JP2002365603A - 光シャッタ装置 - Google Patents

光シャッタ装置

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JP2002365603A
JP2002365603A JP2001177813A JP2001177813A JP2002365603A JP 2002365603 A JP2002365603 A JP 2002365603A JP 2001177813 A JP2001177813 A JP 2001177813A JP 2001177813 A JP2001177813 A JP 2001177813A JP 2002365603 A JP2002365603 A JP 2002365603A
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朋彦 益田
Ken Matsubara
兼 松原
Isao Doi
勲 土井
Yasuyuki Hiromoto
泰之 廣本
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    • G02F1/0551Constructional details

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各光シャッタ素子の基板上での位置や周辺に
位置する電極のパターン形状の相違に拘わらず、各光シ
ャッタ素子ごとの透過光量のばらつきを抑えることので
きる光シャッタ装置を得る。 【解決手段】 PLZTからなる光シャッタチップ30
に一群の光シャッタ素子31a,31b,31c,31
dを形成した光シャッタ装置において、共通電極32と
個別電極33間に一定の電圧を印加しても各素子に作用
する電界に強弱が生じるので、電界が強くなる素子ほど
電極ギャップを広く設定し、各素子の半波長電圧をほぼ
等しくする。具体的には、電界の弱い素子31cの電極
ギャップは比較的狭く、電界の強い素子31dの電極ギ
ャップは比較的広く設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光シャッタ装置、
特に、電気光学効果を有する材料からなる基板上に複数
の対向する電極を設け、該電極間を光変調領域とした光
シャッタ装置に関する。
【0002】
【従来の技術と課題】従来、大容量光通信用の外部光変
調器や光パルス試験器における光路切換え用スイッチ、
あるいは光プリンタの光信号発生装置には、電気光学効
果を有する材料であるPLZT、LiNbO3からなる
基板に複数の光変調領域を設け、該基板をアレイ状に配
設して光をオン、オフ制御する光シャッタ装置が用いら
れている。
【0003】具体的には、図5に示すように、PLZT
基板(光シャッタチップ)30上に設けた一対の電極3
2,33に電圧を印加して電界を発生させることで、P
LZTに複屈折を生じさせ、前段に配置した偏光子41
を通じて光シャッタ素子(光変調領域)31に入射した
光を90°偏光させ、出射した光が検光子42を通過す
る。一方、電界が発生していない場合、偏光子41を通
過した光は偏光されることなく光シャッタ素子31を透
過し、検光子42で遮られてしまう。
【0004】このような光シャッタ素子31において
は、入射光を90°偏光させたときに最大の透過光量を
得ることができ、このときの印加電圧を半波長電圧と称
する。
【0005】図6に、従来の光シャッタ装置においてチ
ップ30上に形成された電極パターンを示す。チップ3
0上にはグランドに接地された共通電極32とそれと対
向する個別電極33とが形成されており、各電極32,
33の間が光シャッタ素子31とされている。個別電極
33はそれぞれ引出し電極33aにてボンディングパッ
ド33bと接続されており、共通電極32も引出し電極
32aにてボンディングパッド32bと接続されてい
る。
【0006】この種の光シャッタ装置が画像の形成に使
用される場合、矢印Xで示す主走査方向が30cm程度
を露光するのに数千個の光シャッタ素子31を必要とす
る。1個のチップ30でこれを実現することは困難であ
り、数百個の素子31を形成したチップ30を矢印X方
向に並置してアレイを構成する。また、2列に千鳥状に
配列された各光シャッタ素子31は各列ごとに所定のタ
イミングでオン、オフ制御されることにより、矢印Yで
示す副走査方向に移動する露光面上に1ラインの画像を
形成する。
【0007】ところで、一群の光シャッタ素子31a,
31b,31c,31dに着目すると、これらの素子の
チップ上での位置や周辺に位置する電極の形状が異な
り、半波長電圧がばらついてしまう。即ち、素子31
a,31dはチップ30の端部に位置しているため、電
極32,33から印加される電界が閉じこめられる傾向
にあり、他の素子31b,31c等に比べて電界が強く
作用する。一方、素子31b,31cを比較すると、引
出し電極32aが個別電極33の鋭角側に位置している
のか鈍角側に位置しているのか相違する。素子31cは
引出し電極32aが個別電極33の鋭角側に位置するた
め、鈍角側に位置する素子31bに比べて、電極32,
33間に印加される電界が引出し電極32aに漏れてし
まうため、素子31cは素子31bに比べて電界が弱く
なる。引出し電極32aの影響は素子31a,31bに
対しても同様に作用する。
【0008】各光シャッタ素子31a,31b,31
c,31dごとに、印加電圧に対する透過光量の関係は
図7に示すとおりである。各素子は一定の電圧で駆動さ
れるため、このように半波長電圧がばらつくと透過光量
に差を生じて光量むらとなる。例えば、光シャッタ装置
を画像の記録に用いる場合には、光量むらが画像むらと
して現れ、画像品質の低下を招来する。
【0009】そこで、本発明の目的は、光変調素子の基
板上での位置や周辺に位置する電極のパターン形状の相
違に拘わらず、各光変調領域ごとの透過光量のばらつき
を抑えることのできる光シャッタ装置を提供することに
ある。
【0010】
【発明の構成、作用及び効果】以上の目的を達成するた
め、本発明に係る光シャッタ装置は、電気光学効果を有
する材料からなる基板上に複数の対向する電極を設け、
該電極間を光変調領域とした光シャッタ装置において、
基板上での位置が異なる光変調素子や周辺に位置する電
極のパターン形状が異なる光変調領域ごとに、対向する
電極の間隔及び/又は形状が異なり、各光変調領域ごと
にその半波長電圧がほぼ等しいことを特徴とする。
【0011】本発明に係る光シャッタ装置においては、
光変調領域ごとに該光変調領域を挟んで対向する電極の
間隔及び形状の少なくとも一方を異ならせることによ
り、例えば、電界の作用が強い光変調領域に対しては電
極間隔を広げて電界の作用を弱めるように調整すること
により、光変調領域ごとにその半波長電圧をほぼ等しく
設定する。これにて、各光変調領域ごとの透過光量のば
らつきを抑えることができる。
【0012】本発明に係る光シャッタ装置にあっては、
各光変調領域ごとに光が透過する開口を規定する窓を有
する遮光層を備えることが好ましい。この遮光層の窓は
対向する電極の間隔が最も小さい光変調領域を基準とし
て光透過開口を規定するように形成すれば、例えば、光
シャッタ装置を画像の記録に用いる場合、窓によって画
素の大きさを揃えることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光シャッタ装
置の実施形態について、添付図面を参照して説明する。
【0014】(第1実施形態、図1参照)図1に、本発
明に係る光シャッタ装置の第1実施形態の要部を示す。
PLZTからなる光シャッタチップ30上に共通電極3
2及び個別電極33を形成し、各電極32,33が対向
する領域を光変調領域(光シャッタ素子)31としてい
る点は、図6に示した従来の光シャッタ装置と同様であ
る。従って、図6と同じ部材、部分には同じ符号を付
し、その説明は省略する。
【0015】本第1実施形態において特徴的な点は、光
シャッタ素子31a,31b,31c,31dにおいて
それぞれ電極ギャップを異ならせたことにある。図6で
説明したように、これらの光シャッタ素子はチップ30
上での位置(チップ30の端部に位置するか否か)や、
周辺に位置する電極の形状に応じて同じ駆動電圧を印加
しても電界の強度に強弱を生じ、透過光量がばらつく。
このばらつきは図7に示す特性を有することから、各素
子31a,31b,31c,31dに対しては電極ギャ
ップを異ならせて半波長電圧がほぼ等しくなるように調
整している。
【0016】即ち、電界の作用が最も弱くなる素子31
cの電極ギャップを最も狭く設定し、以下、素子31
b,31a,31dの順に電極ギャップを広く設定して
いる。電極ギャップを異ならせる手法として、本第1実
施形態では、個別電極33の形成位置自体をずらせてい
る。個別電極33の形成位置はそのままで先端部33’
のみをずらせてもよい。一方、共通電極32の形状を変
更して電極ギャップを異ならせることもできる。
【0017】各光シャッタ素子における半波長電圧を等
しくするには、電極ギャップを異ならせる手法以外に
も、個別電極33の面積を異ならせるようにしてもよ
い。即ち、図2に示す電極高さHや電極幅Wを変更して
もよい。さらに、図3に示すように、個別電極33に面
積調整用の穴33cを形成してもよい。あるいは、電極
33の一部を欠除するようにしてもよい。一方、共通電
極32の対向部分の形状を変更して光シャッタ素子への
電界の作用強度を調整し、半波長電圧が等しくなるよう
に調整することもできる。
【0018】電極32又は電極33の面積が小さくなる
と素子に対して電界がかかりにくくなり、半波長電圧が
高くなる。そこで、電界の作用が比較的強い光シャッタ
素子31dに対しては、個別電極33の高さH及び/又
は幅Wを小さくして、あるいは穴33cを形成して、半
波長電圧が高くなるように調整する。
【0019】ところで、この種の光シャッタ装置にあっ
ては、光シャッタ素子以外の領域にも電界が印加されて
光がチップを透過してしまうため、各光シャッタ素子ご
とに光が透過する開口を規定する窓を有する遮光層をチ
ップ上に設けている。遮光層は光を吸収あるいは反射す
る材料から形成されている。
【0020】図8,9に従来の光シャッタ装置に設けら
れている遮光層50を示す。図8に示す遮光層50は窓
51を長方形状としたもので、図9に示す遮光層50は
窓51を台形状としたものである。画像を形成する場
合、台形状の斜辺をY方向(副走査方向)に対して大き
く傾けることで、露光面上での各画素のX方向(主走査
方向)での連続性が向上する。
【0021】通常、窓51のY方向は電極32,33の
ギャップよりも広く設定しておき、開口のY方向は電極
32,33によって規定している。これは、半波長電圧
を低くするために電極ギャップを狭くしても開口面積を
小さくしないようにするためである。窓51のX方向の
幅は電極32,33のX方向の幅より狭くし、窓51内
に均一に電界が印加されるようにしている。
【0022】本第1実施形態においては、前述のよう
に、各光シャッタ素子において電極ギャップを異ならせ
ているため、遮光層を設ける場合、従来のようにY方向
には窓を大きくして開口を電極32,33によって規定
すると、開口のY方向の寸法が電極ギャップの差に応じ
て異なってしまう。
【0023】そこで、本第1実施形態では、図1に示さ
れているように、電極ギャップを最も狭くした光シャッ
タ素子31cの開口のY方向を電極32,33のギャッ
プで規定し、それよりもギャップの広い光シャッタ素子
31a,31b,31dに関しては、開口のY方向を遮
光層の窓51で規定するようにした。即ち、各素子に対
応する遮光層の窓51のY方向の寸法を、電極ギャップ
が最も狭い素子31cを基準として同じ開口寸法が得ら
れるように設定した。これにて、各素子を透過した光に
よる露光面上における各画素の大きさを均一にすること
ができる。
【0024】(第2実施形態、図4参照)電気光学効果
を有する材料からなる基板に電極を設けて光シャッタ素
子を構成すると、一の素子に対して設けた電極からの電
界が近接する素子にも作用して透過光量が変動するクロ
ストーク現象が問題となる。クロストークを低減する方
法としては、図6に示されているように、光シャッタ素
子の間にグランド電位の引出し電極32aを介在させる
方法が知られており、さらには、隣接する光シャッタ素
子をより遠ざける方法も有力である。
【0025】本第2実施形態では、図4に示すように、
光シャッタチップ30上に各光シャッタ素子31を4列
に千鳥状に配列して隣接する素子間のクロストークの減
少を図るようにした。各光シャッタ素子31は1列ごと
にオン、オフ制御され、副走査方向Yに定速移動する露
光面上では1ラインの画像を形成する。
【0026】このような4列配置の光シャッタ素子31
において、チップ30の両端部に位置する素子は別に考
慮するとして、第1列と第4列、第2列と第3列の素子
は周辺の電極パターンが全く同じ形状であり、電界の作
用としては同じ特性を示す。しかし、第1列と第2列、
第3列と第4列の素子をそれぞれ比較すると、即ち、共
通電極32に対して外側列と内側列の素子では周辺の電
極パターンが異なる。内側列(第2列、第3列)の素子
31は個別電極33が外側列(第1列、第4列)の共通
電極32に囲まれた状態にあり、個別電極から共通電極
に印加されるべき電界が外側列の共通電極にリークして
しまい、外側列の素子31に比べて電界が作用しにく
く、半波長電圧が高くなる傾向にある。
【0027】そこで、本第2実施形態では、内側列の素
子31の電極ギャップを外側列の素子31のそれよりも
狭く設定している。あるいは、外側列の素子31の電極
ギャップを内側列の素子31のそれよりも広く設定して
もよい。また、4列配列であっても、前記第1実施形態
で説明したように、チップ30の端部に位置する素子
は、電界が強く作用する傾向にあるため、半波長電圧を
他の素子と等しくするために電極ギャップを広く設定す
る。
【0028】なお、本第2実施形態においても、半波長
電圧を揃える方法として、図2,3に示したように、電
極の形状を変更する方法を採用してもよい。
【0029】(他の実施形態)なお、本発明に係る光シ
ャッタ装置は前記各実施形態に限定するものではなく、
その要旨の範囲内で種々に変更することができる。
【0030】例えば、光シャッタチップの詳細な構成
や、共通電極の形状、チップを駆動回路等と共に基板上
にマウントする構成は任意である。また、電気光学効果
を有する材料は前記PLZT以外にも種々のものを使用
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光シャッタ装置の第1実施形態の
要部を示す平面図。
【図2】前記第1実施形態の変形例を示す平面図。
【図3】前記第1実施形態の他の変形例を示す平面図。
【図4】本発明に係る光シャッタ装置の第2実施形態の
要部を示す平面図。
【図5】光シャッタ装置の動作原理を示す説明図。
【図6】従来の光シャッタ装置における電極パターンを
示す平面図。
【図7】従来の光シャッタ装置における光シャッタ素子
の印加電圧に対する透過光量の特性を示すグラフ。
【図8】従来の光シャッタ装置に設けられている遮光層
の第1例を示す平面図。
【図9】従来の光シャッタ装置に設けられている遮光層
の第2例を示す平面図。
【符号の説明】
30…光シャッタチップ 31…光変調領域(光シャッタ素子) 32…共通電極 33…個別電極 50…遮光層 51…窓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土井 勲 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 廣本 泰之 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Fターム(参考) 2H079 AA02 BA01 CA02 DA04 EB02 HA11

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気光学効果を有する材料からなる基板
    上に複数の対向する電極を設け、該電極間を光変調領域
    とした光シャッタ装置において、 基板上での位置が異なる光変調素子や周辺に位置する電
    極のパターン形状が異なる光変調領域ごとに、対向する
    電極の間隔及び/又は形状が異なり、各光変調領域ごと
    にその半波長電圧がほぼ等しいこと、 を特徴とする光シャッタ装置。
  2. 【請求項2】 各光変調領域ごとに光が透過する開口を
    規定する窓を有する遮光層を備え、該遮光層の窓は対向
    する電極の間隔が最も小さい光変調領域を基準として光
    透過開口を規定していることを特徴とする請求項1記載
    の光シャッタ装置。
JP2001177813A 2001-06-12 2001-06-12 光シャッタ装置 Pending JP2002365603A (ja)

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