JP2002334651A5 - Manufacturing method of image forming apparatus - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、導電体に通電処理を施すことにより、該導電体に電子放出機能を付与する画像形成装置の製造方法に関する。
[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
The present invention, by performing the energization processing to the conductor relates to a manufacturing method of an image forming apparatus for imparting electron emission function in the conductive body.

即ち、本発明は、導電体が配置された第1の基板上に、前記導電体の一部分を除いて当該導電体を囲むように、第1の気密部材を固設する工程と、
前記第1の気密部材上に、導電体の前記一部分を除いて当該導電体を覆うように容器を当接させ、前記第1の基板と前記容器とで気密雰囲気を形成する工程と、
導電体の前記一部分から通電を行い、前記容器にて覆われた導電体の一部に電子放出機能を付与する工程と、
前記容器を前記第1の基板から取り外す工程と、
画像形成部材が配置された第2の基板を、第1の基板の前記第1の気密部材上で接合せしめる接合工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の製造方法である。
That is, the present invention comprises a step of fixing the first airtight member on the first substrate on which the conductor is arranged so as to surround the conductor except for a part of the conductor.
A step of bringing a container onto the first airtight member so as to cover the conductor except for the part of the conductor, and forming an airtight atmosphere between the first substrate and the container.
A step of applying electricity from the part of the conductor to impart an electron emission function to the part of the conductor covered with the container, and
The step of removing the container from the first substrate and
A joining step of joining the second substrate on which the image forming member is arranged on the first airtight member of the first substrate, and
It is a method of manufacturing an image forming apparatus characterized by having.

上記本発明の画像形成装置の製造方法は、好ましい実施形態として、「前記導電体は、配線と、当該配線に接続された電子放出部が形成される導電性膜とを有すること」、「前記導電性膜を複数有すること」、「前記複数の導電性膜は、前記配線にてマトリクス状に接続されていること」、「前記通電は、減圧雰囲気下で行われること」、「前記通電は、還元ガス雰囲気下で行われること」、「前記還元ガスは水素であること」、「前記通電は、有機物質の存在する雰囲気下で行われること」、「前記通電は、還元ガス雰囲気下での第1通電工程と有機物質の存在する雰囲気下での第2通電工程とを有すること」、「前記容器は、気体の導入口と気体の排気口を有する容器であること」、「前記第1の気密部材は、フリットガラスであること」、「前記第1の気密部材は、接着剤とこれにより前記第1の基板上に接着され配置された支持枠であること」、「前記接着剤はフリットガラスであること」、「前記接着剤はインジウム若しくはその合金であること」、「前記第1の気密部材と前記容器との間に、第2の気密部材を配置すること」、「前記第2の気密部材として、有機系弾性体を用いること」、「前記接合工程は、前記第1の気密部材と前記第2の基板との間に、第3の気密部材を配置して行われること」、「前記容器を前記第1の基板から取り外す工程の後であって、前記接合工程の前に、前記第1の気密部材のクリーニングを行うクリーニング工程を有すること」、「前記クリーニング工程において、MEK(メチルエチルケトン)を用いること」、「前記クリーニング工程において、HFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いること」、「前記クリーニング工程において、MEK(メチルエチルケトン)とHFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いること」、「前記第3の気密部材として、第2の接着剤を用いること」、「前記第2の接着剤はフリットガラスであること」、「前記第2の接着剤はインジウム若しくはその合金であること」、を含むものである。 The method for manufacturing the image forming apparatus of the present invention has, as a preferred embodiment, "the conductor has a wiring and a conductive film on which an electron emitting portion connected to the wiring is formed", "the above. Having a plurality of conductive films, "the plurality of conductive films are connected in a matrix by the wiring", "the energization is performed in a reduced pressure atmosphere", "the energization is performed. , "The reducing gas is hydrogen", "The energization is performed in an atmosphere where an organic substance is present", "The energization is performed in a reducing gas atmosphere" Having a first energizing step and a second energizing step in an atmosphere in which an organic substance is present ”,“ The container must have a gas inlet and a gas exhaust port ”,“ The first The airtight member of 1 is a frit glass, "" the first airtight member is an adhesive and a support frame bonded and arranged on the first substrate by the adhesive, "" the adhesive. Is a frit glass ”,“ the adhesive is indium or an alloy thereof ”,“ a second airtight member is arranged between the first airtight member and the container ”,“ the above. An organic elastic body is used as the second airtight member. ", " The joining step is performed by arranging a third airtight member between the first airtight member and the second substrate. That ", having a cleaning step of cleaning the first airtight member after the step of removing the container from the first substrate and before the joining step", "in the cleaning step , "Use MEK (methyl ethyl ketone)", "Use HFE (hydrofluoro ether) in the cleaning step", "Use MEK (methyl ethyl ketone) and HFE (hydrofluoro ether) in the cleaning step", ""Use a second adhesive as the third airtight member", "The second adhesive must be frit glass", "The second adhesive must be indium or an alloy thereof", Is included.

Claims (24)

導電体が配置された第1の基板上に、前記導電体の一部分を除いて当該導電体を囲むように、第1の気密部材を固設する工程と、
前記第1の気密部材上に、導電体の前記一部分を除いて当該導電体を覆うように容器を当接させ、前記第1の基板と前記容器とで気密雰囲気を形成する工程と、
導電体の前記一部分から通電を行い、前記容器にて覆われた導電体の一部に電子放出機能を付与する工程と、
前記容器を前記第1の基板から取り外す工程と、
画像形成部材が配置された第2の基板を、第1の基板の前記第1の気密部材上で接合せしめる接合工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の製造方法。
Fixing a first hermetic member on the first substrate on which the conductor is disposed so as to surround the conductor except for a part of the conductor;
A step of bringing a container into contact with the first hermetic member so as to cover the conductor excluding the portion of the conductor and forming an airtight atmosphere between the first substrate and the container;
Conducting electricity from the part of the conductor, and providing an electron emission function to a part of the conductor covered with the container;
Removing the container from the first substrate;
A bonding step of bonding the second substrate on which the image forming member is disposed on the first hermetic member of the first substrate;
A method of manufacturing an image forming apparatus , comprising:
前記導電体は、配線と、当該配線に接続された電子放出部が形成される導電性膜とを有することを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein the conductor includes a wiring and a conductive film on which an electron emission portion connected to the wiring is formed. 前記導電性膜を複数有することを特徴とする請求項2に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 2, comprising a plurality of the conductive films. 前記複数の導電性膜は、前記配線にてマトリクス状に接続されていることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 3, wherein the plurality of conductive films are connected in a matrix by the wiring. 前記通電は、減圧雰囲気下で行われることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein the energization is performed in a reduced pressure atmosphere. 前記通電は、還元ガス雰囲気下で行われることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein the energization is performed in a reducing gas atmosphere. 前記還元ガスは水素であることを特徴とする請求項6に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 6, wherein the reducing gas is hydrogen. 前記通電は、有機物質の存在する雰囲気下で行われることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein the energization is performed in an atmosphere in which an organic substance is present. 前記通電は、還元ガス雰囲気下での第1通電工程と有機物質の存在する雰囲気下での第2通電工程とを有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The energization image according to any one of claims 1 to 4, characterized in that a second current supply step in an atmosphere which is present in the first energizing step and the organic substances in a reducing gas atmosphere Manufacturing method of forming apparatus . 前記容器は、気体の導入口と気体の排気口を有する容器であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The image forming apparatus manufacturing method according to claim 1, wherein the container is a container having a gas inlet and a gas exhaust port. 前記第1の気密部材は、フリットガラスであることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein the first airtight member is frit glass. 前記第1の気密部材は、接着剤とこれにより前記第1の基板上に接着され配置された支持枠であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The image forming apparatus according to claim 1, wherein the first hermetic member is an adhesive and a support frame that is adhered and disposed on the first substrate. Manufacturing method. 前記接着剤はフリットガラスであることを特徴とする請求項12に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 12, wherein the adhesive is frit glass. 前記接着剤はインジウム若しくはその合金であることを特徴とする請求項12に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 12, wherein the adhesive is indium or an alloy thereof. 前記第1の気密部材と前記容器との間に、第2の気密部材を配置することを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein a second hermetic member is disposed between the first hermetic member and the container. 前記第2の気密部材として、有機系弾性体を用いることを特徴とする請求項15に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 15, wherein an organic elastic body is used as the second hermetic member. 前記接合工程は、前記第1の気密部材と前記第2の基板との間に、第3の気密部材を配置して行われることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The bonding step, between the first hermetic member and the second substrate, according to any one of claims 1 to 16, characterized by being performed by placing the third airtight member Manufacturing method of the image forming apparatus. 前記容器を前記第1の基板から取り外す工程の後であって、前記接合工程の前に、前記第1の気密部材のクリーニングを行うクリーニング工程を有することを特徴とする請求項1乃至17のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。 Even after the step of removing said containers from said first substrate, prior to the bonding step, one of the claims 1 to 17, characterized in that a cleaning step for cleaning the said first hermetic member A method for manufacturing the image forming apparatus according to claim 1 . 前記クリーニング工程において、MEK(メチルエチルケトン)を用いることを特徴とする請求項18に記載の画像形成装置の製造方法。19. The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 18 , wherein MEK (methyl ethyl ketone) is used in the cleaning step. 前記クリーニング工程において、HFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いることを特徴とする請求項18に記載の画像形成装置の製造方法。The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 18 , wherein HFE (hydrofluoroether) is used in the cleaning step. 前記クリーニング工程において、MEK(メチルエチルケトン)とHFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いることを特徴とする請求項18に記載の画像形成装置の製造方法。19. The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 18 , wherein MEK (methyl ethyl ketone) and HFE (hydrofluoroether) are used in the cleaning step. 前記第3の気密部材として、第2の接着剤を用いることを特徴とする請求項17乃至21のいずれか一項に記載の画像形成装置の製造方法。The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 17 , wherein a second adhesive is used as the third hermetic member. 前記第2の接着剤はフリットガラスであることを特徴とする請求項22に記載の画像形成装置の製造方法。23. The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 22 , wherein the second adhesive is frit glass. 前記第2の接着剤はインジウム若しくはその合金であることを特徴とする請求項22に記載の画像形成装置の製造方法。23. The method of manufacturing an image forming apparatus according to claim 22 , wherein the second adhesive is indium or an alloy thereof.
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