JP2002352476A - 記録媒体、記録媒体の原盤作成方法、及び記録媒体の製造方法 - Google Patents
記録媒体、記録媒体の原盤作成方法、及び記録媒体の製造方法Info
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- JP2002352476A JP2002352476A JP2001153462A JP2001153462A JP2002352476A JP 2002352476 A JP2002352476 A JP 2002352476A JP 2001153462 A JP2001153462 A JP 2001153462A JP 2001153462 A JP2001153462 A JP 2001153462A JP 2002352476 A JP2002352476 A JP 2002352476A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光磁気ディスク等の記録媒体において、ディ
スクの内周側と外周側とで記録再生層の膜厚が異なるこ
とに起因する記録再生時のレーザパワーの不適正を無く
することを目的とする。 【解決手段】 螺旋状または同心円状のランド及びグル
ーブを有する光磁気ディスクにおいて、グルーブの深さ
をディスクの内周側より外周側に向かって徐々に深くな
るように構成する。
スクの内周側と外周側とで記録再生層の膜厚が異なるこ
とに起因する記録再生時のレーザパワーの不適正を無く
することを目的とする。 【解決手段】 螺旋状または同心円状のランド及びグル
ーブを有する光磁気ディスクにおいて、グルーブの深さ
をディスクの内周側より外周側に向かって徐々に深くな
るように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスク等
の記録媒体に関し、特に記録媒体の内周側と外周側とで
記録再生のための最適なレーザパワーの差を小さくした
記録媒体の構造、記録媒体の原盤の作成方法、記録媒体
の製造方法に関する。
の記録媒体に関し、特に記録媒体の内周側と外周側とで
記録再生のための最適なレーザパワーの差を小さくした
記録媒体の構造、記録媒体の原盤の作成方法、記録媒体
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば光磁気ディスク等の記録媒
体では、ディスクを製造する際に、例えば図８に示すよ
うにディスクの外周側ほど記録再生層の膜厚が薄くなる
傾向がある。このため、製造されたディスクは、その外
周側ほど記録再生層を構成する膜の熱容量が小さくな
り、よって記録再生時における最適なレーザパワーは内
周側よりも小さくなる。
体では、ディスクを製造する際に、例えば図８に示すよ
うにディスクの外周側ほど記録再生層の膜厚が薄くなる
傾向がある。このため、製造されたディスクは、その外
周側ほど記録再生層を構成する膜の熱容量が小さくな
り、よって記録再生時における最適なレーザパワーは内
周側よりも小さくなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】通常、光磁気ディスク
記録再生装置では、記録再生時のレーザパワーはディス
クの内周側と外周側とで一定であるため、前述のような
ディスクの内周側と外周側とにおける膜厚の違いによ
り、ディスクの内周側ではレーザパワーが不足気味の傾
向となると共に、ディスクの外周側ではレーザパワーが
過剰となる傾向があった。
記録再生装置では、記録再生時のレーザパワーはディス
クの内周側と外周側とで一定であるため、前述のような
ディスクの内周側と外周側とにおける膜厚の違いによ
り、ディスクの内周側ではレーザパワーが不足気味の傾
向となると共に、ディスクの外周側ではレーザパワーが
過剰となる傾向があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明では、螺旋状または同心円状のランド及びグル
ーブを有すると共に、前記ランド及びグルーブに信号の
記録再生を行う記録媒体において、記録媒体の外周側に
おけるグルーブの深さを記録媒体の内周側よりも深くし
たことを特徴とする。
め本発明では、螺旋状または同心円状のランド及びグル
ーブを有すると共に、前記ランド及びグルーブに信号の
記録再生を行う記録媒体において、記録媒体の外周側に
おけるグルーブの深さを記録媒体の内周側よりも深くし
たことを特徴とする。
【０００５】また、本発明の記録媒体において、前記グ
ルーブの深さは、記録媒体の内周側より外周側に向かっ
て徐々に深くなるようにしたことを特徴とする。さら
に、本発明の記録媒体の原盤作成方法は、（ａ）基板上
に内周側から外周側に向かって徐々に膜厚が厚くなるよ
うにレジストを形成する工程と、（ｂ）前記レジストを
除去して螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを
有するレジストパターンを形成する工程と、（ｃ）前記
レジストパターン上に電極を形成する工程とを含むこと
を特徴とする。
ルーブの深さは、記録媒体の内周側より外周側に向かっ
て徐々に深くなるようにしたことを特徴とする。さら
に、本発明の記録媒体の原盤作成方法は、（ａ）基板上
に内周側から外周側に向かって徐々に膜厚が厚くなるよ
うにレジストを形成する工程と、（ｂ）前記レジストを
除去して螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを
有するレジストパターンを形成する工程と、（ｃ）前記
レジストパターン上に電極を形成する工程とを含むこと
を特徴とする。
【０００６】さらに、本発明の記録媒体の製造方法は、
（ａ）螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを有
する基板を成型する工程と、（ｂ）前記基板のグルーブ
の深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよ
うに加工する工程とを含むことを特徴とする。また、本
発明の記録媒体の製造方法において、前記基板のグルー
ブの深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くなる
ように加工する工程は、前記基板を回転させながら、基
板の内周側より外周側に向かって徐々に光強度が小さく
なるような光強度分布を有する光源より紫外線を基板に
照射する工程を含むことを特徴とする。
（ａ）螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを有
する基板を成型する工程と、（ｂ）前記基板のグルーブ
の深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよ
うに加工する工程とを含むことを特徴とする。また、本
発明の記録媒体の製造方法において、前記基板のグルー
ブの深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くなる
ように加工する工程は、前記基板を回転させながら、基
板の内周側より外周側に向かって徐々に光強度が小さく
なるような光強度分布を有する光源より紫外線を基板に
照射する工程を含むことを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
一実施形態について詳述する。先ず、図１は本発明の光
磁気ディスクの平面図である。同図において、１はリー
ドイン領域、２はデータ領域、３はリードアウト領域で
あり、螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを有
するディスクである。
一実施形態について詳述する。先ず、図１は本発明の光
磁気ディスクの平面図である。同図において、１はリー
ドイン領域、２はデータ領域、３はリードアウト領域で
あり、螺旋状または同心円状のランド及びグルーブを有
するディスクである。
【０００８】次に、図２は本発明の光磁気ディスクの断
面構造を示している。同図において、１１はポリカーボ
ネートからなるディスク基板、１２はＳｉＮから成る下
地層（膜厚７０ｎｍ）、１３はＧｄＦｅＣｏから成る再
生層（膜厚３０ｎｍ）、１４はＳｉＮから成る非磁性層
（膜厚２０ｎｍ）、１５はＴｂＦｅＣｏから成る記録層
（膜厚４０ｎｍ）、１６はＳｉＮから成る保護膜（膜厚
４０ｎｍ）、１７はＡｌから成る放熱層（膜厚５０ｎ
ｍ）、１８は紫外線硬化樹脂から成る保護層、そして、
ディスク全体の厚さは０．６ｍｍであり、ランドＬ及び
グルーブＧが形成されている。以下、説明を簡単にする
ため、前記下地層１２乃至放熱層１７の部分をまとめて
記録再生層として説明する。
面構造を示している。同図において、１１はポリカーボ
ネートからなるディスク基板、１２はＳｉＮから成る下
地層（膜厚７０ｎｍ）、１３はＧｄＦｅＣｏから成る再
生層（膜厚３０ｎｍ）、１４はＳｉＮから成る非磁性層
（膜厚２０ｎｍ）、１５はＴｂＦｅＣｏから成る記録層
（膜厚４０ｎｍ）、１６はＳｉＮから成る保護膜（膜厚
４０ｎｍ）、１７はＡｌから成る放熱層（膜厚５０ｎ
ｍ）、１８は紫外線硬化樹脂から成る保護層、そして、
ディスク全体の厚さは０．６ｍｍであり、ランドＬ及び
グルーブＧが形成されている。以下、説明を簡単にする
ため、前記下地層１２乃至放熱層１７の部分をまとめて
記録再生層として説明する。
【０００９】尚、上記の膜構造はあくまでも一例であ
り、これに限定されるものではない。また、図３（ａ）
はディスクの内周側の要部断面であり、図３（ｂ）はデ
ィスクの外周側の要部断面であるが、本発明の光磁気デ
ィスクでは、ディスクの内周側と外周側とでグルーブの
深さが異なるように構成されている。さらに、図４に示
すように、このグルーブの深さは、記録再生層における
膜厚の不均一を相殺するため、これと略逆の傾向を有す
るように内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよ
うに構成されている。
り、これに限定されるものではない。また、図３（ａ）
はディスクの内周側の要部断面であり、図３（ｂ）はデ
ィスクの外周側の要部断面であるが、本発明の光磁気デ
ィスクでは、ディスクの内周側と外周側とでグルーブの
深さが異なるように構成されている。さらに、図４に示
すように、このグルーブの深さは、記録再生層における
膜厚の不均一を相殺するため、これと略逆の傾向を有す
るように内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよ
うに構成されている。
【００１０】このように、本発明の光磁気ディスクで
は、記録再生層における膜厚そのものは従来のディスク
と同様に内周側より外周側に向かって薄くなる傾向を有
しているが、グルーブ深さが内周側から外周側に向かっ
て徐々に深くなるように構成されているため、前記図３
（ａ）（ｂ）においてハッチングで示しているように、
ディスクの内周側及び外周側でもレーザによる熱の影響
が隣接トラックに及ぶことがない。そしてディスクの内
周側と外周側とでレーザーパワーの最適値の差が小さく
なる。即ち、図３（ａ）に示す内周側では、記録再生層
の膜厚が外周側よりも厚いので熱容量が大きく、隣接ト
ラックにまで熱的影響が伝わらず、また、図３（ｂ）に
示す外周側では、記録再生層の膜厚が内周側よりも薄く
て熱容量が小さいものの、グルーブが深いため、隣接ト
ラックにまで熱的影響が伝わらないということである。
は、記録再生層における膜厚そのものは従来のディスク
と同様に内周側より外周側に向かって薄くなる傾向を有
しているが、グルーブ深さが内周側から外周側に向かっ
て徐々に深くなるように構成されているため、前記図３
（ａ）（ｂ）においてハッチングで示しているように、
ディスクの内周側及び外周側でもレーザによる熱の影響
が隣接トラックに及ぶことがない。そしてディスクの内
周側と外周側とでレーザーパワーの最適値の差が小さく
なる。即ち、図３（ａ）に示す内周側では、記録再生層
の膜厚が外周側よりも厚いので熱容量が大きく、隣接ト
ラックにまで熱的影響が伝わらず、また、図３（ｂ）に
示す外周側では、記録再生層の膜厚が内周側よりも薄く
て熱容量が小さいものの、グルーブが深いため、隣接ト
ラックにまで熱的影響が伝わらないということである。
【００１１】続いて、上記の如き本発明の光磁気ディス
クを製造する方法について説明する。本発明の光磁気デ
ィスクを製造するには、（１）原盤作成時にグルーブの
深さを内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよう
加工する方法と、（２）原盤に基づくディスクの成型時
にグルーブの深さを内周側から外周側に向かって徐々に
深くなるように加工する方法とがある。
クを製造する方法について説明する。本発明の光磁気デ
ィスクを製造するには、（１）原盤作成時にグルーブの
深さを内周側から外周側に向かって徐々に深くなるよう
加工する方法と、（２）原盤に基づくディスクの成型時
にグルーブの深さを内周側から外周側に向かって徐々に
深くなるように加工する方法とがある。
【００１２】（１）原盤作成時に加工する場合 先ず、図５（ａ）に示すように、ガラス基板２１の上に
内周側から外周側に向かって徐々に膜厚が厚くなるよう
にレジスト膜２２を形成する。これを図５（ｂ）に示す
ように、レーザ光カッティング装置で露光した後、さら
に現像を行い、図５（ｃ）に示すようなレジストパター
ンを形成する。尚、ここで用いるレーザ光カッティング
装置は、従来より知られているものである。
内周側から外周側に向かって徐々に膜厚が厚くなるよう
にレジスト膜２２を形成する。これを図５（ｂ）に示す
ように、レーザ光カッティング装置で露光した後、さら
に現像を行い、図５（ｃ）に示すようなレジストパター
ンを形成する。尚、ここで用いるレーザ光カッティング
装置は、従来より知られているものである。
【００１３】そして、図５（ｄ）に示すように、前記レ
ジストパターン上にニッケルから成るシード層２３を成
膜し、さらに図５（ｅ）に示すように、ニッケルメッキ
を施してパターン電極２３’を形成する。こうして形成
されたパターン電極２３’をガラス基板２１より剥離
し、裏面側（パターン面と逆側）を研磨してスタンパが
完成する。このスタンパは、パターン面において、内周
側から外周側に向かって徐々にグルーブの深さが深くな
っている。
ジストパターン上にニッケルから成るシード層２３を成
膜し、さらに図５（ｅ）に示すように、ニッケルメッキ
を施してパターン電極２３’を形成する。こうして形成
されたパターン電極２３’をガラス基板２１より剥離
し、裏面側（パターン面と逆側）を研磨してスタンパが
完成する。このスタンパは、パターン面において、内周
側から外周側に向かって徐々にグルーブの深さが深くな
っている。
【００１４】次に、図５（ｆ）に示すように、前記スタ
ンパを用いてポリカーボネートからなるディスク基板１
１を成型する。前述のように、スタンパは、パターン面
において、内周側から外周側に向かって徐々にグルーブ
の深さが深くなっているので、成型されたディスク基板
１１はグルーブの深さが内周側から外周側に向かって徐
々に深くなるように構成されている。
ンパを用いてポリカーボネートからなるディスク基板１
１を成型する。前述のように、スタンパは、パターン面
において、内周側から外周側に向かって徐々にグルーブ
の深さが深くなっているので、成型されたディスク基板
１１はグルーブの深さが内周側から外周側に向かって徐
々に深くなるように構成されている。
【００１５】そして、図５（ｇ）に示すように、ディス
ク基板１１上に記録再生層（１２〜１７）を順次形成し
た後、保護層１８を形成してディスクが完成する。 （２）ディスクの成型時に加工する場合 先ず、図６（ａ）に示すように、ガラス基板２１の上に
レジスト膜２２を形成する。ただし、前記図５（ａ）の
場合とは異なり、レジスト膜２２の膜厚は均一である。
ク基板１１上に記録再生層（１２〜１７）を順次形成し
た後、保護層１８を形成してディスクが完成する。 （２）ディスクの成型時に加工する場合 先ず、図６（ａ）に示すように、ガラス基板２１の上に
レジスト膜２２を形成する。ただし、前記図５（ａ）の
場合とは異なり、レジスト膜２２の膜厚は均一である。
【００１６】これを図６（ｂ）に示すように、レーザ光
カッティング装置で露光した後、さらに現像を行い、図
６（ｃ）に示すようなレジストパターンを形成する。
尚、前記と同様、ここで用いるレーザ光カッティング装
置は、従来より知られているものである。そして、図６
（ｄ）に示すように、前記レジストパターン上にニッケ
ルから成るシード層２３を成膜し、さらに図６（ｅ）に
示すように、ニッケルメッキを施してパターン電極２
３’を形成する。こうして形成されたパターン電極２
３’をガラス基板２１より剥離し、裏面側（パターン面
と逆側）を研磨してスタンパが完成する。
カッティング装置で露光した後、さらに現像を行い、図
６（ｃ）に示すようなレジストパターンを形成する。
尚、前記と同様、ここで用いるレーザ光カッティング装
置は、従来より知られているものである。そして、図６
（ｄ）に示すように、前記レジストパターン上にニッケ
ルから成るシード層２３を成膜し、さらに図６（ｅ）に
示すように、ニッケルメッキを施してパターン電極２
３’を形成する。こうして形成されたパターン電極２
３’をガラス基板２１より剥離し、裏面側（パターン面
と逆側）を研磨してスタンパが完成する。
【００１７】次に、図６（ｆ）に示すように、前記スタ
ンパを用いてポリカーボネートからなるディスク基板１
１を成型する。そして、図７（ｇ）に示すように、ディ
スク基板１１を回転させながらその表面側（パターン面
側）に対して光源２４より紫外線を照射する。光源２４
はディスク基板１１の回転中心付近にあるため、内周側
においては強い光が照射され、外周側にいくほど光源２
４から遠くなるので、外周側ほど弱い光が照射される。
これによって、図７（ｈ）に示すように、強い紫外線が
照射された内周側はランドの高さが低くなるが弱い紫外
線が照射された外周側ではランドの高さはさほど低くな
っていない。こうして、図７（ｉ）に示すように、グル
ーブの深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くな
るように構成されたディスク基板１１が出来上がる。
ンパを用いてポリカーボネートからなるディスク基板１
１を成型する。そして、図７（ｇ）に示すように、ディ
スク基板１１を回転させながらその表面側（パターン面
側）に対して光源２４より紫外線を照射する。光源２４
はディスク基板１１の回転中心付近にあるため、内周側
においては強い光が照射され、外周側にいくほど光源２
４から遠くなるので、外周側ほど弱い光が照射される。
これによって、図７（ｈ）に示すように、強い紫外線が
照射された内周側はランドの高さが低くなるが弱い紫外
線が照射された外周側ではランドの高さはさほど低くな
っていない。こうして、図７（ｉ）に示すように、グル
ーブの深さが内周側から外周側に向かって徐々に深くな
るように構成されたディスク基板１１が出来上がる。
【００１８】さらに、図７（ｊ）に示すように、ディス
ク基板１１上に記録再生層（１２〜１７）を順次形成し
た後、保護層１８を形成してディスクが完成する。尚、
上記の説明においては、記録媒体として光磁気ディスク
を例に説明したが、これに限られるものではなく、磁気
ディスクや相変化ディスク等の他の記録媒体であっても
よい。
ク基板１１上に記録再生層（１２〜１７）を順次形成し
た後、保護層１８を形成してディスクが完成する。尚、
上記の説明においては、記録媒体として光磁気ディスク
を例に説明したが、これに限られるものではなく、磁気
ディスクや相変化ディスク等の他の記録媒体であっても
よい。
【００１９】さらに、今回開示された実施の形態はすべ
ての点で例示であって制限的なものではないと考えられ
るべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて
特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等
の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが
意図される。
ての点で例示であって制限的なものではないと考えられ
るべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて
特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等
の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが
意図される。
【００２０】
【発明の効果】以上、詳述した如く本発明に依れば、螺
旋状または同心円状のランド及びグルーブを有すると共
に、前記ランド及びグルーブに信号の記録再生を行う記
録媒体において、記録媒体の外周側におけるグルーブの
深さを記録媒体の内周側よりも深くしたので、記録媒体
の内周側と外周側とでレーザーパワーの最適値の差が小
さくなり、良好な記録再生を行うことが出きる。
旋状または同心円状のランド及びグルーブを有すると共
に、前記ランド及びグルーブに信号の記録再生を行う記
録媒体において、記録媒体の外周側におけるグルーブの
深さを記録媒体の内周側よりも深くしたので、記録媒体
の内周側と外周側とでレーザーパワーの最適値の差が小
さくなり、良好な記録再生を行うことが出きる。
【図１】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の平面図
である。
である。
【図２】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の膜構造
を示す要部側断面図である。
を示す要部側断面図である。
【図３】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の記録再
生時の状態を説明するための図である。
生時の状態を説明するための図である。
【図４】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）のグルー
ブ深さの状態を示す図である。
ブ深さの状態を示す図である。
【図５】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の原盤作
成方法を示す図である。
成方法を示す図である。
【図６】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図７】本発明の記録媒体（光磁気ディスク）の製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図８】従来の記録媒体（光磁気ディスク）の膜厚の状
態を示す図である。
態を示す図である。
１ リードイン領域 ２ データ領域 ３ リードアウト領域 １１ ディスク基板 １２ 下地層 １３ 再生層 １４ 非磁性層 １５ 記録層 １６ 保護膜 １７ 放熱層 １８ 保護層 ２１ ガラス基板 ２２ レジスト ２３ シード層 ２３’ パターン電極 ２４ 光源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５４６ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５４６Ｄ (72)発明者 泉 博章 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機株式会社内 Ｆターム(参考） 5D006 CB01 CB07 DA03 DA04 5D029 WB19 5D075 EE03 FG17 FG18 GG06 GG16 5D121 AA02 BB01 BB02 EE26
Claims (5)
- 【請求項１】 螺旋状または同心円状のランド及びグル
ーブを有すると共に、前記ランド及びグルーブに信号の
記録再生を行う記録媒体において、 記録媒体の外周側におけるグルーブの深さをディスクの
内周側よりも深くしたことを特徴とする記録媒体。 - 【請求項２】 前記グルーブの深さは、記録媒体の内周
側より外周側に向かって徐々に深くなるようにしたこと
を特徴とする請求項１記載の記録媒体。 - 【請求項３】 （ａ）基板上に内周側から外周側に向か
って徐々に膜厚が厚くなるようにレジストを形成する工
程と、 （ｂ）前記レジストを除去して螺旋状または同心円状の
ランド及びグルーブを有するレジストパターンを形成す
る工程と、 （ｃ）前記レジストパターン上に電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする記録媒体の原盤作成方法。 - 【請求項４】 （ａ）螺旋状または同心円状のランド及
びグルーブを有する基板を成型する工程と、 （ｂ）前記基板のグルーブの深さが内周側から外周側に
向かって徐々に深くなるように加工する工程とを含むこ
とを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 前記基板のグルーブの深さが内周側から
外周側に向かって徐々に深くなるように加工する工程
は、前記基板を回転させながら、基板の内周側より外周
側に向かって徐々に光強度が小さくなるような光強度分
布を有する光源より紫外線を基板に照射する工程を含む
ことを特徴とする請求項４記載の記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001153462A JP2002352476A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 記録媒体、記録媒体の原盤作成方法、及び記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001153462A JP2002352476A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 記録媒体、記録媒体の原盤作成方法、及び記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002352476A true JP2002352476A (ja) | 2002-12-06 |
Family
ID=18997972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001153462A Pending JP2002352476A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 記録媒体、記録媒体の原盤作成方法、及び記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002352476A (ja) |
-
2001
- 2001-05-23 JP JP2001153462A patent/JP2002352476A/ja active Pending
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