JP2001048993A - 異方性フィルム及びその製造方法 - Google Patents

異方性フィルム及びその製造方法

Info

Publication number
JP2001048993A
JP2001048993A JP11223482A JP22348299A JP2001048993A JP 2001048993 A JP2001048993 A JP 2001048993A JP 11223482 A JP11223482 A JP 11223482A JP 22348299 A JP22348299 A JP 22348299A JP 2001048993 A JP2001048993 A JP 2001048993A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
dna
anisotropic film
refractive index
stretched
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11223482A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4297565B2 (ja
Inventor
Toshihiko Tanaka
利彦 田中
Naoya Ogata
直哉 緒方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP22348299A priority Critical patent/JP4297565B2/ja
Publication of JP2001048993A publication Critical patent/JP2001048993A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4297565B2 publication Critical patent/JP4297565B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】DNAを含む、屈折率異方性が高い異方性フィ
ルム及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】ディオキシリボ核酸を含み、ディオキシリ
ボ核酸の二重螺旋鎖が維持された一軸異方性のフィルム
であって、波長500nmにおけるフィルム面内の屈折
率異方性が0.005以上である異方性フィルム、並び
にディオキシリボ核酸を含む樹脂基体を、30℃以上の
温水又は水蒸気中において、一定方向に5倍以上延伸す
る異方性フィルムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光電子技術の分野
等で有用な異方性を有するフィルム及びその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】異方性の高いフィルムは、光学材料や電
子材料の分野において多くの用途を有する。一般に要求
される光学的又は電気的な異方性の種類によって、配向
させるべき分子の種類及び必要な配向の程度は若干異な
る。しかし、一般にいかなる場合でも高い配向が好まし
い傾向にある。これは、フィルムでの光学的又は電気的
な異方性、例えば屈折率異方性、二色性、キャリア移動
度等が、フィルムを構成する分子の配向によって著しく
大きな影響を受けるためである。したがって、異方性の
種類によってそれぞれ配向させることが必要とされる分
子それぞれについてもその高度に配向したフィルムを使
用することが望まれる。一方、ディオキシリボ核酸(以
下、DNAと略記する)は、いわゆる二重螺旋構造を有
し各塩基対は分子鎖に対してほぼ垂直に整列している。
したがってDNA分子鎖を一方向に並べてフィルム材料
を作製できれば、フィルム中で各塩基対は高度に配向し
て各種の光学的ないし電気的な異方性が発現する。すで
に岡畑らにより、DNAと、ある種のアンモニウム化合
物とのポリイオン複合体からなるフィルムが作製できる
こと、これを延伸して配向したDNA分子鎖からなるフ
ィルムが作製できることが報告されている〔ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(Journal
of American Chemical Society)、第118巻、44
号、10679頁(1996年)〕。しかし、上記報告に
おける延伸方法では、DNAの二重螺旋鎖を維持した状
態における延伸倍率の限界は高々3.3倍程度であり、
DNAを含む高倍率延伸フィルム及びその製造方法はま
だ知られていない。このような高倍率延伸のフィルム
は、高い異方性が期待でき光学材料等として広範な工業
的利用が可能である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、DN
Aを含む、屈折率異方性が高い異方性フィルム及びその
製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討した結果、水存在下におい
て、DNAを主たる成分とする樹脂基体を、特定の温度
範囲で延伸することによって、高倍率延伸が可能である
こと、さらにその場合高い光学的異方性が発現すること
を見出し本発明に到達した。すなわち、本発明によれ
ば、DNAを含み、DNAの二重螺旋鎖が維持された一
軸異方性のフィルムであって、波長500nmにおける
フィルム面内の屈折率異方性が0.005以上であるこ
とを特徴とする異方性フィルムが提供される。また本発
明によれば、DNAを含む樹脂基体を、30℃以上の温
水又は水蒸気中において、DNAの二重螺旋鎖を維持し
た状態で一定方向に5倍以上延伸することを特徴とする
上記異方性フィルムの製造方法が提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の異方性フィルムは、DNAを含み、DN
Aの二重螺旋鎖が維持された、特定の屈折率異方性を有
する一軸異方性フィルムである。即ち、一軸延伸された
異方性フィルムである。本発明の異方性フィルムに含ま
れるDNAは、各種の生物等から得られ特に限定されな
いが、容易に大量のDNAが得られる点から、例えば、
鮭や鰊等の魚類の白子から得られるDNA等が好適であ
る。本発明の異方性フィルムにおいて、DNAの含有割
合は、少なすぎる場合、たとえ高倍率延伸されたもので
あってもDNA由来の異方性がほとんど発揮されない恐
れがあるので、また、一方含有割合が100重量%に近
い場合、製造時の高倍率延伸が困難になる恐れがあるの
で、DNAの含有割合は、好ましくは10〜90重量
%、特に、20〜80重量%の範囲が望ましい。
【0006】本発明の異方性フィルムは、DNAの他
に、各種樹脂、各種有機化合物等を含有していても良
い。好ましくは、製造時の高倍率延伸が容易であり、屈
折率異方性を高くするために、下記式(1)で示されるア
ンモニウム化合物を含み、このアンモニウム化合物と、
上記DNAとが塩を形成した、ポリイオン複合体を含む
ことが望ましい。更には、このポリイオン複合体を主た
る成分とすることが好ましく、特にフィルム中に90重
量%以上含有されることが望ましい。
【0007】
【化2】 式中、X1〜X4は、それぞれ独立に炭素数1〜30のア
ルキル基から選ばれるが、これらのアルキル基中の窒素
原子と結合していないメチレン基は、二価の炭化水素基
又は酸素原子で置換されていてもよい。ただし、これら
の構造の中で酸素原子が連続して2個以上結合した構造
は含まれない。二価の炭化水素基としては、好ましくは
炭素数3〜20、特に好ましくは炭素数5〜15のもの
が使用できる。具体的には、特に限定されないが、パラ
フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基等が挙げら
れる。アルキル基中の二価の炭化水素基の数は、1〜5
個が好ましく、1〜3個が特に好ましい。
【0008】上記アンモニウム化合物の分子構造によっ
ては、フィルム製造時の延伸の難易が微妙に異なる場合
があるので、上記アンモニウム化合物を含有させる場合
には、その種類を適宜選択して使用することが好まし
い。好ましいアンモニウム化合物としては、式(1)にお
けるX1〜X4のうち少なくとも1つの基が酸素原子を含
むことが好ましく、式(1)におけるX1〜X4のうち少な
くとも1つの基が酸素原子を2個以上含むことがさらに
好ましく、式(1)におけるX1〜X4のうち少なくとも1
つの基が酸素原子を3個以上、8個以下含むことが特に
好ましい。また、X1〜X4のうち少なくとも1つの基の
炭素数が、4以上、30以下が好ましく、8以上、30
以下がさらに好ましく、12以上、30以下が特に好ま
しい。上記酸素原子を含むアンモニウム化合物の酸素原
子周辺の分子構造は適宜選択できるが、一般には酸素原
子の一方にメチル基、他方にメチレン基、若しくは両側
にメチレン基が結合している構造が好ましく、酸素原子
の両側にメチレン基が結合している構造がさらに好まし
く、酸素原子の両側にエチレン基が結合している構造が
特に好ましい。このような好ましいアンモニウム化合物
としては、例えば、下記構造式(1)〜(7)で示される化合
物等が挙げられる。
【0009】
【化3】
【0010】本発明の異方性フィルムは、更に、DNA
に吸着する化合物等を含んでいても良い。DNAに吸着
する化合物とは、DNAの塩基対層間に挿入される性
質、若しくはDNAの主溝又は副溝に吸着する性質を有
する化合物を意味する。例えば、ある種の抗生物質、抗
腫瘍剤、DNA標識用色素として知られる化合物、ある
種の変異原性物質として知られる化合物等が挙げられ
る。具体的には、ブレオマイシン、アクチノマイシン
D、エチジウムブロマイド、白金化合物等が挙げられ
る。DNAに吸着する化合物が含有される場合の含有割
合は、該化合物とDNAそれぞれの種類、あるいは本発
明の異方性フィルムの用途によって適宜変更できるが、
一般に、DNAに吸着する化合物が多すぎると、DNA
の二重螺旋構造が壊れて等方的なフィルムとなる恐れが
ある。従って、DNAに吸着する化合物を含有させる場
合の割合は、フィルム中のDNAの1塩基対当たり、好
ましくは0.00001〜0.7個、特に好ましくは
0.0001〜0.3個、更に好ましくは0.0005
〜0.1個の割合で吸着する量が望ましい。このような
DNAに吸着する化合物は、後述する製造方法におい
て、延伸後のフィルムに吸収させても、延伸前のフィル
ムに吸収させても、また予めフィルム材料となる樹脂基
体に混合しておいても良いが、化合物の種類や含有割合
によって、製造時の高倍率延伸が困難になる場合は、延
伸後にフィルムに吸収させて含有させることが好まし
い。
【0011】本発明の異方性フィルムは、波長500n
mにおけるフィルム面内の屈折率異方性が、0.005
以上である必要があり、好ましくは、0.005〜0.
7、特に好ましくは0.008〜0.7である。このよ
うな屈折率異方性は、一般に高延伸による高配向によっ
て高くすることができるが、上述した従来報告されてい
るフィルムでは、このような高い屈折率異方性は得られ
ていない。0.005以上の屈折率異方性を得るために
は、後述する製造方法において、樹脂基体を5倍以上一
軸延伸する必要がある。上記屈折率異方性は、異方性フ
ィルムの膜面内においてDNA二重螺旋鎖の配向方向に
平行にその電場が振動する直線偏光に対する屈折率(B
1)と、異方性フィルムの膜面内において該配向方向に
垂直にその電場が振動する直線偏光に対する屈折率(B
2)に対して、次の式により求めたものである。 屈折率異方性=|B1−B2|、(ここで、| |は、
絶対値を表す。)
【0012】本発明の異方性フィルムの膜厚は、一般に
ピンホールがなく、均一なフィルムを形成するという観
点からは厚い方が良く、高配向度とするためにはよく延
伸して薄い方が有利である。好ましい膜厚は用いるフィ
ルムの成分により異なるが、通常、0.05〜500μ
mが好ましく、0.1〜300μmがさらに好ましく、
1〜200μmが特に好ましい。本発明の異方性フィル
ムは、例えば、液晶用の位相差フィルム、偏光ビームス
プリッタ等に特に有用である。
【0013】本発明の異方性フィルムの製造方法は、D
NAを含む樹脂基体を、特定温度以上の温水又は水蒸気
中において、DNAの二重螺旋鎖を維持した状態で一定
方向に特定倍率以上延伸する方法である。
【0014】DNAを含む樹脂基体は、上記本発明の異
方性フィルムを形成する成分を、例えば、溶媒に溶解
し、支持体上にキャストしてフィルムを形成する方法等
により得ることができる。要するに、樹脂基体は、通
常、膜状として形成し、延伸処理されていない状態のも
のを意味する。この際、DNAの二重螺旋鎖が保持され
た状態である必要がある。
【0015】本発明の製造方法において、上記樹脂基体
を延伸する際の環境条件は、温水中または水蒸気中であ
ることが必要である。延伸時の最適な温度は、フィルム
の組成によって異なるが、DNAの二重螺旋鎖を保持し
て5倍以上の延伸を可能とするために30℃以上が必要
である。通常は、30〜150℃が好ましく、30〜1
00℃がさらに好ましく、40〜80℃が特に好まし
い。上記温水又は水蒸気には、水以外に他の物質を少量
含むことができる。このような物質としては、用いる樹
脂基体と反応したり、樹脂基体を分解したり、樹脂基体
中のDNAとキレートを形成し、延伸を難しくする作用
がなく、水に少量溶解する又は水蒸気中に混合できるこ
とが可能なものであれば良い。例えば、アルコール等の
水と相溶する溶媒;糖類等の水に溶解する有機化合物;
塩化ナトリウム等の水に溶解する無機塩等が挙げられ
る。このような物質の最適な濃度は、用いる樹脂基体の
組成、延伸温度、目的等によって適宜選択することがで
きる。
【0016】樹脂基体を延伸する際の延伸倍率は、一定
方向に5倍以上とする必要があり、6倍以上が好まし
く、7倍以上がさらに好ましく、7.5倍以上が特に好
ましい。なお、樹脂基体を例えば5倍に延伸するとは、
樹脂基体を一定方向に延伸した際に、樹脂基体の延伸方
向の長さが5倍になることを意味する。延伸後に得られ
たフィルムを乾燥して使用する場合、乾燥時に収縮が起
こる場合がある。このような収縮を抑制するには、フィ
ルムを伸ばしたままで固定して乾燥させる方法が採用で
きる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらによって限定されるものではない。なお、本発明に
おける屈折率異方性とは、上述した、屈折率異方性=|
B1−B2|により求めた値である。
【0018】実施例1 <DNA含有樹脂基体としてのキャストフィルムの作製
>ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエ
ティ(Journal of American Chemical Society)、第11
8巻、44号、10679頁〜10679頁(1996
年)記載の材料、方法に従い作製した。即ち、鮭の精子
由来DNA Na塩(シグマ社製)50.0mgを20m
lの水に溶解した。氷冷撹拌下、N、N、N−トリメチ
ル−N−(3、6、9、12−テトラオキサドコシル)ア
ンモニウムブロマイド1gを水200mlに溶解させた
溶液を加え、白色繊維状のポリイオン複合体の沈澱を得
た。濾過により沈澱1.4gを回収し、乾燥した。得ら
れたポリイオン複合体250mgをクロロホルム/エタ
ノール(4:1)10gに溶解した。この溶液を樹脂プレ
ート上に滴下し、溶媒飽和蒸気下に静置し室温でゆっく
りと溶媒を蒸発させた。約24時間後、樹脂プレートか
ら剥がし、無色透明のキャストフィルムを得た。
【0019】<異方性フィルムの作製>上記で得られた
キャストフィルムを、40℃の温水中において一定方向
に延伸し、荷重をかけた状態で風乾し、延伸フィルムを
作製した。乾燥後の延伸フィルムの長さを測定したとこ
ろ、初期のキャストフィルムを8倍に延伸した長さを有
していた。更に、得られた延伸フィルムの屈折率異方性
を、[鶴田、応用光学II、倍風館(1991)]5章19
2項に記載のセナルモン法により測定した。波長500
nmにおけるレターデーションを測定し、触針式膜厚測
定装置により測定した膜厚で除することにより屈折率異
方性を求めた。その結果、屈折率異方性は0.009で
あり、得られた延伸フィルムが異方性フィルムであるこ
とがわかった。また、得られた延伸フィルムをエチジウ
ムブロマイドの水溶液に24時間浸したところ、フィル
ムが赤色に変色し、エチジウムブロマイドが延伸フィル
ム内のDNAに由来する二重螺旋鎖中の核酸塩基対にイ
ンターカレートしたことを確認した。
【0020】比較例1 実施例1と同様に得られたキャストフィルムを、20℃
の水中において一定方向に延伸し、荷重をかけた状態で
風乾し、延伸フィルムを作製した。乾燥後の延伸フィル
ムの長さを測定したところ、初期のキャストフィルムを
4倍に延伸した長さを有していた。得られた延伸フィル
ムについて、実施例1と同様に屈折率異方性を測定し
た。その結果、屈折率異方性は0.004であった。ま
た、実施例1と同様にエチジウムブロマイドをインター
カレートすることができた。尚、得られた延伸フィルム
を同一条件で更に延伸しようとしたところ、破断してし
まった。
【0021】
【発明の効果】本発明の異方性フィルムは、高い屈折率
異方性を有し、高度に配向したフィルムである。このフ
ィルムを用いたフィルム光学素子は、極薄軽量であり、
かつ性能が高いので、工業的利用価値が高い。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ディオキシリボ核酸を含み、ディオキシ
    リボ核酸の二重螺旋鎖が維持された一軸異方性のフィル
    ムであって、波長500nmにおけるフィルム面内の屈
    折率異方性が0.005以上であることを特徴とする異
    方性フィルム。
  2. 【請求項2】 フィルムが、ディオキシリボ核酸と式
    (1)で表される構造のアンモニウム化合物とのポリイオ
    ン複合体を主たる成分とする請求項1記載の異方性フィ
    ルム。 【化1】 (式中、X1〜X4は、それぞれ独立に炭素数1〜30の
    アルキル基から選ばれるが、これらのアルキル基中の窒
    素原子と結合していないメチレン基は、二価の炭化水素
    基又は酸素原子で置換されていてもよい。ただし、これ
    らの構造の中で酸素原子が連続して2個以上結合した構
    造は含まれない。)
  3. 【請求項3】 フィルムが、ディオキシリボ核酸に吸着
    する化合物を含む請求項1又は2記載の異方性フィル
    ム。
  4. 【請求項4】 ディオキシリボ核酸を含む樹脂基体を、
    30℃以上の温水又は水蒸気中において、ディオキシリ
    ボ核酸の二重螺旋鎖を維持した状態で一定方向に5倍以
    上延伸することを特徴とする請求項1又は2記載の異方
    性フィルムの製造方法。
JP22348299A 1999-08-06 1999-08-06 異方性フィルム及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4297565B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22348299A JP4297565B2 (ja) 1999-08-06 1999-08-06 異方性フィルム及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22348299A JP4297565B2 (ja) 1999-08-06 1999-08-06 異方性フィルム及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001048993A true JP2001048993A (ja) 2001-02-20
JP4297565B2 JP4297565B2 (ja) 2009-07-15

Family

ID=16798834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22348299A Expired - Fee Related JP4297565B2 (ja) 1999-08-06 1999-08-06 異方性フィルム及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4297565B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001181295A (ja) * 1999-12-24 2001-07-03 Asahi Denka Kogyo Kk 成型体の製造方法
WO2006025244A1 (ja) * 2004-08-30 2006-03-09 National University Corporation Gunma University 液晶構造を有するゲル及びその製造方法
JP2007091647A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Trekion Co Ltd 抗菌性dna塩組成物
JP2007179026A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、それを用いた光学補償フィルム一体型偏光板および液晶表示装置
US7771802B2 (en) * 2005-11-30 2010-08-10 Fujifilm Corporation Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display apparatus

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001181295A (ja) * 1999-12-24 2001-07-03 Asahi Denka Kogyo Kk 成型体の製造方法
WO2006025244A1 (ja) * 2004-08-30 2006-03-09 National University Corporation Gunma University 液晶構造を有するゲル及びその製造方法
KR100861184B1 (ko) * 2004-08-30 2008-09-30 고쿠리츠다이가쿠호진 군마다이가쿠 액정 겔 및 그의 제조 방법
JP2007091647A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Trekion Co Ltd 抗菌性dna塩組成物
JP2007179026A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、それを用いた光学補償フィルム一体型偏光板および液晶表示装置
US7771802B2 (en) * 2005-11-30 2010-08-10 Fujifilm Corporation Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP4297565B2 (ja) 2009-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3667637B2 (ja) 二色性偏光子及びその製造方法
TW555836B (en) Liquid crystal materials and alignment structures and optical devices containing same
JP5302897B2 (ja) 多環式有機化合物、光学異方性膜及びその製造方法
WO2006025474A1 (en) Retardation films for the elimination of leakage of light through cross polarizers in lcd
JP6081098B2 (ja) 長尺状積層偏光板の製造方法及び長尺状積層偏光板
JP4929480B2 (ja) 偏光膜生成用コーティング液及び偏光膜
KR102337607B1 (ko) 액정 조성물 및 그 제조 방법, 그리고 그 액정 조성물로 구성되는 위상차 필름
Cheung et al. Fabrication of electrically conductive Langmuir-Blodgett multilayer films of polyaniline
US8741190B2 (en) Process for producing water-resistant polarizing film
WO2012124400A1 (ja) 偏光フィルム、コーティング液、及び画像表示装置
JP5096314B2 (ja) 透明なポリアミドフィルム
KR20060014357A (ko) 지연체 및 환형 편광자
TW200907028A (en) Supramolecular composite film material and method for fabricating
JP4297565B2 (ja) 異方性フィルム及びその製造方法
JPH0116252B2 (ja)
JP2007291246A (ja) アゾ色素、該色素を含有する異方性色素膜用組成物、異方性色素膜及び偏光素子
JPH07104448B2 (ja) ペリレン系色素を用いた偏光フイルム
Morii et al. Molecular chain orientation of DNA films induced by both the magnetic field and the interfacial effect
JPH0520723B2 (ja)
KR100415250B1 (ko) 네마틱 액정을 이용한 위상차 필름의 제작방법 및 이를통해 제작된 위상차 필름
JP4784897B2 (ja) コーティング液および偏光膜
WO2009128185A1 (ja) コーティング液およびその製造方法、ならびに偏光膜
JPH0823607B2 (ja) 偏光膜の製造方法
JPS6269202A (ja) 偏光フイルム
JPS62276506A (ja) 偏光フイルム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090302

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090324

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090414

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140424

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees