ここでは、可変成形ビー
ム型あるいは単に可変成形型の、またはバリアブルシエ
イプドビーム型のＥＢ描画装置とも言う。そして、描画
の際には、使用する可変成形ビーム型ＥＢ描画装置用の
描画データを用いて描画を行っている。可変成形型のＥ
Ｂ描画装置の場合、描画データとしては、通常、予め作
成された図形データ（設計データ、多機種の描画デー
タ）を変換して描画用データとしているが、通常は、前
記予め作成された図形データを必要に応じてポリゴンデ
ータ化し、これを所定のアルゴリズムで図形分割（フラ
クチャとも言う）したものが用いられる。これらを、以
下、ここでは、描画用のソースデータと言う。そして、
可変成形型のＥＢ描画装置の描画においては、描画用の
ソースデータは、描画の際に、ＥＢ描画装置内におい
て、所定のアルゴリズムで更に分割され、ＥＢ描画装置
の描画動作のハードを直接制御するデータに変換され
て、描画に寄与される。この描画用のソースデータを、
描画の際に、更に分割した図形のデータを、以下、分割
図形データという。
作製のためのパターン描画においては、その加工精度は
ますます厳しく求められ、矩形や４５°の斜線を有する
三角形に成形されたビームを用い、パターン部のみを照
射して描画を行うベクター型ＥＢ描画装置は、描画速度
の面でラスター型に比べ有利で、レチクルの作製におい
ても用いられるようになってきた。０．１８μｍ以下の
設計ルールでは、ラスター型は実用レベルではない。
尚、このようなベクター型の電子ビーム描画装置（以
下、ＥＢ描画装置と言う）を、ここでは、可変成形ビー
ム型あるいは単に可変成形型の、またはバリアブルシエ
イプドビーム型のＥＢ描画装置とも言う。そして、描画
の際には、使用する可変成形ビーム型ＥＢ描画装置用の
描画データを用いて描画を行っている。可変成形型のＥ
Ｂ描画装置の場合、描画データとしては、通常、予め作
成された図形データ（設計データ、多機種の描画デー
タ）を変換して描画用データとしているが、通常は、前
記予め作成された図形データを必要に応じてポリゴンデ
ータ化し、これを所定のアルゴリズムで図形分割（フラ
クチャとも言う）したものが用いられる。これらを、以
下、ここでは、描画用のソースデータと言う。そして、
可変成形型のＥＢ描画装置の描画においては、描画用の
ソースデータは、描画の際に、ＥＢ描画装置内におい
て、所定のアルゴリズムで更に分割され、ＥＢ描画装置
の描画動作のハードを直接制御するデータに変換され
て、描画に寄与される。この描画用のソースデータを、
描画の際に、更に分割した図形のデータを、以下、分割
図形データという。
【０００４】このように、可変成形型描画装置内におい
て、描画の際に、描画用のソースデータ（元の図形デー
タとも言う）は、描画装置の所定のアルゴリズムに基づ
き、その各図形が分割され、分割された分割図形に対応
した露光描画が行われるため、作製されるフォトマスク
の精度は分割図形の良否に影響される。描画用のソース
データから分割して分割図形をえる際の分割アルゴリズ
ムは、装置毎に決まっており、場合によっては、描画効
率、描画精度等の面から分割に不具合のある箇所が発生
することがある。即ち、描画用のソースデータに対し、
高精度なマスクを作成するための図形分割を行なってい
るとは言えなかった。
て、描画の際に、描画用のソースデータ（元の図形デー
タとも言う）は、描画装置の所定のアルゴリズムに基づ
き、その各図形が分割され、分割された分割図形に対応
した露光描画が行われるため、作製されるフォトマスク
の精度は分割図形の良否に影響される。描画用のソース
データから分割して分割図形をえる際の分割アルゴリズ
ムは、装置毎に決まっており、場合によっては、描画効
率、描画精度等の面から分割に不具合のある箇所が発生
することがある。即ち、描画用のソースデータに対し、
高精度なマスクを作成するための図形分割を行なってい
るとは言えなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ますま
すフォトマスクの高精度が求められる中、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置内において、描画用のソースデータから分割
図形データを得る際に、分割に不具合のある箇所が発生
することがあり、この対応が求められていた。本発明
は、これに対応するもので、可変成形型ＥＢ描画装置内
において、描画用のソースデータから分割図形データを
得る際に発生する、分割に不具合が発生しそうな箇所を
選び、その箇所の分割状態を検証できる検証装置を提供
しようとするものである。また、このような検証装置に
よる検証方法を用い、描画用のソースデータを修正す
る、描画用のソースデータの修正方法を提供しようとす
るものである。
すフォトマスクの高精度が求められる中、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置内において、描画用のソースデータから分割
図形データを得る際に、分割に不具合のある箇所が発生
することがあり、この対応が求められていた。本発明
は、これに対応するもので、可変成形型ＥＢ描画装置内
において、描画用のソースデータから分割図形データを
得る際に発生する、分割に不具合が発生しそうな箇所を
選び、その箇所の分割状態を検証できる検証装置を提供
しようとするものである。また、このような検証装置に
よる検証方法を用い、描画用のソースデータを修正す
る、描画用のソースデータの修正方法を提供しようとす
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の分割図形データ
検証装置は、変成形型描画装置内において、描画の際
に、描画処理用の描画用のソースデータ（元の図形デー
タとも言う）の目的とする所定領域のデータから、図形
分割され、得られる分割図形データの分割状態を検証す
るための分割図形データ検証装置であって、描画処理用
のソースデータを蓄えておく記憶手段と、描画装置の描
画処理用のソースデータの分割手段と同じ分割機能を有
し、描描画処理用のソースデータの少なくとも単位領域
のデータを、分割図形データに分割する図形分割手段
と、分割された分割図形データないし描画処理のソース
データを表示する表示手段と、分割図形データの図形表
示および描画処理のソースデータの図形表示を制御する
図形表示制御手段とを備えていることを特徴とするもの
である。そして、上記において、記憶手段、図形分割手
段を可変成形型描画装置内のものと兼用し、可変成形型
描画装置内に配設されていることを特徴とするものであ
る。ここで言う単位領域のデータとは、可変成形型ＥＢ
描画装置内において、描画用のソースデータから分割図
形データを得る際の、 1回の分割処理を行なう際に対象
となる、描画用のソースデータの単位領域である。
検証装置は、変成形型描画装置内において、描画の際
に、描画処理用の描画用のソースデータ（元の図形デー
タとも言う）の目的とする所定領域のデータから、図形
分割され、得られる分割図形データの分割状態を検証す
るための分割図形データ検証装置であって、描画処理用
のソースデータを蓄えておく記憶手段と、描画装置の描
画処理用のソースデータの分割手段と同じ分割機能を有
し、描描画処理用のソースデータの少なくとも単位領域
のデータを、分割図形データに分割する図形分割手段
と、分割された分割図形データないし描画処理のソース
データを表示する表示手段と、分割図形データの図形表
示および描画処理のソースデータの図形表示を制御する
図形表示制御手段とを備えていることを特徴とするもの
である。そして、上記において、記憶手段、図形分割手
段を可変成形型描画装置内のものと兼用し、可変成形型
描画装置内に配設されていることを特徴とするものであ
る。ここで言う単位領域のデータとは、可変成形型ＥＢ
描画装置内において、描画用のソースデータから分割図
形データを得る際の、 1回の分割処理を行なう際に対象
となる、描画用のソースデータの単位領域である。
【０００７】本発明の描画用のソースデータの修正方法
は、可変成形型描画装置内において、描画の際に、描画
処理用の描画用のソースデータ（元の図形データとも言
う）から、図形分割され、得られる分割図形データの分
割状態を検証し、ソースデータの不具合箇所を修正す
る、描画用のソースデータの修正方法であって、ソース
データをディスプレイ上に表示し、黙視によりその分割
状態を表示する箇所を選択し、選択された箇所の図形分
割状態をディスプレイ上に表示し、これより黙視により
その分割の良否を判定し、分割状態に不具合があると判
断された箇所については、描画装置の分割アルゴリズム
に合せ、ソースデータを修正することを特徴とするもの
である。
は、可変成形型描画装置内において、描画の際に、描画
処理用の描画用のソースデータ（元の図形データとも言
う）から、図形分割され、得られる分割図形データの分
割状態を検証し、ソースデータの不具合箇所を修正す
る、描画用のソースデータの修正方法であって、ソース
データをディスプレイ上に表示し、黙視によりその分割
状態を表示する箇所を選択し、選択された箇所の図形分
割状態をディスプレイ上に表示し、これより黙視により
その分割の良否を判定し、分割状態に不具合があると判
断された箇所については、描画装置の分割アルゴリズム
に合せ、ソースデータを修正することを特徴とするもの
である。
【０００８】
【作用】本発明の分割図形データ検証装置は、このよう
な構成にすることにより、可変成形型ＥＢ描画装置内に
おいて、描画用のソースデータから分割図形データを得
る際に発生する、分割に不具合が発生しそうな箇所を選
び、その箇所の分割状態を確認できる分割図形データの
検証装置の提供を可能としている。実際に描画される前
に、描画効率、描画精度等の面から分割の不具合が起こ
りそうな箇所の分割状態を確認し、必要に応じて、ソー
スデータに手直し（修正）を加えることができる。具体
的には、描画処理用のソースデータ（元の図形データと
も言う）を蓄えておく記憶手段と、描画装置の描画処理
用のソースデータの分割手段と同じ分割機能を有し、描
描画処理用のソースデータの少なくとも単位領域のデー
タを、分割図形データに分割する図形分割手段と、分割
された分割図形データないし描画処理のソースデータを
表示する表示手段と、分割図形データの図形表示および
描画処理のソースデータの図形表示を制御する図形表示
制御手段とを備えているにより、これを達成している。
即ち、図形表示制御手段により、描画処理のソースデー
タ（元の図形データ）を表示手段に表示させ、表示され
た図形状態から分割が不具合となりそうな箇所を選択
し、少なくともこの箇所を含む単位領域のデータを図形
分割手段により分割処理し、処理された分割図形データ
を、図形表示制御手段により、表示手段に表示させて分
割の良否を確認できる。そして、記憶手段、図形分割手
段を可変成形型描画装置内のものと兼用し、可変成形型
描画装置内に配設されている場合には、装置をコスト的
に安価に作製できる。この場合、描画装置の内付けで、
作業の効率化にも対応できるが、外段取りと言う面から
は、描画装置とは別体の方が好ましい点も多い。
な構成にすることにより、可変成形型ＥＢ描画装置内に
おいて、描画用のソースデータから分割図形データを得
る際に発生する、分割に不具合が発生しそうな箇所を選
び、その箇所の分割状態を確認できる分割図形データの
検証装置の提供を可能としている。実際に描画される前
に、描画効率、描画精度等の面から分割の不具合が起こ
りそうな箇所の分割状態を確認し、必要に応じて、ソー
スデータに手直し（修正）を加えることができる。具体
的には、描画処理用のソースデータ（元の図形データと
も言う）を蓄えておく記憶手段と、描画装置の描画処理
用のソースデータの分割手段と同じ分割機能を有し、描
描画処理用のソースデータの少なくとも単位領域のデー
タを、分割図形データに分割する図形分割手段と、分割
された分割図形データないし描画処理のソースデータを
表示する表示手段と、分割図形データの図形表示および
描画処理のソースデータの図形表示を制御する図形表示
制御手段とを備えているにより、これを達成している。
即ち、図形表示制御手段により、描画処理のソースデー
タ（元の図形データ）を表示手段に表示させ、表示され
た図形状態から分割が不具合となりそうな箇所を選択
し、少なくともこの箇所を含む単位領域のデータを図形
分割手段により分割処理し、処理された分割図形データ
を、図形表示制御手段により、表示手段に表示させて分
割の良否を確認できる。そして、記憶手段、図形分割手
段を可変成形型描画装置内のものと兼用し、可変成形型
描画装置内に配設されている場合には、装置をコスト的
に安価に作製できる。この場合、描画装置の内付けで、
作業の効率化にも対応できるが、外段取りと言う面から
は、描画装置とは別体の方が好ましい点も多い。
【０００９】本発明の描画用のソースデータの修正方法
は、このような構成にすることにより、上記、本発明の
分割図形データ検証装置のような検証装置を用い、描画
効率、描画精度等の面から、描画用のソースデータの分
割具合を検証し、不具合な分割が発生しそうな描画用の
ソースデータの箇所を検証でき、不具合が発生する箇所
と判断した場合には、描画用のソースデータのその箇所
を修正する、描画用のソースデータの修正方法の提供を
可能としている。
は、このような構成にすることにより、上記、本発明の
分割図形データ検証装置のような検証装置を用い、描画
効率、描画精度等の面から、描画用のソースデータの分
割具合を検証し、不具合な分割が発生しそうな描画用の
ソースデータの箇所を検証でき、不具合が発生する箇所
と判断した場合には、描画用のソースデータのその箇所
を修正する、描画用のソースデータの修正方法の提供を
可能としている。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例を、図に基
づいて説明する。図１は本発明の分割図形データ検証装
置の実施の形態の１例を示した図で、図２はソースデー
タの修正を説明するための図で、図３は可変成形型ＥＢ
描画装置のビーム形状、サイズと分割図形の関係を説明
するための図である。図１〜図３中、１１０は記憶手
段、１１１はソースデータの図形データ、１２０は図形
分割手段、１２１は分割図形データ、１３０は図形表示
手段、１３１は表示図形データ、１４０は表示手段、１
５０は制御部、１６０は入力手段、２１０、２２０、２
３０、２４０は図形データ、２２１〜２２５、２３１、
２３２、２４１、２４２は図形、３１０は第１成形アパ
ーチャの開口部の像（ビーム投影像）、３２０は第２成
形アパーチャの開口部の像、３３１〜３５はビーム形状
である。
づいて説明する。図１は本発明の分割図形データ検証装
置の実施の形態の１例を示した図で、図２はソースデー
タの修正を説明するための図で、図３は可変成形型ＥＢ
描画装置のビーム形状、サイズと分割図形の関係を説明
するための図である。図１〜図３中、１１０は記憶手
段、１１１はソースデータの図形データ、１２０は図形
分割手段、１２１は分割図形データ、１３０は図形表示
手段、１３１は表示図形データ、１４０は表示手段、１
５０は制御部、１６０は入力手段、２１０、２２０、２
３０、２４０は図形データ、２２１〜２２５、２３１、
２３２、２４１、２４２は図形、３１０は第１成形アパ
ーチャの開口部の像（ビーム投影像）、３２０は第２成
形アパーチャの開口部の像、３３１〜３５はビーム形状
である。
【００１１】本発明の分割図形データ検証装置の実施の
形態の１例を、図１に基づいて説明する。本例の分割図
形データ検証装置は、図１に示すように、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置内において、描画の際に、描画処理用の描画
用のソースデータ（元の図形データ）の目的とする所定
領域のデータから、図形分割され、得られる分割図形デ
ータを、検証するための分割図形データ検証装置で、記
憶手段１１０と、図形分割手段１２０と、表示手段１４
０と、図形表示制御手段１３０と、制御部１５０と、入
力手段１６０とを備え、可変成形型ＥＢ描画装置とは別
体のものである。記憶手段１１０は通常磁気ディスク等
からなり、描画処理用のソースデータ（元の図形デー
タ）を蓄えておくものである。図形分割手段１２０は、
描画装置の描画処理用のソースデータ（元の図形デー
タ）の分割手段と同じ分割機能を有し、描描画処理用の
ソースデータ（元の図形データ）の少なくとも単位領域
のデータを、分割図形データに分割するもので、所定の
分割アルゴリズムによりソースデータの図形データを分
割する。表示手段１４０は、描画処理のソースデータ
（元の図形データ）の図形表示および分割図形データの
図形表示を行なうもので、表示画面を有するディスプレ
イ装置である。図形表示制御手段１３０は、描画処理の
ソースデータ（元の図形データ）の図形表示および分割
図形データの図形表示を制御するものである。制御部１
５０は、入力手段１６０からの指示により、全体を制御
するものである。入力手段１６０は、キーボード等で、
表示手段１４０の表示画面等を参照にしながら、各部へ
の指示を入力するものである。
形態の１例を、図１に基づいて説明する。本例の分割図
形データ検証装置は、図１に示すように、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置内において、描画の際に、描画処理用の描画
用のソースデータ（元の図形データ）の目的とする所定
領域のデータから、図形分割され、得られる分割図形デ
ータを、検証するための分割図形データ検証装置で、記
憶手段１１０と、図形分割手段１２０と、表示手段１４
０と、図形表示制御手段１３０と、制御部１５０と、入
力手段１６０とを備え、可変成形型ＥＢ描画装置とは別
体のものである。記憶手段１１０は通常磁気ディスク等
からなり、描画処理用のソースデータ（元の図形デー
タ）を蓄えておくものである。図形分割手段１２０は、
描画装置の描画処理用のソースデータ（元の図形デー
タ）の分割手段と同じ分割機能を有し、描描画処理用の
ソースデータ（元の図形データ）の少なくとも単位領域
のデータを、分割図形データに分割するもので、所定の
分割アルゴリズムによりソースデータの図形データを分
割する。表示手段１４０は、描画処理のソースデータ
（元の図形データ）の図形表示および分割図形データの
図形表示を行なうもので、表示画面を有するディスプレ
イ装置である。図形表示制御手段１３０は、描画処理の
ソースデータ（元の図形データ）の図形表示および分割
図形データの図形表示を制御するものである。制御部１
５０は、入力手段１６０からの指示により、全体を制御
するものである。入力手段１６０は、キーボード等で、
表示手段１４０の表示画面等を参照にしながら、各部へ
の指示を入力するものである。
【００１２】本発明の分割図形データ検証装置の処理
は、例えば、以下のようにして行なう。尚、これを以っ
て、本発明の描画用のソースデータの修正方法の説明に
代える。先ず、検証の対象となるソースデータを予め磁
気ディスク等からなる記憶手段１１０に入れておく。キ
ーボード等の入力手段１６０により、制御部１５０を介
して図形制御手段１３０を動作させ、これにより記憶手
段１１０から、図形データ１１１を受け取り、検証の対
象となる所定の描画装置用のソースデータの全図形デー
タあるいは一部の図形データを表示装置１４０に表示で
きるようにする。次いで、表示された図形データの状態
から、描画装置の描画処理用のソースデータ（元の図形
データ）の分割手段において、分割の不具合が起こりそ
うな箇所を選択する。分割の不具合が起こりそうな箇所
については、それぞれ、ソースデータのその箇所を含む
領域を分割手段１２０にて、実際に分割を行ない、対応
する分割図形データ１２１を発生させ、これを表示手段
１４０の画面に表示し、分割状態が、描画された場合に
精度的、あるいは、描画効率の面で問題があるものか、
どうかを検証する。このようにして、検証が行われ、こ
こで、分割状態が、描画された場合に精度的、あるい
は、描画効率の面で問題がある場合には、その図形デー
タに対応するソースデータの図形データに変更を加える
データ修正を行う。
は、例えば、以下のようにして行なう。尚、これを以っ
て、本発明の描画用のソースデータの修正方法の説明に
代える。先ず、検証の対象となるソースデータを予め磁
気ディスク等からなる記憶手段１１０に入れておく。キ
ーボード等の入力手段１６０により、制御部１５０を介
して図形制御手段１３０を動作させ、これにより記憶手
段１１０から、図形データ１１１を受け取り、検証の対
象となる所定の描画装置用のソースデータの全図形デー
タあるいは一部の図形データを表示装置１４０に表示で
きるようにする。次いで、表示された図形データの状態
から、描画装置の描画処理用のソースデータ（元の図形
データ）の分割手段において、分割の不具合が起こりそ
うな箇所を選択する。分割の不具合が起こりそうな箇所
については、それぞれ、ソースデータのその箇所を含む
領域を分割手段１２０にて、実際に分割を行ない、対応
する分割図形データ１２１を発生させ、これを表示手段
１４０の画面に表示し、分割状態が、描画された場合に
精度的、あるいは、描画効率の面で問題があるものか、
どうかを検証する。このようにして、検証が行われ、こ
こで、分割状態が、描画された場合に精度的、あるい
は、描画効率の面で問題がある場合には、その図形デー
タに対応するソースデータの図形データに変更を加える
データ修正を行う。
【００１３】ソースデータの図形データの変更は、描画
精度、描画効率を考慮して行う。例えば、描画装置によ
っては、図２（ａ）に示す図形データ２１０が、描画装
置の分割アルゴリズムにより、図２（ｂ）のように分割
される場合、即ち、底角４５度、９０度の台形が、全
て、矩形に分割され、その斜辺部が多数の矩形に分割さ
れる場合、描画された絵柄が元のソースデータとは異な
り、描画精度が低下すると言う問題がある。また、分割
される図形が必要以上に多くなり、描画効率が必要以上
に落ちるという問題がある。図形データ２１０を分割し
た図２（ｃ）に示す図形データ２３０が、描画装置の分
割アルゴリズムにより、図２（ｄ）のように分割される
ことが知られている場合、ソースデータ内のこのような
図形データ２１０を、図２（ｃ）に示す図形データ２３
０に置き代えることにより、この箇所の分割不具合を解
消できる。これより、ソースデータの図形データ２１０
を図形データ２３０に置き代える変更が行われる。
精度、描画効率を考慮して行う。例えば、描画装置によ
っては、図２（ａ）に示す図形データ２１０が、描画装
置の分割アルゴリズムにより、図２（ｂ）のように分割
される場合、即ち、底角４５度、９０度の台形が、全
て、矩形に分割され、その斜辺部が多数の矩形に分割さ
れる場合、描画された絵柄が元のソースデータとは異な
り、描画精度が低下すると言う問題がある。また、分割
される図形が必要以上に多くなり、描画効率が必要以上
に落ちるという問題がある。図形データ２１０を分割し
た図２（ｃ）に示す図形データ２３０が、描画装置の分
割アルゴリズムにより、図２（ｄ）のように分割される
ことが知られている場合、ソースデータ内のこのような
図形データ２１０を、図２（ｃ）に示す図形データ２３
０に置き代えることにより、この箇所の分割不具合を解
消できる。これより、ソースデータの図形データ２１０
を図形データ２３０に置き代える変更が行われる。
【００１４】尚、通常、可変成形型ＥＢ描画装置は、電
子銃から放出された電子線を、集束レンズを通過させ、
第１の成形アパーチャにより成形し、更に第２の成形ア
パーチャにより成形し、偏向系や対物レンズを介して、
フォトマスク用基板等に照射露光する。そして、照射さ
れる電子線の形状（ビーム形状とも言う）は、例えば、
図３に示す斜線部（３３１〜３３５）のようになる。図
３の斜線部のビーム形状３３２〜３３５はいずれも４５
度を２角とする直角三角形を示している。そして、ビー
ム形状は、第１の成形アパーチャにより成形される電子
線が第２のアパーチャにかかる位置を変えることによっ
て、そのサイズを変えるものである。分割図形は、これ
らのビーム形状、サイズに対応しているものである。
子銃から放出された電子線を、集束レンズを通過させ、
第１の成形アパーチャにより成形し、更に第２の成形ア
パーチャにより成形し、偏向系や対物レンズを介して、
フォトマスク用基板等に照射露光する。そして、照射さ
れる電子線の形状（ビーム形状とも言う）は、例えば、
図３に示す斜線部（３３１〜３３５）のようになる。図
３の斜線部のビーム形状３３２〜３３５はいずれも４５
度を２角とする直角三角形を示している。そして、ビー
ム形状は、第１の成形アパーチャにより成形される電子
線が第２のアパーチャにかかる位置を変えることによっ
て、そのサイズを変えるものである。分割図形は、これ
らのビーム形状、サイズに対応しているものである。
【００１５】
【発明の効果】本発明は、上記のように、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置内において、描画用のソースデータから分割
図形データを得る際に発生する、分割に不具合が発生し
そうな箇所を選び、その箇所の分割状態を確認できる検
証装置の提供を可能とした。また、同時に、このような
検証装置による検証方法を用い、描画用のソースデータ
を修正する、描画用のソースデータの修正方法の提供を
可能とした。これにより、より高精度なフォトマスクを
より効率的に作製することを可能とした。
Ｂ描画装置内において、描画用のソースデータから分割
図形データを得る際に発生する、分割に不具合が発生し
そうな箇所を選び、その箇所の分割状態を確認できる検
証装置の提供を可能とした。また、同時に、このような
検証装置による検証方法を用い、描画用のソースデータ
を修正する、描画用のソースデータの修正方法の提供を
可能とした。これにより、より高精度なフォトマスクを
より効率的に作製することを可能とした。
【図１】本発明の分割図形データ検証装置の実施の形態
の１例を示した図
の１例を示した図
【図２】ソースデータの修正を説明するための図
【図３】可変成形型ＥＢ描画装置のビーム形状、サイズ
と分割図形の関係を説明するための図
と分割図形の関係を説明するための図
１１０ 記憶手段 １１１ ソースデータの図形データ １２０ 図形分割手段 １２１ 分割図形データ １３０ 図形表示手段 １３１ 表示図形データ １４０ 表示手段 １５０ 制御部 １６０ 入力手段 ２１０、２２０、２３０、２４０ 図形データ ２２１〜２２５、２３１、２３２、２４１、２４２
図形 ３１０ 第１成形アパーチャの開口部の像
（ビーム投影像） ３２０ 第２成形アパーチャの開口部の像 ３３１〜３５ ビーム形状
図形 ３１０ 第１成形アパーチャの開口部の像
（ビーム投影像） ３２０ 第２成形アパーチャの開口部の像 ３３１〜３５ ビーム形状
Claims (3)
- 【請求項１】 可変成形型描画装置内において、描画の
際に、描画処理用の描画用のソースデータの目的とする
所定領域のデータから、図形分割され、得られる分割図
形データの分割状態を検証するための分割図形データ検
証装置であって、描画処理用のソースデータを蓄えてお
く記憶手段と、描画装置の描画処理用のソースデータの
分割手段と同じ分割機能を有し、描画処理用のソースデ
ータの少なくとも単位領域のデータを、分割図形データ
に分割する図形分割手段と、分割された分割図形データ
ないし描画処理のソースデータを表示する表示手段と、
分割図形データの図形表示および描画処理のソースデー
タの図形表示を制御する図形表示制御手段とを備えてい
ることを特徴とする分割図形データ検証装置。 - 【請求項２】 請求項１において、記憶手段、図形分割
手段を可変成形型描画装置内のものと兼用し、可変成形
型描画装置内に配設されていることを特徴とする分割図
形データ検証装置。 - 【請求項３】 可変成形型描画装置内において、描画の
際に、描画処理用の描画用のソースデータから、図形分
割され、得られる分割図形データの分割状態を検証し、
ソースデータの不具合箇所を修正する、描画用のソース
データの修正方法であって、ソースデータをディスプレ
イ上に表示し、黙視によりその分割状態を表示する箇所
を選択し、選択された箇所の図形分割状態をディスプレ
イ上に表示し、これより黙視によりその分割の良否を判
定し、分割状態に不具合があると判断された箇所につい
ては、描画装置の分割アルゴリズムに合せ、ソースデー
タを修正することを特徴とする描画用のソースデータの
修正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001171932A JP2002367891A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | 分割図形データ検証装置および描画用のソースデータの修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001171932A JP2002367891A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | 分割図形データ検証装置および描画用のソースデータの修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002367891A true JP2002367891A (ja) | 2002-12-20 |
Family
ID=19013627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001171932A Pending JP2002367891A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | 分割図形データ検証装置および描画用のソースデータの修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002367891A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0529187A (ja) * | 1991-07-25 | 1993-02-05 | Fujitsu Ltd | 露光データ作成装置及び露光データ作成方法 |
| JPH0536594A (ja) * | 1990-08-31 | 1993-02-12 | Fujitsu Ltd | 露光処理システム装置，荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法 |
| JPH0582425A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Mitsubishi Electric Corp | 描画データ変換方法 |
| JPH08227853A (ja) * | 1990-08-31 | 1996-09-03 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置 |
| JPH08306608A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置 |
| JPH10172885A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-06-26 | Jeol Ltd | 電子ビーム描画装置におけるパターン分割処理方法 |
-
2001
- 2001-06-07 JP JP2001171932A patent/JP2002367891A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0536594A (ja) * | 1990-08-31 | 1993-02-12 | Fujitsu Ltd | 露光処理システム装置，荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法 |
| JPH08227853A (ja) * | 1990-08-31 | 1996-09-03 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置 |
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