JP2002347164A - 配向薄膜及びその製造方法 - Google Patents
配向薄膜及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ディオキシリボ核酸を含む材料により形成され
た光学的異方性を示す薄膜を基板上に固定した、光電子
技術分野に容易に利用可能な配向薄膜及び該配向薄膜を
容易に得る製造方法を提供すること。 【解決手段】本発明の配向薄膜は、基板と、ディオキシ
リボ核酸を含む材料により形成された薄膜とを備え、該
薄膜が、該基板上に自ら付着しており、且つ光学的異方
性を示すことを特徴とし、本発明の製造法は、ポリテト
ラフルオロエチレンの配向基板上に、ディオキシリボ核
酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成、固定することを
特徴とする。
た光学的異方性を示す薄膜を基板上に固定した、光電子
技術分野に容易に利用可能な配向薄膜及び該配向薄膜を
容易に得る製造方法を提供すること。 【解決手段】本発明の配向薄膜は、基板と、ディオキシ
リボ核酸を含む材料により形成された薄膜とを備え、該
薄膜が、該基板上に自ら付着しており、且つ光学的異方
性を示すことを特徴とし、本発明の製造法は、ポリテト
ラフルオロエチレンの配向基板上に、ディオキシリボ核
酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成、固定することを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光電子技術の分野
で有用な光学的異方性を有する配向薄膜及びその製造方
法に関する。
で有用な光学的異方性を有する配向薄膜及びその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】異方性の高い配向薄膜は、光学材料や電
子材料の分野において多くの用途を有する。配向させる
べき分子の種類および必要な配向の程度は、一般に要求
される光学的または電気的な異方性の種類によって若干
異なる。しかし、一般にいかなる場合でも高い配向が好
ましい傾向にある。その理由は、配向薄膜での光学的ま
たは電気的な異方性、例えば屈折率異方性、二色性、キ
ャリア移動度等は、配向薄膜を構成する分子の配向に著
しく大きな影響を受けるためである。したがって、要求
される異方性の種類にかかわらず、配向させることが必
要とされる分子のそれぞれについても高度に配向した配
向薄膜が望まれる。
子材料の分野において多くの用途を有する。配向させる
べき分子の種類および必要な配向の程度は、一般に要求
される光学的または電気的な異方性の種類によって若干
異なる。しかし、一般にいかなる場合でも高い配向が好
ましい傾向にある。その理由は、配向薄膜での光学的ま
たは電気的な異方性、例えば屈折率異方性、二色性、キ
ャリア移動度等は、配向薄膜を構成する分子の配向に著
しく大きな影響を受けるためである。したがって、要求
される異方性の種類にかかわらず、配向させることが必
要とされる分子のそれぞれについても高度に配向した配
向薄膜が望まれる。
【０００３】一方、ディオキシリボ核酸は、二重螺旋構
造を有し、各塩基対は分子鎖に対してほぼ垂直に整列し
ている。したがって、ディオキシリボ核酸分子鎖を一方
向に並べて配向薄膜材料を作製できれば、配向薄膜中で
各塩基対は高度に配向して、各種の光学的ないし電気的
な異方性が発現する。すでに岡畑らにより、ディオキシ
リボ核酸とある種のアンモニウム化合物のポリイオン複
合体からなるフィルムが作製できること、更に、これを
延伸することによって、配向したディオキシリボ核酸分
子鎖からなるフィルムが作製できることが報告されてい
る(ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ（Journal of American ChemicalSociety）、第1
18巻、44号、10679頁（1996）)。しかしながら、これら
のフィルムは独立したフリースタンディングフィルムで
ある。一般に光電子分野のデバイスでは、平坦な基板上
に素子を構築するために、基板上に堆積させて形成した
薄膜を用いて素子を作成する。ところが、ディオキシリ
ボ核酸を含む配向薄膜を直接基板上に簡便に形成する方
法はまだ知られていない。このような配向薄膜は、高い
光学的異方性が期待できる。そのため、光デバイス用ま
たは電子デバイス用の材料として広範な工業的利用が可
能である。
造を有し、各塩基対は分子鎖に対してほぼ垂直に整列し
ている。したがって、ディオキシリボ核酸分子鎖を一方
向に並べて配向薄膜材料を作製できれば、配向薄膜中で
各塩基対は高度に配向して、各種の光学的ないし電気的
な異方性が発現する。すでに岡畑らにより、ディオキシ
リボ核酸とある種のアンモニウム化合物のポリイオン複
合体からなるフィルムが作製できること、更に、これを
延伸することによって、配向したディオキシリボ核酸分
子鎖からなるフィルムが作製できることが報告されてい
る(ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ（Journal of American ChemicalSociety）、第1
18巻、44号、10679頁（1996）)。しかしながら、これら
のフィルムは独立したフリースタンディングフィルムで
ある。一般に光電子分野のデバイスでは、平坦な基板上
に素子を構築するために、基板上に堆積させて形成した
薄膜を用いて素子を作成する。ところが、ディオキシリ
ボ核酸を含む配向薄膜を直接基板上に簡便に形成する方
法はまだ知られていない。このような配向薄膜は、高い
光学的異方性が期待できる。そのため、光デバイス用ま
たは電子デバイス用の材料として広範な工業的利用が可
能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ディ
オキシリボ核酸を含む材料により形成された光学的異方
性を示す薄膜を基板上に固定した、光電子技術分野に容
易に利用可能な配向薄膜及び該配向薄膜を容易に得る製
造方法を提供することにある。
オキシリボ核酸を含む材料により形成された光学的異方
性を示す薄膜を基板上に固定した、光電子技術分野に容
易に利用可能な配向薄膜及び該配向薄膜を容易に得る製
造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討した結果、表面にポリテト
ラフルオロエチレン（以下、PTFEと略す）の配向薄膜を
有する基板上に、ディオキシリボ核酸を含む材料を堆積
させて薄膜を形成すると自ら付着することにより、配向
薄膜の製造が可能であること、さらにその場合、光学的
異方性が発現することを見出し本発明に到達した。すな
わち、本発明によれば、基板と、ディオキシリボ核酸を
含む材料により形成された薄膜とを備え、該薄膜が、該
基板上に自ら付着しており、且つ光学的異方性を示すこ
とを特徴とする配向薄膜が提供される。また本発明によ
れば、ポリテトラフルオロエチレンの配向基板上に、デ
ィオキシリボ核酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成
し、固定することを特徴とする上記配向薄膜の製造方法
が提供される。
題を解決するために鋭意検討した結果、表面にポリテト
ラフルオロエチレン（以下、PTFEと略す）の配向薄膜を
有する基板上に、ディオキシリボ核酸を含む材料を堆積
させて薄膜を形成すると自ら付着することにより、配向
薄膜の製造が可能であること、さらにその場合、光学的
異方性が発現することを見出し本発明に到達した。すな
わち、本発明によれば、基板と、ディオキシリボ核酸を
含む材料により形成された薄膜とを備え、該薄膜が、該
基板上に自ら付着しており、且つ光学的異方性を示すこ
とを特徴とする配向薄膜が提供される。また本発明によ
れば、ポリテトラフルオロエチレンの配向基板上に、デ
ィオキシリボ核酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成
し、固定することを特徴とする上記配向薄膜の製造方法
が提供される。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の配向薄膜は、基板と、ディオキシリボ核
酸を含む材料により形成された薄膜（以下、薄膜Ｆと略
記する場合がある）とを備える。本発明の配向薄膜を構
成する前記薄膜Ｆの材料に用いるディオキシリボ核酸
は、各種の生物から得られるが、容易に大量のディオキ
シリボ核酸を得る方法としては、鮭や鰊などの魚類の白
子から得るのが効率的な例として挙げることができる。
前記薄膜Ｆ中のディオキシリボ核酸の含有量は少なすぎ
ると、ディオキシリボ核酸由来の光学的異方性はほとん
ど発揮されない。そのため該ディオキシリボ核酸の薄膜
Ｆ中の含有量は、１〜１００質量％が好ましく、１０〜
９０質量％がさらに好ましく、２０〜８０質量％がさら
により好ましい。
する。本発明の配向薄膜は、基板と、ディオキシリボ核
酸を含む材料により形成された薄膜（以下、薄膜Ｆと略
記する場合がある）とを備える。本発明の配向薄膜を構
成する前記薄膜Ｆの材料に用いるディオキシリボ核酸
は、各種の生物から得られるが、容易に大量のディオキ
シリボ核酸を得る方法としては、鮭や鰊などの魚類の白
子から得るのが効率的な例として挙げることができる。
前記薄膜Ｆ中のディオキシリボ核酸の含有量は少なすぎ
ると、ディオキシリボ核酸由来の光学的異方性はほとん
ど発揮されない。そのため該ディオキシリボ核酸の薄膜
Ｆ中の含有量は、１〜１００質量％が好ましく、１０〜
９０質量％がさらに好ましく、２０〜８０質量％がさら
により好ましい。
【０００７】前記Ｆを形成する材料としては、前記ディ
オキシリボ核酸の他に、必要に応じてその他の成分を用
いることができる。その他の成分としては、例えば、各
種の樹脂や有機化合物等を挙げることができるが、配向
を容易に行うことができる点より下記式（Ａ）で表され
る構造のアンモニウム化合物と、ディオキシリボ核酸と
のポリイオン複合体を含むことが好ましい。本発明にお
ける薄膜Ｆは、該ポリイオン複合体により形成されてい
ても良い。
オキシリボ核酸の他に、必要に応じてその他の成分を用
いることができる。その他の成分としては、例えば、各
種の樹脂や有機化合物等を挙げることができるが、配向
を容易に行うことができる点より下記式（Ａ）で表され
る構造のアンモニウム化合物と、ディオキシリボ核酸と
のポリイオン複合体を含むことが好ましい。本発明にお
ける薄膜Ｆは、該ポリイオン複合体により形成されてい
ても良い。
【０００８】
【化２】 式中Ｘ1〜 Ｘ4は、それぞれ独立に炭素数１〜３０のア
ルキル基を示す。ここで該アルキル基中の窒素原子と結
合していないメチレン基は、酸素原子、フェニレン基、
または２価のシクロアルキル基で置換されていても良
い。ただし、これらの構造の中で酸素原子が複数含まれ
る場合には、酸素原子同士が互いに結合する構造は含ま
れない。上記アンモニウム化合物は、その分子構造によ
って、形成される薄膜Ｆの延伸の難易が微妙に異なるの
で、適宜アンモニウム化合物を選択して使用することが
好ましい。このような好ましいアンモニウム化合物とし
ては、上記式（Ａ）に於けるＸ1〜 Ｘ4のうち少なくと
も１つの基に酸素原子を含むことが好ましく、酸素原子
を２個以上含むことがさらに好ましく、酸素原子を３個
〜８個含むことがさらにより好ましい。またこの場合、
酸素原子の周辺の分子構造としては適宜選択できるが、
一般には酸素原子の両側にメチル基またはメチレン基が
結合している構造が好ましく、酸素原子の両側にメチレ
ン基が結合している構造がさらに好ましい。
ルキル基を示す。ここで該アルキル基中の窒素原子と結
合していないメチレン基は、酸素原子、フェニレン基、
または２価のシクロアルキル基で置換されていても良
い。ただし、これらの構造の中で酸素原子が複数含まれ
る場合には、酸素原子同士が互いに結合する構造は含ま
れない。上記アンモニウム化合物は、その分子構造によ
って、形成される薄膜Ｆの延伸の難易が微妙に異なるの
で、適宜アンモニウム化合物を選択して使用することが
好ましい。このような好ましいアンモニウム化合物とし
ては、上記式（Ａ）に於けるＸ1〜 Ｘ4のうち少なくと
も１つの基に酸素原子を含むことが好ましく、酸素原子
を２個以上含むことがさらに好ましく、酸素原子を３個
〜８個含むことがさらにより好ましい。またこの場合、
酸素原子の周辺の分子構造としては適宜選択できるが、
一般には酸素原子の両側にメチル基またはメチレン基が
結合している構造が好ましく、酸素原子の両側にメチレ
ン基が結合している構造がさらに好ましい。
【０００９】このような好ましいアンモニウム化合物と
しては、例えば、下記構造式（１）〜（５）で示される
アンモニウムイオン等が挙げられる。
しては、例えば、下記構造式（１）〜（５）で示される
アンモニウムイオン等が挙げられる。
【化３】
【００１０】前記ポリイオン複合体は、前記アンモニウ
ム化合物とディオキシリボ核酸とが塩を形成した状態の
ものを言い、公知の方法等で得ることができる。
ム化合物とディオキシリボ核酸とが塩を形成した状態の
ものを言い、公知の方法等で得ることができる。
【００１１】前記薄膜Ｆを形成する材料として用いるこ
とができるその他の成分としては、ディオキシリボ核酸
に吸着する化合物等を挙げることもできる。このような
化合物は、ディオキシリボ核酸の塩基対層間に挿入する
性質またはディオキシリボ核酸の主溝または副溝に強く
吸着する性質を有する化合物であればよい。例えば、あ
る種の抗生物質、抗腫瘍剤、ＤＮＡ標識用色素として知
られる化合物、変異原性物質として知られる化合物等が
挙げられる。具体例としては、ブレオマイシン、アクチ
ノマイシンＤ、エチジウムブロマイド、白金化合物等が
挙げられる。これらの化合物は、配向後の薄膜Ｆに吸収
させても、予め薄膜Ｆを形成する材料に混合しておいて
も良いが、化合物の種類やその含有量によっては、予め
薄膜Ｆを形成する材料に混合しておくと配向が困難にな
る場合があり、その時は、配向後の薄膜Ｆに吸収させる
方法が好ましい。
とができるその他の成分としては、ディオキシリボ核酸
に吸着する化合物等を挙げることもできる。このような
化合物は、ディオキシリボ核酸の塩基対層間に挿入する
性質またはディオキシリボ核酸の主溝または副溝に強く
吸着する性質を有する化合物であればよい。例えば、あ
る種の抗生物質、抗腫瘍剤、ＤＮＡ標識用色素として知
られる化合物、変異原性物質として知られる化合物等が
挙げられる。具体例としては、ブレオマイシン、アクチ
ノマイシンＤ、エチジウムブロマイド、白金化合物等が
挙げられる。これらの化合物は、配向後の薄膜Ｆに吸収
させても、予め薄膜Ｆを形成する材料に混合しておいて
も良いが、化合物の種類やその含有量によっては、予め
薄膜Ｆを形成する材料に混合しておくと配向が困難にな
る場合があり、その時は、配向後の薄膜Ｆに吸収させる
方法が好ましい。
【００１２】前記ディオキシリボ核酸に吸着する化合物
を使用する場合の使用量は、該化合物とディオキシリボ
核酸それぞれの種類、あるいは本発明の配向薄膜の用途
によって適宜変更できる。一般に、前記ディオキシリボ
核酸に吸着する化合物が多すぎると、ディオキシリボ核
酸の二重螺旋構造が壊れて等方的な配向薄膜ができ易
い。したがって、ディオキシリボ核酸に吸着する化合物
を使用する場合の使用量は、ディオキシリボ核酸の１塩
基対当たり、０．００００１〜０．７個が好ましく、
０．０００１〜０．３個がさらに好ましく、０．０００
５〜０．１個がさらにより好ましい。
を使用する場合の使用量は、該化合物とディオキシリボ
核酸それぞれの種類、あるいは本発明の配向薄膜の用途
によって適宜変更できる。一般に、前記ディオキシリボ
核酸に吸着する化合物が多すぎると、ディオキシリボ核
酸の二重螺旋構造が壊れて等方的な配向薄膜ができ易
い。したがって、ディオキシリボ核酸に吸着する化合物
を使用する場合の使用量は、ディオキシリボ核酸の１塩
基対当たり、０．００００１〜０．７個が好ましく、
０．０００１〜０．３個がさらに好ましく、０．０００
５〜０．１個がさらにより好ましい。
【００１３】本発明の配向薄膜において、前記薄膜Ｆの
膜厚は、一般にピンホールがなく、均一な配向薄膜を形
成するという観点からは厚い方が良く、高配向度とする
ためには薄い方が良い。このような点を考慮した場合、
薄膜Ｆを形成する材料の種類によっても異なるが、薄膜
Ｆの膜厚は、０．０３〜８０μｍが好ましく、０．０５
〜３０μｍがより好ましく、０．１〜１０μｍがさらに
より好ましく、０．１〜３ミクロンが最も好ましい。
膜厚は、一般にピンホールがなく、均一な配向薄膜を形
成するという観点からは厚い方が良く、高配向度とする
ためには薄い方が良い。このような点を考慮した場合、
薄膜Ｆを形成する材料の種類によっても異なるが、薄膜
Ｆの膜厚は、０．０３〜８０μｍが好ましく、０．０５
〜３０μｍがより好ましく、０．１〜１０μｍがさらに
より好ましく、０．１〜３ミクロンが最も好ましい。
【００１４】本発明の配向薄膜を構成する基板は、上記
薄膜Ｆを堆積することができ、且つ薄膜Ｆが光学的異方
性を示すことが可能であるものであれば特に限定されな
いが、このような作用を容易に得ることができる点か
ら、例えば、フッ素樹脂配向膜を備えた基板等が好まし
く挙げられる。上記フッ素樹脂配向膜は、公知の方法で
作製できるが、例えば、加熱下において基板上にフッ素
系樹脂の塊を、圧力をかけてこすりつける方法等により
作製できる。また、基板上にフッ素系樹脂の薄膜やフィ
ルムを作製した後、該薄膜やフィルムの表面を摩擦する
方法によっても作製することができる。
薄膜Ｆを堆積することができ、且つ薄膜Ｆが光学的異方
性を示すことが可能であるものであれば特に限定されな
いが、このような作用を容易に得ることができる点か
ら、例えば、フッ素樹脂配向膜を備えた基板等が好まし
く挙げられる。上記フッ素樹脂配向膜は、公知の方法で
作製できるが、例えば、加熱下において基板上にフッ素
系樹脂の塊を、圧力をかけてこすりつける方法等により
作製できる。また、基板上にフッ素系樹脂の薄膜やフィ
ルムを作製した後、該薄膜やフィルムの表面を摩擦する
方法によっても作製することができる。
【００１５】上記フッ素樹脂配向膜の作製に用いるフッ
素系樹脂としては、例えば、PTFE、ポリ３−フッ化エチ
レン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テト
ラフルオロエチレン−エチレン共重合体等が挙げられる
が、PTFEが特に好ましい。また、上記フッ素系樹脂をこ
すりつける基板としては、耐熱性があり平滑な材料が使
用でき、例えば、ガラス基板；透明電極((Indium−Tin
Oxide)、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2等)を被覆したガラス基板；
ステンレス、真鍮、アルミニウム、銅、ニッケル等で作
製した金属製基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート等の耐熱性高分子材料により作製した高分
子材料基板等が挙げられる。前記金属基板の場合には、
表面にＮｉ等の金属をメッキした材料も使用できるが、
メッキが施される下地の材料も耐熱性を有する材料によ
り形成されていることが好ましい。
素系樹脂としては、例えば、PTFE、ポリ３−フッ化エチ
レン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テト
ラフルオロエチレン−エチレン共重合体等が挙げられる
が、PTFEが特に好ましい。また、上記フッ素系樹脂をこ
すりつける基板としては、耐熱性があり平滑な材料が使
用でき、例えば、ガラス基板；透明電極((Indium−Tin
Oxide)、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2等)を被覆したガラス基板；
ステンレス、真鍮、アルミニウム、銅、ニッケル等で作
製した金属製基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート等の耐熱性高分子材料により作製した高分
子材料基板等が挙げられる。前記金属基板の場合には、
表面にＮｉ等の金属をメッキした材料も使用できるが、
メッキが施される下地の材料も耐熱性を有する材料によ
り形成されていることが好ましい。
【００１６】上記フッ素樹脂配向膜の作製において、基
板にフッ素系樹脂の塊を、圧力をかけてこすりつける場
合の基板の加熱温度は、用いるフッ素系樹脂と、こすり
つける基板との種類によるが、フッ素系樹脂の分解温度
以下であり、且つ１００〜３５０℃が好ましい。フッ素
系樹脂がPTFEであり、こすりつける基板がガラス基板の
場合には、加熱温度は、好ましくは１３０〜３４０℃、
さらに好ましくは２５０〜３４０℃、特に好ましくは３
００〜３４０℃である。また、こすりつける圧力は、フ
ッ素系樹脂と、こすりつける基板との種類により適宜選
択できる。
板にフッ素系樹脂の塊を、圧力をかけてこすりつける場
合の基板の加熱温度は、用いるフッ素系樹脂と、こすり
つける基板との種類によるが、フッ素系樹脂の分解温度
以下であり、且つ１００〜３５０℃が好ましい。フッ素
系樹脂がPTFEであり、こすりつける基板がガラス基板の
場合には、加熱温度は、好ましくは１３０〜３４０℃、
さらに好ましくは２５０〜３４０℃、特に好ましくは３
００〜３４０℃である。また、こすりつける圧力は、フ
ッ素系樹脂と、こすりつける基板との種類により適宜選
択できる。
【００１７】上記フッ素樹脂配向膜の厚さは、薄すぎる
とその上に形成する薄膜Ｆの配向が良好にならず、光学
的異方性が得られ難いので、上記フッ素樹脂配向膜の厚
さは、通常１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１ｎｍ〜０．２
μｍ、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍである。
とその上に形成する薄膜Ｆの配向が良好にならず、光学
的異方性が得られ難いので、上記フッ素樹脂配向膜の厚
さは、通常１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１ｎｍ〜０．２
μｍ、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍである。
【００１８】本発明の配向薄膜は、前記基板上に前記薄
膜Ｆが自ら付着しており、薄膜Ｆが光学的異方性を示す
ものであれば良い。
膜Ｆが自ら付着しており、薄膜Ｆが光学的異方性を示す
ものであれば良い。
【００１９】本発明の配向薄膜を製造するには、例え
ば、PTFEの配向基板上にディオキシリボ核酸を含む材料
を堆積させて薄膜を形成、固定する本発明の製造方法等
により得ることができる。本発明の製造方法において、
前記PTFEの配向基板は、PTFEの配向薄膜を表面に有する
基板が好ましく、このような基板は、公知の方法、例え
ば、ジャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイエ
ンス（（Journal of Applied Polymer Science）、第50
巻、1151頁（1970））記載の方法等により得ることがで
きる。更に具体的には、上述のフッ素樹脂配向膜を備え
た基板の製造方法等に準拠して得ることができる。
ば、PTFEの配向基板上にディオキシリボ核酸を含む材料
を堆積させて薄膜を形成、固定する本発明の製造方法等
により得ることができる。本発明の製造方法において、
前記PTFEの配向基板は、PTFEの配向薄膜を表面に有する
基板が好ましく、このような基板は、公知の方法、例え
ば、ジャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイエ
ンス（（Journal of Applied Polymer Science）、第50
巻、1151頁（1970））記載の方法等により得ることがで
きる。更に具体的には、上述のフッ素樹脂配向膜を備え
た基板の製造方法等に準拠して得ることができる。
【００２０】本発明の製造方法において、PTFEの配向基
板上に、ディオキシリボ核酸を含む材料を堆積させるに
は、例えば、ディオキシリボ核酸を含む材料を適当な溶
媒に溶解して溶液とし、PTFEの配向基板上に、均一とな
るように塗布する方法等により行うことができる。更に
塗布した塗膜を十分乾燥させることにより、基板上に薄
膜Ｆを形成、固定することができる。
板上に、ディオキシリボ核酸を含む材料を堆積させるに
は、例えば、ディオキシリボ核酸を含む材料を適当な溶
媒に溶解して溶液とし、PTFEの配向基板上に、均一とな
るように塗布する方法等により行うことができる。更に
塗布した塗膜を十分乾燥させることにより、基板上に薄
膜Ｆを形成、固定することができる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらによって限定されるものではない。実施例１ ＜ポリイオン複合体の作製＞ジャーナル・オブ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエティ（（Journal of America
n Chemical Society）、第118巻、44号、10679頁（199
6））記載のDNA材料、および方法に従い、Ｎ,Ｎ,Ｎ−ト
リメチル−Ｎ−（3,6,9,12−テトラオキサドコシル）ア
ンモニウムイオンの代わりに上記構造式（１）のアンモ
ニウムイオンを用いて、ポリイオン複合体を作成した。
即ち、鮭の精子由来ＤＮＡ Ｎa塩（シグマ社製）５０．
０ｍｇを２０ｍｌの水に溶解し、氷冷攪拌下、上記構造
式（１）のアンモニウムイオンを用いて、ポリイオン複
合体を合成した。 ＜PTFE配向基板の作製＞ジャーナル・オブ・アプライド
・ポリマー・サイエンス（（Journal of Applied Polym
er Science）、第50巻、1151頁（1970））記載の材料と
方法に従い、PTFEロッドをガラス基板上に摩擦すること
でPTFEの極めて薄い配向薄膜をガラス基板上に作製し
た。即ち、約３００℃に加熱したガラス基板（2.5cmx8.
0cm）上に、同様に加熱した長さ２ｃｍ、直径１．０ｃ
ｍのＰＴＦＥの円柱の側面たる曲面を押しつけ、基板を
０．１ｃｍ/秒の速度で移動し、幅２．０ｃｍ、長さ
７．０ｃｍのＰＴＦＥ配向薄膜を得た。この際、円柱は
５Ｋｇｆの圧力で基板に押しつけた。 ＜DNA配向薄膜の作製＞上記で調製したポリイオン複合
体を、エタノールに０．５質量％溶解してポリイオン複
合体溶液を作製した。この溶液を上記で作製したPTFE配
向基板のPTFEの配向薄膜上に滴下し、そのまま乾燥して
ポリイオン複合体の薄膜を形成した。この薄膜を１カ月
間放置して膜厚１μｍのポリイオン複合体薄膜が形成さ
れた配向薄膜を得た。 ＜光学的異方性の評価＞得られたを配向薄膜を透過偏光
顕微鏡（直交ニコル）にて観察したところ、PTFE配向薄
膜上のポリイオン複合体薄膜の部分が明るく見え、各々
の偏光子の偏光方向に４５度の角度に、PTFEの摩擦方向
を合わせたところが最も明るくなり、０度、及び９０度
のところで最も暗くなった。従って、形成されたポリイ
オン複合体薄膜が光学的異方性を有することが判った。
れらによって限定されるものではない。実施例１ ＜ポリイオン複合体の作製＞ジャーナル・オブ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエティ（（Journal of America
n Chemical Society）、第118巻、44号、10679頁（199
6））記載のDNA材料、および方法に従い、Ｎ,Ｎ,Ｎ−ト
リメチル−Ｎ−（3,6,9,12−テトラオキサドコシル）ア
ンモニウムイオンの代わりに上記構造式（１）のアンモ
ニウムイオンを用いて、ポリイオン複合体を作成した。
即ち、鮭の精子由来ＤＮＡ Ｎa塩（シグマ社製）５０．
０ｍｇを２０ｍｌの水に溶解し、氷冷攪拌下、上記構造
式（１）のアンモニウムイオンを用いて、ポリイオン複
合体を合成した。 ＜PTFE配向基板の作製＞ジャーナル・オブ・アプライド
・ポリマー・サイエンス（（Journal of Applied Polym
er Science）、第50巻、1151頁（1970））記載の材料と
方法に従い、PTFEロッドをガラス基板上に摩擦すること
でPTFEの極めて薄い配向薄膜をガラス基板上に作製し
た。即ち、約３００℃に加熱したガラス基板（2.5cmx8.
0cm）上に、同様に加熱した長さ２ｃｍ、直径１．０ｃ
ｍのＰＴＦＥの円柱の側面たる曲面を押しつけ、基板を
０．１ｃｍ/秒の速度で移動し、幅２．０ｃｍ、長さ
７．０ｃｍのＰＴＦＥ配向薄膜を得た。この際、円柱は
５Ｋｇｆの圧力で基板に押しつけた。 ＜DNA配向薄膜の作製＞上記で調製したポリイオン複合
体を、エタノールに０．５質量％溶解してポリイオン複
合体溶液を作製した。この溶液を上記で作製したPTFE配
向基板のPTFEの配向薄膜上に滴下し、そのまま乾燥して
ポリイオン複合体の薄膜を形成した。この薄膜を１カ月
間放置して膜厚１μｍのポリイオン複合体薄膜が形成さ
れた配向薄膜を得た。 ＜光学的異方性の評価＞得られたを配向薄膜を透過偏光
顕微鏡（直交ニコル）にて観察したところ、PTFE配向薄
膜上のポリイオン複合体薄膜の部分が明るく見え、各々
の偏光子の偏光方向に４５度の角度に、PTFEの摩擦方向
を合わせたところが最も明るくなり、０度、及び９０度
のところで最も暗くなった。従って、形成されたポリイ
オン複合体薄膜が光学的異方性を有することが判った。
【００２２】比較例１ ＜DNA配向薄膜の作製＞実施例１で調製したポリイオン
複合体溶液をガラス基板上に滴下し、そのまま乾燥して
ポリイオン複合体の薄膜を得た。この薄膜を１カ月間放
置して膜厚１μｍのポリイオン複合体膜が形成された薄
膜を得た。 ＜光学的異方性の評価＞得られた薄膜を透過偏光顕微鏡
（直交ニコル）にて観察したところ、ガラス基板上のポ
リイオン複合体薄膜の部分は、実施例１の場合よりも暗
く、また、各々の偏光子の偏光方向に対して試料を回転
しても、明るさは変化しなかった。従って、形成された
ポリイオン複合体の薄膜は、光学的異方性を有していな
かった。
複合体溶液をガラス基板上に滴下し、そのまま乾燥して
ポリイオン複合体の薄膜を得た。この薄膜を１カ月間放
置して膜厚１μｍのポリイオン複合体膜が形成された薄
膜を得た。 ＜光学的異方性の評価＞得られた薄膜を透過偏光顕微鏡
（直交ニコル）にて観察したところ、ガラス基板上のポ
リイオン複合体薄膜の部分は、実施例１の場合よりも暗
く、また、各々の偏光子の偏光方向に対して試料を回転
しても、明るさは変化しなかった。従って、形成された
ポリイオン複合体の薄膜は、光学的異方性を有していな
かった。
【００２３】
【発明の効果】本発明の配向薄膜は、光学的異方性を示
し、ディオキシリボ核酸を含む材料により形成された薄
膜が基板上に形成、固定された形態を有するので、光電
子技術分野における光学素子等に用いる配向膜として極
めて有用であり、工業的利用価値が高い。また本発明の
製造方法では、PTFEの配向基板上に、ディオキシリボ核
酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成、固定するので、
本発明の配向薄膜を容易に得ることができる。
し、ディオキシリボ核酸を含む材料により形成された薄
膜が基板上に形成、固定された形態を有するので、光電
子技術分野における光学素子等に用いる配向膜として極
めて有用であり、工業的利用価値が高い。また本発明の
製造方法では、PTFEの配向基板上に、ディオキシリボ核
酸を含む材料を堆積させて薄膜を形成、固定するので、
本発明の配向薄膜を容易に得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AJ20B AK18A AK46B AL06B AT00A BA02 GB41 JM02B JN30 4J038 BA181 KA07 KA08 PB08 PC08
Claims (5)
- 【請求項１】 基板と、ディオキシリボ核酸を含む材料
により形成された薄膜とを備え、該薄膜が、該基板上に
自ら付着しており、且つ光学的異方性を示すことを特徴
とする配向薄膜。 - 【請求項２】 ディオキシリボ核酸を含む材料が、ディ
オキシリボ核酸とアンモニウム化合物とのポリイオン複
合体を主たる成分とすることを特徴とする請求項１記載
の配向薄膜。 - 【請求項３】ディオキシリボ核酸を含む材料が、ディオ
キシリボ核酸と、下記式（Ａ）で表される構造のアンモ
ニウム化合物とのポリイオン複合体を主たる成分とする
ことを特徴とする請求項１記載の配向薄膜。 【化１】 （式中Ｘ1〜Ｘ4は、それぞれ独立に炭素数１〜３０のア
ルキル基を示す。ここで、該アルキル基中の窒素原子と
結合していないメチレン基は、酸素原子、フェニレン
基、または２価のシクロアルキル基で置換されていても
よい。ただし、これらの構造の中で酸素原子が複数含ま
れる場合には、酸素原子同士が互いに結合する構造は含
まれない。） - 【請求項４】 ディオキシリボ核酸を含む材料が、ディ
オキシリボ核酸に吸着する化合物を含むことを特徴とす
る請求項１又は２記載の配向薄膜。 - 【請求項５】 ポリテトラフルオロエチレンの配向基板
上に、ディオキシリボ核酸を含む材料を堆積させて薄膜
を形成、固定することを特徴とする請求項１記載の配向
薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001154353A JP2002347164A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 配向薄膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001154353A JP2002347164A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 配向薄膜及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002347164A true JP2002347164A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=18998704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001154353A Pending JP2002347164A (ja) | 2001-05-23 | 2001-05-23 | 配向薄膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002347164A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1031205A (ja) * | 1996-07-17 | 1998-02-03 | Toshiba Corp | 反射型液晶表示素子 |
| JP2000325083A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 核酸固定化ゲル保持フィルムの積層体及びその薄片 |
| JP2001136968A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 生体高分子固定化フィルム積層体及びその薄片並びにそれらの製造方法 |
-
2001
- 2001-05-23 JP JP2001154353A patent/JP2002347164A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1031205A (ja) * | 1996-07-17 | 1998-02-03 | Toshiba Corp | 反射型液晶表示素子 |
| JP2000325083A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 核酸固定化ゲル保持フィルムの積層体及びその薄片 |
| JP2001136968A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 生体高分子固定化フィルム積層体及びその薄片並びにそれらの製造方法 |
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