JP2002334595A - 半導体記憶装置及びそのテスト方法 - Google Patents

半導体記憶装置及びそのテスト方法

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JP2002334595A
JP2002334595A JP2001139804A JP2001139804A JP2002334595A JP 2002334595 A JP2002334595 A JP 2002334595A JP 2001139804 A JP2001139804 A JP 2001139804A JP 2001139804 A JP2001139804 A JP 2001139804A JP 2002334595 A JP2002334595 A JP 2002334595A
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memory cell
redundant
redundancy
redundant memory
signal
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JP2001139804A
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Kazushi Anazawa
和士 穴澤
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Renesas Micro Systems Co Ltd
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Renesas Micro Systems Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 冗長置換前の冗長メモリセル動作試験機能に
冗長プログラム手段使用の有無を判別可能とさせること
により、より置換効率の高い冗長置換試験を可能とし、
生産性向上を図ることである。 【解決手段】 冗長プログラム手段の使用の有無を検出
する冗長検出回路30を設け、冗長メモリセルテスト時
に、冗長プログラム手段16の使用有無に応じて冗長メ
モリセルデコーダ15の動作を制御する。また冗長メモ
リセルテスト時に、冗長メモリセルデコーダ15によ
り、既に冗長置換に使用されている冗長メモリセルに強
制的に不良帯を発生させ、当該半導体記憶装置の実効的
な冗長メモリセル搭載数を検査装置/検査プログラムに
対して認識させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置及
びそのテスト方法に関し、特に冗長記憶領域を備えた半
導体記憶装置及びそのテスト方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の冗長記憶領域を備えた半導体記憶
装置には、特開平7−226100号公報に開示された
装置(以下、従来技術と呼ぶ。)が知られている。以
下、上記従来技術についてその構成と動作を詳細に説明
する。
【0003】図6において、メモリセル11とそのデコ
ーダ12が正規のメモリセルとその選択手段である。ま
た、冗長メモリセル14aと冗長デコーダ15が予備のメ
モリセルとその選択手段である。デコーダ12ならびに
冗長デコーダ15は通常ロウデコーダとカラムデコーダ
によって一つのメモリセルを選択するが、図6ではこれ
らを一つにブロックに簡略化して表している。また説明
の簡単のため図6では2ロウ(又は2カラム)分の 冗長
デコーダ/メモリセルを記載している。
【0004】冗長デコーダ15はプログラム手段16を
備えている。このプログラム手段16は正規メモリセル
11中の不良メモリセルを冗長メモリセル14aへ置換
する手段を提供するものである。不良メモリセルのアド
レスが外部より入力された時に、当該不良メモリセルへ
のアクセスを禁止する信号106を発生することによ
り、デコーダ12の出力104を非活性化し、同時に冗
長デコーダ15の出力105を活性化して冗長メモリセ
ルへのアクセスを行なう。
【0005】図7に冗長デコーダ15の回路構成の一例
を示す。図7の冗長メモリセルアレイは簡単のため2ロ
ウ(または2カラム)からなるものとする。図中の20a
T〜20cT,20aN〜20cNはヒューズを表す。
図示のごとくソース部が接地されゲート部がアドレス信
号線に接続されたMOSトランジスタのドレイン部がそ
れぞれ対応するヒューズに接続されている。又、選択さ
れた冗長メモリセルに対して書き込み又は読み出しを実
行するコントロール回路13を有する。尚、回路ブロッ
ク21bは、回路ブロック21aと同じ構成であるた
め、その回路構成は図示しない。
【0006】次に、図7を参照して上記した構成の半導
体記憶装置の冗長選択動作について説明する。アドレス
信号101aT〜101cT,101aN〜101cN
は半導体記憶装置の外部から入力されるアドレス信号に
応じて高レベル(以下ハイレベル)又は低レベル(以下ロ
ウレベル)が決定される。これによって任意のメモリセ
ルが選択される。なおアドレス信号末尾の“T”,
“N”は論理の反転を表しており101aTと101a
Nとは一方がハイレベルならもう一方はロウレベルとい
ういわゆる相補の関係にある。これは101bTと10
1bN、101cTと101cNも同様である。
【0007】まず制御信号103aによって接点201
をハイレベルにプリチャージしておく。次にアドレス信
号101aT〜101cT,101aN〜101cNの
電位が外部アドレス信号によって決定すると、選択され
たMOSトランジスタが導通し、ヒューズ20aT〜2
0cT,20aN〜20cNが溶断されていなければ接
点201の電位はロウレベルとなる。この状態で制御信
号103bをハイレベルに活性化すると、2入力NAN
D素子205の出力はロウレベルにマスクされ、冗長デ
コーダ21aの出力信号105aと不良メモリセルへの
アクセス禁止信号106はロウレベルとなって非活性と
なり、正規メモリセルアレイが選択される。
【0008】ここで冗長プログラム規則(例:置換対象ア
ドレスが101aT,101bT,101cTがハイレ
ベル、101aN,101bN,101cNがロウレベ
ルで表される場合はヒューズ20aT,20bT,20
cTを溶断)に従って溶断されている場合、アドレス信
号101aT〜101cT,101aN〜101cNの
電位がただ一つの組み合わせの場合に限って(上述の例
では101aT,101bT,101cTがハイレベ
ル、101aN,101bN,101cNがロウレベ
ル)、接点201をロウレベルに引き抜く信号経路がな
くなるため、不良メモリセルへのアクセス禁止信号10
6がハイレベルとなり不良メモリセルへのアクセスが禁
止され、出力信号105aで活性化される冗長メモリセ
ルがアクセスされる。
【0009】次に、図7を参照して上記した構成の半導
体記憶装置の冗長メモリセルテスト動作について説明す
る。冗長メモリセルテスト時のポインタ信号101dは
あらかじめ冗長メモリセルのアドレスと一対一対応させ
ておく。当該テストモード時にはテストモード信号11
0をハイレベル(活性化)とし先のポインタ信号101d
を指定することにより冗長デコーダの出力105aを強
制的に活性化する。これにより冗長メモリセルへのアク
セスを行ない、その良否を判定することができる。
【0010】以上説明した半導体記憶装置のメモリセル
のテストから冗長メモリセル置換までの工程を表すフロ
ーチャートを図8に示す。図8において、まず正規メモ
リセルのテストが行なわれ(ステップ611)、続いて冗
長メモリセルのテストが行なわれる(ステップ612)。
ステップ611にて正規メモリセルに欠陥があった場
合、その発生規模(不良ビット数など)と、当該半導体記
憶装置の冗長メモリセルの搭載数との比較から冗長メモ
リセルによる救済が可能かどうかの判定を行なう。この
とき、ステップ612の結果から冗長メモリセルの実効
的な搭載数が判り、欠陥の無い冗長メモリセルだけを冗
長置換の対象とすることができる。この後、ステップ6
13にて冗長プログラム規則に従ってヒューズの溶断を
行ない、ステップ600において最終的な良品/不良品
を選別する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】第1の問題点は、すで
に冗長置換が行われたメモリデバイスに対し、未使用の
冗長メモリセルを利用するために再度冗長検査を行なう
際、当該冗長メモリセルを試験動作させる為の冗長デコ
ーダに冗長プログラム手段使用の有無を検出する機能が
ない為に、当該冗長メモリセルの動作が冗長置換に使用
されているか否かに依存せず、検査装置/検査プログラ
ムに対して当該冗長メモリセルを冗長置換に使用可能か
否かを認識させる事ができないことである。
【0012】図8及び図9において既にヒューズ溶断に
より冗長置換がなされているデバイスに対して再度冗長
置換を行なおうとした場合(図8のステップ621,6
22,623)、既に冗長置換に使用されている冗長メ
モリセル(図8のステップ621,622,623にお
ける冗長メモリセル2)を置換使用の対象から外さなけ
ればならないにもかかわらず、その使用可否を判断する
ための冗長メモリセルの良否判定試験において、他の未
使用領域と同様に当該使用済冗長メモリセルも動作して
しまう(図8のステップ622,図9のステップ722)
ことから、冗長メモリセルの実効的な搭載数を検査装置
/検査プログラムに対して認識させる事ができない(図8
のステップ623,図9のステップ723)。
【0013】本発明の目的は、冗長置換前の冗長メモリ
セル動作試験機能に冗長プログラム手段使用の有無を判
別可能とさせることにより、より置換効率の高い冗長置
換試験を可能とし、生産性向上を図ることである。
【0014】
【課題を解決するための手段】冗長メモリセルの選択を
行う冗長デコーダに、当該冗長デコーダプログラム手段
の使用/未使用を検出する冗長検出回路を付加し、冗長
プログラム手段使用の有無に応じて冗長メモリセルの動
作を制御するテストモードを実現可能とさせる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して詳細に説明する。図1に本発明の実
施の形態を示す。当該テストモード時にはそのポインタ
信号を指定することにより、冗長デコーダ15の出力を
活性化する。冗長デコーダ15はあらかじめポインタ信
号と冗長メモリセルのアドレスとを一対一対応させてお
き、このポインタ信号とテストモード信号110に基い
てメモリセルアレイ11の出力を非活性化する信号10
6を発生する。
【0016】また、冗長プログラム手段が使用されてい
るか否か(当該冗長デコーダが置換に使用されているか
否か)を検出する冗長検出回路30を設け、ポインタ信
号で指定された冗長メモリセルがすでに冗長使用されて
いた場合、冗長検出回路30が冗長デコーダ15の出力
を非活性化する信号305を発生する。このようにして
冗長メモリセルの良否テストを可能とするアクセス経路
を、冗長プログラム手段使用の有無に応じて変化させ
る。
【0017】図2に冗長デコーダ15ならびに冗長検出
回路30の一実施の形態を示す。冗長メモリセルへのア
クセスは図6及び図7を参照して説明した上記従来技術
と同じ方式を想定している。図2の回路はテストモード
時に活性化するテストモード信号110、ポインタ信号
101d、ならびに冗長検出回路の出力305により信
号105aと106を強制的に活性化し、冗長メモリセ
ルへのアクセスを可能としている。
【0018】アドレス信号101mTは、半導体記憶装
置の外部から入力されるアドレス信号群101aT〜1
01cTから任意に抜き出された一の信号であり、アド
レス信号101mNも同様にアドレス信号群101aN
〜101cNから任意に抜き出された一信号である。末
尾の“T”,“N”は101mTと101mNは相補の
関係にある対であることを表す。
【0019】同様にヒューズ対20mT,20mNは各
々、ヒューズ群20aT〜20cT,20aN〜20c
Nから任意に抜き出された対である。なお、本実施の形
態における冗長検出回路30では、説明を簡潔にするた
めに1対分のアドレス信号,ヒューズを使用している
が、2対以上のアドレス信号,ヒューズによる適用も可
能である。又、選択された冗長メモリセルに対して書き
込み又は読み出しを実行するコントロール回路13を有
する。尚、回路ブロック22bは、回路ブロック22a
と同じ構成であるため、その回路構成は図示しない。
【0020】次に、図2を参照して本実施の形態に係る
冗長メモリセル14の未使用領域におけるテスト動作に
ついて説明する。ここでは、ヒューズ20aT〜20c
T,20mT,20aN〜20cN,20mNが溶断さ
れていない場合のテスト動作について説明する。冗長検
出回路22aにおいて、テストモード信号110によっ
てMOSトランジスタへの入力101mT,101mN
双方がハイレベルとなり、接点302aと302bの電
位はロウレベルとなる。これを入力とする2入力XOR
素子301aの出力304がロウレベルとなり、2入力
NAND素子303の出力305が冗長未使用を示すハ
イレベルになる。
【0021】冗長デコーダ21aは、図7に示す従来例
における冗長デコーダと同様に、テストモード信号11
0及び冗長メモリセルテストモード時のポインタ信号1
01dにより2入力NAND素子205の出力を強制的
にハイレベルとする。これと先の冗長検出信号305を
入力とする2入力AND素子304の一方の入力は、冗
長検出信号305によりハイレベルになっているので、
信号105a,106は冗長活性化を示すハイレベルと
なる。
【0022】次に、冗長メモリセル使用済領域のテスト
動作について図2を参照して説明する。即ち、ヒューズ
20aT〜20cT,20mT,20aN〜20cN,
20mNが溶断されている場合のテスト動作について説
明する。なお、ここでは説明を簡潔にするため、ヒュー
ズ20aT〜20cT,20mTが冗長プログラム規則
に従って溶断されている場合のテスト動作について説明
する。
【0023】冗長検出回路22aにおいて、テストモー
ド信号110によってMOSトランジスタへの入力10
1mT,101mN双方がハイレベルとなり、接点30
2bの電位はロウレベルとなるが、ヒューズ20mTが
溶断されているので接点302aの電位はハイレベルに
保持され、これを入力とする2入力XOR素子301aの
出力304がハイレベルとなり、2入力NAND素子3
03の出力305が冗長使用済を示すロウレベルにな
る。この信号305によって信号105aは強制的に冗
長非活性化を示すロウレベルとなり、冗長メモリセルへ
のアクセスが禁止される。
【0024】次に図2を参照して、不良メモリセルから
冗長メモリセルへの置換動作、すなわちヒューズ溶断後
の非テストモード下での通常動作を説明する。通常動作
時においてテストモード信号110はロウレベルとさ
れ、3入力AND素子202の出力は常にハイレベルで
あり、ヒューズ20aT〜20cT,20aN〜20c
Nの溶断によりプログラムされたアドレスがアクセスさ
れた場合接点201aはハイレベルとなる。
【0025】また2入力OR素子306a,306bが
単なるバッファとして機能しアドレス信号の一部である
信号101mT,101mNがMOSトランジスタへ伝
達される事からこれがヒューズ20mT,20mNの溶
断によりプログラムされたアドレスと一致した場合 接
点201bはハイレベルとなる。
【0026】信号201a,201bがともにハイレベ
ルとなる場合、すなわち入力アドレス101aT〜10
1cT,101mT,101aN〜101cN,101
mNがヒューズ20aT〜20cT,20mT,20a
N〜20cN,20mNの溶断によりプログラムされた
アドレスと一致した場合のみ2入力AND素子300の
出力201はハイレベルとなり、正規メモリセルのデコ
ーダは不活性化され、冗長メモリセルがアクセスされ
る。以上説明した回路構成例の動作を示す真理値表を図
4にまとめる。
【0027】以上説明した半導体記憶装置のメモリセル
テストから冗長メモリセル置換までのフロー、特に既に
冗長置換が行なわれている半導体記憶装置を再度冗長置
換する場合のフローを図3及び図8にまとめる。まず正
規メモリセルのテストが行なわれ(図3のステップ82
1,図8のステップ621)、続いて冗長メモリセルの
テストが行なわれる(図3のステップ822,図8のス
テップ622)。図3のステップ821(および図8のス
テップ621)にて正規メモリセルに欠陥があった場
合、その発生規模(不良ビット数など)と当該半導体記憶
装置の冗長メモリセルの搭載数との比較から冗長メモリ
セルによる救済が可能かどうかの判定を行なう。
【0028】このとき図8のステップ822に示す通
り、使用済みの冗長メモリセルに対して意図的に不良帯
を発生させることにより検査装置/検査プログラムに当
該冗長メモリセルの実効的な搭載数を認識させることが
でき、欠陥の無い冗長メモリセルだけを冗長置換の対象
とすることができる。この後、図3のステップ823,
図8のステップ623にて、冗長プログラム規則に従っ
てヒューズの溶断を行ない、図8のステップ600にお
いて最終的な良品/不良品を選別する。
【0029】次に、本発明の他の実施の形態について図
5を参照して説明する。図3は本発明の他の実施の形態
を示した図である。本実施の形態に基く回路構成は、冗
長テストモード信号110の代わりに信号110から独
立して制御される第2の冗長テストモード信号111に
よって冗長検出回路(図2符号22a,22b、図5の
符号30)を制御する点が上記一実施の形態と異なる。
【0030】この構成は、冗長メモリセルの良否を検査
する冗長テストモードと冗長プログラム手段使用の有無
を検出する冗長検出テストモードを分離する事により、
上記一実施の形態と同様の冗長プログラム手段の使用有
無に応じて冗長デコード手段の動作を制御するテストモ
ードと、冗長プログラム手段使用の有無に依存しない冗
長置換を前提としない冗長メモリセルそのものの良否を
調査/評価する為の冗長テストモードを選択可能とする
ことを特徴とする。
【0031】なお、上記各実施の形態では説明を簡潔に
するために2ロウまたは2カラムのからなる冗長メモリ
セルアレイに基いて説明したが、本発明は3ロウ以上ま
たは3カラム以上からなる冗長メモリセルアレイにも同
様にして適用できる。また図2に示した冗長デコーダは
回路構成の一例を示したものであり、本発明はこれらの
実施態様にのみ限定されるものではなく、本発明の原理
に準ずる各種実施態様を含むものである。
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、すでに冗長置換済のデ
バイスを再度冗長検査を行なう場合に、当該冗長メモリ
セルが冗長置換に使用されているかの情報を含めた形
で、冗長メモリセル部の良否検査を実現できる。
【0033】その理由は、外部入力アドレス不問で冗長
メモリセルの良否検査を行なうための冗長デコーダ論理
に、当該冗長デコーダの冗長プログラム手段がすでに使
用されている否かを検出する冗長検出回路を付加したこ
とによる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
構成を示したブロック図である。
【図2】図1の半導体記憶装置内の冗長メモリセルデコ
ーダの構成を示した回路図である。
【図3】図1の半導体記憶装置のメモリセルテストから
冗長メモリセル置換までの工程を示したフローチャート
である。
【図4】図2に示した冗長メモリセルデコーダの動作を
示す真理値表である。
【図5】本発明の他の実施の形態に係る半導体記憶装置
の構成を示したブロック図である。
【図6】従来の半導体記憶装置の構成を示したブロック
図である。
【図7】図6の半導体記憶装置内の冗長メモリセルデコ
ーダの構成を示した回路図である。
【図8】半導体記憶装置の動作テストから冗長メモリセ
ル置換工程を示したフローチャートである。
【図9】従来の半導体記憶装置の動作テストから冗長メ
モリセル置換までの工程を示したフローチャートであ
る。
【符号の説明】
11 正規メモリセルアレイ 12 正規メモリセルアレイのデコーダ 13 制御信号を発生するコントロール回路 14a,14b 冗長メモリセル 15 冗長デコーダ 16 冗長プログラム手段 21a,21b 冗長メモリセルデコーダの1ロウま
たは1カラム分の回路ブロック 22a,22b 冗長検出回路の1ロウまたは1カラ
ム分の回路 101d ポインタ信号 101e ポインタ信号 102 データ信号線のまとまり 103 制御信号線のまとまり 103a,103b 冗長メモリセルデコーダの制御
信号 105 冗長メモリセルのデコード信号 105a,105b 冗長メモリセルのデコード信号 106 正規メモリセルのデコード禁止信号 110 テストモード信号1 111 テストモード信号2 202 3入力NAND素子 203 2入力OR素子 204 2入力NAND素子 205 2入力NAND素子 300 2入力AND素子 303 2入力NAND素子 301a 2入力XOR素子 301b 2入力AND素子 304 2入力AND素子 306a,306b 2入力OR素子 20aT,20bT,20cT,20mT ヒューズ 20aN,20bN,20cN,20mN ヒューズ 101aT,101bT,101cT,101mT
アドレス信号線 101aN,101bN,101cN,101mN
アドレス信号線

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マトリクス上に配置されたメモリセルか
    らなる正規メモリセルアレイと、該正規メモリアレイか
    ら外部アドレス信号に対応した1又は複数のメモリセル
    を選択するためのデコード手段と、前記正規メモリアレ
    イのうち不良と判定されたメモリセルを置換するために
    設けられた冗長メモリセルをマトリクス状に配置した冗
    長メモリセルアレイと、該冗長メモリセルアレイから1
    又は複数の前記冗長メモリセルを選択し、その冗長メモ
    リセルのテストを行なうための冗長メモリセルデコード
    手段と、前記不良メモリセルを前記冗長メモリセルアレ
    イのうちのいずれかのメモリセルに置換するための冗長
    プログラム手段とを具備する半導体記憶装置において、 前記冗長メモリセルデコード手段は当該冗長メモリセル
    デコード手段における冗長プログラム手段の使用の有無
    を検出する冗長検出回路を有することを特徴とする半導
    体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記冗長検出回路は、前記冗長プログラ
    ム手段の使用の有無に応じて前記冗長メモリセルデコー
    ド手段の動作を制御し、冗長置換済みの半導体記憶装置
    に対して未使用の冗長メモリセルを利用するための再度
    の冗長検査を可能とする請求項1記載の半導体記憶装
    置。
  3. 【請求項3】 半導体記憶装置の外部テストピンへの信
    号電圧入力もしくは入力信号ピンへのクロック組み合わ
    せによってテストモードに設定され、当該テストモード
    時において、冗長テストモード信号により冗長メモリセ
    ルの各々の良否を検査する冗長メモリセルデコード手段
    を具備する半導体記憶装置において、 前記冗長メモリセルデコード手段内の冗長プログラム手
    段が使用されているか否かを検出する冗長検出回路をを
    有することを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記テストモード時にポインタ信号で指
    定された冗長メモリセルがすでに冗長使用されていた場
    合、前記冗長検出回路は、前記冗長メモリセルデコード
    手段の出力を非活性化する信号を発生し、前記冗長プロ
    グラム手段の使用有無に応じて前記冗長メモリセルが冗
    長置換に使用されているか否かの情報を含めて、前記冗
    長メモリセルの良否テストを可能とすることを特徴とす
    る請求項3記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 冗長メモリセルデコード手段を具備し、
    半導体記憶装置の外部テストピンへの信号電圧入力もし
    くは入力信号ピンへのクロック組み合わせによって、前
    記冗長メモリセルデコード手段の動作を制御するテスト
    モードに設定され、当該テストモード時に、前記冗長メ
    モリセルデコード手段が第1の冗長テストモード信号を
    受けて冗長メモリセルの各々の良否を検査する半導体記
    憶装置において、 前記第1の冗長テストモード信号とは独立した第2の冗
    長テストモード信号を受けて、前記冗長メモリセルデコ
    ード手段内の冗長プログラム手段が使用されているか否
    かを検出する冗長検出回路を有することを特徴とする半
    導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記テストモード時にポインタ信号で指
    定された冗長メモリセルがすでに冗長使用されていた場
    合、前記冗長検出回路は、前記冗長メモリセルデコード
    手段の出力を非活性化する信号を発生し、前記冗長プロ
    グラム手段の使用有無に応じて前記冗長メモリセルが冗
    長置換に使用されているか否かの情報を含めて、前記冗
    長メモリセルの良否テストを可能とすることを特徴とす
    る請求項5記載の半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 正規メモリセルの不良ビットの存在を検
    出する第1のステップと、 前記第1のステップにおいて前記不良ビットが存在した
    場合に冗長メモリセルの不良ビットの存在を検出し、か
    つ当該冗長メモリセルが冗長置換に使用されていた場合
    に、これを検出し当該冗長メモリセルに強制的に不良ビ
    ットを検出させ当該冗長メモリセルにおいて検出された
    不良ビットから、前記第1のステップにおいて当該正規
    メモリセル上において検出された不良ビットを冗長置換
    するための実効的な冗長メモリセル搭載数を検出する第
    2のステップと、 前記第2のステップにおいて検出された実効的な冗長メ
    モリセルを用いて前記第1のステップにおいて当該正規
    メモリセル上において検出された不良ビットを冗長置換
    する第3のステップとを有することを特徴とする半導体
    記憶装置のテスト方法。
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JP2009087513A (ja) * 2007-10-03 2009-04-23 Nec Electronics Corp 半導体記憶装置、及びメモリセルテスト方法

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