JP2002350522A - Magnetic sensor - Google Patents

Magnetic sensor

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JP2002350522A
JP2002350522A JP2001161221A JP2001161221A JP2002350522A JP 2002350522 A JP2002350522 A JP 2002350522A JP 2001161221 A JP2001161221 A JP 2001161221A JP 2001161221 A JP2001161221 A JP 2001161221A JP 2002350522 A JP2002350522 A JP 2002350522A
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magnetic
film
conductive
conductive magnetic
magnetic film
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JP2001161221A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Kuroe
章郎 黒江
Sayuri Muramatsu
小百合 村松
Akio Murata
明夫 村田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high sensitivity shield type magnetic sensor superior in directivity which is capable of effectively detecting only a changed component of impedance. SOLUTION: The sensor contacts a plurality of conductive magnetic films 25 arranged in mutually parallel in one direction and a shield core including a soft magnetic film 27 for magnetically shielding spaces between the conductive magnetic films. Four conductive magnetic films are used and mutually connected to form a bridge circuit and the conductive magnetic film disposed on the open end of the shield core is used for detecting a magnetic field. This cancels invariant impedance components against a signal magnetic field to thereby detect only an impedance component changed by the signal magnetic field.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な高周波イン
ピーダンス変化を用いた指向性の優れたシールド型高感
度磁気センサに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shield-type high-sensitivity magnetic sensor having excellent directivity using a new high-frequency impedance change.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9は、電子情報学会技報MR95-80に報
告された、磁気インピーダンスの変化を用いたMI(磁
気インピーダンス)素子を示す。図9において、101
は導電性金属薄膜からなる検出導体膜であり、軟磁性コ
ア105及び106によって挟まれてMI素子を形成し
ている。軟磁性コア105及び106は、拡大図に示さ
れるように、パーマロイ膜103とSiO2膜104の積層
膜からなり、トラック幅102にわたる幅を有する。こ
のMI素子の動作原理は以下の通りである。
2. Description of the Related Art FIG. 9 shows an MI (Magnetic Impedance) element using a change in magnetic impedance reported in IEICE Technical Report MR95-80. In FIG. 9, 101
Is a detection conductor film made of a conductive metal thin film, which is sandwiched between the soft magnetic cores 105 and 106 to form an MI element. As shown in the enlarged view, the soft magnetic cores 105 and 106 are formed of a laminated film of the permalloy film 103 and the SiO 2 film 104, and have a width that extends over the track width 102. The operating principle of this MI element is as follows.

【0003】UHF帯の高周波発信器107より、高周
波信号を抵抗108を介して検出導体膜101に印加し
て、電流109を通電し、検出導体薄膜101の両端に
配備した端子110及び111間に生じる磁気インピー
ダンスの変化を、その端子110及び111間の電圧変
化を検出する。すなわち、端子110及び111間に
は、端子110及び111間の検出導体薄膜101のイ
ンピーダンスと電流109との積に相当するUHFキャ
リア信号の電圧が発生する。その際、MI素子が外部磁
界を受けていると、軟磁性コア105及び106の磁化
の容易磁化方向がトラック幅方向に配向されているた
め、その磁化が信号磁界によって配向方向から傾き、外
部磁界が存在しない場合に比べて、磁気インピーダンス
が小さくなる。従って、UHFキャリア信号が、磁気記
録媒体の信号磁界によってAM変調された形で検出され
る。この信号をAM検波することによって、外部磁界を
検出することができる。
A high-frequency signal is applied from a UHF band high-frequency transmitter 107 to a detection conductor film 101 via a resistor 108, and a current 109 is passed between the terminals 110 and 111 provided at both ends of the detection conductor thin film 101. The resulting change in magnetic impedance is detected by detecting the change in voltage between its terminals 110 and 111. That is, a voltage of the UHF carrier signal corresponding to the product of the impedance of the detection conductor thin film 101 between the terminals 110 and 111 and the current 109 is generated between the terminals 110 and 111. At this time, if the MI element receives an external magnetic field, the easy magnetization direction of the magnetization of the soft magnetic cores 105 and 106 is oriented in the track width direction. , The magnetic impedance is smaller than in the case where there is no. Therefore, the UHF carrier signal is detected in a form where it is AM-modulated by the signal magnetic field of the magnetic recording medium. An external magnetic field can be detected by AM detection of this signal.

【0004】この磁気センサが実現されると、現在開発
が進められているジャイアントMRヘッドの約10倍の
出力が得られる可能性が有る。また、図10は、図9に
示すMI素子の動作カーブであり、キャリア信号周波数
を1.0GHzとして、上記MI素子をヘルムホルツコイルの
中央部においてdc磁界を加えて求めたものである。図
10から分かるように、感度良く信号を再生し、歪みの
小さな波形を得るには、直流バイアス点112の設定が
重要である。上記モデルでは、外部よりコイルを用い
て、直流磁界を発生させバイアスとしている。
If this magnetic sensor is realized, there is a possibility that an output about 10 times that of the giant MR head currently under development is obtained. FIG. 10 is an operation curve of the MI element shown in FIG. 9, which is obtained by setting the carrier signal frequency to 1.0 GHz and applying the dc magnetic field to the center of the Helmholtz coil. As can be seen from FIG. 10, setting of the DC bias point 112 is important for reproducing a signal with high sensitivity and obtaining a waveform with small distortion. In the above-described model, a DC magnetic field is generated by using a coil from the outside and is used as a bias.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の方法で
は、例えば、地磁気などを精度良く検出するために、解
像度の良好な磁気センサを構成すると、ノイズの影響を
受けやすい。この方法では、検出導体の寸法、特に断面
積を小さくすることが望ましいが、断面積を小さくする
と抵抗値が著しく大きくなる。また検出導体周りの磁性
体膜厚を薄くすることが望ましいが、そうするとインダ
クタンス、すなわちインピーダンスが小さくなるという
欠点があった。また、上記方法では、若干の感度の指向
性はあるものの、シールドされていないため、モータや
発信器などが近接して存在する場合には、正確な検出が
なされない欠点があった。このため一方向からの磁界を
解像度よく検出する指向性の優れたシールド型の磁気セ
ンサの実現が望まれた。
However, in the above-mentioned method, if a magnetic sensor having a good resolution is formed in order to detect, for example, geomagnetism with high accuracy, the magnetic sensor is easily affected by noise. In this method, it is desirable to reduce the size of the detection conductor, particularly the cross-sectional area, but if the cross-sectional area is reduced, the resistance value will increase significantly. It is also desirable to reduce the thickness of the magnetic material around the detection conductor, but this has the disadvantage that the inductance, that is, the impedance, decreases. Further, in the above method, although there is some directivity of sensitivity, since it is not shielded, there is a drawback that accurate detection is not performed when a motor, a transmitter, and the like are present close to each other. Therefore, it has been desired to realize a shielded magnetic sensor having excellent directivity for detecting a magnetic field from one direction with high resolution.

【0006】本発明は、インピーダンスの変化分のみを
効率的に検出することが可能で、指向性に優れかつ高感
度なシールド型磁気センサを提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a shielded magnetic sensor which can efficiently detect only a change in impedance, has excellent directivity, and has high sensitivity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明の基本構成の磁気センサは、請求項1の発
明のように、一方向に互いに平行に整列して配置された
複数本の導電性磁性膜と、各々の導電性磁性膜間を磁気
的に遮蔽する軟磁性膜を含むシールドコアとを備えたシ
ールド型の構成を有する。
In order to solve the above-mentioned problems, a magnetic sensor having a basic structure according to the present invention comprises a plurality of magnetic sensors arranged in parallel to each other in one direction. It has a shield type configuration including the present conductive magnetic film and a shield core including a soft magnetic film for magnetically shielding between the conductive magnetic films.

【0008】上記構成において好ましくは、請求項2の
発明のように、シールドコアが、複数本の導電性磁性膜
のうち一方の端部に配置された導電性磁性膜の箇所にお
いて開放された構成とする。この構成において好ましく
は、請求項3の発明のように、複数本の導電性磁性膜は
第1から第4の導電性磁性膜を含み、4本の導電性磁性
膜を相互に接続してブリッジ回路を構成し、4本の導電
性磁性膜のうち、シールドコアの開放端側に配置された
第1の導電性磁性膜によって磁界を検出する構成とす
る。
Preferably, in the above structure, the shield core is opened at a portion of the conductive magnetic film disposed at one end of the plurality of conductive magnetic films. And In this configuration, preferably, the plurality of conductive magnetic films include first to fourth conductive magnetic films, and the four conductive magnetic films are connected to each other to form a bridge. A circuit is formed, and a magnetic field is detected by a first conductive magnetic film of the four conductive magnetic films disposed on the open end side of the shield core.

【0009】上記の基本構成において好ましくは、請求
項4の発明のように、複数本の導電性磁性膜として形成
されブリッジ回路を構成するように接続された第1から
第4の導電性磁性膜と、第1から第4の導電性磁性膜を
絶縁体膜を介して挟み込み、かつ第1から第4の導電性
磁性膜間を磁気的に遮蔽するように形成された1対のシ
ールド用軟磁性体と、第1から第4の導電性磁性膜に直
流磁界を印加する手段と、ブリッジ回路に信号を供給す
るための第1及び第2の電極端子と、ブリッジ回路の信
号を検出するための第3及び第4の電極端子と、第1及
び第2の電極端子に接続された高周波発信器と、第3及
び第4の電極端子に接続された高周波増幅器とを有する
構成とする。それにより、信号磁界により変化する第1
の導電性磁性膜のインピーダンスを、高周波キャリア信
号の変化として検出する。
In the above basic structure, preferably, the first to fourth conductive magnetic films formed as a plurality of conductive magnetic films and connected to form a bridge circuit are provided. And a pair of shielding soft films formed so as to sandwich the first to fourth conductive magnetic films via an insulator film and to magnetically shield between the first to fourth conductive magnetic films. A magnetic body, means for applying a DC magnetic field to the first to fourth conductive magnetic films, first and second electrode terminals for supplying a signal to the bridge circuit, and for detecting a signal of the bridge circuit And a high-frequency oscillator connected to the third and fourth electrode terminals, a high-frequency oscillator connected to the first and second electrode terminals, and a high-frequency amplifier connected to the third and fourth electrode terminals. As a result, the first signal changed by the signal magnetic field
Is detected as a change in the high-frequency carrier signal.

【0010】上記の構成において好ましくは、請求項5
の発明のように、高周波キャリア信号周波数におけるシ
ールド用軟磁性体の実効透磁率が、導電性磁性膜の実効
透磁率より小であるように構成される。また好ましく
は、請求項6の発明のように、導電性磁性膜の厚みを、
高周波キャリア信号周波数におけるスキンデプス以下に
構成する。また好ましくは、請求項7の発明のように、
導電性磁性膜に、高周波キャリア信号電流と、直流バイ
アスとしての直流電流とを重畳させて印加する。
Preferably, in the above configuration,
As in the invention, the effective magnetic permeability of the shielding soft magnetic material at the high-frequency carrier signal frequency is configured to be smaller than the effective magnetic permeability of the conductive magnetic film. Also preferably, as in the invention of claim 6, the thickness of the conductive magnetic film is
It is configured to have a skin depth or less at the high frequency carrier signal frequency. Also preferably, as in the invention of claim 7,
A high-frequency carrier signal current and a DC current as a DC bias are superimposed and applied to the conductive magnetic film.

【0011】また上記の基本構成において好ましくは、
請求項8の発明のように、導電性磁性膜に隣接してハー
ド膜を形成し、導電性磁性膜の整列方向に磁化すること
により、導電性磁性膜に直流バイアスとして直流磁界を
印加する構成とする。
Preferably, in the above basic configuration,
A structure in which a hard magnetic film is formed adjacent to the conductive magnetic film and magnetized in the direction in which the conductive magnetic film is aligned, thereby applying a DC magnetic field to the conductive magnetic film as a DC bias. And

【0012】本発明の磁気センサの製造方法は、請求項
9の発明のように、上記基本構成の磁気センサを製造す
る方法であって、磁性体の基板上に絶縁膜を形成する工
程と、絶縁膜上に導電性磁性膜を形成する工程と、導電
性磁性膜上に絶縁層を形成する工程と、形成した各層の
一部を基板面までエッチングして導電性磁性膜を複数本
に分離する工程と、その上から軟磁性膜を形成する工程
とを有する。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic sensor, comprising the steps of: forming an insulating film on a magnetic substrate; Forming a conductive magnetic film on the insulating film, forming an insulating layer on the conductive magnetic film, and etching a part of each of the formed layers to the substrate surface to separate the conductive magnetic film into a plurality of pieces. And forming a soft magnetic film thereon.

【0013】また、本発明の他の構成の磁気センサの製
造方法は、請求項8の発明に係る磁気センサを製造する
方法であって、非磁性基板上に軟磁性膜を形成する工程
と、軟磁性膜上に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜上に
導電性磁性膜を形成する工程と、導電性磁性膜に近接し
てハード膜を構成する工程と、導電性磁性膜上に絶縁層
を形成する工程と、形成した各層の一部を基板面までエ
ッチングして導電性磁性膜を複数本に分離する工程と、
その上から軟磁性膜を形成する工程とを有する。
A method of manufacturing a magnetic sensor according to another aspect of the present invention is a method of manufacturing a magnetic sensor according to the invention of claim 8, comprising the steps of: forming a soft magnetic film on a nonmagnetic substrate; Forming an insulating film on the soft magnetic film, forming a conductive magnetic film on the insulating film, forming a hard film in close proximity to the conductive magnetic film, and insulating on the conductive magnetic film A step of forming a layer, and a step of etching a part of each formed layer to the substrate surface to separate the conductive magnetic film into a plurality of layers,
Forming a soft magnetic film thereon.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】まず、本発明の原理について説明
する。導体に電流を流してこのときに発生する磁束と電
流の差交数によってインダクタンスが決定することは、
電磁気学的に周知のことである。その場合のインダクタ
ンスは、導体内部の電流と導体内部に発生した磁束で決
まるインダクタンスを内部インダクタンスと、導体内部
を流れる電流と導体の外部に発生する磁束で決まる外部
インダクタンスとに分けて考えることができる。したが
って、例えば、磁性体の周りに非磁性の導体線を巻いた
ときのインダクタンスや、非磁性の導体の周りに軟磁性
体を形成したときのインダクタンスは、外部インダクタ
ンスと見てよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, the principle of the present invention will be described. The fact that the inductance is determined by the number of crossings between the magnetic flux generated at this time and the current flowing through the conductor,
It is well known electromagnetically. In such a case, the inductance determined by the current inside the conductor and the magnetic flux generated inside the conductor can be divided into an internal inductance and the external inductance determined by the current flowing inside the conductor and the magnetic flux generated outside the conductor. . Therefore, for example, the inductance when a non-magnetic conductor wire is wound around a magnetic material or the inductance when a soft magnetic material is formed around a non-magnetic conductor may be regarded as an external inductance.

【0015】従来の磁気ヘッドの信号の検出法として
は、MRやGMRなどの様に抵抗変化を利用する方法、
MI効果のように渦電流を利用し磁界で変化するスキン
デプスにおける抵抗変化により信号を検出する方法、ま
た、上記従来技術に示した様に、軟磁性体とSiO2膜を積
層した膜によって導電性金属膜を挟み込んだ形に形成す
ることによって、外部インピーダンスを利用して、信号
磁界印加によるインピーダンス変化を検出する方法があ
る。
As a conventional method for detecting a signal from a magnetic head, a method using a resistance change such as MR or GMR,
A method of detecting a signal by a resistance change in a skin depth that changes by a magnetic field using an eddy current as in the MI effect, and a conductive film formed by laminating a soft magnetic material and an SiO 2 film as described in the above prior art. There is a method of detecting an impedance change due to application of a signal magnetic field by using an external impedance by forming a conductive metal film in a sandwiched state.

【0016】本発明の検出方法は、リボン状の導電性磁
性薄膜における内部インダクタンスの、信号磁界による
変化を主として検出するものである。一般に導電性金属
膜では、その厚みが減少するにつれて抵抗成分が増加す
ることはよく知られている。導体金属膜の周りに軟磁性
体膜を形成し、外部インピーダンスを利用する従来例の
場合でも、抵抗成分は磁気回路を貫通する導体膜の断面
積に関係すること、金属導体の断面積を小さくし、長さ
を長くすると、磁界によって変化しない抵抗成分が極め
て大きくなって、信号磁界によるインピーダンスの変化
が大幅にマスクされることが分かった。したがって、非
常に大きくなる抵抗成分を相殺して、変化分のみを検出
することが求められる。
The detection method of the present invention mainly detects a change in the internal inductance of a ribbon-shaped conductive magnetic thin film due to a signal magnetic field. In general, it is well known that the resistance component of a conductive metal film increases as its thickness decreases. Even in the case of a conventional example in which a soft magnetic film is formed around a conductive metal film and the external impedance is used, the resistance component is related to the cross-sectional area of the conductive film penetrating the magnetic circuit, and the cross-sectional area of the metal conductor is reduced. However, it was found that when the length was increased, the resistance component that did not change due to the magnetic field became extremely large, and the change in impedance due to the signal magnetic field was largely masked. Therefore, it is necessary to cancel out the extremely large resistance component and detect only the change.

【0017】本発明においては、シールド型磁気センサ
のシールドコア間に、互いに遮蔽して配置した複数の導
電性磁性体膜により簡単なホイーストンブリッジ回路を
構成する。それにより、軟磁性体膜が薄くなることによ
って大幅に増加する抵抗成分を相殺し、信号磁界(外部
磁界)によって変化するインピーダンス成分のみを、高
い指向性で、高感度に検出することができる。
In the present invention, a simple Wheatstone bridge circuit is constituted by a plurality of conductive magnetic films that are arranged so as to be shielded from each other between shield cores of a shield type magnetic sensor. As a result, the resistance component, which greatly increases due to the thinning of the soft magnetic film, is canceled out, and only the impedance component that changes due to the signal magnetic field (external magnetic field) can be detected with high directivity and high sensitivity.

【0018】(実施の形態1)以下、図1〜図7を参照
して、実施の形態1における磁気センサについて詳細に
説明する。
(Embodiment 1) Hereinafter, a magnetic sensor according to Embodiment 1 will be described in detail with reference to FIGS.

【0019】図1は、動作原理を示すために、実施の形
態1における磁気センサの一部を示した斜視図である。
本発明のシールドの効果について説明する。矢印1、
2、3はそれぞれ、磁気センサ素子4の長手方向、厚み
方向、幅方向を示す。シールド用軟磁性膜膜9とシール
ド用磁性基板8の間に、FeTaN膜からなる導電性磁性膜
6が、SiO2からなる絶縁層7を介して配置されている。
導電性磁性膜6には、Cu導電性膜からなるリード5が接
続されている。リード5は、キャリア信号、直流バイア
スを印加し、また、信号を検出する電極端子に接続され
る。ここで矢印1方向から加わる磁界をHl、矢印2方
向から加わる磁界をHt、矢印3方向から加わる磁界を
Hwとする。これらの磁界によって生じる磁束はそれぞ
れ、図2及び図3に示すように流れる。
FIG. 1 is a perspective view showing a part of the magnetic sensor according to the first embodiment to show the principle of operation.
The effect of the shield of the present invention will be described. Arrow 1,
2, 3 indicate the longitudinal direction, the thickness direction, and the width direction of the magnetic sensor element 4, respectively. A conductive magnetic film 6 made of an FeTaN film is disposed between a soft magnetic film film 9 for a shield and a magnetic substrate 8 for a shield via an insulating layer 7 made of SiO 2 .
The lead 5 made of a Cu conductive film is connected to the conductive magnetic film 6. The lead 5 applies a carrier signal and a DC bias, and is connected to an electrode terminal for detecting a signal. Here, the magnetic field applied from the direction of arrow 1 is Hl, the magnetic field applied from the direction of arrow 2 is Ht, and the magnetic field applied from the direction of arrow 3 is Hw. The magnetic fluxes generated by these magnetic fields flow as shown in FIGS. 2 and 3, respectively.

【0020】図2は、図1における(g)-(h)-(i)断面を
矢印3の方向から見た図である。磁界Hlが矢印1方向
から加わると、中心部の磁束10、11、14は導電性
磁性膜6を通過して、シールド用軟磁性膜9及びシール
ド用磁性基板8から構成されたシールドコア部を通過す
る。それ以外の磁束12、13、15、16は、センサ
である導電性磁性膜6を通らずに流れる。したがって、
極めて指向性の高い磁気センサになり得る。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line (g)-(h)-(i) in FIG. When a magnetic field Hl is applied from the direction of arrow 1, the magnetic fluxes 10, 11, and 14 at the central portion pass through the conductive magnetic film 6 and pass through the shield core portion composed of the soft magnetic film 9 for shield and the magnetic substrate 8 for shield. pass. The other magnetic fluxes 12, 13, 15, 16 flow without passing through the conductive magnetic film 6, which is a sensor. Therefore,
It can be a magnetic sensor with extremely high directivity.

【0021】図3は、図1における矢印2の方向に加わ
る磁界Htによって生じる磁束を、(g)-(h)-(i)断面にお
いて矢印3の方向から見た図である。磁束17、18、
19、20はそのままシールドコア部を通過し、導電性
磁性膜6の位置近傍に入射する磁束21、22も、図に
示されるように迂回して通過する。したがって厚み方向
の磁束には、センサはほとんど応答しない。
FIG. 3 is a diagram showing the magnetic flux generated by the magnetic field Ht applied in the direction of arrow 2 in FIG. 1 as viewed from the direction of arrow 3 in the section (g)-(h)-(i). Magnetic flux 17, 18,
19 and 20 pass through the shield core portion as they are, and magnetic fluxes 21 and 22 incident near the position of the conductive magnetic film 6 also bypass and pass as shown in the figure. Therefore, the sensor hardly responds to the magnetic flux in the thickness direction.

【0022】矢印3方向に加わる磁界Hwにはセンサが
応答することもあるが、この成分は以下に述べるブリッ
ジ回路と磁気センサによって相殺される。また、この成
分の影響は、シールド用磁性基板8の幅とシールド用軟
磁性膜9の幅を、導電性磁性膜6の幅より十分広くする
ことがによって、十分に小さくを抑えることができる。
The sensor may respond to the magnetic field Hw applied in the direction of arrow 3, but this component is canceled by the bridge circuit and the magnetic sensor described below. The influence of this component can be suppressed sufficiently small by making the width of the shielding magnetic substrate 8 and the width of the shielding soft magnetic film 9 sufficiently larger than the width of the conductive magnetic film 6.

【0023】図4は、実施の形態1における磁気センサ
素子の構成およびその製造方法を説明するための側面断
面図である。
FIG. 4 is a side sectional view for explaining the structure of the magnetic sensor element according to the first embodiment and a method for manufacturing the same.

【0024】図4(A)に示すように、フォトリソ技術を
用いて、MnZnフェライトからなるシールド用磁性基板2
3上にSiO2からなる絶縁膜24を形成する。次に第1の
導電性磁性膜25a、第2の導電性磁性膜25b、第3
の導電性磁性体25c、及び第4の導電性磁性膜25d
からなる4本の導電性磁性膜25を形成する。さらに各
導電性磁性膜25上にSiO2からなる絶縁膜26を形成し
た後、CoNbZrとSiO2の積層膜からなるシールド用軟磁性
膜27を形成する。このように、シールド用磁性基板2
3とCoNbZrのシールド用軟磁性膜27とにより、第1〜
第4の導電性磁性膜25a〜25d間を磁気的に遮蔽し
た構造とする。
As shown in FIG. 4A, using a photolithographic technique, a shield magnetic substrate 2 made of MnZn ferrite is used.
An insulating film 24 made of SiO 2 is formed on 3. Next, the first conductive magnetic film 25a, the second conductive magnetic film 25b,
Conductive magnetic material 25c and fourth conductive magnetic film 25d
Four conductive magnetic films 25 are formed. Further, after forming an insulating film 26 made of SiO 2 on each conductive magnetic film 25, a soft magnetic film 27 for shielding made of a laminated film of CoNbZr and SiO 2 is formed. Thus, the shielding magnetic substrate 2
3 and the shield soft magnetic film 27 of CoNbZr,
The fourth conductive magnetic films 25a to 25d are magnetically shielded from each other.

【0025】次に (j)-(k)断面で切断・研摩して、図4
(B)に示すように、第1の導電性磁性膜25aを磁気的
に露出させ、外部磁界を検出できるようにする。なお、
この端面に、非磁性のオーバコート層を設けても性能に
は差し支えない。
Next, the wafer is cut and polished on the cross section (j)-(k), and FIG.
As shown in (B), the first conductive magnetic film 25a is magnetically exposed so that an external magnetic field can be detected. In addition,
Even if a non-magnetic overcoat layer is provided on this end face, the performance is not affected.

【0026】この磁気センサ素子を用いて構成した磁気
センサの平面図を図5に示す。図5は、4本の導電性磁
性膜25a〜dを厚み方向に見た図である。直流電源2
9から直流バイアスを供給し、高周波発信器30から高
周波キャリア信号を供給して、両者を重畳させ、抵抗3
1を介して導電性磁性膜25に印加する。第1の導電性
磁性膜25aおよび第4の導電性磁性膜25dの右端は
接点(a)に接続され、第2の導電性磁性膜25bおよ
び第3の導電性磁性膜25cの右端は接点(c)に接続
されている。高周波信号発生器7からの高周波信号は、
接点(a)及び(c)間に印加される。
FIG. 5 is a plan view of a magnetic sensor constituted by using this magnetic sensor element. FIG. 5 is a diagram in which four conductive magnetic films 25a to 25d are viewed in the thickness direction. DC power supply 2
9 supplies a DC bias, supplies a high-frequency carrier signal from a high-frequency oscillator 30, superimposes both,
1 is applied to the conductive magnetic film 25. The right ends of the first conductive magnetic film 25a and the fourth conductive magnetic film 25d are connected to the contact (a), and the right ends of the second conductive magnetic film 25b and the third conductive magnetic film 25c are the contact ( c). The high frequency signal from the high frequency signal generator 7 is
Applied between contacts (a) and (c).

【0027】第1の導電性磁性膜25aおよび第2の導
電性磁性膜25bの左端は接点(b)に接続され、第3
の導電性磁性膜25cおよび第4の導電性磁性膜25d
の左端は接点(d)に接続されている。接点(b)及び
(d)は各々、電極端子(f)及び(e)を介して高周
波増幅器34に接続されている。
The left ends of the first conductive magnetic film 25a and the second conductive magnetic film 25b are connected to the contact (b),
Conductive magnetic film 25c and fourth conductive magnetic film 25d
Is connected to the contact (d). The contacts (b) and (d) are connected to the high-frequency amplifier 34 via the electrode terminals (f) and (e), respectively.

【0028】この構成における、導電性磁性膜25、接
点(a)、(b)、(c)、(d)の配置により、図6
に示すように、ホイーストンブリッジ回路が構成されて
いる。すなわち、第1〜第4の導電性磁性膜25a〜2
5dは各々、インピーダンスZ1、Z2、Z3、Z4と
してブリッジ回路を構成し、接点(a)及び(c)間に
高周波信号発生器30から高周波信号が印加される。そ
のブリッジ回路の出力が、接点(b)及び(d)間で検
出される。インピーダンスZ1、Z2、Z3、Z4が各
々等しい場合には接点(b)及び(d)間には電圧が生
じない。
In this configuration, the arrangement of the conductive magnetic film 25 and the contacts (a), (b), (c), and (d) allows the arrangement shown in FIG.
As shown in the figure, a Wheatstone bridge circuit is configured. That is, the first to fourth conductive magnetic films 25a to 25a
5d each constitute a bridge circuit as impedances Z1, Z2, Z3 and Z4, and a high frequency signal is applied from the high frequency signal generator 30 between the contacts (a) and (c). The output of the bridge circuit is detected between contacts (b) and (d). When the impedances Z1, Z2, Z3, Z4 are equal to each other, no voltage is generated between the contacts (b) and (d).

【0029】このように構成した磁気センサでは、図5
における外部磁界Hexが矢印33の方向から加わると、
外部磁界から発生した磁束は前述したシールド効果にし
たがって、第2、第3、第4の導電性磁性膜25b〜d
を通らず、第1の導電性磁性膜25aのみを通ってシー
ルド用軟磁性膜27及びシールド用磁性基板23に流れ
る。したがって、外部磁界は第1の導電性磁性膜25a
のみにより検出される。他の磁束はシールド用軟磁性膜
27及びシールド用磁性基板23を通過するため、検出
される出力には反映されない。
In the magnetic sensor configured as described above, FIG.
Is applied from the direction of arrow 33,
The magnetic flux generated from the external magnetic field is applied to the second, third, and fourth conductive magnetic films 25b to 25d in accordance with the above-described shield effect.
Instead, it flows to the shielding soft magnetic film 27 and the shielding magnetic substrate 23 only through the first conductive magnetic film 25a. Therefore, an external magnetic field is applied to the first conductive magnetic film 25a.
Only detected by. The other magnetic flux passes through the shielding soft magnetic film 27 and the shielding magnetic substrate 23 and is not reflected on the detected output.

【0030】このシールド型磁気センサでは、外部磁界
が無い場合には、4本の導電性磁性膜25のインピーダ
ンスが等しいため、ブリッジ回路の出力の電極端子
(e)及び(f)間には出力電圧が発生しない。外部磁
界が加わると第1の導電性磁性膜25aにのみ磁束が流
れるため、第1の導電性磁性膜25aのインピーダンス
Z1のみが変化し、磁界によって変化しないインピーダ
ンス成分は相殺される。また、幅方向に加わる地磁気な
どの様な磁界は、センサの寸法が小さく、4本の導電性
磁性膜25にほぼ均等に加わるため、ブリッジによって
相殺される成分の一つとなる。したがって信号磁界(外
部磁界)によるインピーダンス変化分のみが、ブリッジ
回路の出力として電極端子(e)及び(f)間に検出さ
れる。この外部磁界によって発生する信号を、高周波増
幅器34により増幅して出力する。
In this shielded magnetic sensor, when there is no external magnetic field, since the impedance of the four conductive magnetic films 25 is equal, the output is provided between the electrode terminals (e) and (f) of the output of the bridge circuit. No voltage is generated. When an external magnetic field is applied, a magnetic flux flows only in the first conductive magnetic film 25a, so that only the impedance Z1 of the first conductive magnetic film 25a changes, and the impedance component not changed by the magnetic field is canceled. Further, a magnetic field such as geomagnetism applied in the width direction is one of the components canceled by the bridge because the dimensions of the sensor are small and are applied almost equally to the four conductive magnetic films 25. Therefore, only the change in impedance due to the signal magnetic field (external magnetic field) is detected between the electrode terminals (e) and (f) as the output of the bridge circuit. The signal generated by the external magnetic field is amplified by the high frequency amplifier 34 and output.

【0031】なお、接点(a)、(b)、(c)、
(d)は、導電性の良いCu、Al、Au、Agなどの
導電性の良い材料膜で、なるべく厚めに形成することに
よって、精度の良好なブリッジ回路を形成できる。ま
た、導電性磁性膜25とシールドコアの材料の実効透磁
率の周波数特性は、図7に示すように調整する。図7に
おいて、前者の実効透磁率がμ1、後者の実効透磁率が
μcで示される。高周波キャリア信号周波数を1GHzとし
た時、実効透磁率μ1が実効透磁率μcより大となるよ
うに構成する。それにより、高周波キャリア信号と外部
磁界に応答する領域を、導電性磁性膜とシールドコアに
よって役割を分担する形になっている。
The contacts (a), (b), (c),
(D) is a material film of good conductivity, such as Cu, Al, Au, Ag, etc., which is formed as thick as possible to form a bridge circuit with good accuracy. The frequency characteristics of the effective magnetic permeability of the material of the conductive magnetic film 25 and the shield core are adjusted as shown in FIG. In FIG. 7, the effective magnetic permeability of the former is represented by μ1, and the effective magnetic permeability of the latter is represented by μc. When the high-frequency carrier signal frequency is 1 GHz, the effective magnetic permeability μ1 is configured to be larger than the effective magnetic permeability μc. As a result, the region responding to the high-frequency carrier signal and the external magnetic field is divided by the conductive magnetic film and the shield core.

【0032】上記の磁気センサにおいては、導電性磁性
膜25としてFeTaN膜を用いたが、NiFe、FeCo系、FeN系
などの軟磁性体の全てが有効である。また、シールド用
軟磁性基板としてMnZnフェライトを用いが、NiZnなどフ
ェライト系基板、セラミック、ガラスなど非磁性基板上
にシールド用磁性薄膜を形成して用いることも有効であ
る。
In the above magnetic sensor, the FeTaN film is used as the conductive magnetic film 25, but all soft magnetic materials such as NiFe, FeCo and FeN are effective. Also, MnZn ferrite is used as the soft magnetic substrate for shielding, but it is also effective to form a magnetic thin film for shielding on a nonmagnetic substrate such as a ferrite substrate such as NiZn or ceramic or glass.

【0033】(実施の形態2)図8は、実施の形態2に
おけるシールド型磁気センサの断面図を示す。本実施の
形態2における磁気センサは、基本的な構造および動作
原理は実施の形態1と同様であるので、同一の要素につ
いては同一の参照符号を付して、詳細な説明については
省略する。実施の形態1との違いは、直流バイアスを加
える手段として、第1〜第4の導電性磁性膜25a〜2
5dとそれぞれ隣接して、CoPtハード膜35、36、3
7、38が形成されていることである。これらを素子の
長手方向に磁化することによって磁石を形成し、実施の
形態1における直流バイアス電流の代わりに用いる。こ
れにより、携帯用の機器に搭載する際には、電力を大幅
に減少させることができる。
(Embodiment 2) FIG. 8 is a sectional view of a shielded magnetic sensor according to Embodiment 2. The magnetic sensor according to the second embodiment has the same basic structure and operating principle as those of the first embodiment. Therefore, the same elements are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted. The difference from the first embodiment is that the first to fourth conductive magnetic films 25 a to 25
5D, the CoPt hard films 35, 36, 3
7 and 38 are formed. These are magnetized in the longitudinal direction of the element to form a magnet, which is used instead of the DC bias current in the first embodiment. Thus, when mounted on a portable device, the power can be significantly reduced.

【0034】なお、実施の形態1及び2では導電性磁性
薄膜25としてFeTaN膜を用いたが、パーマロイな
ど比抵抗の小さな磁性体の方が適している。FeTaN
膜の比抵抗が75Ω・cmであるのに対して、パーマロ
イ膜の比抵抗は20Ω・cmであり、例えば膜厚が500
Å、長さが0.5μm、幅が0.5μmの場合、15オーム程
度から4オーム程度まで引き下げることができる。磁界
によって変化するインピーダンスに対して、相殺する抵
抗値が大幅に大きい場合には、相殺する誤差が大きくな
るため、比抵抗の小さな材料を選ぶことが有効である。
Although the FeTaN film is used as the conductive magnetic thin film 25 in the first and second embodiments, a magnetic material having a small specific resistance such as permalloy is more suitable. FeTaN
While the specific resistance of the film is 75 Ω · cm, the specific resistance of the permalloy film is 20 Ω · cm, for example, when the film thickness is 500
Å, When the length is 0.5 μm and the width is 0.5 μm, it can be reduced from about 15 ohms to about 4 ohms. If the resistance value that cancels out with respect to the impedance that changes due to the magnetic field is significantly large, the error that cancels out increases, so that it is effective to select a material having a small specific resistance.

【0035】また、ギャップを形成している絶縁膜2
4、26としてSiO2を用いた例を示したが、アルミナ、
ガラスなどの無機質の誘電体膜が有効である、またシー
ルド用軟磁性体膜27として、渦電流が生じないように
CoNbZr金属磁性体とSiO2との積層膜を用いたが、他の金
属磁性体としてFe系及びCo系金属磁性体、フェライ
ト酸化物なども有効である。また、ハード膜としてはBa
フェライトやNb系、Co系磁石等全てのハード膜が有効で
ある。
Further, the insulating film 2 forming the gap
Examples in which SiO 2 was used as 4 , 26 were shown.
An inorganic dielectric film such as glass is effective, and as the soft magnetic film 27 for shielding, an eddy current is not generated.
Although a laminated film of CoNbZr metal magnetic material and SiO 2 is used, other metal magnetic materials such as Fe-based and Co-based metal magnetic materials and ferrite oxide are also effective. Also, as the hard film, Ba
All hard films such as ferrite, Nb-based, and Co-based magnets are effective.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明によれば、複数本の導電性磁性膜
を、シールドコアにより磁気的に遮蔽するように配置す
ることにより、信号磁界によって変化しないインピーダ
ンス成分を相殺し、信号磁界によって変化するインピー
ダンス成分のみを検出する、指向性の優れた高周波キャ
リア型磁気センサを実現できる。
According to the present invention, by arranging a plurality of conductive magnetic films so as to be magnetically shielded by the shield core, impedance components which are not changed by the signal magnetic field are canceled out and changed by the signal magnetic field. A high-frequency carrier-type magnetic sensor having excellent directivity, which detects only the impedance component to be changed, can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における磁気センサの動
作原理を示す斜視図
FIG. 1 is a perspective view showing an operation principle of a magnetic sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1における磁気センサの動
作原理を示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing the operation principle of the magnetic sensor according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1における磁気センサの動
作原理を示す断面図
FIG. 3 is a sectional view showing the operation principle of the magnetic sensor according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1における磁気センサ素子
を示す側面断面図
FIG. 4 is a side sectional view showing the magnetic sensor element according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図4の磁気センサ素子を用いて構成した磁気セ
ンサを示す平面図
FIG. 5 is a plan view showing a magnetic sensor constituted by using the magnetic sensor element of FIG. 4;

【図6】図5において磁気センサ素子により形成される
ブリッジ回路を示す図
FIG. 6 is a diagram showing a bridge circuit formed by the magnetic sensor element in FIG.

【図7】本発明の磁気センサに用いる磁気材料の透磁率
特性図
FIG. 7 is a magnetic permeability characteristic diagram of a magnetic material used for the magnetic sensor of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2における磁気センサの断
面図
FIG. 8 is a sectional view of a magnetic sensor according to a second embodiment of the present invention.

【図9】従来のMI素子の動作原理図FIG. 9 is a diagram illustrating the operation principle of a conventional MI element.

【図10】従来のMI素子の動作カーブを示す図FIG. 10 is a diagram showing an operation curve of a conventional MI element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1〜3 矢印 4 磁気センサ素子 5 リード 6 導電性磁性膜 7 絶縁層 8 シールド用磁性基板 9 シールド用軟磁性膜 10〜22 磁束 23 シールド用磁性基板 24、26 絶縁膜 25a〜25d 導電性磁性膜 27 シールド用軟磁性膜 29 直流電源 30 高周波発信器 31 抵抗 33 矢印 34 高周波増幅器 35〜38 ハード膜 101 検出導体膜 102 トラック幅 103 パーマロイ 104 SiO2 105、106 軟磁性コア 108 抵抗 109 電流 110、111 端子 112 直流バイアス1 to 3 arrow 4 magnetic sensor element 5 lead 6 conductive magnetic film 7 insulating layer 8 shielding magnetic substrate 9 shielding soft magnetic film 10 to 22 magnetic flux 23 shielding magnetic substrate 24, 26 insulating film 25a to 25d conductive magnetic film 27 Soft magnetic film for shielding 29 DC power supply 30 High frequency oscillator 31 Resistance 33 Arrow 34 High frequency amplifier 35-38 Hard film 101 Detection conductor film 102 Track width 103 Permalloy 104 SiO 2 105, 106 Soft magnetic core 108 Resistance 109 Current 110, 111 Terminal 112 DC bias

フロントページの続き (72)発明者 村田 明夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2G017 AA03 AC01 AC09 AD69 5E049 AA00 BA16 CB00 EB05 Continued on the front page (72) Inventor Akio Murata 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 2G017 AA03 AC01 AC09 AD69 5E049 AA00 BA16 CB00 EB05

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方向に互いに平行に整列して配置され
た複数本の導電性磁性膜と、前記各々の導電性磁性膜間
を磁気的に遮蔽する軟磁性膜を含むシールドコアとを備
えたことを特徴とするシールド型磁気センサ。
1. A semiconductor device comprising: a plurality of conductive magnetic films arranged in parallel with each other in one direction; and a shield core including a soft magnetic film for magnetically shielding between the conductive magnetic films. A shield type magnetic sensor characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記シールドコアは、前記複数本の導電
性磁性膜のうち一方の端部に配置された導電性磁性膜の
箇所において開放されていることを特徴とする請求項1
記載の磁気センサ。
2. The method according to claim 1, wherein the shield core is open at a portion of the conductive magnetic film disposed at one end of the plurality of conductive magnetic films.
A magnetic sensor as described.
【請求項3】 前記複数本の導電性磁性膜は第1から第
4の導電性磁性膜を含み、前記4本の導電性磁性膜を相
互に接続してブリッジ回路を構成し、前記4本の導電性
磁性膜のうち、前記シールドコアの開放端側に配置され
た前記第1の導電性磁性膜によって磁界を検出すること
を特徴とする請求項2記載の磁気センサ。
3. The plurality of conductive magnetic films include first to fourth conductive magnetic films, and the four conductive magnetic films are connected to each other to form a bridge circuit. The magnetic sensor according to claim 2, wherein the magnetic field is detected by the first conductive magnetic film disposed on the open end side of the shield core among the conductive magnetic films.
【請求項4】 前記複数本の導電性磁性膜として形成さ
れブリッジ回路を構成するように接続された第1から第
4の導電性磁性膜と、前記第1から第4の導電性磁性膜
を絶縁体膜を介して挟み込み、かつ前記第1から第4の
導電性磁性膜間を磁気的に遮蔽するように形成された1
対のシールド用軟磁性体と、前記第1から第4の導電性
磁性膜に直流磁界を印加する手段と、前記ブリッジ回路
に信号を供給するための第1及び第2の電極端子と、前
記ブリッジ回路の信号を検出するための第3及び第4の
電極端子と、前記第1及び第2の電極端子に接続された
高周波発信器と、前記第3及び第4の電極端子に接続さ
れた高周波増幅器とを有し、信号磁界により変化する前
記第1の導電性磁性膜のインピーダンスを高周波キャリ
ア信号の変化として検出することを特徴とする請求項1
記載の磁気センサ。
4. A first to a fourth conductive magnetic film formed as the plurality of conductive magnetic films and connected to form a bridge circuit, and the first to the fourth conductive magnetic films. 1 formed so as to be sandwiched with an insulating film therebetween and to magnetically shield between the first to fourth conductive magnetic films.
A pair of soft magnetic members for shielding, means for applying a DC magnetic field to the first to fourth conductive magnetic films, first and second electrode terminals for supplying a signal to the bridge circuit, Third and fourth electrode terminals for detecting a signal of the bridge circuit, a high-frequency oscillator connected to the first and second electrode terminals, and a high-frequency oscillator connected to the third and fourth electrode terminals 2. A high-frequency amplifier, wherein an impedance of the first conductive magnetic film, which changes due to a signal magnetic field, is detected as a change in a high-frequency carrier signal.
A magnetic sensor as described.
【請求項5】 前記高周波キャリア信号周波数における
前記シールド用軟磁性体の実効透磁率が、前記導電性磁
性膜の実効透磁率より小であることを特徴とする請求項
4記載の磁気センサ。
5. The magnetic sensor according to claim 4, wherein the effective magnetic permeability of the shielding soft magnetic material at the high-frequency carrier signal frequency is smaller than the effective magnetic permeability of the conductive magnetic film.
【請求項6】 前記導電性磁性膜の厚みを、前記高周波
キャリア信号周波数におけるスキンデプス以下に構成し
たことを特徴とする請求項4記載の磁気センサ。
6. The magnetic sensor according to claim 4, wherein the conductive magnetic film has a thickness equal to or less than a skin depth at the high-frequency carrier signal frequency.
【請求項7】 前記導電性磁性膜に、前記高周波キャリ
ア信号電流と、直流バイアスとしての直流電流とを重畳
させて印加することを特徴とする請求項第4記載の磁気
センサ。
7. The magnetic sensor according to claim 4, wherein the high-frequency carrier signal current and a DC current as a DC bias are applied to the conductive magnetic film in a superimposed manner.
【請求項8】 前記導電性磁性膜に隣接してハード膜を
形成し、前記導電性磁性膜の整列方向に磁化することに
より、前記導電性磁性膜に直流バイアスとして直流磁界
を印加することを特徴とする請求項1記載の磁気セン
サ。
8. A method for applying a DC magnetic field as a DC bias to the conductive magnetic film by forming a hard film adjacent to the conductive magnetic film and magnetizing the hard film in an alignment direction of the conductive magnetic film. The magnetic sensor according to claim 1, wherein:
【請求項9】 請求項1に記載の磁気センサを製造する
方法であって、磁性体の基板上に絶縁膜を形成する工程
と、前記絶縁膜上に導電性磁性膜を形成する工程と、前
記導電性磁性膜上に絶縁層を形成する工程と、形成した
前記各層の一部を基板面までエッチングして前記導電性
磁性膜を複数本に分離する工程と、その上から軟磁性膜
を形成する工程とを有することを特徴とする磁気センサ
の製造方法。
9. A method for manufacturing a magnetic sensor according to claim 1, wherein an insulating film is formed on a magnetic substrate, and a conductive magnetic film is formed on the insulating film. A step of forming an insulating layer on the conductive magnetic film, a step of etching a part of each of the formed layers up to a substrate surface to separate the conductive magnetic film into a plurality of layers, and forming a soft magnetic film thereon. Forming a magnetic sensor.
【請求項10】 請求項8に記載の磁気センサを製造す
る方法であって、非磁性基板上に軟磁性膜を形成する工
程と、前記軟磁性膜上に絶縁膜を形成する工程と、前記
絶縁膜上に導電性磁性膜を形成する工程と、前記導電性
磁性膜に近接してハード膜を構成する工程と、前記導電
性磁性膜上に絶縁層を形成する工程と、形成した前記各
層の一部を基板面までエッチングして前記導電性磁性膜
を複数本に分離する工程と、その上から軟磁性膜を形成
する工程とを有することを特徴とする磁気センサの製造
方法。
10. A method for manufacturing a magnetic sensor according to claim 8, wherein: a step of forming a soft magnetic film on a non-magnetic substrate; a step of forming an insulating film on the soft magnetic film; Forming a conductive magnetic film on an insulating film, forming a hard film in close proximity to the conductive magnetic film, forming an insulating layer on the conductive magnetic film, and forming each of the formed layers And a step of forming a soft magnetic film on the conductive magnetic film by separating a part of the conductive magnetic film by etching a part of the conductive magnetic film to a substrate surface.
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