JP2002350863A - 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents
電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器Info
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- JP2002350863A JP2002350863A JP2001155328A JP2001155328A JP2002350863A JP 2002350863 A JP2002350863 A JP 2002350863A JP 2001155328 A JP2001155328 A JP 2001155328A JP 2001155328 A JP2001155328 A JP 2001155328A JP 2002350863 A JP2002350863 A JP 2002350863A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一対の基板を貼り合わせてなると共に液晶等
の電気光学物質の注入口が封止されてなる構成を有する
液晶装置等の電気光学装置において、画像表示領域にお
ける基板間ギャップの制御並びに注入口及びその付近に
おける基板間ギャップの制御を精度良く行う。 【解決手段】 電気光学装置は第1基板(10)及び第
2基板(20)間に電気光学物質(50)が挟持されて
なる。両基板間に、それらの周囲に沿ったシール領域で
両基板を相接着するシール材(31)と、これが切り欠
かれてなる注入口を封止する封止材(32)とを備え
る。第1ギャップ材(201)は画像表示領域に設けら
れ、基板間ギャップを規定する有機平坦化膜からなる。
第2ギャップ材(202)は注入口に設けられ、第1ギ
ャップ材と同一有機平坦化膜からなる。
の電気光学物質の注入口が封止されてなる構成を有する
液晶装置等の電気光学装置において、画像表示領域にお
ける基板間ギャップの制御並びに注入口及びその付近に
おける基板間ギャップの制御を精度良く行う。 【解決手段】 電気光学装置は第1基板(10)及び第
2基板(20)間に電気光学物質(50)が挟持されて
なる。両基板間に、それらの周囲に沿ったシール領域で
両基板を相接着するシール材(31)と、これが切り欠
かれてなる注入口を封止する封止材(32)とを備え
る。第1ギャップ材(201)は画像表示領域に設けら
れ、基板間ギャップを規定する有機平坦化膜からなる。
第2ギャップ材(202)は注入口に設けられ、第1ギ
ャップ材と同一有機平坦化膜からなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像表示領域の周
囲でシール材により貼り合わせられた一対の第1及び第
2基板間に液晶等の電気光学物質が挟持されてなる液晶
装置等の電気光学装置及びその製造方法、並びにそのよ
うな電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野に
属する。
囲でシール材により貼り合わせられた一対の第1及び第
2基板間に液晶等の電気光学物質が挟持されてなる液晶
装置等の電気光学装置及びその製造方法、並びにそのよ
うな電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野に
属する。
【0002】
【背景技術】一般にこの種の電気光学装置は、例えば薄
膜トランジスタ(以下適宜、TFT(Thin Film Transi
stor)と称す)駆動によるアクティブマトリクス駆動方
式であれば、多数の画素電極及びこれをスイッチング制
御するTFT並びにこれに接続され画像信号や走査信号
を供給するデータ線、走査線等の配線などが設けられた
アレイ基板と、これに対向配置される対向電極、カラー
フィルタなどが設けられた対向基板とを備える。また例
えばパッシブマトリクス駆動方式であれば、画像表示用
の電極として多数のストライプ状電極が設けられたアレ
イ基板と、これに対向配置されるストライプ状の対向電
極が設けられた対向基板とを備えて構成されている。そ
して、動作時には、アクティブマトリクス駆動方式であ
れば、画素毎に画素電極及び対向電極間に駆動電圧を発
生させ、パッシブマトリクス駆動方式であれば、上下で
相交差するストライプ状電極間に駆動電圧を発生させ
る。この駆動電圧により、各電気光学物質部分を画素単
位で駆動して、例えば液晶の配向状態を変化させて、表
示動作を行なうように構成されている。
膜トランジスタ(以下適宜、TFT(Thin Film Transi
stor)と称す)駆動によるアクティブマトリクス駆動方
式であれば、多数の画素電極及びこれをスイッチング制
御するTFT並びにこれに接続され画像信号や走査信号
を供給するデータ線、走査線等の配線などが設けられた
アレイ基板と、これに対向配置される対向電極、カラー
フィルタなどが設けられた対向基板とを備える。また例
えばパッシブマトリクス駆動方式であれば、画像表示用
の電極として多数のストライプ状電極が設けられたアレ
イ基板と、これに対向配置されるストライプ状の対向電
極が設けられた対向基板とを備えて構成されている。そ
して、動作時には、アクティブマトリクス駆動方式であ
れば、画素毎に画素電極及び対向電極間に駆動電圧を発
生させ、パッシブマトリクス駆動方式であれば、上下で
相交差するストライプ状電極間に駆動電圧を発生させ
る。この駆動電圧により、各電気光学物質部分を画素単
位で駆動して、例えば液晶の配向状態を変化させて、表
示動作を行なうように構成されている。
【0003】従って、電気光学物質の層厚を規定する両
基板間の間隔(以下適宜、“基板間ギャップ”或いは単
に“ギャップ”という)を正確に制御することは、表示
動作を正確に行うために必要である。このため、例えば
対角数インチから十数インチといった大側の液晶表示装
置では、液晶中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状
のギャップ材を散布して、基板間ギャップを制御する。
或いは、例えば対角数インチ以下といった小型の液晶表
示装置では、両基板を貼り合せるシール材中に所定粒径
のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を混合して、
基板間ギャップを制御するのが一般的である。
基板間の間隔(以下適宜、“基板間ギャップ”或いは単
に“ギャップ”という)を正確に制御することは、表示
動作を正確に行うために必要である。このため、例えば
対角数インチから十数インチといった大側の液晶表示装
置では、液晶中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状
のギャップ材を散布して、基板間ギャップを制御する。
或いは、例えば対角数インチ以下といった小型の液晶表
示装置では、両基板を貼り合せるシール材中に所定粒径
のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を混合して、
基板間ギャップを制御するのが一般的である。
【0004】他方、この種の電気光学装置では、両基板を
シール材で貼り合せて所謂空セルを構築した後に、シー
ル材が切り欠かかれてなる注入口から真空注入により液
晶等の電気光学物質を注入するのが一般的である。
シール材で貼り合せて所謂空セルを構築した後に、シー
ル材が切り欠かかれてなる注入口から真空注入により液
晶等の電気光学物質を注入するのが一般的である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術によれば、液晶等の注入口付近で、基板間ギ
ャップを精度良く行うことが困難である。即ち、液晶等
の注入口付近で、基板間ギャップにむらが生じるという
問題点がある。特に、高品位の画像表示を行うべく、基板
間ギャップを狭くすると共に駆動周波数を高めるに連れ
て、基板間ギャップ制御に要求される精度が高くなるの
で、この問題は深刻さを増す。このため、注入口付近を
含めた画像表示領域の全体に渡っての基板間ギャップの
精度の低さが、この種の電気光学装置で、より高品位の
画像表示を行う際の実用上重大な問題となる。
た従来技術によれば、液晶等の注入口付近で、基板間ギ
ャップを精度良く行うことが困難である。即ち、液晶等
の注入口付近で、基板間ギャップにむらが生じるという
問題点がある。特に、高品位の画像表示を行うべく、基板
間ギャップを狭くすると共に駆動周波数を高めるに連れ
て、基板間ギャップ制御に要求される精度が高くなるの
で、この問題は深刻さを増す。このため、注入口付近を
含めた画像表示領域の全体に渡っての基板間ギャップの
精度の低さが、この種の電気光学装置で、より高品位の
画像表示を行う際の実用上重大な問題となる。
【0006】これに対して、特開平6−214242号
公報、特開平8−194229号公報、特開平9−19
7416号公報等に開示されているように、隔壁或いは
支柱を注入口内に設けることにより、注入口付近におけ
る基板間ギャップの制御を行う技術も開発されている。
しかしながら、これらの技術はどれも、液晶等の注入口
付近における基板間ギャップの精度を高めることに止ま
り、これらのどの技術によっても、液晶等の注入口におけ
る基板間ギャップ制御と同時に、画像表示領域内におけ
る基板間ギャップ制御を精度良く行うことは根本的に困
難である。
公報、特開平8−194229号公報、特開平9−19
7416号公報等に開示されているように、隔壁或いは
支柱を注入口内に設けることにより、注入口付近におけ
る基板間ギャップの制御を行う技術も開発されている。
しかしながら、これらの技術はどれも、液晶等の注入口
付近における基板間ギャップの精度を高めることに止ま
り、これらのどの技術によっても、液晶等の注入口におけ
る基板間ギャップ制御と同時に、画像表示領域内におけ
る基板間ギャップ制御を精度良く行うことは根本的に困
難である。
【0007】本発明は上記問題点に鑑みなされたもので
あり、一対の基板を貼り合わせてなると共に電気光学物
質の注入口が封止されてなる構成を有する電気光学装置
において、画像表示領域における基板間ギャップの制御
並びに注入口及びその付近における基板間ギャップの制
御を精度良く行うことが可能な電気光学装置及びその製
造方法を提供することを課題とし、更にそのような電気
光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題
とする。
あり、一対の基板を貼り合わせてなると共に電気光学物
質の注入口が封止されてなる構成を有する電気光学装置
において、画像表示領域における基板間ギャップの制御
並びに注入口及びその付近における基板間ギャップの制
御を精度良く行うことが可能な電気光学装置及びその製
造方法を提供することを課題とし、更にそのような電気
光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の電気光学装置は
上記課題を解決するために、一対の第1及び第2基板間
に電気光学物質が挟持されてなり、前記第1及び第2基
板間に、平面的に見てそれらの周囲に沿ったシール領域
で前記第1及び第2基板を相接着するシール材と、該シ
ール材が切り欠かれてなる前記電気光学物質を注入する
ための注入口を前記電気光学物質の注入後に封止する封
止材と、前記シール領域で包囲された画像表示領域に設
けられると共に前記第1及び第2基板間のギャップを規
定する有機平坦化膜からなる第1ギャップ材と、前記注
入口に設けられると共に前記有機平坦化膜からなる第2
ギャップ材とを備える。
上記課題を解決するために、一対の第1及び第2基板間
に電気光学物質が挟持されてなり、前記第1及び第2基
板間に、平面的に見てそれらの周囲に沿ったシール領域
で前記第1及び第2基板を相接着するシール材と、該シ
ール材が切り欠かれてなる前記電気光学物質を注入する
ための注入口を前記電気光学物質の注入後に封止する封
止材と、前記シール領域で包囲された画像表示領域に設
けられると共に前記第1及び第2基板間のギャップを規
定する有機平坦化膜からなる第1ギャップ材と、前記注
入口に設けられると共に前記有機平坦化膜からなる第2
ギャップ材とを備える。
【0009】本発明の電気光学装置によれば、シール材
によって、第1及び第2基板は、相接着されており、こ
のシール材が切り欠かれてなる注入口は、当該電気光学
装置の製造時における液晶等の電気光学物質の注入後に
封止材により封止されている。そして、有機平坦化膜か
らなる第1ギャップ材により、画像表示領域における第
1及び第2基板間のギャップが規定されており、同じく
有機平坦化膜からなる第2ギャップ材により、画像表示
領域における第1及び第2基板間のギャップが規定され
ている。従って、同一有機平坦化膜からなる第1ギャッ
プ材及び第2ギャップ材により、注入口及びその付近並
びに画像表示領域の全体に渡って、高精度で基板間ギャ
ップの制御を行える。特に、画素の微細化に伴って狭ギ
ャップ化しつつもギャップむらを低減可能となる。この
結果、第1及び第2基板間に挟持される液晶等の電気光
学物質の層厚は、注入口及びその付近を含めた画像表示
領域の全体に渡って所定値に均一化され、高品位の画像
表示が可能となる。
によって、第1及び第2基板は、相接着されており、こ
のシール材が切り欠かれてなる注入口は、当該電気光学
装置の製造時における液晶等の電気光学物質の注入後に
封止材により封止されている。そして、有機平坦化膜か
らなる第1ギャップ材により、画像表示領域における第
1及び第2基板間のギャップが規定されており、同じく
有機平坦化膜からなる第2ギャップ材により、画像表示
領域における第1及び第2基板間のギャップが規定され
ている。従って、同一有機平坦化膜からなる第1ギャッ
プ材及び第2ギャップ材により、注入口及びその付近並
びに画像表示領域の全体に渡って、高精度で基板間ギャ
ップの制御を行える。特に、画素の微細化に伴って狭ギ
ャップ化しつつもギャップむらを低減可能となる。この
結果、第1及び第2基板間に挟持される液晶等の電気光
学物質の層厚は、注入口及びその付近を含めた画像表示
領域の全体に渡って所定値に均一化され、高品位の画像
表示が可能となる。
【0010】本発明の電気光学装置の一態様では、前記
第2ギャップ材は、前記注入口に点在する一又は複数の
支柱からなる。
第2ギャップ材は、前記注入口に点在する一又は複数の
支柱からなる。
【0011】この態様によれば、注入口には、支柱から
なる第2ギャップ材が配置されているので、当該電気光
学装置の製造時に液晶等の電気光学物質を一又は複数の
支柱が立てられた注入口を介して注入可能である。そし
て、一又は複数の支柱が立てられた注入口を支柱で区切
られた区域ごとに或いはまとめて、封止材により封止可
能となる。そして特に、このように注入口に立てられた
一又は複数の支柱により、注入口及びその付近における
基板間ギャップを高精度で制御できる。尚、画像表示領
域内における第1ギャップ材についても、第2ギャップ
材と同様又は類似に、支柱状に形成してもよい。
なる第2ギャップ材が配置されているので、当該電気光
学装置の製造時に液晶等の電気光学物質を一又は複数の
支柱が立てられた注入口を介して注入可能である。そし
て、一又は複数の支柱が立てられた注入口を支柱で区切
られた区域ごとに或いはまとめて、封止材により封止可
能となる。そして特に、このように注入口に立てられた
一又は複数の支柱により、注入口及びその付近における
基板間ギャップを高精度で制御できる。尚、画像表示領
域内における第1ギャップ材についても、第2ギャップ
材と同様又は類似に、支柱状に形成してもよい。
【0012】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記画像表示領域内における前記第1及び第2基板の少な
くとも一方上にカラーフィルタを更に備え、前記有機平
坦化膜は、前記カラーフィルタが形成された基板側に形
成されている。
記画像表示領域内における前記第1及び第2基板の少な
くとも一方上にカラーフィルタを更に備え、前記有機平
坦化膜は、前記カラーフィルタが形成された基板側に形
成されている。
【0013】この態様によれば、カラーフィルタが形成
された基板側に形成された有機平坦化膜からなる第1及
び第2ギャップ材により、注入口及びその付近並びに画
像表示領域の全体に渡って基板間ギャップを高精度で制
御できる。
された基板側に形成された有機平坦化膜からなる第1及
び第2ギャップ材により、注入口及びその付近並びに画
像表示領域の全体に渡って基板間ギャップを高精度で制
御できる。
【0014】この態様では、前記カラーフィルタ上に画
像表示用の電極を更に備え、前記有機平坦化膜は、前記画
像表示用の電極上に形成されていてもよい。
像表示用の電極を更に備え、前記有機平坦化膜は、前記画
像表示用の電極上に形成されていてもよい。
【0015】このように構成すれば、島状の画素電極、ス
トライプ状の電極等の画像表示用の電極上に形成された
有機平坦化膜からなる第1及び第2ギャップ材により、
注入口及びその付近並びに画像表示領域の全体に渡って
基板間ギャップを高精度で制御できる。
トライプ状の電極等の画像表示用の電極上に形成された
有機平坦化膜からなる第1及び第2ギャップ材により、
注入口及びその付近並びに画像表示領域の全体に渡って
基板間ギャップを高精度で制御できる。
【0016】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記第1ギャップ材は、前記画像表示領域内における各画
素の非開口領域に配置されている。
記第1ギャップ材は、前記画像表示領域内における各画
素の非開口領域に配置されている。
【0017】この態様によれば、第1ギャップ材は、画像
表示領域内における各画素の非開口領域に配置されてい
る。ここに、「各画素における非開口領域」とは、画像
表示領域内において表示に寄与する光が透過又は反射せ
ずに、当該表示に寄与する光が出射されない領域をい
う。他方、「各画素における開口領域」とは、画像表示
領域内において表示に寄与する光が透過又は反射し、当
該表示に寄与する光が出射される領域をいう。このた
め、第1ギャップ材の存在により、各画素における開口
領域及び非開口領域を含めた全領域に対する開口領域の
比率である各画素の開口率を低めることなく、ギャップ
制御が可能となる。
表示領域内における各画素の非開口領域に配置されてい
る。ここに、「各画素における非開口領域」とは、画像
表示領域内において表示に寄与する光が透過又は反射せ
ずに、当該表示に寄与する光が出射されない領域をい
う。他方、「各画素における開口領域」とは、画像表示
領域内において表示に寄与する光が透過又は反射し、当
該表示に寄与する光が出射される領域をいう。このた
め、第1ギャップ材の存在により、各画素における開口
領域及び非開口領域を含めた全領域に対する開口領域の
比率である各画素の開口率を低めることなく、ギャップ
制御が可能となる。
【0018】この態様では、前記第1ギャップ材は、前記
非開口領域内に島状に複数形成されていてもよい。
非開口領域内に島状に複数形成されていてもよい。
【0019】このように構成すれば、例えば画像表示領
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、複数点在する第1ギャップ材により、各画素の開口
率を低めることなく、高精度のギャップ制御が可能とな
る。
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、複数点在する第1ギャップ材により、各画素の開口
率を低めることなく、高精度のギャップ制御が可能とな
る。
【0020】或いはこの態様では、前記第1ギャップ材
は、前記非開口領域内にストライプ状に複数形成されて
いてもよい。
は、前記非開口領域内にストライプ状に複数形成されて
いてもよい。
【0021】このように構成すれば、例えば画像表示領
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、格子の縦又は横に複数配列されたストライプ状の第
1ギャップ材により、各画素の開口率を低めることなく、
高精度のギャップ制御が可能となる。
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、格子の縦又は横に複数配列されたストライプ状の第
1ギャップ材により、各画素の開口率を低めることなく、
高精度のギャップ制御が可能となる。
【0022】或いはこの態様では、前記第1ギャップ材
は、前記非開口領域内に十字状に形成されていてもよ
い。
は、前記非開口領域内に十字状に形成されていてもよ
い。
【0023】このように構成すれば、例えば画像表示領
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、各交点に合わせて十字状に複数形成された第1ギャ
ップ材により、各画素の開口率を低めることなく、高精度
のギャップ制御が可能となる。
域内において各画素の間隙を縫う格子状の非開口領域内
に、各交点に合わせて十字状に複数形成された第1ギャ
ップ材により、各画素の開口率を低めることなく、高精度
のギャップ制御が可能となる。
【0024】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記シール材中に混合された粒子状の第3ギャップ材を更
に備える。
記シール材中に混合された粒子状の第3ギャップ材を更
に備える。
【0025】この態様によれば、画像表示領域では第1
ギャップ材によりギャップ制御され、注入口及びその付
近では、第2ギャップ材によりギャップ制御され、シー
ル領域では、第3ギャップ材によりギャップ制御される
ので、全体として高精度のギャップ制御が可能となる。
ギャップ材によりギャップ制御され、注入口及びその付
近では、第2ギャップ材によりギャップ制御され、シー
ル領域では、第3ギャップ材によりギャップ制御される
ので、全体として高精度のギャップ制御が可能となる。
【0026】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記第2ギャップ材によりギャップが規定される注入口部
分には、前記第1ギャップ材によりギャップが規定され
る画像表示領域部分における前記第1及び第2基板上の
積層構造と同一構造を構築するダミー層が形成されてい
る。
記第2ギャップ材によりギャップが規定される注入口部
分には、前記第1ギャップ材によりギャップが規定され
る画像表示領域部分における前記第1及び第2基板上の
積層構造と同一構造を構築するダミー層が形成されてい
る。
【0027】この態様によれば、注入口部分には、ダミー
層が形成されているので、画像表示領域における第1ギ
ャップ材が設けられた基板面の高さと、注入口における
第2ギャップ材が設けられた基板面の高さとは、同じで
ある。このため、有機平坦化膜のうち同一膜圧部分から
なる第1ギャップ材と第2ギャップ材とにより、画像表
示領域並びに注入口及びその付近におけるギャップ制御
を高精度で行える。
層が形成されているので、画像表示領域における第1ギ
ャップ材が設けられた基板面の高さと、注入口における
第2ギャップ材が設けられた基板面の高さとは、同じで
ある。このため、有機平坦化膜のうち同一膜圧部分から
なる第1ギャップ材と第2ギャップ材とにより、画像表
示領域並びに注入口及びその付近におけるギャップ制御
を高精度で行える。
【0028】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記第1及び第2ギャップ材は夫々、前記有機平坦化膜に
代えて、CMP(Chemical Mechanical Polishing:化
学的機械研磨)処理により平坦化された同一絶縁膜から
なる。
記第1及び第2ギャップ材は夫々、前記有機平坦化膜に
代えて、CMP(Chemical Mechanical Polishing:化
学的機械研磨)処理により平坦化された同一絶縁膜から
なる。
【0029】この態様によれば、表面に凹凸のある絶縁
膜を形成後にCMP処理により平坦化しこれをパターニ
ングすることにより得られる第1ギャップ材と第2ギャ
ップ材とにより、画像表示領域並びに注入口及びその付
近におけるギャップ制御を高精度で行える。
膜を形成後にCMP処理により平坦化しこれをパターニ
ングすることにより得られる第1ギャップ材と第2ギャ
ップ材とにより、画像表示領域並びに注入口及びその付
近におけるギャップ制御を高精度で行える。
【0030】本発明の電気光学装置の製造方法は上記課
題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置
(但し、その各種態様を含む)を製造する電気光学装置
の製造方法であって、前記第1及び第2基板の少なくと
も一方上に前記有機平坦化膜から前記第1及び第2ギャ
ップ材を形成する工程と、前記第1及び第2基板を前記
シール材により相接着する工程と、前記注入口から前記
電気光学物質を注入する工程と、前記注入口を前記封止
材により封止する工程とを備える。
題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置
(但し、その各種態様を含む)を製造する電気光学装置
の製造方法であって、前記第1及び第2基板の少なくと
も一方上に前記有機平坦化膜から前記第1及び第2ギャ
ップ材を形成する工程と、前記第1及び第2基板を前記
シール材により相接着する工程と、前記注入口から前記
電気光学物質を注入する工程と、前記注入口を前記封止
材により封止する工程とを備える。
【0031】本発明の電気光学装置の製造方法によれ
ば、第1及び第2基板の少なくとも一方上に有機平坦化
膜から第1及び第2ギャップ材を形成する。その後、第
1及び第2基板をシール材により相接着すると、第1及
び第2ギャップ材により基板間ギャップが規定される。
その後、第2ギャップ材が設けられた注入口から電気光
学物質を注入し、注入口を封止材により封止する。従っ
て、第1及び第2ギャップ材により、画像表示領域並びに
注入口及びその付近における基板間ギャップを高精度で
制御できる。
ば、第1及び第2基板の少なくとも一方上に有機平坦化
膜から第1及び第2ギャップ材を形成する。その後、第
1及び第2基板をシール材により相接着すると、第1及
び第2ギャップ材により基板間ギャップが規定される。
その後、第2ギャップ材が設けられた注入口から電気光
学物質を注入し、注入口を封止材により封止する。従っ
て、第1及び第2ギャップ材により、画像表示領域並びに
注入口及びその付近における基板間ギャップを高精度で
制御できる。
【0032】本発明の電気光学装置の製造方法の一態様
によれば、前記第1及び第2ギャップ材を形成する工程
は、スピンコートにより前記有機平坦化膜を形成する工
程と、前記有機平坦化膜を形成後にフォトリソグラフィ
及びエッチングにより前記第1及び第2ギャップ材をパ
ターンニングする工程とを含む。
によれば、前記第1及び第2ギャップ材を形成する工程
は、スピンコートにより前記有機平坦化膜を形成する工
程と、前記有機平坦化膜を形成後にフォトリソグラフィ
及びエッチングにより前記第1及び第2ギャップ材をパ
ターンニングする工程とを含む。
【0033】この態様によれば、スピンコートにより有
機平坦化膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ及び
エッチングにより第1及び第2ギャップ材をパターンニ
ングすることにより、第1及び第2ギャップ材を形成す
る。従って、比較的簡単に所定膜圧の第1及び第2ギャ
ップ材を所定位置に形成でき、これにより高精度のギャ
ップ制御が可能となる。
機平坦化膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ及び
エッチングにより第1及び第2ギャップ材をパターンニ
ングすることにより、第1及び第2ギャップ材を形成す
る。従って、比較的簡単に所定膜圧の第1及び第2ギャ
ップ材を所定位置に形成でき、これにより高精度のギャ
ップ制御が可能となる。
【0034】或いは本発明の電気光学装置の製造方法の
他の態様によれば、例えばディスペンサや印刷技術を用
いて、所定パターンを持つ有機平坦化膜を形成すること
により、第1及び第2ギャップ材を形成する。従って、
比較的簡単に所定膜圧の第1及び第2ギャップ材を所定
位置に形成でき、これにより高精度のギャップ制御が可
能となる。
他の態様によれば、例えばディスペンサや印刷技術を用
いて、所定パターンを持つ有機平坦化膜を形成すること
により、第1及び第2ギャップ材を形成する。従って、
比較的簡単に所定膜圧の第1及び第2ギャップ材を所定
位置に形成でき、これにより高精度のギャップ制御が可
能となる。
【0035】本発明の電気光学装置の製造方法の他の態
様によれば、前記画像表示領域内における前記第1及び
第2基板の少なくとも一方上にカラーフィルタを形成す
る工程を更に備えており、前記第1及び第2ギャップ材
を形成する工程は、前記カラーフィルタが形成された基
板側に前記有機平坦化膜を形成する工程を含む。
様によれば、前記画像表示領域内における前記第1及び
第2基板の少なくとも一方上にカラーフィルタを形成す
る工程を更に備えており、前記第1及び第2ギャップ材
を形成する工程は、前記カラーフィルタが形成された基
板側に前記有機平坦化膜を形成する工程を含む。
【0036】この態様によれば、第1及び第2基板の少
なくとも一方上に基板カラーフィルタを形成した後に、
このカラーフィルタが形成された基板側に有機平坦化膜
を形成する。従って、カラーフィルタの上方に有機平坦
化膜が第1ギャップ材として形成されており、これによ
り画像表示領域内における基板間ギャップが高精度で制
御された構成が得られる。
なくとも一方上に基板カラーフィルタを形成した後に、
このカラーフィルタが形成された基板側に有機平坦化膜
を形成する。従って、カラーフィルタの上方に有機平坦
化膜が第1ギャップ材として形成されており、これによ
り画像表示領域内における基板間ギャップが高精度で制
御された構成が得られる。
【0037】本発明の電子機器は上記課題を解決するた
めに、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態
様を含む)を具備する。
めに、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態
様を含む)を具備する。
【0038】本発明の電子機器によれば、上述した本発
明の電気光学装置を具備するので、基板間ギャップが高
精度で制御されているため、表示品質に優れた、液晶テ
レビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビュー
ファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコー
ダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タ
ッチパネル、投射型表示装置などの各種電子機器を実現
できる。
明の電気光学装置を具備するので、基板間ギャップが高
精度で制御されているため、表示品質に優れた、液晶テ
レビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビュー
ファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコー
ダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タ
ッチパネル、投射型表示装置などの各種電子機器を実現
できる。
【0039】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにされる。
に説明する実施の形態から明らかにされる。
【0040】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光
学装置を液晶装置に適用したものである。 (第1実施形態)先ず、本発明による電気光学装置の第
1実施形態の構成について、図1から図3を参照して説
明する。第1実施形態は、本発明をパッシブマトリクス
駆動方式の反射型液晶装置に適用したものである。尚、
図1は、反射型液晶装置を対向基板上に形成されるカラ
ーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見た様子
を示す図式的平面図であり、図2は、図1のA−A’断
面をカラーフィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式
的断面図であり、図3は、図1のB−B’断面をカラー
フィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式的断面図で
ある。尚、図1では、説明の便宜上ストライプ状電極を
縦横6本づつ図式的に示しているが実際には、多数本の
電極が存在しており、図2及び図3においては、各層や
各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、
各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
基づいて説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光
学装置を液晶装置に適用したものである。 (第1実施形態)先ず、本発明による電気光学装置の第
1実施形態の構成について、図1から図3を参照して説
明する。第1実施形態は、本発明をパッシブマトリクス
駆動方式の反射型液晶装置に適用したものである。尚、
図1は、反射型液晶装置を対向基板上に形成されるカラ
ーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見た様子
を示す図式的平面図であり、図2は、図1のA−A’断
面をカラーフィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式
的断面図であり、図3は、図1のB−B’断面をカラー
フィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式的断面図で
ある。尚、図1では、説明の便宜上ストライプ状電極を
縦横6本づつ図式的に示しているが実際には、多数本の
電極が存在しており、図2及び図3においては、各層や
各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、
各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【0041】図1から図3において、第1実施形態にお
ける反射型液晶装置は、第1基板10と、第1基板10
に対向配置された透明の第2基板20と、第1基板10
及び第2基板20間に挟持された液晶層50と、第1基
板10の第2基板20に対向する側(即ち、図2及び図
3で上側表面)に配置された複数のストライプ状の反射
電極14と、反射電極14上に配置された配向膜15と
を備える。反射型液晶装置は、第2基板上の第1基板1
0に対向する側(即ち、図2及び図3で下側表面)に配
置されたカラーフィルタ23と、カラーフィルタ23上
に配置されたカラーフィルタ平坦化膜24と、カラーフ
ィルタ平坦化膜24上に反射電極14と相交差するよう
に配置された複数のストライプ状の透明電極21と、透
明電極21上に配置された配向膜25とを備えて構成さ
れている。カラーフィルタ23の位置は反射電極14と
第1の基板10の間に形成しても良い。第1基板10及
び第2基板20は、液晶層50の周囲において、シール
材31により貼り合わされており、液晶層50は、シー
ル材31及び封止材32により、第1基板10及び第2
基板20間に封入されている。更に反射型液晶装置は、
第2基板20の液晶層50と反対側に、偏光板105、
第1位相差板106及び第2位相差板116を備えてい
る。
ける反射型液晶装置は、第1基板10と、第1基板10
に対向配置された透明の第2基板20と、第1基板10
及び第2基板20間に挟持された液晶層50と、第1基
板10の第2基板20に対向する側(即ち、図2及び図
3で上側表面)に配置された複数のストライプ状の反射
電極14と、反射電極14上に配置された配向膜15と
を備える。反射型液晶装置は、第2基板上の第1基板1
0に対向する側(即ち、図2及び図3で下側表面)に配
置されたカラーフィルタ23と、カラーフィルタ23上
に配置されたカラーフィルタ平坦化膜24と、カラーフ
ィルタ平坦化膜24上に反射電極14と相交差するよう
に配置された複数のストライプ状の透明電極21と、透
明電極21上に配置された配向膜25とを備えて構成さ
れている。カラーフィルタ23の位置は反射電極14と
第1の基板10の間に形成しても良い。第1基板10及
び第2基板20は、液晶層50の周囲において、シール
材31により貼り合わされており、液晶層50は、シー
ル材31及び封止材32により、第1基板10及び第2
基板20間に封入されている。更に反射型液晶装置は、
第2基板20の液晶層50と反対側に、偏光板105、
第1位相差板106及び第2位相差板116を備えてい
る。
【0042】第1基板10は、透明でも不透明でもよい
ため、例えば石英基板や半導体基板等からなり、第2基
板20は、可視光に対して透明或いは少なくとも半透明
であることが要求されており、例えばガラス基板や石英
基板等からなる。
ため、例えば石英基板や半導体基板等からなり、第2基
板20は、可視光に対して透明或いは少なくとも半透明
であることが要求されており、例えばガラス基板や石英
基板等からなる。
【0043】反射電極14は、例えばアルミニウムを主
成分とする反射膜からなり、蒸着やスパッタ等により形
成される。
成分とする反射膜からなり、蒸着やスパッタ等により形
成される。
【0044】透明電極21は、例えばITO膜などの透
明導電性薄膜からなる。
明導電性薄膜からなる。
【0045】配向膜15及び25は夫々、ポリイミド薄
膜などの有機薄膜からなり、スピンコート又はフレキソ
印刷により形成され、ラビング処理等の所定の配向処理
が施されている。
膜などの有機薄膜からなり、スピンコート又はフレキソ
印刷により形成され、ラビング処理等の所定の配向処理
が施されている。
【0046】液晶層50は、反射電極14及び透明電極
21間で電界が印加されていない状態で配向膜15及び
25により所定の配向状態をとる。液晶層50は、例え
ば一種又は数種類のネマティック液晶を混合したSTN
(Super Twisted Nematic)液晶からなる。
21間で電界が印加されていない状態で配向膜15及び
25により所定の配向状態をとる。液晶層50は、例え
ば一種又は数種類のネマティック液晶を混合したSTN
(Super Twisted Nematic)液晶からなる。
【0047】シール材31は、例えば光硬化性樹脂や熱
硬化性樹脂からなる接着剤である。
硬化性樹脂からなる接着剤である。
【0048】封止材32は、シール材31の注入口を介
して液晶を真空注入した後に、当該注入口を封止する樹
脂性接着剤等からなる。
して液晶を真空注入した後に、当該注入口を封止する樹
脂性接着剤等からなる。
【0049】カラーフィルタ23は、青色光、緑色光及
び赤色光を画素毎に夫々透過する色材膜と共に各画素の
境界にブラックマスク或いはブラックマトリクスと称さ
れる遮光膜が形成されて各画素間の混色を防止するよう
に構成されたデルタ配列、ストライプ配列、モザイク配
列、トライアングル配列等の公知のカラーフィルタであ
る。また図1から図3では省略しているが、シール材5
2の内側に並行して、例えばカラーフィルタ23中の遮
光膜と同じ或いは異なる材料から成る画像表示領域の周
辺を規定する額縁としての遮光膜が設けられてもよい。
或いはこのような額縁は、反射型液晶装置を入れる遮光
性のケースの縁により規定してもよい。
び赤色光を画素毎に夫々透過する色材膜と共に各画素の
境界にブラックマスク或いはブラックマトリクスと称さ
れる遮光膜が形成されて各画素間の混色を防止するよう
に構成されたデルタ配列、ストライプ配列、モザイク配
列、トライアングル配列等の公知のカラーフィルタであ
る。また図1から図3では省略しているが、シール材5
2の内側に並行して、例えばカラーフィルタ23中の遮
光膜と同じ或いは異なる材料から成る画像表示領域の周
辺を規定する額縁としての遮光膜が設けられてもよい。
或いはこのような額縁は、反射型液晶装置を入れる遮光
性のケースの縁により規定してもよい。
【0050】第1実施形態では特に、有機平坦化膜から
なる支柱状の第1ギャップ材201が、図1においてシ
ール材31で包囲された画像表示領域に多数設けられて
いる。同じく有機平坦化膜からなる第2ギャップ材20
2が、封止材32により封止された注入口に1個だけ設
けられている。より具体的には、図2及び図3に示すよ
うに、有機平坦化膜は、カラーフィルタ23が形成され
た第2基板20側に形成されており、特にカラーフィル
タ23上に形成された透明電極21上に形成された有機
平坦化膜から、第1ギャップ材201及び第2ギャップ
材202が形成されている。このような有機平坦化膜
は、例えばフォトレジストにアクリル樹脂を混ぜたもの
をスピンコートすることにより、或いは印刷技術により
形成される。これらのうち第1ギャップ材201は、画
像表示領域内における各画素の非開口領域に、島状に複
数形成されている。そして、これらの第1ギャップ材2
01及び第2ギャップ材202により、第1基板10及
び第2基板20間のギャップが規定されている。
なる支柱状の第1ギャップ材201が、図1においてシ
ール材31で包囲された画像表示領域に多数設けられて
いる。同じく有機平坦化膜からなる第2ギャップ材20
2が、封止材32により封止された注入口に1個だけ設
けられている。より具体的には、図2及び図3に示すよ
うに、有機平坦化膜は、カラーフィルタ23が形成され
た第2基板20側に形成されており、特にカラーフィル
タ23上に形成された透明電極21上に形成された有機
平坦化膜から、第1ギャップ材201及び第2ギャップ
材202が形成されている。このような有機平坦化膜
は、例えばフォトレジストにアクリル樹脂を混ぜたもの
をスピンコートすることにより、或いは印刷技術により
形成される。これらのうち第1ギャップ材201は、画
像表示領域内における各画素の非開口領域に、島状に複
数形成されている。そして、これらの第1ギャップ材2
01及び第2ギャップ材202により、第1基板10及
び第2基板20間のギャップが規定されている。
【0051】以上の結果、本実施形態によれば、同一有
機平坦化膜からなる第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202によって、封止材32により封止される注
入口及びその付近並びに画像表示領域の全体に渡って、
高精度で基板間ギャップの制御を行える。特に、画素の
微細化に伴って狭ギャップ化しつつもギャップむらを低
減可能となる。よって、第1基板10及び第2基板20
間に挟持される液晶層50の層厚は、注入口及びその付
近を含めた画像表示領域の全体に渡って所定値に均一化
され、本実施形態の液晶装置により最終的に、高品位の
画像表示が可能となる。
機平坦化膜からなる第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202によって、封止材32により封止される注
入口及びその付近並びに画像表示領域の全体に渡って、
高精度で基板間ギャップの制御を行える。特に、画素の
微細化に伴って狭ギャップ化しつつもギャップむらを低
減可能となる。よって、第1基板10及び第2基板20
間に挟持される液晶層50の層厚は、注入口及びその付
近を含めた画像表示領域の全体に渡って所定値に均一化
され、本実施形態の液晶装置により最終的に、高品位の
画像表示が可能となる。
【0052】特に本実施形態では、注入口に設けられる
第2ギャップ材202は、一本の支柱からなるので、後
述の如き該電気光学装置の製造時に、一本の支柱が立て
られた注入口を介して液晶を良好に注入できる。そし
て、一本の支柱が立てられた注入口を、支柱で区切られ
た二つの区域を一まとめにして、封止材32により封止
できる。
第2ギャップ材202は、一本の支柱からなるので、後
述の如き該電気光学装置の製造時に、一本の支柱が立て
られた注入口を介して液晶を良好に注入できる。そし
て、一本の支柱が立てられた注入口を、支柱で区切られ
た二つの区域を一まとめにして、封止材32により封止
できる。
【0053】加えて、本実施形態では、ビーズ状或いは
ファイバ状の第3ギャップ材を、シール材31中に混合
してもよい。このように構成すれば、第1ギャップ材2
01及び第2ギャップ材202に加えて、この第3ギャ
ップ材によりギャップ制御できるので、より高精度のギ
ャップ制御が可能となる。
ファイバ状の第3ギャップ材を、シール材31中に混合
してもよい。このように構成すれば、第1ギャップ材2
01及び第2ギャップ材202に加えて、この第3ギャ
ップ材によりギャップ制御できるので、より高精度のギ
ャップ制御が可能となる。
【0054】尚、本実施形態の電気光学装置では、画像表
示領域に第1ギャップ材201が設けられているので、
ファイバ状やビーズ状のギャップ材を液晶層50内に散
布しないで済む。このため、例えば対角数インチ以下程
度の比較的小型の電気光学装置に、本実施形態は好適に
用いられる。
示領域に第1ギャップ材201が設けられているので、
ファイバ状やビーズ状のギャップ材を液晶層50内に散
布しないで済む。このため、例えば対角数インチ以下程
度の比較的小型の電気光学装置に、本実施形態は好適に
用いられる。
【0055】次に、以上の如く構成された第1実施形態
の反射型液晶装置の動作について図2を参照して説明す
る。第1実施形態の反射型液晶装置は、ノーマリーブラ
ックモードのパッシブマトリクス駆動方式により駆動さ
れる。
の反射型液晶装置の動作について図2を参照して説明す
る。第1実施形態の反射型液晶装置は、ノーマリーブラ
ックモードのパッシブマトリクス駆動方式により駆動さ
れる。
【0056】図2において、偏光板105の側(即ち、
図2及び図3で上側)から外光が入射すると、偏光板1
05、透明な第2基板20及び液晶層50を介して第1
基板10上に設けられた反射電極14により反射され、
再び液晶層50、第2基板20及び偏光板105を介し
て偏光板105側から出射される。ここで、外部回路か
ら反射電極14及び透明電極21に、画像信号及び走査
信号を所定タイミングで供給すれば、反射電極14及び
透明電極21が交差する個所における液晶層50部分に
は、行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加され
る。従って、この印加電圧により液晶層50の配向状態
を各画素単位で制御することにより、透過軸及び吸収軸
が固定された偏光板105を透過する光量を各画素単位
で変調し、カラーの階調表示が可能となる。
図2及び図3で上側)から外光が入射すると、偏光板1
05、透明な第2基板20及び液晶層50を介して第1
基板10上に設けられた反射電極14により反射され、
再び液晶層50、第2基板20及び偏光板105を介し
て偏光板105側から出射される。ここで、外部回路か
ら反射電極14及び透明電極21に、画像信号及び走査
信号を所定タイミングで供給すれば、反射電極14及び
透明電極21が交差する個所における液晶層50部分に
は、行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加され
る。従って、この印加電圧により液晶層50の配向状態
を各画素単位で制御することにより、透過軸及び吸収軸
が固定された偏光板105を透過する光量を各画素単位
で変調し、カラーの階調表示が可能となる。
【0057】以上説明した第1実施形態では、反射電極
14の第1基板10上の端子領域に引き出された端子部
及び透明電極21の第2基板10上の端子領域に引き出
された端子部には、例えばTAB(Tape Automated bon
ding)基板上に実装され、反射電極14及び透明電極2
1に画像信号や走査信号を所定タイミングで供給するデ
ータ線駆動回路や走査線駆動回路を含む駆動用LSI
を、異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接
続するようにしてもよい。或いは、シール材31の外側
の第1基板10又は第2基板20上の周辺領域に、この
ようなデータ線駆動回路や走査線駆動回路を形成して所
謂駆動回路内蔵型の反射型液晶装置として構成してもよ
く、更に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠
陥等を検査するための検査回路等を形成して所謂周辺回
路内蔵型の反射型液晶装置としてもよい。
14の第1基板10上の端子領域に引き出された端子部
及び透明電極21の第2基板10上の端子領域に引き出
された端子部には、例えばTAB(Tape Automated bon
ding)基板上に実装され、反射電極14及び透明電極2
1に画像信号や走査信号を所定タイミングで供給するデ
ータ線駆動回路や走査線駆動回路を含む駆動用LSI
を、異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接
続するようにしてもよい。或いは、シール材31の外側
の第1基板10又は第2基板20上の周辺領域に、この
ようなデータ線駆動回路や走査線駆動回路を形成して所
謂駆動回路内蔵型の反射型液晶装置として構成してもよ
く、更に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠
陥等を検査するための検査回路等を形成して所謂周辺回
路内蔵型の反射型液晶装置としてもよい。
【0058】また以上説明した実施形態では、パッシブ
マトリクス駆動方式以外にも、TFTアクティブマトリ
クス駆動方式、TFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオ
ード)アクティブマトリクス駆動方式、セグメント駆動
方式等の公知の各種駆動方式を採用可能である。加え
て、反射型液晶装置だけでなく、反射電極14を透明電
極とすること等により透過型液晶装置にも本発明は適用
可能であり、或いは反射電極14を半透過反射電極とす
ること等により半透過反射型液晶装置にも本発明は適用
可能である。この際、第1基板上には、駆動方式等に応
じて適宜、複数のストライプ状の透明電極、マトリクス
状の画素電極等が形成され、第2基板20上には駆動方
式等に応じて適宜、複数のストライプ状やセグメント状
の透明電極が形成されたり、第2基板20のほぼ全面に
透明電極が形成されたりする。或いは、第2基板20上
に対向電極を設けることなく、第1基板10上の相隣接
する反射電極14間における基板に平行な横電界で駆動
してもよい。また、ノーマリーブラックモードに限らず
にノーマリーホワイトモードを採用してもよい。更に、
第2基板20上に1画素1個対応するようにマイクロレ
ンズを形成してもよい。このようにすれば、入射光の集
光効率を向上することで、明るい液晶装置が実現でき
る。更にまた、第2基板20上に、何層もの屈折率の相
違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、
RGB色を作り出すダイクロイックフィルタを形成して
もよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によ
れば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。 (第2実施形態)次に、本発明による液晶装置の第2実
施形態について、図4を参照して説明する。ここに図4
は、第2実施形態の構成を示す図式的平面図であるが、
図1から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素に
ついては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略す
る。
マトリクス駆動方式以外にも、TFTアクティブマトリ
クス駆動方式、TFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオ
ード)アクティブマトリクス駆動方式、セグメント駆動
方式等の公知の各種駆動方式を採用可能である。加え
て、反射型液晶装置だけでなく、反射電極14を透明電
極とすること等により透過型液晶装置にも本発明は適用
可能であり、或いは反射電極14を半透過反射電極とす
ること等により半透過反射型液晶装置にも本発明は適用
可能である。この際、第1基板上には、駆動方式等に応
じて適宜、複数のストライプ状の透明電極、マトリクス
状の画素電極等が形成され、第2基板20上には駆動方
式等に応じて適宜、複数のストライプ状やセグメント状
の透明電極が形成されたり、第2基板20のほぼ全面に
透明電極が形成されたりする。或いは、第2基板20上
に対向電極を設けることなく、第1基板10上の相隣接
する反射電極14間における基板に平行な横電界で駆動
してもよい。また、ノーマリーブラックモードに限らず
にノーマリーホワイトモードを採用してもよい。更に、
第2基板20上に1画素1個対応するようにマイクロレ
ンズを形成してもよい。このようにすれば、入射光の集
光効率を向上することで、明るい液晶装置が実現でき
る。更にまた、第2基板20上に、何層もの屈折率の相
違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、
RGB色を作り出すダイクロイックフィルタを形成して
もよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によ
れば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。 (第2実施形態)次に、本発明による液晶装置の第2実
施形態について、図4を参照して説明する。ここに図4
は、第2実施形態の構成を示す図式的平面図であるが、
図1から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素に
ついては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略す
る。
【0059】図4に示すように、第2実施形態では、第
1ギャップ材211は、画像表示領域内における各画素
の非開口領域内にストライプ状に複数形成されている。
更に、第2ギャップ材212は、注入口に横並びに2個
設けられている。その他の構成については第1実施形態
の場合と同様である。従って、第2実施形態によれば、
画像表示領域内における格子状の非開口領域内に、複数
配列されたストライプ状の第1ギャップ材211によ
り、各画素の開口率を低めることなく、高精度のギャップ
制御が可能となる。 (第3実施形態)次に、本発明による液晶装置の第3実
施形態について、図5を参照して説明する。ここに図5
は、第3実施形態の構成を示す図式的平面図であるが、
図1から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素に
ついては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略す
る。
1ギャップ材211は、画像表示領域内における各画素
の非開口領域内にストライプ状に複数形成されている。
更に、第2ギャップ材212は、注入口に横並びに2個
設けられている。その他の構成については第1実施形態
の場合と同様である。従って、第2実施形態によれば、
画像表示領域内における格子状の非開口領域内に、複数
配列されたストライプ状の第1ギャップ材211によ
り、各画素の開口率を低めることなく、高精度のギャップ
制御が可能となる。 (第3実施形態)次に、本発明による液晶装置の第3実
施形態について、図5を参照して説明する。ここに図5
は、第3実施形態の構成を示す図式的平面図であるが、
図1から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素に
ついては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略す
る。
【0060】図5に示すように、第3実施形態では、第
1ギャップ材221は、画像表示領域内における各画素
の非開口領域内に十字状に形成されている。更に、第2
ギャップ材222は、注入口に横並びに3個設けられて
いる。その他の構成については第1実施形態の場合と同
様である。従って、第3実施形態によれば、画像表示領
域内における格子状の非開口領域内に設けられた十字状
の第1ギャップ材221により、各画素の開口率を低め
ることなく、高精度のギャップ制御が可能となる。 (第4実施形態)次に、本発明による液晶装置の第4実
施形態について、図6を参照して説明する。ここに図6
は、図3に示したB−B’断面に対応する個所における
第4実施形態の構成を示す図式的断面図であるが、図1
から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素につい
ては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略する。
1ギャップ材221は、画像表示領域内における各画素
の非開口領域内に十字状に形成されている。更に、第2
ギャップ材222は、注入口に横並びに3個設けられて
いる。その他の構成については第1実施形態の場合と同
様である。従って、第3実施形態によれば、画像表示領
域内における格子状の非開口領域内に設けられた十字状
の第1ギャップ材221により、各画素の開口率を低め
ることなく、高精度のギャップ制御が可能となる。 (第4実施形態)次に、本発明による液晶装置の第4実
施形態について、図6を参照して説明する。ここに図6
は、図3に示したB−B’断面に対応する個所における
第4実施形態の構成を示す図式的断面図であるが、図1
から図3に示した第1実施形態と同様の構成要素につい
ては同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略する。
【0061】図6に示すように、第4実施形態では、第
2ギャップ材202によりギャップが規定される注入口
部分には、第1ギャップ材201によりギャップが規定
される画像表示領域部分における第2基板20上の積層
構造と同一構造を構築するダミー層231及び232が
形成されている。より具体的には、第4実施形態では、
カラーフィルタ23と同一層からなるダミー層231
と、透明電極21と同一層からなるダミー層232とが
設けられており、画像表示領域における第1ギャップ材
201が設けられた第2基板20表面からの高さと、第
2ギャップ材202が設けられた第2基板20の表面か
らの高さとは、ほぼ同じである。その他の構成について
は第1実施形態の場合と同様である。従って、第4実施
形態によれば、有機平坦化膜のうち同一膜圧部分からな
る第1ギャップ材201と第2ギャップ材202とによ
り、画像表示領域並びに注入口及びその付近におけるギ
ャップ制御を高精度で行える。
2ギャップ材202によりギャップが規定される注入口
部分には、第1ギャップ材201によりギャップが規定
される画像表示領域部分における第2基板20上の積層
構造と同一構造を構築するダミー層231及び232が
形成されている。より具体的には、第4実施形態では、
カラーフィルタ23と同一層からなるダミー層231
と、透明電極21と同一層からなるダミー層232とが
設けられており、画像表示領域における第1ギャップ材
201が設けられた第2基板20表面からの高さと、第
2ギャップ材202が設けられた第2基板20の表面か
らの高さとは、ほぼ同じである。その他の構成について
は第1実施形態の場合と同様である。従って、第4実施
形態によれば、有機平坦化膜のうち同一膜圧部分からな
る第1ギャップ材201と第2ギャップ材202とによ
り、画像表示領域並びに注入口及びその付近におけるギ
ャップ制御を高精度で行える。
【0062】(製造プロセス)次に図7及び図8を参照
して、上述した電気光学装置を製造する製造プロセス
を、第2基板20上における第1ギャップ材201及び
第2ギャップ材202の形成工程を中心として説明を加
える。ここに図7及び図8は、図3と同じく図1のB−
B’断面に対応する個所の各工程における断面構造を順
次示す工程図である。
して、上述した電気光学装置を製造する製造プロセス
を、第2基板20上における第1ギャップ材201及び
第2ギャップ材202の形成工程を中心として説明を加
える。ここに図7及び図8は、図3と同じく図1のB−
B’断面に対応する個所の各工程における断面構造を順
次示す工程図である。
【0063】先ず図7の工程(1)では、ガラス基板、
石英基板等の第2基板20を用意し、この上に、デルタ
配列、ストライプ配列、モザイク配列、トライアングル
配列等の公知のカラーフィルタ23を形成し、更にカラ
ーフィルタ23を平坦化するための平坦化膜24をスピ
ンコート等により形成する。続いて図7の工程(2)で
は、ITO膜等を全面に形成後、フォトリソグラフィ及
びエッチングによりストライプ状にパターニングするこ
とで、透明電極21を形成する。その後、スピンコート
又はフレキソ印刷によりポリイミド薄膜などの有機薄膜
を全面に形成後、ラビング処理等の所定の配向処理を施
すことで、配向膜25を形成する。次に図7の工程
(3)で、公知のフォトレジスト200を、例えば層厚
1〜5μm程度に全面に形成した後、図7の工程(4)
で、フォトリソグラフィ及びエッチングにより図1から
図3に示した如き所定パターンにパターニングすること
によって、支柱状の第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202を同時に形成する。この支柱状の第1ギャ
ップ材201及び第2ギャップ材の高さは、必要な液晶
層50の層厚に依存するものであり、有機平坦化膜の膜
厚を変えることで任意の高さとすることが可能である
が、ここでは例えば3〜4μmとする。このように、有
機平坦化膜をスピンコート等で形成した後にパターニン
グすることで、第2基板20を基準として先端面(図7
の工程(4)で下端面)の高さが等しい第1ギャップ材
201及び第2ギャップ材202を形成する。
石英基板等の第2基板20を用意し、この上に、デルタ
配列、ストライプ配列、モザイク配列、トライアングル
配列等の公知のカラーフィルタ23を形成し、更にカラ
ーフィルタ23を平坦化するための平坦化膜24をスピ
ンコート等により形成する。続いて図7の工程(2)で
は、ITO膜等を全面に形成後、フォトリソグラフィ及
びエッチングによりストライプ状にパターニングするこ
とで、透明電極21を形成する。その後、スピンコート
又はフレキソ印刷によりポリイミド薄膜などの有機薄膜
を全面に形成後、ラビング処理等の所定の配向処理を施
すことで、配向膜25を形成する。次に図7の工程
(3)で、公知のフォトレジスト200を、例えば層厚
1〜5μm程度に全面に形成した後、図7の工程(4)
で、フォトリソグラフィ及びエッチングにより図1から
図3に示した如き所定パターンにパターニングすること
によって、支柱状の第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202を同時に形成する。この支柱状の第1ギャ
ップ材201及び第2ギャップ材の高さは、必要な液晶
層50の層厚に依存するものであり、有機平坦化膜の膜
厚を変えることで任意の高さとすることが可能である
が、ここでは例えば3〜4μmとする。このように、有
機平坦化膜をスピンコート等で形成した後にパターニン
グすることで、第2基板20を基準として先端面(図7
の工程(4)で下端面)の高さが等しい第1ギャップ材
201及び第2ギャップ材202を形成する。
【0064】次に図8の工程(5)では、スパッタリン
グ等により反射電極14が形成された後にスピンコート
等により配向膜15が形成されたマザー基板10’上
に、シール材31(図1参照)により、図7の工程
(4)に示した対向基板20を貼り合わせる。この際、
硬化前のシール材31を、例えば貼り合わせ直前にどち
らかの基板上にディスペンサによりシール領域に描くよ
うにすればよく、シール材31中に所定粒径のビーズ状
やファイバ状の第3ギャップ材を混合してもよい。そし
て、紫外線照射や熱照射により、シール材31を硬化さ
せた後に、シール材31の切り欠かれていると共に第2
ギャップ材202が設けられた注入口付近に、例えば複
数種類のネマティック液晶を混合してなる液晶50aを
滴下して、液晶50aを真空注入する。続いて図8の工
程(6)では、樹脂性接着剤等からなる封止材32によ
って、第2ギャップ材202が設けられた注入口を封止
する。
グ等により反射電極14が形成された後にスピンコート
等により配向膜15が形成されたマザー基板10’上
に、シール材31(図1参照)により、図7の工程
(4)に示した対向基板20を貼り合わせる。この際、
硬化前のシール材31を、例えば貼り合わせ直前にどち
らかの基板上にディスペンサによりシール領域に描くよ
うにすればよく、シール材31中に所定粒径のビーズ状
やファイバ状の第3ギャップ材を混合してもよい。そし
て、紫外線照射や熱照射により、シール材31を硬化さ
せた後に、シール材31の切り欠かれていると共に第2
ギャップ材202が設けられた注入口付近に、例えば複
数種類のネマティック液晶を混合してなる液晶50aを
滴下して、液晶50aを真空注入する。続いて図8の工
程(6)では、樹脂性接着剤等からなる封止材32によ
って、第2ギャップ材202が設けられた注入口を封止
する。
【0065】その後、偏光板105、第1位相差板10
6及び第2位相差板116を取り付け、これと相前後し
てマザー基板10’を分断することにより、図1から図
3に示した第1実施形態の電気光学装置が完成する。
尚、上述した図7の工程(3)及び(4)では、一面に
有機平坦化膜を形成後にパターニングすることで、第1
ギャップ材201及び第2ギャップ材202を形成して
いるが、このような第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202は、例えばディスペンサや印刷技術を用い
て、所定パターンを持つ有機平坦化膜を直接形成するこ
とにより形成可能である。更に、上述した図7の工程
(3)及び(4)では、有機平坦化膜をスピンコート等
で形成することで、先端面の高さが等しい第1ギャップ
材201及び第2ギャップ材202を形成しているが、
このような第1ギャップ材201及び第2ギャップ材2
02は、図7の工程(3)において、表面に凹凸のある
絶縁膜を形成後にCMP処理により平坦化し、これをパ
ターニングすることにより形成可能である。このような
絶縁膜は、例えば常圧又は減圧CVD法等によりシリケ
ートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等から
形成すればよい。
6及び第2位相差板116を取り付け、これと相前後し
てマザー基板10’を分断することにより、図1から図
3に示した第1実施形態の電気光学装置が完成する。
尚、上述した図7の工程(3)及び(4)では、一面に
有機平坦化膜を形成後にパターニングすることで、第1
ギャップ材201及び第2ギャップ材202を形成して
いるが、このような第1ギャップ材201及び第2ギャ
ップ材202は、例えばディスペンサや印刷技術を用い
て、所定パターンを持つ有機平坦化膜を直接形成するこ
とにより形成可能である。更に、上述した図7の工程
(3)及び(4)では、有機平坦化膜をスピンコート等
で形成することで、先端面の高さが等しい第1ギャップ
材201及び第2ギャップ材202を形成しているが、
このような第1ギャップ材201及び第2ギャップ材2
02は、図7の工程(3)において、表面に凹凸のある
絶縁膜を形成後にCMP処理により平坦化し、これをパ
ターニングすることにより形成可能である。このような
絶縁膜は、例えば常圧又は減圧CVD法等によりシリケ
ートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等から
形成すればよい。
【0066】加えて、図4及び図5に夫々示した第2及
び第3実施形態の電気光学装置を製造する場合には、図
7の工程(4)におけるフォトリソグラフィ及びエッチ
ングによるフォトレジスト200に対するパターニング
に変更を加えるだけでよい。また、図6に示した第4実
施形態の電気光学装置を製造する場合には、図7の工程
(1)でカラーフィルタ23の形成と同時にダミー層2
31を形成し、図7の工程(2)で透明電極21の形成
と同時にダミー層232を形成すればよい。以上説明し
た製造プロセスによれば、上述した実施形態の電気光学
装置を比較的容易に製造できる。この際特に、図7の工
程(3)及び工程(4)において、先端面の高さの等し
い第1ギャップ材201及び第2ギャップ材202を形
成するので、画像表示領域並びに注入口及びその付近に
おける基板間ギャップを精度良く制御できる。 (第5実施形態)次に、本発明の第5実施形態につい
て、図9を参照して説明する。第5実施形態は、上述し
た本発明の第1から第4実施形態の液晶装置を適用した
各種の電子機器からなる。
び第3実施形態の電気光学装置を製造する場合には、図
7の工程(4)におけるフォトリソグラフィ及びエッチ
ングによるフォトレジスト200に対するパターニング
に変更を加えるだけでよい。また、図6に示した第4実
施形態の電気光学装置を製造する場合には、図7の工程
(1)でカラーフィルタ23の形成と同時にダミー層2
31を形成し、図7の工程(2)で透明電極21の形成
と同時にダミー層232を形成すればよい。以上説明し
た製造プロセスによれば、上述した実施形態の電気光学
装置を比較的容易に製造できる。この際特に、図7の工
程(3)及び工程(4)において、先端面の高さの等し
い第1ギャップ材201及び第2ギャップ材202を形
成するので、画像表示領域並びに注入口及びその付近に
おける基板間ギャップを精度良く制御できる。 (第5実施形態)次に、本発明の第5実施形態につい
て、図9を参照して説明する。第5実施形態は、上述し
た本発明の第1から第4実施形態の液晶装置を適用した
各種の電子機器からなる。
【0067】先ず、第1から第4実施形態における液晶
装置を、例えば図9(a)に示すような携帯電話100
0の表示部1001に適用すれば、基板間ギャップむら
が低減されており、よって表示むらが低減された高精細
のカラー表示を行う省エネルギ型の携帯電話を実現でき
る。
装置を、例えば図9(a)に示すような携帯電話100
0の表示部1001に適用すれば、基板間ギャップむら
が低減されており、よって表示むらが低減された高精細
のカラー表示を行う省エネルギ型の携帯電話を実現でき
る。
【0068】また、図9(b)に示すような腕時計11
00の表示部1101に適用すれば、表示むらが低減さ
れた高精細のカラー表示を行う省エネルギ型の腕時計を
実現できる。
00の表示部1101に適用すれば、表示むらが低減さ
れた高精細のカラー表示を行う省エネルギ型の腕時計を
実現できる。
【0069】更に、図9(c)に示すようなパーソナル
コンピュータ(或いは、情報端末)1200において、
キーボード1202付きの本体1204に開閉自在に取
り付けられるカバー内に設けられる表示画面1206に
適用すれば、表示むらが低減された高精細のカラー表示
を行う省エネルギ型のパーソナルコンピュータを実現で
きる。
コンピュータ(或いは、情報端末)1200において、
キーボード1202付きの本体1204に開閉自在に取
り付けられるカバー内に設けられる表示画面1206に
適用すれば、表示むらが低減された高精細のカラー表示
を行う省エネルギ型のパーソナルコンピュータを実現で
きる。
【0070】以上図9に示した電子機器の他にも、液晶
テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、
電卓、ワードプロセッサ、エンジニアリング・ワークス
テーション(EWS)、テレビ電話、POS端末、タッ
チパネルを備えた装置等などの電子機器にも、第1から
第4実施形態の液晶装置を適用可能である。
テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、
電卓、ワードプロセッサ、エンジニアリング・ワークス
テーション(EWS)、テレビ電話、POS端末、タッ
チパネルを備えた装置等などの電子機器にも、第1から
第4実施形態の液晶装置を適用可能である。
【0071】本発明は、上述した実施形態に限られるも
のではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる
発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能で
あり、そのような変更を伴なう電気光学装置及びその製
造方法並びに電子機器もまた本発明の技術的範囲に含ま
れるものである。
のではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる
発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能で
あり、そのような変更を伴なう電気光学装置及びその製
造方法並びに電子機器もまた本発明の技術的範囲に含ま
れるものである。
【図1】本発明の第1実施形態であるパッシブマトリク
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
【図2】図1のA−A’断面をカラーフィルタを含めて
示す反射型液晶装置の図式的断面図である。
示す反射型液晶装置の図式的断面図である。
【図3】図1のB−B’断面をカラーフィルタを含めて
示す反射型液晶装置の図式的断面図である。
示す反射型液晶装置の図式的断面図である。
【図4】本発明の第2実施形態であるパッシブマトリク
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
【図5】本発明の第3実施形態であるパッシブマトリク
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
ス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成され
るカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見
た様子を示す図式的平面図である。
【図6】本発明の第4実施形態であるパッシブマトリク
ス駆動方式の反射型液晶装置の、図3に示したB−B’
断面に対応する個所における図式的断面図であるが、
ス駆動方式の反射型液晶装置の、図3に示したB−B’
断面に対応する個所における図式的断面図であるが、
【図7】本実施形態に係る製造プロセスを示す工程図
(その1)である。
(その1)である。
【図8】本実施形態に係る製造プロセスを示す工程図
(その2)である。
(その2)である。
【図9】本発明の第5実施形態である各種電子機器の外
観図である。
観図である。
10…第1基板 14…反射電極 15…配向膜 20…第2基板 21…透明電極 23…カラーフィルタ 25…配向膜 31…シール材 32…封止材 105…偏光板 106…第1位相差板 116…第2位相差板 201、211、221…第1ギャップ材 202、212、222…第2ギャップ材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1341 G02F 1/1341 1/1343 1/1343 Fターム(参考) 2H042 AA06 AA09 AA15 AA26 2H048 BA02 BA11 BA45 BB02 BB08 BB37 BB44 2H089 LA07 LA09 LA10 LA15 LA18 LA24 MA03X NA05 NA14 QA13 TA02 TA12 2H091 FA02Y FD04 GA08 2H092 GA21 PA03 PA08
Claims (16)
- 【請求項1】 一対の第1及び第2基板間に電気光学物
質が挟持されてなり、 前記第1及び第2基板間に、平面的に見てそれらの周囲
に沿ったシール領域で前記第1及び第2基板を相接着す
るシール材と、 該シール材が切り欠かれてなる前記電気光学物質を注入
するための注入口を前記電気光学物質の注入後に封止す
る封止材と、前記シール領域で包囲された画像表示領域
に設けられると共に前記第1及び第2基板間のギャップ
を規定する有機平坦化膜からなる第1ギャップ材と、前
記注入口に設けられると共に前記有機平坦化膜からなる
第2ギャップ材とを備えたことを特徴とする電気光学装
置。 - 【請求項2】 前記第2ギャップ材は、前記注入口に点
在する一又は複数の支柱からなることを特徴とする請求
項1に記載の電気光学装置。 - 【請求項3】 前記画像表示領域内における前記第1及
び第2基板の少なくとも一方上にカラーフィルタを更に
備え、前記有機平坦化膜は、前記カラーフィルタが形成さ
れた基板側に形成されていることを特徴とする請求項1
又は2に記載の電気光学装置。 - 【請求項4】 前記カラーフィルタ上に画像表示用の電
極を更に備え、前記有機平坦化膜は、前記画像表示用の電
極上に形成されていることを特徴とする請求項3に記載
の電気光学装置。 - 【請求項5】 前記第1ギャップ材は、前記画像表示領
域内における各画素の非開口領域に配置されていること
を特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電
気光学装置。 - 【請求項6】 前記第1ギャップ材は、前記非開口領域
内に島状に複数形成されていることを特徴とする請求項
5に記載の電気光学装置。 - 【請求項7】 前記第1ギャップ材は、前記非開口領域
内にストライプ状に複数形成されていることを特徴とす
る請求項5に記載の電気光学装置。 - 【請求項8】 前記第1ギャップ材は、前記非開口領域
内に十字状に複数形成されていることを特徴とする請求
項5に記載の電気光学装置。 - 【請求項9】 前記シール材中に混合された粒子状の第
3ギャップ材を更に備えたことを特徴とする請求項1か
ら8のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項10】 前記第2ギャップ材によりギャップが
規定される注入口部分には、前記第1ギャップ材により
ギャップが規定される画像表示領域部分における前記第
1及び第2基板上の積層構造と同一構造を構築するダミ
ー層が形成されていることを特徴とする請求項1から9
のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項11】 前記第1及び第2ギャップ材は夫々、
前記有機平坦化膜に代えて、CMP(Chemical Mechani
cal Polishing:化学的機械研磨)処理により平坦化さ
れた同一絶縁膜からなることを特徴とする請求項1から
10のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項12】 請求項1から11のいずれか一項に記
載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法で
あって、 前記第1及び第2基板の少なくとも一方上に前記有機平
坦化膜から前記第1及び第2ギャップ材を形成する工程
と、 前記第1及び第2基板を前記シール材により相接着する
工程と、 前記注入口から前記電気光学物質を注入する工程と、 前記注入口を前記封止材により封止する工程とを備えた
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項13】 前記第1及び第2ギャップ材を形成す
る工程は、スピンコートにより前記有機平坦化膜を形成
する工程と、前記有機平坦化膜を形成後にフォトリソグ
ラフィ及びエッチングにより前記第1及び第2ギャップ
材をパターンニングする工程とを含むことを特徴とする
請求項12に記載の電気光学装置の製造方法。 - 【請求項14】 前記第1及び第2ギャップ材を形成す
る工程は、所定パターンを持つ前記有機平坦化膜を形成
することにより前記第1及び第2ギャップ材を形成する
工程を含むことを特徴とする請求項12に記載の電気光
学装置の製造方法。 - 【請求項15】 前記画像表示領域内における前記第1
及び第2基板の少なくとも一方上にカラーフィルタを形
成する工程を更に備えており、前記第1及び第2ギャッ
プ材を形成する工程は、前記カラーフィルタが形成され
た基板側に前記有機平坦化膜を形成する工程を含むこと
を特徴とする請求項11から14のいずれか一項に記載
の電気光学装置の製造方法。 - 【請求項16】 請求項1から11のいずれか一項に記
載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機
器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001155328A JP2002350863A (ja) | 2001-05-24 | 2001-05-24 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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