JP2002323755A - 平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像による画像形成時のラチチュードに優れ
ると共に、高感度で、かつ、レーザ走査露光時における
アブレーションを抑制しうるダイレクト製版用の赤外線
レーザ対応ポジ型平版印刷版原版を提供することを目的
とする。 【解決手段】 本発明の赤外線レーザ対応ポジ型平版印
刷版原版は、支持体上に、ノボラック樹脂と、光熱変換
物質とを含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水
溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けてな
るポジ型平版印刷版原版であって、前記ノボラック樹脂
に含まれる重量平均分子量１，０００以下の成分の含有
量が、当該ノボラック樹脂全体の１５重量％以下である
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できるポジ型平版印刷版原版に関するも
のであり、特にコンピュータ等のディジタル信号から直
接製版できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ
対応ポジ型平版印刷版原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目覚しく、
特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レ
ーザや半導体レーザ（以下、赤外線レーザとする。）で
は、高出力・小型化が進んでいる。かかる赤外線レーザ
は、コンピュータ等のデジタルデータに沿って、直接印
刷版を製版する際の露光光源として非常に有用である。

【０００３】赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版に
設けられる記録層（以下、赤外線レーザ対応ポジ型記録
層と称する。）は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー
樹脂と、光を吸収し熱を発生するＩＲ染料等の光熱変換
物質とを必須成分する。光熱変換物質が、未露光部（画
像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバイン
ダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤とし
て働き、露光部（非画像部）では、発生した熱によりＩ
Ｒ染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカ
リ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。

【０００４】しかしながら、このような赤外線レーザ対
応ポジ型記録層では、様々な使用条件における未露光部
（画像部）の現像液に対する耐溶解性と、露光部（非画
像部）の溶解性との間の差が未だ十分とは言えず、使用
条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいとい
う問題があった。

【０００５】このような問題は、赤外線レーザ対応ポジ
型平版印刷版原版と、ＵＶ露光により製版するポジ型平
版印刷版原版との製版メカニズムの本質的な相違に由来
する。すなわち、ＵＶ露光により製版するポジ型平版印
刷版原版の記録層では、アルカリ水溶液可溶性のバイン
ダー樹脂と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを
必須成分とするが、このオニウム塩やキノンジアジド化
合物類は、未露光部（画像部）でバインダー樹脂との相
互作用により溶解阻止剤として働くだけでなく、露光部
（非画像部）では、光によって分解して酸を発生し、溶
解促進剤として働くという二つの役割を果たすものであ
る。

【０００６】これに対し、赤外線レーザ対応ポジ型記録
層における光熱変換物質は、未露光部（画像部）の溶解
阻止剤として働くのみで、露光部（非画像部）の溶解を
促進するものではない。従って、赤外線レーザ対応ポジ
型記録層において、未露光部と露光部との溶解性の差を
出すためには、バインダー樹脂として、あらかじめアル
カリ現像液に対する溶解性の高いものを使用せざるを得
ず、現像前の状態が不安定なものとなるのである。

【０００７】耐現像性を向上させるための溶解抑制剤は
種々提案されているが、露光により速やかに抑制効果を
解除しうるものは少ない。露光部（非画像部）の現像性
を低下させず未露光部（画像部）の現像液に対する耐溶
解性を上げる目的で、例えば、ＥＰ９５０５１７号に
は、シロキサン系の界面活性剤を用いる方法が提案され
おり、特開平１０−２６８５１号公報には、溶解抑制剤
としてスルホン酸エステル類等を用いる方法が開示され
ている。これらは記録層画像部の耐現像性向上にある程
度寄与するものの、現像液の活性変動に係わらず鮮鋭で
良好な画像形成を行いうるほどには、充分な未露光部と
露光部との溶解性の差を達成しているとは言い難い。

【０００８】露光により速やかに抑制効果を解除しうる
溶解抑制剤を含有する、又は、溶解抑制機能を有する、
赤外線レーザ対応ポジ型記録層の場合であっても、露光
部の支持体に近い部分では、支持体への熱拡散により溶
解抑制作用の解除が表面近傍と比較して十分に行われな
い。そのため、露光エネルギーが少ない場合は、支持体
近傍の記録層の溶解抑制解除が不十分となり本来非画像
部であるべき部分に記録層が残存する現象、いわゆる現
像不良が発生する。一方、露光エネルギーが多い場合
は、支持体近傍の記録層の溶解抑制解除が十分となる反
面、表面近傍の記録層の温度上昇が過大となり記録層が
部分的に飛散し、その飛散した記録層の屑が赤外レーザ
ー露光装置の光学系を汚染する現象、いわゆるアブレー
ションが発生するという問題があった。

【０００９】露光エネルギーが少ない、つまり、低エネ
ルギー照射時における現像不良の問題点に関しては、記
録層の溶解抑制解除効率を上げる技術が有効である。つ
まり、記録層の露光に対しての感度が向上すれば、現像
不良の問題を低減することができる。例えば、特開平１
１−２１６９６４号公報には、アルカリ可溶性バインダ
ーと、該バインダーの溶解性を低下させる物質と、前記
バインダーのアルカリ可溶性を低下させない赤外線吸収
染料と、を有する記録層が高い感度を有することが開示
されている。しかし、かかる記録層は、アブレーション
に対しての効果が確認されていなかった。

【００１０】一方、露光エネルギーが多い、つまり、高
エネルギー照射時におけるアブレーションの問題に関し
ては、記録層の表面に保護層を設け、記録層の爆発を抑
制する技術が有効である。例えば、特開平１１−１４９
１６２号公報によれば、ＩＲ領域における放射線に対し
て透明である水溶性保護層を放射線感応性層（記録層）
の表面に設けてなる記録材料が提案されている。しか
し、前記水溶性保護層は、赤外線レーザ露光時に発生し
た熱を奪ってしまうため、感度が低下する可能性を有し
ていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、現像
による画像形成時のラチチュードに優れると共に、高感
度で、かつ、レーザ走査露光時におけるアブレーション
を抑制しうるダイレクト製版用の赤外線レーザ対応ポジ
型平版印刷版原版を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版の記録
層を構成するノボラック樹脂の低分子量成分の含有量
を、所定の重量割合よりも減少させることにより、当該
赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版の現像による画
像形成時のラチチュード（現像ラチチュード）及び耐ア
ブレーション性が向上し、かつ、高感度を有することを
見出した。より詳細には、以下の通りである。

【００１３】本発明の赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷
版原版は、支持体上に、ノボラック樹脂と、光熱変換物
質とを含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶
液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けてなる
ポジ型平版印刷版原版であって、前記ノボラック樹脂に
含まれる重量平均分子量１，０００以下の成分の含有量
が、当該ノボラック樹脂全体の１５重量％以下であるこ
とを特徴とする。

【００１４】本発明の赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷
版原版によれば、溶解阻止剤と強く相互作用することの
可能なノボラック樹脂を記録層に用いていることから、
露光部と非露光部とで現像液に対する溶解性の差を大き
くすることができ、良好な現像を行うことができる。ま
た、ノボラック樹脂は、インキ受容性に優れることから
高品質の画像を形成することをも可能とする。

【００１５】また、本発明の赤外線レーザ対応ポジ型平
版印刷版原版による、現像ラチチュード、感度及び耐ア
ブレーション性のそれぞれに関して、明確ではないが以
下のような作用が推察される。

【００１６】平版印刷版原版の現像ラチチュードは、ノ
ボラック樹脂のアルカリ現像液の浸透性に影響を受ける
と思われる。つまり、重量平均分子量１，０００以下の
成分含有量が多いノボラック樹脂では、その低分子成分
がアルカリ現像液を浸透させやすくするため、高アルカ
リ濃度現像液で処理した場合に現像液が記録層中に浸透
し、所望されない未露光部領域の溶解が生じ、満足な現
像適性が得られない。本発明では、ノボラック樹脂の低
分子成分を所定量まで低減させたため、前記ノボラック
樹脂の現像液非浸透性能力が上昇し、平版印刷版原版の
現像ラチチュードが向上すると推察される。

【００１７】平版印刷版原版の感度は、ノボラック樹脂
を含有する記録層中の樹脂部の海島構造、及び、表面構
造が変化していることが起因すると思われる。本発明で
は、重量平均分子量１，０００以下の成分含有量が少な
いノボラック樹脂を用いているため、その低分子量成分
の影響が少なく、樹脂部の海島構造がクリアに形成され
るため、支持体近傍の溶解抑制解除が効率よく画像形成
に使用され、高感度となると推察される。

【００１８】平版印刷版原版のアブレーションは、高熱
時に低分子化合物が昇華する現象、もしくは高分子化合
物が熱分解した後昇華する現象と思われる。従って、本
発明の平版印刷版原版の記録層に低分子成分を減少させ
たノボラック樹脂を用いることで、アブレーションが抑
制されるものと推察される。

【００１９】また、請求項２に記載の本発明の赤外線レ
ーザ対応ポジ型平版印刷版原版は、支持体上に、アルカ
リ可溶性樹脂と、光熱変換物質とを含有し、赤外レーザ
の露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大す
る第１のポジ型記録層と、ノボラック樹脂と、光熱変換
物質とを含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水
溶液に対する溶解性が増大する第２のポジ型記録層と、
をこの順に設けてなるポジ型平版印刷版原版であって、
前記ノボラック樹脂に含まれる重量平均分子量１，００
０以下の成分の含有量が、当該ノボラック樹脂全体の１
５重量％以下であることを特徴とする。

【００２０】本発明の請求項２に係る赤外線レーザ対応
ポジ型平版印刷版原版によれば、記録層を重層構造と
し、上層に低分子成分を減少させたノボラック樹脂を含
有する記録層を設けることで、前述した如き現像液非浸
透性能力が上昇し、現像ラチチュードが向上すると共
に、現像液の非浸透性を有する上層の記録層が下層記録
層の保護層として機能するため膜強度、耐刷性の向上効
果も期待される。また、上述のようにアブレーションを
抑制する作用を有する記録層を上層に設けることで、ア
ブレーションの抑制効果は更に増大するものと推察され
る。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の赤外線レーザ対応
ポジ型平版印刷版原版について詳細に説明する。本発明
のポジ型平版印刷版原版の記録層は、重量平均分子量
１，０００以下の成分の含有量が全体の１５重量％以下
であるノボラック樹脂（以下、適宜、特定ノボラック樹
脂と称する。）と、光熱変換物質と、を含有することを
要する。以下に、記録層を構成する成分について順次説
明する。

【００２２】＜特定ノボラック樹脂＞本発明のポジ型平
版印刷版原版の記録層として使用し得るノボラック樹脂
は、重量平均分子量１，０００以下の成分の含有量が全
体の１５重量％以下であることを特徴とする。

【００２３】特定ノボラック樹脂は、合成時に、重量平
均分子量１，０００以下の成分の含有量が全体の１５重
量％以下になるような条件を用いて重合した、特定の分
子量分布を有するものをそのまま使用してもよいし、ま
た、公知の合成方法によって重合した汎用のノボラック
樹脂の低分子量成分を常法により除去したものを使用す
ることもできる。なお、低分子量成分の除去手段は、当
業者に公知の様々な技術を使用することができる。

【００２４】また、特定ノボラック樹脂は、低分子量成
分の割合をより少なくすることがより好ましい。具体的
には、本発明に使用されるノボラック樹脂中、分子量
１，０００以下の割合が１５重量％以下であることを要
するが、より好ましくは１０重量％以下であり、特に好
ましくは、５重量％以下である。

【００２５】本発明に用い得る特定ノボラック樹脂とし
ては、フェノールとホルムアルデヒドとを酸性触媒の存
在下、常圧で合成することで得られるのものを、条件に
より低分子量成分の含有量を制御することにより使用す
ることができる。有触媒系で合成されるノボラック樹脂
としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、２，３−キシレノールホルムアルデ
ヒド樹脂、２，５−キシレノールホルムアルデヒド樹
脂、３，５−キシレノールホルムアルデヒド樹脂、フェ
ノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合
のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール／キシレノール混合ホルムアルデヒド樹脂、キシレ
ノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合
のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂、或い
は、フェノール／クレゾール／キシレノール混合ホルム
アルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、ピロガロールアセ
トン樹脂が挙げられる。

【００２６】本発明に用い得る特定ノボラック樹脂は、
重量平均分子量が２，０００〜２０，０００であること
が好ましく、重量平均分子量は、４，０００〜２０，０
００であることがより好ましい。重量平均分子量が２，
０００未満、特に、１，０００未満では、耐刷性、保存
安定性改良効果が不充分であり、２０，０００を超える
と安定製造化が困難となり、いずれも好ましくない。

【００２７】上記特定ノボラック樹脂は、本発明のポジ
型平版印刷版原版の記録層の全固形分中、好ましくは５
〜９９重量％、より好ましくは１０〜９０重量％の添加
量で用いられる。特定ノボラック樹脂の添加量が５重量
％未満であると記録層の現像ラチチュード等が悪化し、
また、９９重量％を越えると感度、耐久性の両面で好ま
しくない。

【００２８】本発明においては、上記特定ノボラック樹
脂が必須であるが、本発明の効果を損なわない範囲にお
いて、その他のアルカリ可溶性樹脂と併用することもで
きる。なお、後述の＜特定ノボラック樹脂と併用可能な
その他のアルカリ可溶性樹脂＞を本発明における上記特
定ノボラック樹脂と併用して記録層を得る場合、両者を
合わせた記録層全固形分中の含有量が、前記範囲である
ことが望ましい。

【００２９】＜特定ノボラック樹脂と併用可能なその他
のアルカリ可溶性樹脂＞本発明の特定ノボラック樹脂に
併用され得るその他のアルカリ可溶性樹脂としては、従
来公知のものであれば特に制限はないが、（１）フェノ
ール性水酸基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イ
ミド基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合
物であることが好ましい。本発明に好適に使用しうるア
ルカリ可溶性高分子としては、例えば、以下のものが例
示されるが、これらに限定されるものではない。

【００３０】（１）フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、側鎖にフェノール性水酸基を有する高
分子化合物を用いることができる。側鎖にフェノール性
水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水
酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する
低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或い
は該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得ら
れる高分子化合物が挙げられる。

【００３１】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルア
クリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、
ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２
−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、
２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、２種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第４，１２３，２７９
号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。

【００３２】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性樹脂としては、スルホンアミド基を有する重合性
モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モ
ノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとして
は、１分子中に、窒素原子上に少なくとも１つの水素原
子が結合したスルホンアミド基−ＮＨ−ＳＯ₂−と、重
合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化
合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中で
も、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、
置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホ
ニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。この
ような化合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜一
般式（ｅ）で示される化合物が挙げられる。

【００３３】

【化１】

【００３４】下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）中、Ｘ¹
及びＸ²は、それぞれ−Ｏ−又は−ＮＲ⁷−を示す。Ｒ¹
及びＲ⁴は、それぞれ水素原子又は−ＣＨ₃を表す。
Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²及びＲ¹⁶は、それぞれ置換基を有
していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロ
アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表
す。Ｒ ³、Ｒ⁷及びＲ¹³は、水素原子、それぞれ置換基を
有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。ま
た、Ｒ⁶及びＲ¹⁷は、それぞれ置換基を有していてもよ
い炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基又はアラルキル基を示す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹⁴
は、水素原子又は−ＣＨ₃を表す。Ｒ¹¹及びＲ¹⁵は、そ
れぞれ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜
１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン
基又はアラルキレン基を表す。Ｙ¹及びＹ²は、それぞれ
単結合又は−ＣＯ−を表す。具体的には、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用
することができる。

【００３５】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性樹脂は、下記式で表される活性イミド基を分子内に有
するものが好ましく、この高分子化合物としては、１分
子中に、下記式で表わされる活性イミド基と、重合可能
な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物か
らなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに
他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合
物が挙げられる。

【００３６】

【化２】

【００３７】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【００３８】また、前記フェノール性水酸基を有する重
合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマ
ー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの
２種以上を重合させた高分子化合物、或いはこれら２種
以上の重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物を使用することが好ましい。
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホ
ンアミド基を有する重合性モノマー及び／又は活性イミ
ド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、
これら成分の配合重量比は５０：５０から５：９５の範
囲にあることが好ましく、４０：６０から１０：９０の
範囲にあることが特に好ましい。

【００３９】本発明において、アルカリ可溶性樹脂が前
記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホ
ンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基
を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共
重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモノ
マーは１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％
以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０モル％
より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、
現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないことが
ある。

【００４０】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記（ｍ１）〜（ｍ１
２）に挙げるモノマーを用いることができるが、これら
に限定されるものではない。

【００４１】（ｍ１）例えば、２−ヒドロキシエチルア
クリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメ
タクリル酸エステル類。 （ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート
等のアルキルアクリレート。 （ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレ
ート。 （ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 （ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類。

【００４２】（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。 （ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 （ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
ール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等。 （ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【００４３】上記で挙げられたアルカリ可溶性樹脂は、
それぞれ１種類或いは２種類以上を組み合わせて使用し
てもよい。

【００４４】本発明に使用し得るアルカリ可溶性樹脂
は、重量平均分子量が２，０００以上のものが好まし
い。更に好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜３
００，０００のものである。

【００４５】本発明に使用し得るアルカリ可溶性樹脂
は、特定ノボラック樹脂の効果を損なわない程度に添加
すればよい。即ち、本発明の本発明のポジ型平版印刷版
原版の記録層におけるバインダー成分の全てが、特定ノ
ボラック樹脂であってもよく、また、上述のように、当
該記録層中に少なくとも５重量％の特定ノボラック樹脂
が含まれていれば、本発明の効果が得られることから、
膜性向上等の目的で併用される上述したアルカリ可溶性
樹脂が、特定ノボラック樹脂よりも多く含まれていても
かまわない。本発明のポジ型平版印刷版原版の記録層全
固形分中、アルカリ可溶性樹脂は、好ましくは１０〜９
０重量％、より好ましくは５０〜９０重量％の添加量で
用いられる。

【００４６】＜光熱変換物質＞本発明において用いられ
る光熱変換物質としては、光を吸収して熱を発生する物
質であれば、特に制限はないが、記録感度の観点から、
波長７００〜１２００ｎｍの赤外域に吸収を持つ顔料又
は染料が好ましい。顔料としては、市販の顔料及びカラ
ーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」
（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応
用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ
技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔
料が利用できる。

【００４７】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。

【００４８】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【００４９】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることが更に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの
範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ
未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で
好ましくなく、また、１０μｍを越えると記録層の均一
性の点で好ましくない。顔料を分散する方法としては、
インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術
が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンド
ミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボー
ルミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイ
ドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー
等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭ
Ｃ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００５０】染料としては、市販の染料及び文献（例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）
に記載されている公知のものが利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。

【００５１】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９
−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭
６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、
特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９
０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されている
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭５８−１１２７９２号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。

【００５２】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポ
リン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉ
ｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５等
が、特に好ましく用いられる。

【００５３】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式
（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、記
録層全固形分中に対し０．０１〜５０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．
５〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは３．１〜１
０重量％の割合で記録層全固形分中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満
であると感度が低くなり、また５０重量％を越えると記
録層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。

【００５４】〔その他の成分〕本発明のポジ型記録層を
形成するにあたっては、更に必要に応じて、種々の添加
剤を添加することができる。例えばオニウム塩、ｏ−キ
ノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族ス
ルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しな
い状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下
させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解
阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩とし
てはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム
塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。

【００５５】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６
９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１
４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、D. C.
Necker et al, Macromolecules, 17, 2468(1984)、C.
S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p
478 Tokyo, Oct (1988)、米国特許第４，０６９，０５
５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム
塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 13
07 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (198
8)、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第３３９，
０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１５０８
４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウ
ム塩、J. V.Crivello et al, Polymer J. 17, 73 (198
5)、J. V. Crivello et al. J. Org.Chem., 43, 3055
(1978)、W. R. Watt et al, J. Polymer Sci., Polymer
Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、J. V. Crivello et al,
Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、J. V. Crivello et
al, Macromorecules, 14(5) ，1141(1981)、J. V. Cri
vello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 1
7, 2877 (1979) 、欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、J. V.Crivello et al,
Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivell
o et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1
047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen et a
l, Teh,Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。オニ
ウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。ま
た、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５
８２３０号公報記載のものがあげられる。

【００５６】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。

【００５７】好適なキノンジアジド類としてはｏ−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個の
ｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」（John Wiley & Sons. Inc.)第３３９〜３５２頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０
３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，
２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン
−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドと
ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第
３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に
記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドス
ルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジ
アジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。

【００５８】更に、ナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭４７−５３０３
号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０
３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７
０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１
２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７
４８１号、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，
４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第
３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同
第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０
２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，０
０５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，
９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細
書中に記載されているものをあげることができる。

【００５９】ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは記録層全固形分に対し、１〜５０重量％、更に好
ましくは５〜３０重量％、特に好ましくは１０〜３０重
量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できる
が、数種の混合物として使用してもよい。

【００６０】ｏ−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは１〜５０重量％、更に好ましくは
５〜３０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。

【００６１】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，
１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，
６−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。

【００６２】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸
類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，
４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４
−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、
ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが
挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有
機酸類の記録層全固形分中に占める割合は、０．０５〜
２０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５重
量％、特に好ましくは０．１〜１０重量％である。

【００６３】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６
２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公
報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０
５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。

【００６４】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル
−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ
−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名
「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられ
る。

【００６５】シロキサン系化合物としては、ジメチルシ
ロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体
が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、ＤＢＥ−
２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７
３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ Ｇ
ｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコ
ーンを挙げることが出来る。

【００６６】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の記録層全固形分中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。

【００６７】本発明における記録層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記
載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５
３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３
６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６
４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。

【００６８】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、記録層全固形分中に対し、０．０
１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％の割合で
記録層全固形分中に添加することができる。

【００６９】更に、本発明の記録層中には必要に応じ、
塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。
例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又
はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられ
る。

【００７０】＜記録層の製造方法＞本発明の平版印刷版
原版の記録層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適
当な支持体上に塗布することにより製造することができ
る。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、
２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチルラクトン、トルエン等をあげることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独ある
いは混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を
含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％で
ある。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量
（固形分）は、用途によって異なるが、平版印刷版原版
についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ま
しい。

【００７１】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。本発明
における感光性層中には、塗布性を良化するための界面
活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載
されているようなフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。好ましい添加量は、記録層全固形分中０．０１
〜１重量％、更に好ましくは０．０５〜０．５重量％で
ある。

【００７２】本発明の平版印刷版原版の記録層の構成
は、単層であっても、多層構造であってもよい。即ち、
支持体上に形成する記録層は、上述した特定ノボラック
樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂と、光熱変換物質とを含
む本発明に係るポジ型記録層１層のみからなる記録層で
あってもよく、また、他の層と積層してなる２層以上の
記録層であってもよい。記録層の層構成は任意であり、
例えば、上述した特定ノボラック樹脂を含むアルカリ可
溶性樹脂と、光熱変換物質とを含むポジ型記録層を２層
以上積層した記録層、本発明に係るポジ型記録層と公知
の他の記録層とを積層した記録層、或いは、層自体は赤
外線レーザに感応しない、光熱変換物質などを含まない
アルカリ可溶性樹脂を主成分とする層等と積層した記録
層とすることもできる。

【００７３】記録層を多層構造とする場合、各層の塗布
量は、目的とする特性に応じて適宜選択できるが、一般
的には、例えば２層構造をとる場合には、上層の塗布量
は０．０５〜５ｇ／ｃｍ²の範囲、下層の塗布量は０．
５〜５ｇ／ｃｍ²の範囲であることが好ましい。

【００７４】複数の層構成を有する記録層においては、
いずれの構成をとる場合にも、本発明に係るポジ型記録
層が良好な現像ラチチュードを達成しうる特性を有する
ことから、本発明に係るポジ型記録層を記録層中の最上
層とすることが好ましい。また、一般的なポジ型記録層
やアルカリ可溶性樹脂を主成分とする赤外線感応性を有
しない層の上層に、本発明に係るポジ型記録層を設けた
場合においても、上部の記録層が未露光部においてアル
カリ現像液の浸透抑制層として機能するため、下部にど
のような記録層を設ける場合でも、本発明の効果である
良好なラチチュードを実現できる。

【００７５】本発明の平版印刷版原版の記録層の構成と
しては、例えば、支持体上に、アルカリ可溶性樹脂と、
光熱変換物質とを含有し、赤外レーザの露光によりアル
カリ性水溶液に対する溶解性が増大する第１のポジ型記
録層と、本発明に係るノボラック樹脂と、光熱変換物質
とを含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液
に対する溶解性が増大する第２のポジ型記録層と、をこ
の順に設けてなることが好ましい。かかる構成では、特
に、上層の記録層としてはアルカリ現像液の所望されな
い浸透経路となる低分子成分の含有量を低下させた特定
ノボラック樹脂を含有されていることから、かかる上層
の記録層が未露光部においてアルカリ現像液の浸透抑制
層として機能し、また露光部においては相互作用による
解除性には影響を与えず、上層及び下層の記録層は共に
アルカリ現像液により速やかに溶解されるため、現像ラ
チチュードが向上する。また、上層の記録層がアルカリ
現像液の浸透抑制層として機能するため、膜強度、耐刷
性を向上させることができる。更に、上層の記録層に含
有される特定ノボラック樹脂は、アブレーションの原因
となる低分子成分の含有量を低下させており、該特定ノ
ボラック樹脂を含有する層を上層に設けることで、アブ
レーションの発生が大幅に抑制される。これらの性質
は、重層感材の構造上、要求される性能に良好に合致し
ている。

【００７６】＜支持体＞本発明に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィル
ム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のご
とき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしく
はプラスチックフィルム等が含まれる。

【００７７】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム
合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。

【００７８】このように本発明に適用されるアルミニウ
ム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より
公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用すること
ができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは
およそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１
５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．
３ｍｍである。

【００７９】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。

【００８０】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同
第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。

【００８１】＜下塗り層＞本発明の平版印刷版原版は、
支持体上にポジ型の記録層を設けたものであるが、必要
に応じてその間に下塗り層を設けることができる。下塗
り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエ
チレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有
してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキル
リン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩など
のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、２種以上混合して用いてもよい。

【００８２】この有機下塗り層は次のような方法で設け
ることができる。即ち、水又はメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメ
タノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機
溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶
解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物
を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機
下塗り層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重
量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５
〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好まし
くは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２
の範囲に調整することもできる。また、記録層の調子再
現性改良のために黄色染料を添加することもできる。

【００８３】有機下塗り層の被覆量は、２〜２００ｍｇ
／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²で
ある。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²よりも少ないと十分
な耐刷性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²より
大きくても同様である。

【００８４】＜平版印刷版原版による印刷＞上記のよう
にして作成されたポジ型平版印刷版原版は、通常、像露
光、現像処理を施される。像露光に用いられる活性光線
の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビ
ーム、遠赤外線などがある。またｇ線、ｉ線、Deep−Ｕ
Ｖ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使
用される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレ
ーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリ
ウム・カドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー等
が挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体
レーザが特に好ましい。

【００８５】本発明の平版印刷版原版の現像に用いる現
像液及び補充液としては、従来から知られているアルカ
リ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同
カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同
リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノー
ルアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ンなどの有機アルカリ剤も用いられる。

【００８６】これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物
（Ｍ₂Ｏ）の比率と濃度によって現像性の調節が可能と
なるためであり、例えば、特開昭５４−６２００４号公
報、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているよう
なアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【００８７】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理でき
ることが知られている。本発明においてもこの補充方式
が好ましく適用される。現像液及び補充液には、現像性
の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面
活性剤が挙げられる。

【００８８】更に現像液及び補充液には必要に応じて、
ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更
に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることも
できる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された
平版印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。

【００８９】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、平版印刷版用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、平版印刷版を搬送する装置と各処理液
槽及びスプレー装置とからなり、露光済みの平版印刷版
を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液を
スプレーノズルから吹き付けて現像処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによって平版印刷版を浸漬搬送させて
処理する方法も知られている。このような自動処理にお
いては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液
を補充しながら処理することができる。また、実質的に
未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も
適用できる。

【００９０】本発明のポジ型平版印刷用原版を画像露光
し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引き
して得られた平版印刷版に不必要な画像部（例えば原画
フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合には、そ
の不必要な画像部の消去が行われる。このような消去
は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されてい
るような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定
の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好
ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載され
ているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光
線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用で
きる。

【００９１】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、
特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。

【００９２】整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８
ｇ／ｍ²（乾燥重量）が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー（たとえば富士写真フイルム（株）より販
売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３０
０」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好まし
い。

【００９３】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【００９４】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって更
に詳細に説明するが、本発明はこれらによって制限され
るものではない。

【００９５】［基板の作製］厚み０．３ｍｍのアルミニ
ウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶
液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に２
０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立
て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ²であった。次にこ
の板を７％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²
で３ｇ／ｍ²の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、
乾燥し、更に、珪酸ナトリウム２．５重量％水溶液で３
０℃で１０秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を８
０℃で１５秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被覆
量は１５ｍｇ／ｍ²であった。 〔下塗り液〕 下記化合物 ０．３ｇ メタノール １００ｇ 水 １ｇ

【００９６】

【化３】

【００９７】（実施例１）作製された基板に、以下の記
録層塗布液１を乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ²になる
よう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ
ＯＶＥＮ ＰＨ２００にてＷｉｎｄ Ｃｏｎｔｒｏｌを
７に設定して１４０℃で５０秒間乾燥し、平版印刷版原
版１を得た。

【００９８】 〔記録層塗布液１〕 ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５８ ０、分子量１，０００以下の成分含有量３．４重量％） ０．４７４ｇ アルカリ可溶性高分子化合物Ａ ２．３７ｇ シアニン染料Ａ（下記構造） ０．１５５ｇ ２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート ０．０３ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．１９ｇ エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの） ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＦ１７６ＰＦ、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＭＣＦ−３１２、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５ｇ パラトルエンスルホン酸 ０．００８ｇ ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン ０．０６３ｇ ステアリル酸ｎ−ドデシル ０．０６ｇ γ−ブチルラクトン １３ｇ メチルエチルケトン ２４ｇ １−メトキシ−２−プロパノール １１ｇ

【００９９】なお、記録層塗布液１に用いられたシアニ
ン染料Ａは、以下に示す構造を有する。

【０１００】

【化４】

【０１０１】［アルカリ可溶性高分子化合物Ａの製造］
攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツ
口フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モ
ル）、クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６モル）及
びアセトニトリル２００ｍｌを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
３６．４ｇ（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で３０分間混合物を攪拌した。

【０１０２】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍ
ｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた
（収量４６．９ｇ）。

【０１０３】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た１００ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４ｇ（０．０
２１０モル）、メタクリル酸エチル２．０５ｇ（０．０
１８０モル）、アクリロニトリル１．１１ｇ（０．０２
１モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物に更にＮ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４
ｇ、メタクリル酸エチル２．０５ｇ、アクリロニトリル
１．１１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ及び
「Ｖ−６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後更に６５℃で２時間得
られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０ｇ
を混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リット
ルにこの水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪拌
した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することに
より１５ｇの白色固体を得た。重量平均分子量を測定し
たところ５３，０００であった。重量平均分子量
（Ｍ_w）はゲルパーミエーションクロマトグラフィー
（ポリスチレン標準）により測定した。

【０１０４】（実施例２）実施例１において、記録層塗
布液１で用いた重量平均分子量７，５８０、分子量１，
０００以下の成分含有量３．４重量％であるｍ，ｐ−ク
レゾールノボラックを、重量平均分子量６，４７０、分
子量１，０００以下の成分含有量１０．５重量％である
ｍ，ｐ−クレゾールノボラックに変更した他は、実施例
１と同様にして、平版印刷版原版２を得た。

【０１０５】（実施例３）基板に、以下の記録層塗布液
２を乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ²となるように塗布
したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ ＯＶＥＮ
ＰＨ２００にてＷｉｎｄ Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定
して１２０℃で６０秒間乾燥し、平版印刷版原版３を得
た。

【０１０６】 〔記録層塗布液２〕 ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５８ ０、分子量１，０００以下の成分含有量３．４重量％） ２．２５ｇ シアニン染料Ａ ０．１０５ｇ ２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート ０．０３ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．１０ｇ エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの ０．０６３ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＦ１７６ＰＦ、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＭＣＦ−３１２、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．１３ｇ ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン ０．０８ｇ メチルエチルケトン １６ｇ １−メトキシ−２−プロパノール １０ｇ γ−ブチルラクトン １０ｇ

【０１０７】（実施例４）基板に、以下の記録層塗布液
（３−１）を乾燥後の塗布量が０．８５ｇ／ｍ²となる
ように塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ
ＯＶＥＮ ＰＨ２００にてＷｉｎｄ Ｃｏｎｔｒｏｌ
を７に設定して１４０℃で５０秒間乾燥した。続いて、
その上に、乾燥後の塗布量が０．１５ｇ／ｍ²となるよ
うに記録層塗布液（３−２）を塗布したのち、ＴＡＢＡ
Ｉ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ ＯＶＥＮＰＨ２００にてＷｉ
ｎｄ Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１２０℃で６０秒
間乾燥し、平版印刷版原版４を得た。

【０１０８】 〔記録層塗布液３−１〕 ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５８ ０、分子量１，０００以下の成分含有量３．４重量％） ０．２３７ｇ アルカリ可溶性高分子化合物Ａ ２．３７ｇ シアニン染料Ａ ０．１０ｇ ２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート ０．０１ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．１９ｇ エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にした化合物 ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＭＣＦ−３１２、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン ０．０６ｇ γ−ブチルラクトン １３ｇ メチルエチルケトン ２４ｇ １−メトキシ−２−プロパノール １１ｇ

【０１０９】 〔記録層塗布液３−２〕 ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５８ ０、分子量１，０００以下の成分含有量３．４重量％） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．０２５ｇ ２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート ０．０１ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３５ｇ フッ素系界面活性剤（メガファックＭＣＦ−３１２、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５ｇ ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン ０．００３ｇ ステアリン酸ドデシル ０．０３ｇ メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ８ｇ

【０１１０】（比較例１）実施例１において、記録層塗
布液１で用いた重量平均分子量７，５８０、分子量１，
０００以下の成分含有量３．４重量％であるｍ，ｐ−ク
レゾールノボラックを、重量平均分子量４，３６０、分
子量１，０００以下の成分含有量２３．９重量％である
ｍ，ｐ−クレゾールノボラックに変更した他は、実施例
１と同様にして、平版印刷版原版５を得た。

【０１１１】（比較例２）実施例３において、記録層塗
布液２で用いた重量平均分子量７，５８０、分子量１，
０００以下の成分含有量３．４重量％であるｍ，ｐ−ク
レゾールノボラックを、重量平均分子量８，２８０、分
子量１，０００以下の成分含有量２３．６重量％である
ｍ，ｐ−クレゾールノボラックに変更した他は、実施例
３と同様にして、平版印刷版原版６を得た。

【０１１２】［平版印刷版原版の評価］ （アブレーション性能の評価）上記のように得られた各
平版印刷版原版上に、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（富士写真フイルム製、０．１ｍｍ厚み）を密着さ
せた状態で、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒに
て、ドラム回転速度１００ｒｐｍ、ビーム強度８Ｗにて
書き込みを行った。書き込み（露光）後に、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを外し、転写したアブレーシ
ョン屑の量を目視で評価した。 評価基準 ○：ポリエチレンテレフタレートフィルムが透明でアブ
レーション屑が観測されない。 ×：ポリエチレンテレフタレートフィルムにアブレーシ
ョン屑の転写が観察される。

【０１１３】（感度性能の評価）上記のように得られた
各平版印刷版原版上に、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔ
ｔｅｒにて、ビーム強度を変化させて画像状に描き込み
を行った。ドラム回転速度は１５０ｒｐｍで統一した。
次に、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−１（１：
８で希釈したもの）及び富士写真フイルム（株）製フィ
ニッシャーＦＰ２Ｗ（１：１で希釈したもの）を仕込ん
だ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈ
を用いて、液温３０度の条件下、上記の露光した各平版
印刷版原版を現像時間１２秒で現像した。低ビーム強度
では、各平版印刷版原版ともに露光部で現像不良が発生
したが、ビーム強度を上げるにつれて露光部の現像が可
能となった。完全に現像が可能となったビーム強度を求
め、感度を算出した。

【０１１４】（現像ラチチュード性能の評価）上記のよ
うに得られた各平版印刷版原版上に、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒ
ｅｎｄｓｅｔｔｅｒにてビーム強度９Ｗ、ドラム回転速
度１５０ｒｐｍにてテストパターンのＩＲレーザー描き
込みを行った。その後、富士写真フイルム（株）製現像
液ＤＴ−１（１：８で水道水希釈したもの）を富士写真
フイルム製ＰＳプロセッサー９００Ｈに仕込み、液温３
０度、現像時間１２秒にて現像した。なお、ガム液とし
てＦＰ−２Ｗ（１：１で水道水希釈したもの）を使用し
た。

【０１１５】この現像条件ではいずれの平版も露光部の
現像性は良好であった。次に現像液が濃縮した条件を想
定し、上記現像液の希釈度を（１：７）で水道水希釈し
たもの）に変更し、液温３０度、現像時間１２秒にて同
様に露光した各平版印刷版原版を現像した。現像後の平
版印刷版において感光層非露光部の光学濃度低下を目視
評価することにより、濃度低下が観測されたものを×、
濃度低下が観測されなかったものを○とした。

【０１１６】

【表１】

【０１１７】表１に明らかなように、本発明の実施例１
〜４の平版印刷版原版１〜４は、バインダーとして特定
ノボラック樹脂のみを用いた場合、他のアルカリ可溶性
樹脂と併用した場合、重層構造の記録層を用いた場合の
いずれにおいても、実用上問題のない程度の感度を有す
ると共に、アブレーション性能及び現像ラチチュードが
優れていることがわかった。対して、比較例１の平版印
刷版原版５は、重量平均分子量の低いノボラック樹脂を
用いたため、感度の向上は達成されたが、アブレーショ
ン性能及び現像ラチチュードは劣っていることが判明し
た。また、比較例２の平版印刷版原版６は、重量平均分
子量が高いノボラック樹脂を用いたものの、低分量成分
の含有量が高いため、感度は実用上問題のない程度であ
ったが、アブレーション性能及び現像ラチチュードのい
ずれも劣っていることが判明した。

【０１１８】

【発明の効果】本発明によれば、現像による画像形成時
のラチチュードに優れると共に、高感度で、かつ、レー
ザ走査露光時におけるアブレーションを抑制しうるダイ
レクト製版用の赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版
を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 秀夫 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 中村 一平 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA04 AB03 AC08 AD03 CB29 CC20 DA13 FA03 FA17 2H096 AA00 AA07 AA08 BA11 BA16 BA20 EA04 GA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、ノボラック樹脂と、光熱変
   換物質とを含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性
   水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けて
   なるポジ型平版印刷版原版であって、 前記ノボラック樹脂に含まれる重量平均分子量１，００
   ０以下の成分の含有量が、当該ノボラック樹脂全体の１
   ５重量％以下であることを特徴とする赤外線レーザ対応
   ポジ型平版印刷版原版。
2. 【請求項２】 支持体上に、 アルカリ可溶性樹脂と、光熱変換物質とを含有し、赤外
   レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が
   増大する第１のポジ型記録層と、 ノボラック樹脂と、光熱変換物質とを含有し、赤外レー
   ザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大
   する第２のポジ型記録層と、をこの順に設けてなるポジ
   型平版印刷版原版であって、 前記ノボラック樹脂に含まれる重量平均分子量１，００
   ０以下の成分の含有量が、当該ノボラック樹脂全体の１
   ５重量％以下であることを特徴とする赤外線レーザ対応
   ポジ型平版印刷版原版。