JP2002365400A - 電子線照射装置及び照射方法 - Google Patents

電子線照射装置及び照射方法

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JP2002365400A
JP2002365400A JP2001177997A JP2001177997A JP2002365400A JP 2002365400 A JP2002365400 A JP 2002365400A JP 2001177997 A JP2001177997 A JP 2001177997A JP 2001177997 A JP2001177997 A JP 2001177997A JP 2002365400 A JP2002365400 A JP 2002365400A
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electron beam
cyclone
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beam irradiation
irradiation apparatus
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Kenji Hara
謙治 原
Keiji Yoshimura
敬二 吉村
Yuji Asahara
裕司 浅原
Ikuo Wakamoto
郁夫 若元
Susumu Urano
晋 浦野
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 設備費や処理工数及び時間を増大させること
なく、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表
面にまんべんなく電子線を照射することができる電子線
照射装置及び照射方法を提供する。 【解決手段】 気流搬送された被照射物Wを旋回させる
サイクロン1と、該サイクロン1の周壁に設けられ金属
箔で遮蔽されたスリット状の透過窓3と、該透過窓3を
介して前記被照射物Wに電子線を照射する電子線加速器
4とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、粉末状,粒状,チ
ップ状及び葉状の食品(例えば胡椒,抹茶,穀物,茶
葉,ワカメ,青海苔等)や薬品、化粧品及び衛生用品等
の被照射物に電子線を照射して殺菌等の処理を施す電子
線照射装置及び照射方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の電子線照射装置及び照射方法とし
て、被照射物(照射対象)を振動コンベヤにより搬送し
ながら電子線を照射するもの(特開2000-304900 号公報
等参照)や気流搬送装置により薄膜状に落下させながら
電子線を照射するもの(特開平11-052100 号公報等参
照)がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、被照射物に
電子線を照射して殺菌等の処理を施す場合、電子線を被
照射物の表面にまんべんなく照射するために、被照射物
を均一にならし、且つ電子線の照射部で反転等させる必
要がある。
【0004】ところが、前記振動コンベヤや気流搬送装
置を用いたものにあっては、電子線の照射部で反転等し
ない粒子やチップが存在することから、多数の被照射物
の全体に、しかも各被照射物の全表面に電子線を照射す
ることができず、殺菌性能等が低いという問題点があっ
た。
【0005】特に、前記気流搬送装置を用いたものにあ
っては、殺菌性能等を確保するのに、複数の電子線照射
手段を設置したり、複数回の照射処理が必要となるなど
で、設備費や処理工数及び時間が嵩むという不具合があ
った。
【0006】本発明は、上記従来技術に鑑み提案された
もので、設備費や処理工数及び時間を増大させることな
く、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面
にまんべんなく電子線を照射することができる電子線照
射装置及び照射方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は、気流搬送された被照射物を旋回させるサイ
クロンと、該サイクロンの周壁に設けた電子線透過部
と、該電子線透過部を介して前記被照射物に電子線を照
射する電子線照射手段と、を備えたことを特徴とする。
【0008】また、前記電子線透過部は、金属箔で遮蔽
されたスリット状の透過窓であることを特徴とする。
【0009】また、前記金属箔及び又は透過窓は補強材
で補強されてなることを特徴とする。
【0010】また、前記サイクロン内に不活性ガスを充
満させることを特徴とする。
【0011】また、前記サイクロンの周壁内面に電子線
の反射材を張り付けたことを特徴とする。
【0012】また、前記サイクロン内に、旋回する被照
射物の姿勢を変える姿勢変更手段を設けたことを特徴と
する。
【0013】また、前記姿勢変更手段は、サイクロンの
周壁に設けた段差部であることを特徴とする。
【0014】また、前記段差部に電子線透過部を設けた
ことを特徴とする。
【0015】また、気流搬送された被照射物を旋回させ
るサイクロンと、該サイクロンの周壁に設けた電子線透
過部と、該電子線透過部を介して前記被照射物に電子線
を照射する電子線照射手段と、前記被照射物を貯蔵する
タンクと、該タンク内の被照射物を前記サイクロンのガ
ス供給口へ第1管路を介して気流搬送するための気流生
起手段とを備え、前記気流生起手段のガス吸込側と前記
サイクロンのガス吸引口とを第2管路で連通させたこと
を特徴とする。
【0016】また、前記第1管路と第2管路により構成
されるガス循環系内に不活性ガスを充満させることを特
徴とする。
【0017】また、前記サイクロンの前後段の少なくと
も何れか一方に被照射物の分級手段を設けたことを特徴
とする。
【0018】また、被照射物を容器内で旋回させつつ電
子線を照射することを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電子線照射装
置及び照射方法を実施例により図面を用いて詳細に説明
する。
【0020】[第1実施例]図1は本発明の第1実施例
を示す電子線照射装置の概略構成図である。
【0021】図1において、1は気流搬送された粉末
状,粒状,チップ状及び葉状の食品や薬品、化粧品及び
衛生用品等の被照射物Wを旋回させるサイクロンで、ス
テンレス鋼等の金属によりその上半部1aがストレート
筒で下半部1bが下方小径のテーパ筒状に形成される。
前記下半部1bの下端開口部にはサイクロン1で分離さ
れた被照射物Wの回収タンク2が連通される。
【0022】前記上半部1aの周壁には、電子線透過部
として、チタンやアルミニウム合金等の密度が粗く電子
線の透過性が良い金属箔で遮蔽された縦1列のスリット
状の透過窓3が形成される。前記金属箔及び又は透過窓
3は適宜メッシュや格子状の補強材で補強される。ま
た、前記透過窓3の長さは被照射物Wの旋回流全体に電
子線を照射し得る長さ(図中では、略上半部1aの長さ
一杯)に設定される。
【0023】そして、前記透過窓3を介して前記サイク
ロン1内の被照射物Wに電子線を照射する電子線照射手
段としての電子線加速器4がその縦長(前記透過窓3と
略同長)の照射窓4aを前記透過窓3と対向させて設け
られる。
【0024】前記サイクロン1のガス供給口5と気流生
起手段としてのブロア6の吐出側とが第1管路7で連通
接続され、この第1管路7の途中に前記被照射物Wを貯
蔵・投入するための投入タンク8の投入口8aが連通さ
れる。前記ガス供給口5は、前記サイクロン1の周壁上
端部の接線方向に開口される。
【0025】また、前記サイクロン1の上壁中心部を所
定の長さに亙って貫通し開口されたガス吸引口9と前記
ブロア6の吸込側とが第2管路10で連通接続される。
そして、前記第1管路7と第2管路10により構成され
るガス循環系内に不活性ガスとしての窒素ガスが充満さ
れるようになっている。つまり、前記投入タンク8と第
2管路10とがそれぞれバルブ11a,11b付きの配
管12a,12bを介して窒素ガス供給源13に接続さ
れるのである。
【0026】このように構成されるため、ブロア6で生
起された気流(窒素ガス流)により、投入タンク8内の
被照射物Wが投入口8aより第1管路7を通りガス供給
口5からサイクロン1内に投入・搬送される。サイクロ
ン1内に投入・搬送された被照射物Wの内所定の大きさ
(重量)のものはサイクロン1の周壁内面に沿って旋回
しながら重力沈降していき(図中渦巻き状の矢印参
照)、やがて回収タンク2内に回収される。一方、重力
沈降していくものより小さい(軽い)ものは窒素ガスと
ともにガス吸引口9よりサイクロン1外に吸引され、第
2管路10を通ってブロア6の吸込側に戻される。
【0027】前記重力沈降していく被照射物Wには、電
子線加速器4からの電子線(図中照射窓4a部における
多数矢印参照)がサイクロン1の周壁一部に設けた透過
窓3を透過して照射され、殺菌・殺虫等の処理が施され
る。
【0028】この際、被照射物Wは所定速度の旋回流を
生起されているので、電子線照射部(透過窓3部)を複
数回通過すると共に、重力沈降中に幾度か回転されるこ
とになり、依って、多数の被照射物Wの全体に、しかも
各被照射物Wの表面にまんべんなく電子線が照射され、
殺菌・殺虫等の処理性能が向上される。
【0029】また、気流搬送であるので、被照射物Wの
粒状,チップ状等の形によらず搬送可能となる。また、
搬送用ガスが窒素ガスであるので、オゾンの発生を抑制
し、オゾンによる被照射物Wのダメージを低減させられ
る。また、ガスを循環させるので、窒素ガスの消費量も
低減させられる。また、透過窓3は金属箔で遮蔽されて
いるので、ガス循環系内を確実に窒素ガス雰囲気中に保
持することができる。
【0030】[第2実施例]図2は本発明の第2実施例
を示す電子線照射装置の概略構成図である。
【0031】これは、第1実施例における投入タンク8
と回収タンク2とに排気ポンプ14A,14Bをそれぞ
れ設置し、窒素ガス供給源13からの窒素ガス充填時に
窒素ガスと空気等との置換を確実に行えるようにした例
である。その他の構成は、第1実施例と同様なので、図
2において図1と同一部材には同一符号を付して重複す
る説明は省略する。
【0032】[第3実施例]図3は本発明の第3実施例
を示す電子線照射装置の概略構成図である。
【0033】これは、第1実施例のサイクロン1に相当
する、全体がストレート筒状のサイクロン1Aを横置き
にし、ガス供給口5からの被照射物Wを旋回流と慣性力
で回収タンク2まで搬送するようにした例である。その
他の構成は、第1実施例と同様なので、図3において図
1と同一部材には同一符号を付して重複する説明は省略
する。
【0034】これによるも、第1実施例と同様の作用・
効果が得られると共に、装置の設置勝手が得られる。
【0035】[第4実施例]図4は本発明の第4実施例
を示すサイクロンの概略構成図で、同図(a)は平面
図、同図(b)は側面図である。
【0036】これは、第1実施例におけるサイクロン1
の周壁(上半部1aに相当する)に姿勢変更手段として
の段差部15を外方へ張り出すようにして設け、特にチ
ップ状又は葉状の被照射物Wが前記段差部15を通過す
る際に、姿勢を変更する即ち、裏表に反転等するように
した例である。その他の構成は、第1実施例と同様なの
で、図4において図1と同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
【0037】これによるも、第1実施例と同様の作用・
効果が得られると共に、チップ状又は葉状の被照射物W
の裏表にまんべんなく電子線を照射することができる利
点が得られる。尚、本実施例において、透過窓3を前記
段差部15に設けても良く、こうすることで、被照射物
Wが前記透過窓3に付着・滞留することが確実に回避さ
れる。
【0038】[第5実施例]図5は本発明の第5実施例
を示す電子線照射装置の概略構成側面図、図6は同じく
概略構成平面図である。
【0039】これは、第1実施例におけるサイクロン1
をガス循環系内で直列に複数連結すると共に、これらサ
イクロン1側又は電子線加速器4側を回転移動又は直線
移動可能に構成して(図示例ではサイクロン1側がサー
キット状に連結されて回転移動可能になっている)、特
定の大きさ(重量)の被照射物Wを選別・分級して又は
被照射物Wを段階的に選別・分級して電子線を照射する
ようにした例である。その他の構成は、第1実施例と同
様なので、図5及び図6において図1と同一部材には同
一符号を付して重複する説明は省略する。
【0040】これによるも、第1実施例と同様の作用・
効果が得られると共に、装置に汎用性を持たせられる。
尚、本実施例において、電子線を照射するサイクロン1
以外は単なる分級器でも良い。
【0041】尚、本発明は上記各実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で各種変更が可能である
ことはいうまでもない。例えば、サイクロンの周壁内面
に電子線の反射材を張り付けても良いし、透過窓の金属
箔を交換可能なように着脱自在に構成しても良い。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、気流搬送された被照射物を旋回させるサイクロ
ンと、該サイクロンの周壁に設けた電子線透過部と、該
電子線透過部を介して前記被照射物に電子線を照射する
電子線照射手段とを備えたことを特徴とするので、被照
射物は所定速度の旋回流を生起されて電子線照射部を複
数回通過すると共に移動中に幾度か回転されることにな
り、依って、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射
物の表面にまんべんなく電子線が照射され、殺菌・殺虫
等の処理性能が向上される。
【0043】請求項2の発明によれば、前記電子線透過
部は、金属箔で遮蔽されたスリット状の透過窓であるこ
とを特徴とするので、サイクロンの強度及び電子線の透
過性を保持しつつ金属箔でサイクロン内を所定の搬送ガ
ス雰囲気中に保持することができる。
【0044】請求項3の発明によれば、前記金属箔及び
又は透過窓は補強材で補強されてなることを特徴とする
ので、装置の耐久性が高められる。
【0045】請求項4の発明によれば、前記サイクロン
内に不活性ガスを充満させることを特徴とするので、オ
ゾンの発生を抑制し、オゾンによる被照射物のダメージ
を低減させられる。
【0046】請求項5の発明によれば、前記サイクロン
の周壁内面に電子線の反射材を張り付けたことを特徴と
するので、被照射物に対しより一層均一に照射すること
ができる。
【0047】請求項6の発明によれば、前記サイクロン
内に、旋回する被照射物の姿勢を変える姿勢変更手段を
設けたことを特徴とするので、特にチップ状又は葉状の
被照射物の裏表にまんべんなく電子線を照射することが
できる。
【0048】請求項7の発明によれば、前記姿勢変更手
段は、サイクロンの周壁に設けた段差部であることを特
徴とするので、構造が簡単で済む。
【0049】請求項8の発明によれば、前記段差部に電
子線透過部を設けたことを特徴とするので、被照射物が
前記電子線透過部に付着・滞留することが確実に回避さ
れる。
【0050】請求項9の発明によれば、気流搬送された
被照射物を旋回させるサイクロンと、該サイクロンの周
壁に設けた電子線透過部と、該電子線透過部を介して前
記被照射物に電子線を照射する電子線照射手段と、前記
被照射物を貯蔵するタンクと、該タンク内の被照射物を
前記サイクロンのガス供給口へ第1管路を介して気流搬
送するための気流生起手段とを備え、前記気流生起手段
のガス吸込側と前記サイクロンのガス吸引口とを第2管
路で連通させたことを特徴とするので、請求項1の発明
と同様の作用・効果に加えて、搬送ガスを循環させるの
でガス消費量が低減できる。
【0051】請求項10の発明によれば、前記第1管路
と第2管路により構成されるガス循環系内に不活性ガス
を充満させることを特徴とするので、請求項4の発明と
同様の作用・効果が得られる。
【0052】請求項11の発明によれば、前記サイクロ
ンの前後段の少なくとも何れか一方に被照射物の分級手
段を設けたことを特徴とするので、特定の大きさ(重
量)の被照射物を選別・分級して電子線を照射すること
ができ、装置に汎用性を持たせられる。
【0053】請求項12の発明によれば、被照射物を容
器内で旋回させつつ電子線を照射することを特徴とする
ので、請求項1の発明と同様の作用・効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す電子線照射装置の概
略構成図である。
【図2】本発明の第2実施例を示す電子線照射装置の概
略構成図である。
【図3】本発明の第3実施例を示す電子線照射装置の概
略構成図である。
【図4】本発明の第4実施例を示すサイクロンの概略構
成図で、同図(a)は平面図、同図(b)は側面図であ
る。
【図5】本発明の第5実施例を示す電子線照射装置の概
略構成側面図である。
【図6】同じく概略構成平面図である。
【符号の説明】
1,1A サイクロン 1a 上半部 1b 下半部 2 回収タンク 3 透過窓 4 電子線加速器 4a 照射窓 5 ガス供給口 6 ブロア 7 第1管路 8 投入タンク 8a 投入口 9 ガス吸引口 10 第2管路 11a,11b バルブ 12a,12b 配管 13 窒素ガス供給源 14A,14B 排気ポンプ 15 段差部 W 被照射物
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G21K 5/00 G21K 5/00 B W 5/10 5/10 F (72)発明者 浅原 裕司 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 若元 郁夫 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 浦野 晋 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 Fターム(参考) 3F047 CA02 4B021 LA44 LP10 LT03 LW03 LW07 LW09 LW10 4C058 AA21 AA22 BB06 EE26 KK03 KK45

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 気流搬送された被照射物を旋回させるサ
    イクロンと、該サイクロンの周壁に設けた電子線透過部
    と、該電子線透過部を介して前記被照射物に電子線を照
    射する電子線照射手段と、を備えたことを特徴とする電
    子線照射装置。
  2. 【請求項2】 前記電子線透過部は、金属箔で遮蔽され
    たスリット状の透過窓であることを特徴とする請求項1
    記載の電子線照射装置。
  3. 【請求項3】 前記金属箔及び又は透過窓は補強材で補
    強されてなることを特徴とする請求項2記載の電子線照
    射装置。
  4. 【請求項4】 前記サイクロン内に不活性ガスを充満さ
    せることを特徴とする請求項1,2又は3記載の電子線
    照射装置。
  5. 【請求項5】 前記サイクロンの周壁内面に電子線の反
    射材を張り付けたことを特徴とする請求項1,2,3又
    は4記載の電子線照射装置。
  6. 【請求項6】 前記サイクロン内に、旋回する被照射物
    の姿勢を変える姿勢変更手段を設けたことを特徴とする
    請求項1,2,3,4又は5記載の電子線照射装置。
  7. 【請求項7】 前記姿勢変更手段は、サイクロンの周壁
    に設けた段差部であることを特徴とする請求項6記載の
    電子線照射装置。
  8. 【請求項8】 前記段差部に電子線透過部を設けたこと
    を特徴とする請求項7記載の電子線照射装置。
  9. 【請求項9】 気流搬送された被照射物を旋回させるサ
    イクロンと、該サイクロンの周壁に設けた電子線透過部
    と、該電子線透過部を介して前記被照射物に電子線を照
    射する電子線照射手段と、前記被照射物を貯蔵するタン
    クと、該タンク内の被照射物を前記サイクロンのガス供
    給口へ第1管路を介して気流搬送するための気流生起手
    段とを備え、前記気流生起手段のガス吸込側と前記サイ
    クロンのガス吸引口とを第2管路で連通させたことを特
    徴とする電子線照射装置。
  10. 【請求項10】 前記第1管路と第2管路により構成さ
    れるガス循環系内に不活性ガスを充満させることを特徴
    とする請求項9記載の電子線照射装置。
  11. 【請求項11】 前記サイクロンの前後段の少なくとも
    何れか一方に被照射物の分級手段を設けたことを特徴と
    する請求項9又は10記載の電子線照射装置。
  12. 【請求項12】 被照射物を容器内で旋回させつつ電子
    線を照射することを特徴とする電子線照射方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013024558A (ja) * 2011-07-14 2013-02-04 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
WO2013054606A1 (ja) * 2011-10-12 2013-04-18 立山マシン株式会社 粉粒体殺菌装置
CN111741774A (zh) * 2018-02-20 2020-10-02 布勒股份公司 对颗粒物料消毒和/或灭菌的设备和方法

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