JP2002321156A - 研磨洗浄方法 - Google Patents
研磨洗浄方法Info
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- B24C1/08—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 精密加工した基材の表面を、効率的に研磨洗
浄し、研磨洗浄後に研磨メディア溶液組成物から比重の
差を利用して、簡単に金属酸化物の粒子や除かれたバリ
の粒子などを除去し、研磨メディア溶液組成物を再循環
して使う研磨洗浄方法を提供する。 【解決手段】 ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラ
ミックス微粉末を含む研磨メディアを用い、研磨メディ
アを含む媒体流を被加工物の表面に当てることによる研
磨洗浄方法。
浄し、研磨洗浄後に研磨メディア溶液組成物から比重の
差を利用して、簡単に金属酸化物の粒子や除かれたバリ
の粒子などを除去し、研磨メディア溶液組成物を再循環
して使う研磨洗浄方法を提供する。 【解決手段】 ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラ
ミックス微粉末を含む研磨メディアを用い、研磨メディ
アを含む媒体流を被加工物の表面に当てることによる研
磨洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、タービンブレード
などの精密加工した表面に残る加工時の酸化物粒子や除
かれたバリの粒子などを除去し洗浄する研磨洗浄方法に
関する。
などの精密加工した表面に残る加工時の酸化物粒子や除
かれたバリの粒子などを除去し洗浄する研磨洗浄方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】タービンブレードの表面には、流体を受
ける凹形の模様を放電加工により形成している。放電加
工された凹形の模様の周辺には、基材である合金の酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が残されている。このよ
うな合金の金属酸化物の粒子やバリを除去するべく、研
磨メディアを用いて、ジエット水流や超音波を利用して
研磨洗浄していた。前記研磨メディアは微粒子状であ
り、シリカ、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、窒化
珪素、炭化珪素、酸化セシウム、合成又は天然ダイヤモ
ンド、金属珪化物、酸化タングステン、窒化チタン、酸
化チタン、タービンブレードを構成する基材である合金
よりも硬いその他の材質、及びこれらの任意混合物、の
いずれかから選択される。しかし、ダイヤモンド粒子の
ような硬い研磨メディアを用いると、タービンブレード
を構成する基材の表面に粒子が食い込んだり、比較的柔
らかい研磨メディアでは充分な研磨が行われないため問
題があった。
ける凹形の模様を放電加工により形成している。放電加
工された凹形の模様の周辺には、基材である合金の酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が残されている。このよ
うな合金の金属酸化物の粒子やバリを除去するべく、研
磨メディアを用いて、ジエット水流や超音波を利用して
研磨洗浄していた。前記研磨メディアは微粒子状であ
り、シリカ、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、窒化
珪素、炭化珪素、酸化セシウム、合成又は天然ダイヤモ
ンド、金属珪化物、酸化タングステン、窒化チタン、酸
化チタン、タービンブレードを構成する基材である合金
よりも硬いその他の材質、及びこれらの任意混合物、の
いずれかから選択される。しかし、ダイヤモンド粒子の
ような硬い研磨メディアを用いると、タービンブレード
を構成する基材の表面に粒子が食い込んだり、比較的柔
らかい研磨メディアでは充分な研磨が行われないため問
題があった。
【０００３】さらに、このタービンブレードを構成する
基材である合金の金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子は、比重が研磨メディアとほぼ同じであるので、合金
の金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子を含む研磨メ
ディア溶液組成物から、金属酸化物の粒子や除かれたバ
リの粒子を除去するのが難しいという問題があった。
基材である合金の金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子は、比重が研磨メディアとほぼ同じであるので、合金
の金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子を含む研磨メ
ディア溶液組成物から、金属酸化物の粒子や除かれたバ
リの粒子を除去するのが難しいという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明においては、硬
くて軽いＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
スを研磨メディアとして用いることにより、精密加工し
た基材の表面を、効率的に研磨洗浄し、研磨洗浄後に研
磨メディア溶液組成物から比重の差を利用して、簡単に
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子などを除去し、
研磨メディア溶液組成物を再循環して使う研磨洗浄方法
を提供する。
くて軽いＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
スを研磨メディアとして用いることにより、精密加工し
た基材の表面を、効率的に研磨洗浄し、研磨洗浄後に研
磨メディア溶液組成物から比重の差を利用して、簡単に
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子などを除去し、
研磨メディア溶液組成物を再循環して使う研磨洗浄方法
を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の研磨洗浄方法
は、かさ比重が約１．２０〜１．４０（ｇ・ｃｍ−３）
（かさ比重は、ＪＩＳ Ｒ １６０１.４の試験片をＪ
ＩＳ Ｒ ７２２２.７ かさ比重の測定方法により測
定した。なお、ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラ
ミックスは、多孔質であるため、かさ比重しか測定する
ことができない。）の微粉末状にしたＲＢセラミックス
及び／又はＣＲＢセラミックスを研磨メディアとして用
いることにより、問題を解決した。すなわち、ＲＢセラ
ミックス及び／又はＣＲＢセラミックスは、多孔質であ
り、ビッカース硬度約４００以上の硬さをもち、かつ、
１μｍ程度に微粉末化することができ、ダイヤモンドほ
ど硬くはないから、基材表面の合金に食い込むことはな
く、かさ比重が小さいため、同程度の比重の界面活性剤
水溶液に分散させて研磨メディア溶液組成物とすれば、
研磨洗浄後に溶液を静置するだけで、金属酸化物の粒子
や除かれたバリの粒子が沈殿し、沈殿物をろ過すれば、
新しい研磨メディア溶液組成物として再生でき、再循環
することができる。
は、かさ比重が約１．２０〜１．４０（ｇ・ｃｍ−３）
（かさ比重は、ＪＩＳ Ｒ １６０１.４の試験片をＪ
ＩＳ Ｒ ７２２２.７ かさ比重の測定方法により測
定した。なお、ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラ
ミックスは、多孔質であるため、かさ比重しか測定する
ことができない。）の微粉末状にしたＲＢセラミックス
及び／又はＣＲＢセラミックスを研磨メディアとして用
いることにより、問題を解決した。すなわち、ＲＢセラ
ミックス及び／又はＣＲＢセラミックスは、多孔質であ
り、ビッカース硬度約４００以上の硬さをもち、かつ、
１μｍ程度に微粉末化することができ、ダイヤモンドほ
ど硬くはないから、基材表面の合金に食い込むことはな
く、かさ比重が小さいため、同程度の比重の界面活性剤
水溶液に分散させて研磨メディア溶液組成物とすれば、
研磨洗浄後に溶液を静置するだけで、金属酸化物の粒子
や除かれたバリの粒子が沈殿し、沈殿物をろ過すれば、
新しい研磨メディア溶液組成物として再生でき、再循環
することができる。
【０００６】本発明で用いるＲＢセラミックス及びＣＲ
Ｂセラミックスとは、次のような製法で作られる材料で
ある。日本において９０万トン／年、世界中で３３００
万トン／年も排出されている米ぬかを利用して、多孔質
炭素材料を得ようとすることは、本件の第一発明者であ
る堀切川 一男の研究により知られている。（機能材料
１９９７年 ５月号Ｖｏｌ．１７ Ｎｏ．５ ｐ２４
〜２８参照） この文献には、米ぬかから得られる脱脂ぬかと、熱硬化
性樹脂を混合して混錬し、加圧成形した成形体を乾燥さ
せた後、乾燥成形体を不活性ガス雰囲気中で焼成した炭
素材料（ＲＢセラミックという）及びその製造方法が示
されている。この方法によれば、加圧成形した成形体の
寸法と、不活性ガス雰囲気中で焼成した出来あがりの成
形体との寸法の収縮比率が２５％も違ってくるので実質
上、精密な成形体を作成することが困難であったが、こ
れを改良したセラミックス（ＣＲＢセラミック）が開発
された。ＲＢセラミックス及びＣＲＢセラミックスの一
般的な性質は次の通りである。 ・硬度が非常に高い。 ・膨張係数が非常に小さい。 ・組織構造がポーラスである。 ・電気伝導性を有する。 ・かさ比重が小さく軽い。 ・耐磨耗性に優れる。成形や型製作が容易である。微粉
末にすることができる。 ・材料が米ぬかで地球環境への悪影響が少なく、省資源
に繋がる。
Ｂセラミックスとは、次のような製法で作られる材料で
ある。日本において９０万トン／年、世界中で３３００
万トン／年も排出されている米ぬかを利用して、多孔質
炭素材料を得ようとすることは、本件の第一発明者であ
る堀切川 一男の研究により知られている。（機能材料
１９９７年 ５月号Ｖｏｌ．１７ Ｎｏ．５ ｐ２４
〜２８参照） この文献には、米ぬかから得られる脱脂ぬかと、熱硬化
性樹脂を混合して混錬し、加圧成形した成形体を乾燥さ
せた後、乾燥成形体を不活性ガス雰囲気中で焼成した炭
素材料（ＲＢセラミックという）及びその製造方法が示
されている。この方法によれば、加圧成形した成形体の
寸法と、不活性ガス雰囲気中で焼成した出来あがりの成
形体との寸法の収縮比率が２５％も違ってくるので実質
上、精密な成形体を作成することが困難であったが、こ
れを改良したセラミックス（ＣＲＢセラミック）が開発
された。ＲＢセラミックス及びＣＲＢセラミックスの一
般的な性質は次の通りである。 ・硬度が非常に高い。 ・膨張係数が非常に小さい。 ・組織構造がポーラスである。 ・電気伝導性を有する。 ・かさ比重が小さく軽い。 ・耐磨耗性に優れる。成形や型製作が容易である。微粉
末にすることができる。 ・材料が米ぬかで地球環境への悪影響が少なく、省資源
に繋がる。
【０００７】ＣＲＢセラミックは、米ぬかから得られる
脱脂ぬかと、熱硬化性樹脂とから得られるＲＢセラミッ
クスの改良材であって、米ぬかから得られる脱脂ぬか
と、熱硬化性樹脂を混合して混錬し、不活性ガス中７０
０℃〜１０００℃で一次焼成した後、６０メッシュ以下
程度に粉砕して炭化粉末とし、該炭化粉末と熱硬化性樹
脂を混合して混錬し、圧力２０Ｍｐ〜３０Ｍｐで加圧成
形した後、成形体を不活性ガス雰囲気中で再び１００℃
〜１１００℃で熱処理して得られる黒色樹脂ないし多孔
質セラミックスである。ＲＢセラミックとの最大の差
は、ＲＢセラミックが成形時の寸法に対する仕上がり時
の寸法の収縮比率が２５％もあるのに対して、ＣＲＢセ
ラミックは、３％以下と非常に小さい点で優れている。
しかし、本発明においては成形物を作成しないで、微粉
末として用いるのでこの差は利用することがなく、基本
的にＲＢセラミック又はＣＲＢセラミックどちらでも用
いることができる。本発明において用いるＲＢセラミッ
クス及び／又はＣＲＢセラミックスは、その比重が重要
なポイントであり、ＲＢセラミックスにおいては一次焼
成の温度、ＣＲＢセラミックスにおいては一次焼成の温
度と二次熱処理の温度が大きな影響を与える。通常は、
一次焼成の温度、二次熱処理熱温度が高いものが小さな
かさ比重のＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックスと
なる。
脱脂ぬかと、熱硬化性樹脂とから得られるＲＢセラミッ
クスの改良材であって、米ぬかから得られる脱脂ぬか
と、熱硬化性樹脂を混合して混錬し、不活性ガス中７０
０℃〜１０００℃で一次焼成した後、６０メッシュ以下
程度に粉砕して炭化粉末とし、該炭化粉末と熱硬化性樹
脂を混合して混錬し、圧力２０Ｍｐ〜３０Ｍｐで加圧成
形した後、成形体を不活性ガス雰囲気中で再び１００℃
〜１１００℃で熱処理して得られる黒色樹脂ないし多孔
質セラミックスである。ＲＢセラミックとの最大の差
は、ＲＢセラミックが成形時の寸法に対する仕上がり時
の寸法の収縮比率が２５％もあるのに対して、ＣＲＢセ
ラミックは、３％以下と非常に小さい点で優れている。
しかし、本発明においては成形物を作成しないで、微粉
末として用いるのでこの差は利用することがなく、基本
的にＲＢセラミック又はＣＲＢセラミックどちらでも用
いることができる。本発明において用いるＲＢセラミッ
クス及び／又はＣＲＢセラミックスは、その比重が重要
なポイントであり、ＲＢセラミックスにおいては一次焼
成の温度、ＣＲＢセラミックスにおいては一次焼成の温
度と二次熱処理の温度が大きな影響を与える。通常は、
一次焼成の温度、二次熱処理熱温度が高いものが小さな
かさ比重のＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックスと
なる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明において用いる研磨メディ
アは、ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックス
微粒子を含むものであるが、本発明の趣旨に反しない範
囲において、周知の研磨メディアを併用しても良い。併
用できる研磨メディアとしては、シリカ、酸化カルシウ
ム、酸化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、酸化セシ
ウム、合成又は天然ダイヤモンド、金属珪化物、酸化タ
ングステン、窒化チタン、酸化チタン、被加工物を構成
する基材よりも硬いその他の材質、及びこれらの任意混
合物が挙げられる。
アは、ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックス
微粒子を含むものであるが、本発明の趣旨に反しない範
囲において、周知の研磨メディアを併用しても良い。併
用できる研磨メディアとしては、シリカ、酸化カルシウ
ム、酸化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、酸化セシ
ウム、合成又は天然ダイヤモンド、金属珪化物、酸化タ
ングステン、窒化チタン、酸化チタン、被加工物を構成
する基材よりも硬いその他の材質、及びこれらの任意混
合物が挙げられる。
【０００９】さらに、本発明において用いられる研磨洗
浄方法としては、ジエット水流や超音波による研磨洗浄
方法が挙げられる。いずれも周知の研磨洗浄方法である
から、ここでは詳述しない。ついで、本発明の研磨洗浄
方法では、研磨洗浄後の研磨メディアを含む分散媒を繰
り返し再利用するに際して、比重の差を利用して分散媒
溶液を静置するだけで、研磨メディアを含む分散媒溶液
から、加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリ
の粒子が沈殿し、沈殿物をろ過などの方法により取り除
けば、新しい研磨メディア溶液組成物として再生でき、
再循環することができる。
浄方法としては、ジエット水流や超音波による研磨洗浄
方法が挙げられる。いずれも周知の研磨洗浄方法である
から、ここでは詳述しない。ついで、本発明の研磨洗浄
方法では、研磨洗浄後の研磨メディアを含む分散媒を繰
り返し再利用するに際して、比重の差を利用して分散媒
溶液を静置するだけで、研磨メディアを含む分散媒溶液
から、加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリ
の粒子が沈殿し、沈殿物をろ過などの方法により取り除
けば、新しい研磨メディア溶液組成物として再生でき、
再循環することができる。
【００１０】図１で具体的に示すと、研磨メディア溶液
組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３で研磨メディ
ア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流ガン４で、被
加工物５の加工部６の研磨洗浄を行う。研磨洗浄後の研
磨メディア溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組
成物を受ける一時貯蔵層７に集められる。これをポンプ
８で静置槽９に送る。静置槽９では、１時間〜２４時間
程度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの
粒子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われ
る。金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が
４．０〜７．０程度のものが多く、本発明の研磨メディ
アであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
スがかさ比重１．２２〜１．４程度であり、研磨メディ
ア溶媒の比重も約比重１．２〜１．５程度のものを利用
するので、金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子のみ
が沈殿物１０を形成することになる。静置槽９の上澄み
部から、再循環ポンプ１２で、本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスを
含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵槽１へ再循環させ
る。なお、沈殿物を沈殿物抜き出し口１１から適宜抜き
出すこともできる。
組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３で研磨メディ
ア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流ガン４で、被
加工物５の加工部６の研磨洗浄を行う。研磨洗浄後の研
磨メディア溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組
成物を受ける一時貯蔵層７に集められる。これをポンプ
８で静置槽９に送る。静置槽９では、１時間〜２４時間
程度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの
粒子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われ
る。金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が
４．０〜７．０程度のものが多く、本発明の研磨メディ
アであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
スがかさ比重１．２２〜１．４程度であり、研磨メディ
ア溶媒の比重も約比重１．２〜１．５程度のものを利用
するので、金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子のみ
が沈殿物１０を形成することになる。静置槽９の上澄み
部から、再循環ポンプ１２で、本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスを
含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵槽１へ再循環させ
る。なお、沈殿物を沈殿物抜き出し口１１から適宜抜き
出すこともできる。
【００１１】さらに、別の態様ではジエット水流ガン４
に代えて、超音波振動を与える超音波槽７‘を用いるこ
とができる。一定時間使用した超音波槽７‘の研磨メデ
ィア溶液組成物は、ポンプ８’で静置槽９に送る。静置
槽９では、１時間〜２４時間程度加工時に生じた金属酸
化物の粒子や除かれたバリの粒子を含んだ研磨メディア
溶液組成物の静置が行われ、金属酸化物の粒子や除かれ
たバリの粒子を分離することができる。
に代えて、超音波振動を与える超音波槽７‘を用いるこ
とができる。一定時間使用した超音波槽７‘の研磨メデ
ィア溶液組成物は、ポンプ８’で静置槽９に送る。静置
槽９では、１時間〜２４時間程度加工時に生じた金属酸
化物の粒子や除かれたバリの粒子を含んだ研磨メディア
溶液組成物の静置が行われ、金属酸化物の粒子や除かれ
たバリの粒子を分離することができる。
【００１２】本発明で研磨メディアとして用いるＲＢセ
ラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスは、比較的高
温度で焼成したものが良く、比重は約１.２から１.４程
度のものが望ましく、特に１．２２〜１．３５程度のも
のが望ましい。本発明で用いる溶剤としては、研磨メデ
ィア粒子を懸濁し得るものであればよく、好ましくは、
水、酸類、アルコール類及びこれらの任意混合物等が用
いられる。研磨メディアを含む組成物に、補助添加剤を
用いることができる。補助添加剤としては、塩化カリウ
ムや塩化アンモニウム、硫酸ナトリウムまたはこれらの
塩を組み合わせることで、溶液の比重を大きくするほ
か、研摩材による金属表面の研磨効果を促進することが
できる。さらに、酸や塩基を添加することで、溶液の最
終ｐＨを調整することも可能である。最終溶液組成物
は、上記親溶液に所望の粘度や固体成分比が得られるま
で溶剤を加えることで、薄められる。最終固体成分比
は、約５〜５０重量％とすることができる。
ラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスは、比較的高
温度で焼成したものが良く、比重は約１.２から１.４程
度のものが望ましく、特に１．２２〜１．３５程度のも
のが望ましい。本発明で用いる溶剤としては、研磨メデ
ィア粒子を懸濁し得るものであればよく、好ましくは、
水、酸類、アルコール類及びこれらの任意混合物等が用
いられる。研磨メディアを含む組成物に、補助添加剤を
用いることができる。補助添加剤としては、塩化カリウ
ムや塩化アンモニウム、硫酸ナトリウムまたはこれらの
塩を組み合わせることで、溶液の比重を大きくするほ
か、研摩材による金属表面の研磨効果を促進することが
できる。さらに、酸や塩基を添加することで、溶液の最
終ｐＨを調整することも可能である。最終溶液組成物
は、上記親溶液に所望の粘度や固体成分比が得られるま
で溶剤を加えることで、薄められる。最終固体成分比
は、約５〜５０重量％とすることができる。
【００１３】また、本発明では、分散性および洗浄効果
を高めるために界面活性剤を用いることができる。本発
明で用いられる界面活性剤としては、陰イオン（アニオ
ン）界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン（ノニオ
ン）界面活性剤、陽イオン（カチオン）界面活性剤等の
中から選ばれる。陰イオン界面活性剤の例としては、ラ
ウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、オレイン酸
カリウム等の脂肪酸塩、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウ
リル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールア
ミン等のアルキル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルフォン
酸ナトリウムのようなアルキルベンゼンスルフォン酸
塩、ラウロイルサルコシンナトリウム、ラウロイルサル
コシンカリウム等のN−アシルアミノ酸塩、ポリオキシ
エチレントリデシルエーテル酢酸ナトリウムのようなア
ルキルエーテルカルボン酸塩、N−ラウロイルメチルタ
ウリンナトリウム、N−ココイルメチルタウリンナトリ
ウム等のN−アシルタウリン塩、ラウロイルメチルアラ
ニンナトリウムのようなN−アシルアラニン塩、ラウリ
ルスルホ酢酸ナトリウムのようなスルホン酸塩、ポリオ
キシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオ
キシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミ
ン等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩、テトラデカンスルフォン酸ナトリウム、ペンタデ
カンスルフォン酸ナトリウム等のアルカンスルフォン酸
塩、テトラデセンスルホン酸ナトリウムのようなα−オ
レフィンスルホン酸塩、ラウリルリン酸ナトリウムのよ
うなアルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテルリン酸ナトリウムのようなポリオキシエチレンア
ルキルエーテルリン酸塩等が挙げられる。両性界面活性
剤の例としては、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイ
ン、ラウリン酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタ
イン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸
ベタイン等の酢酸ベタイン型、N−ヤシ油脂肪酸アシル
−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルエチレン
ジアミンナトリウムのようなイミダゾリン型等が挙げら
れる。非イオン界面活性剤の例としては、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテルのようなポリオキシエチレンア
ルキルエーテル、アルキルアルカノールアミド等が挙げ
られる。陽イオン界面活性剤の例としては、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライドのようなアルキルアン
モニウム塩、ラウリルジメチルアミンオキサイド等が挙
げられる。界面活性剤は、洗浄剤としての汚れ除去性を
有しているだけではなく、メディアの分散性を高める。
分散媒である水に対して０．５〜６重量％が好ましい。
界面活性剤の量が０．５重量％未満では洗浄力が弱く、
６重量％を超えると濯ぎ性が悪くなる。界面活性剤は単
独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
を高めるために界面活性剤を用いることができる。本発
明で用いられる界面活性剤としては、陰イオン（アニオ
ン）界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン（ノニオ
ン）界面活性剤、陽イオン（カチオン）界面活性剤等の
中から選ばれる。陰イオン界面活性剤の例としては、ラ
ウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、オレイン酸
カリウム等の脂肪酸塩、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウ
リル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールア
ミン等のアルキル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルフォン
酸ナトリウムのようなアルキルベンゼンスルフォン酸
塩、ラウロイルサルコシンナトリウム、ラウロイルサル
コシンカリウム等のN−アシルアミノ酸塩、ポリオキシ
エチレントリデシルエーテル酢酸ナトリウムのようなア
ルキルエーテルカルボン酸塩、N−ラウロイルメチルタ
ウリンナトリウム、N−ココイルメチルタウリンナトリ
ウム等のN−アシルタウリン塩、ラウロイルメチルアラ
ニンナトリウムのようなN−アシルアラニン塩、ラウリ
ルスルホ酢酸ナトリウムのようなスルホン酸塩、ポリオ
キシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオ
キシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミ
ン等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩、テトラデカンスルフォン酸ナトリウム、ペンタデ
カンスルフォン酸ナトリウム等のアルカンスルフォン酸
塩、テトラデセンスルホン酸ナトリウムのようなα−オ
レフィンスルホン酸塩、ラウリルリン酸ナトリウムのよ
うなアルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテルリン酸ナトリウムのようなポリオキシエチレンア
ルキルエーテルリン酸塩等が挙げられる。両性界面活性
剤の例としては、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイ
ン、ラウリン酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタ
イン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸
ベタイン等の酢酸ベタイン型、N−ヤシ油脂肪酸アシル
−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルエチレン
ジアミンナトリウムのようなイミダゾリン型等が挙げら
れる。非イオン界面活性剤の例としては、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテルのようなポリオキシエチレンア
ルキルエーテル、アルキルアルカノールアミド等が挙げ
られる。陽イオン界面活性剤の例としては、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライドのようなアルキルアン
モニウム塩、ラウリルジメチルアミンオキサイド等が挙
げられる。界面活性剤は、洗浄剤としての汚れ除去性を
有しているだけではなく、メディアの分散性を高める。
分散媒である水に対して０．５〜６重量％が好ましい。
界面活性剤の量が０．５重量％未満では洗浄力が弱く、
６重量％を超えると濯ぎ性が悪くなる。界面活性剤は単
独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１４】本発明の実施の形態をまとめると以下のと
おりである。 （１） ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
ス微粉末を含む研磨メディアを用い、研磨メディアを含
む媒体流を被加工物の表面に当てることによる研磨洗浄
方法。 （２） 研磨洗浄がジェット水流で行われる上記１に記
載した研磨洗浄方法。 （３） 研磨洗浄が水中の超音波により行われる上記１
又は２に記載した研磨洗浄方法。 （４） 研磨メディアの分散媒が界面活性剤を含む水系
の分散媒を用いる上記１〜３のいずれかひとつに記載し
た研磨洗浄方法。 （５） 研磨メディアの分散媒が、補助添加剤として、
塩化カリウムや塩化アンモニウム、硫酸ナトリウムまた
はこれらの塩の組み合わせを含有する上記１〜４のいず
れかひとつに記載した研磨洗浄方法。 （６） ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックス微粉
末の平均粒子径が１μｍ〜１，０００μｍである上記１
〜５のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方法。 （７） 研磨メディアの分散媒の比重が約１．１〜１．
４である上記１〜６のいずれかひとつに記載した研磨洗
浄方法。 （８） 洗浄後の分散媒から、比重差により、重い微粒
子を分離し、ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックス
粉末は、回収しないで、分散媒を循環させる上記１〜７
のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方法。
おりである。 （１） ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミック
ス微粉末を含む研磨メディアを用い、研磨メディアを含
む媒体流を被加工物の表面に当てることによる研磨洗浄
方法。 （２） 研磨洗浄がジェット水流で行われる上記１に記
載した研磨洗浄方法。 （３） 研磨洗浄が水中の超音波により行われる上記１
又は２に記載した研磨洗浄方法。 （４） 研磨メディアの分散媒が界面活性剤を含む水系
の分散媒を用いる上記１〜３のいずれかひとつに記載し
た研磨洗浄方法。 （５） 研磨メディアの分散媒が、補助添加剤として、
塩化カリウムや塩化アンモニウム、硫酸ナトリウムまた
はこれらの塩の組み合わせを含有する上記１〜４のいず
れかひとつに記載した研磨洗浄方法。 （６） ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックス微粉
末の平均粒子径が１μｍ〜１，０００μｍである上記１
〜５のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方法。 （７） 研磨メディアの分散媒の比重が約１．１〜１．
４である上記１〜６のいずれかひとつに記載した研磨洗
浄方法。 （８） 洗浄後の分散媒から、比重差により、重い微粒
子を分離し、ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミックス
粉末は、回収しないで、分散媒を循環させる上記１〜７
のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方法。
【００１５】実施例１ ＣＲＢセラミックスは次のようにして作製される。 （ＣＲＢセラミックスの作成）米ぬかから得られる脱脂
ぬか７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２
５Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混
錬した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合
物を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００
℃で６０分一次焼成した。ついで得られた炭化焼成物
を、１００メッシュの篩にかけて、粒径が５０〜２５０
μｍである炭化粉末を得た。得られた炭化粉末７５Ｋｇ
と固体状のフェノール樹脂（レゾール）２５Ｋｇを１０
０℃〜１５０℃に加熱しながら、混合して混錬した。可
塑性を有する均質な混合物が得られた。 （研磨メディアの作成）次いで、可塑物を圧力２０Ｍｐ
で直径３ｃｍの球体に加圧成形した。金型の温度は１５
０℃であった。金型から成形体を取り出し、窒素雰囲気
中で５００℃までは１℃／分の昇温速度で温度を上げ、
５００℃で６０分間保持し、９００℃で約１２０分燒結
した。次いで５００℃までは２〜３℃／分の冷却速度
で、温度を下げ、５００℃以下になると自然放冷した。
直径３ｃｍの球体を粉砕機にかけて、粉砕した。さら
に、ボールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１
０μｍのＣＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．２２、
平均粒子径５μｍのＣＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、水１０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリ
ウム１．３Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸
カリウム０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミル
にかけて均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研
磨メディアの分散媒の比重は約１．２２であった。 （ジエット水流による研磨洗浄）図１示すように、研磨
メディア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３
で研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流
ガン４で、被加工物タービンブレード５の放電加工の加
工部６の研磨洗浄を行った。研磨洗浄後の研磨メディア
溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組成物を受け
る一時貯蔵層７に集められた。集められた研磨洗浄後の
研磨メディア溶液組成物には、加工時に生じた金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が含まれていた。これを
ポンプ８で静置槽９に送った。静置槽９では、８時間程
度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われた。
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が４．０
〜７．０程度のものであった。本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスが
かさ比重１．２２程度であり、研磨メディアの分散媒の
比重も比重１．２２であったので、すみやかに金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子のみが沈殿物した。静置
槽９の上澄み部から、再循環ポンプ１２で、本発明の研
磨メディアであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセ
ラミックスを含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵槽１へ
再循環させた。
ぬか７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２
５Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混
錬した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合
物を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００
℃で６０分一次焼成した。ついで得られた炭化焼成物
を、１００メッシュの篩にかけて、粒径が５０〜２５０
μｍである炭化粉末を得た。得られた炭化粉末７５Ｋｇ
と固体状のフェノール樹脂（レゾール）２５Ｋｇを１０
０℃〜１５０℃に加熱しながら、混合して混錬した。可
塑性を有する均質な混合物が得られた。 （研磨メディアの作成）次いで、可塑物を圧力２０Ｍｐ
で直径３ｃｍの球体に加圧成形した。金型の温度は１５
０℃であった。金型から成形体を取り出し、窒素雰囲気
中で５００℃までは１℃／分の昇温速度で温度を上げ、
５００℃で６０分間保持し、９００℃で約１２０分燒結
した。次いで５００℃までは２〜３℃／分の冷却速度
で、温度を下げ、５００℃以下になると自然放冷した。
直径３ｃｍの球体を粉砕機にかけて、粉砕した。さら
に、ボールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１
０μｍのＣＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．２２、
平均粒子径５μｍのＣＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、水１０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリ
ウム１．３Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸
カリウム０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミル
にかけて均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研
磨メディアの分散媒の比重は約１．２２であった。 （ジエット水流による研磨洗浄）図１示すように、研磨
メディア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３
で研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流
ガン４で、被加工物タービンブレード５の放電加工の加
工部６の研磨洗浄を行った。研磨洗浄後の研磨メディア
溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組成物を受け
る一時貯蔵層７に集められた。集められた研磨洗浄後の
研磨メディア溶液組成物には、加工時に生じた金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が含まれていた。これを
ポンプ８で静置槽９に送った。静置槽９では、８時間程
度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われた。
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が４．０
〜７．０程度のものであった。本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラミックスが
かさ比重１．２２程度であり、研磨メディアの分散媒の
比重も比重１．２２であったので、すみやかに金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子のみが沈殿物した。静置
槽９の上澄み部から、再循環ポンプ１２で、本発明の研
磨メディアであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセ
ラミックスを含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵槽１へ
再循環させた。
【００１６】実施例２ （ＣＲＢセラミックスの作成）米ぬかから得られる脱脂
ぬか７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２
５Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混
錬した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合
物を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００
℃で６０分一次焼成理した。得られた炭化焼成物を、粉
砕機を用いて粉砕し、ついで６０メッシュの篩にかけ
て、粒径が５０〜２５０μｍである炭化粉末を得た。得
られた炭化粉末７５Ｋｇと固体状のフェノール樹脂（レ
ゾール）２５Ｋｇを１００℃〜１５０℃に加熱しなが
ら、混合して混錬した。可塑性を有する均質な混合物が
得られた。 （研磨メディアの作成）次いで、可塑物を圧力２０Ｍｐ
で直径３ｃｍの球体に加圧成形した。金型の温度は１５
０℃であった。金型から成形体を取り出し、窒素雰囲気
中で５００℃までは１℃／分の昇温速度で温度を上げ、
５００℃で６０分間保持し、８００℃で約１２０分燒結
した。次いで５００℃までは２〜３℃／分の冷却速度
で、温度を下げ、５００℃以下になると自然放冷した。
直径３ｃｍの球体を粉砕機にかけて、粉砕した。さら
に、ボールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１
０μｍのＣＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．２５、
平均粒子径５μｍのＣＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、水１０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリ
ウム１．６Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸
カリウム０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミル
にかけて均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研
磨メディアの分散媒の比重は約１．２５であった。 （超音波槽による研磨洗浄）図１示すように、研磨メデ
ィア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３’で
研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、超音波振動装置
Ｕにより発生した超音波振動を与える超音波槽７’に入
れる。超音波槽７’で、被加工物タービンブレード５の
放電加工による加工部６の研磨洗浄を行った。一定時間
使用した超音波槽７’の研磨メディア溶液組成物には、
加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子
が含まれていた。ポンプ８’で静置槽９に送る。静置槽
９では、６時間程度加工時に生じた金属酸化物の粒子や
除かれたバリの粒子を含んだ研磨メディア溶液組成物の
静置が行われる。金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子は比重が４．０〜７．０程度のものであった。本発明
の研磨メディアであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲ
Ｂセラミックスがかさ比重１．２５程度であり、研磨メ
ディア溶媒の比重も約比重１．２５であったので、すみ
やかに金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子のみが沈
殿物した。静置槽９の上澄み部から、再循環ポンプ１２
で、本発明の研磨メディアであるＲＢセラミックス及び
／又はＣＲＢセラミックスを含む研磨メディア溶液組成
物を貯蔵槽１へ再循環させた。
ぬか７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２
５Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混
錬した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合
物を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００
℃で６０分一次焼成理した。得られた炭化焼成物を、粉
砕機を用いて粉砕し、ついで６０メッシュの篩にかけ
て、粒径が５０〜２５０μｍである炭化粉末を得た。得
られた炭化粉末７５Ｋｇと固体状のフェノール樹脂（レ
ゾール）２５Ｋｇを１００℃〜１５０℃に加熱しなが
ら、混合して混錬した。可塑性を有する均質な混合物が
得られた。 （研磨メディアの作成）次いで、可塑物を圧力２０Ｍｐ
で直径３ｃｍの球体に加圧成形した。金型の温度は１５
０℃であった。金型から成形体を取り出し、窒素雰囲気
中で５００℃までは１℃／分の昇温速度で温度を上げ、
５００℃で６０分間保持し、８００℃で約１２０分燒結
した。次いで５００℃までは２〜３℃／分の冷却速度
で、温度を下げ、５００℃以下になると自然放冷した。
直径３ｃｍの球体を粉砕機にかけて、粉砕した。さら
に、ボールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１
０μｍのＣＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．２５、
平均粒子径５μｍのＣＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、水１０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリ
ウム１．６Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸
カリウム０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミル
にかけて均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研
磨メディアの分散媒の比重は約１．２５であった。 （超音波槽による研磨洗浄）図１示すように、研磨メデ
ィア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３’で
研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、超音波振動装置
Ｕにより発生した超音波振動を与える超音波槽７’に入
れる。超音波槽７’で、被加工物タービンブレード５の
放電加工による加工部６の研磨洗浄を行った。一定時間
使用した超音波槽７’の研磨メディア溶液組成物には、
加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子
が含まれていた。ポンプ８’で静置槽９に送る。静置槽
９では、６時間程度加工時に生じた金属酸化物の粒子や
除かれたバリの粒子を含んだ研磨メディア溶液組成物の
静置が行われる。金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子は比重が４．０〜７．０程度のものであった。本発明
の研磨メディアであるＲＢセラミックス及び／又はＣＲ
Ｂセラミックスがかさ比重１．２５程度であり、研磨メ
ディア溶媒の比重も約比重１．２５であったので、すみ
やかに金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子のみが沈
殿物した。静置槽９の上澄み部から、再循環ポンプ１２
で、本発明の研磨メディアであるＲＢセラミックス及び
／又はＣＲＢセラミックスを含む研磨メディア溶液組成
物を貯蔵槽１へ再循環させた。
【００１７】実施例３ （ＲＢセラミックスの作成）米ぬかから得られる脱脂ぬ
か７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２５
Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混錬
した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合物
を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００℃
で６０分一次焼成理した。ついで得られた炭化焼成物を
１００メッシュの篩にかけて、粒径が５０〜２５０μｍ
である炭化粉末を得た。 （研磨メディアの作成）次いで、炭化粉末をさらに、ボ
ールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１５μｍ
のＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．３０の
平均粒子径５μｍのＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、平均粒子径３μｍのシリカ微粉末１Ｋｇ、水１０．
０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリウム２．
１Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸カリウム
０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミルにかけて
均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研磨メディ
アの分散媒の比重は約１．２９であった。 （ジエット水流による研磨洗浄）図１示すように、研磨
メディア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３
で研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流
ガン４で、被加工物タービンブレード５の放電加工の加
工部６の研磨洗浄を行った。研磨洗浄後の研磨メディア
溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組成物を受け
る一時貯蔵層７に集められた。集められた研磨洗浄後の
研磨メディア溶液組成物には、加工時に生じた金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が含まれていた。これを
ポンプ８で静置槽９に送った。静置槽９では、８時間程
度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われた。
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が４．０
〜７．０程度のものであった。本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックスがかさ比重１．３０程度であり、
研磨メディアの分散媒の比重も比重１．２９であったの
で、すみやかに金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子
及びシリカ微粉末が沈殿物した。静置槽９の上澄み部か
ら、再循環ポンプ１２で、本発明の研磨メディアである
ＲＢセラミックスを含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵
槽１へ再循環させた。沈殿したシリカ微粉末とほぼ同量
のシリカ微粉末を貯蔵層１の研磨メディア溶液組成物に
補充して研磨洗浄作業を続けた。
か７５Ｋｇと液体状のフェノール樹脂（レゾール）２５
Ｋｇを、５０℃〜６０℃に加熱しながら、混合して混錬
した。可塑性を有する均質な混合物が得られた。混合物
を、ロータリーキルンを使って窒素雰囲気中で９００℃
で６０分一次焼成理した。ついで得られた炭化焼成物を
１００メッシュの篩にかけて、粒径が５０〜２５０μｍ
である炭化粉末を得た。 （研磨メディアの作成）次いで、炭化粉末をさらに、ボ
ールミルを用いて微粉砕した。平均粒子径５〜１５μｍ
のＲＢセラミックスの一次微粒子が得られた。 （研磨メディア溶液組成物の作成）かさ比重１．３０の
平均粒子径５μｍのＲＢセラミックス一次微粒子２Ｋ
ｇ、平均粒子径３μｍのシリカ微粉末１Ｋｇ、水１０．
０Ｋｇ、塩化カリウム１．０Ｋｇ、硫酸ナトリウム２．
１Ｋｇ、陰イオン界面活性剤としてラウリン酸カリウム
０．５Ｋｇを室温で混合し、さらにボールミルにかけて
均質な研磨メディア溶液組成物を作成した。研磨メディ
アの分散媒の比重は約１．２９であった。 （ジエット水流による研磨洗浄）図１示すように、研磨
メディア溶液組成物２を入れた貯蔵槽１から、ポンプ３
で研磨メディア溶液組成物２を汲み上げ、ジエット水流
ガン４で、被加工物タービンブレード５の放電加工の加
工部６の研磨洗浄を行った。研磨洗浄後の研磨メディア
溶液組成物は、処理済の研磨メディア溶液組成物を受け
る一時貯蔵層７に集められた。集められた研磨洗浄後の
研磨メディア溶液組成物には、加工時に生じた金属酸化
物の粒子や除かれたバリの粒子が含まれていた。これを
ポンプ８で静置槽９に送った。静置槽９では、８時間程
度加工時に生じた金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒
子を含んだ研磨メディア溶液組成物の静置が行われた。
金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子は比重が４．０
〜７．０程度のものであった。本発明の研磨メディアで
あるＲＢセラミックスがかさ比重１．３０程度であり、
研磨メディアの分散媒の比重も比重１．２９であったの
で、すみやかに金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子
及びシリカ微粉末が沈殿物した。静置槽９の上澄み部か
ら、再循環ポンプ１２で、本発明の研磨メディアである
ＲＢセラミックスを含む研磨メディア溶液組成物を貯蔵
槽１へ再循環させた。沈殿したシリカ微粉末とほぼ同量
のシリカ微粉末を貯蔵層１の研磨メディア溶液組成物に
補充して研磨洗浄作業を続けた。
【００１８】
【本発明の効果】本発明による研磨洗浄方法は、自然に
やさしい素材であるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢ
セラミックスを研磨メディアとして用いることにより、
精密加工した基材の表面を、効率的に研磨洗浄し、研磨
洗浄後に研磨メディア溶液組成物から比重の差を利用し
て、簡単に金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子など
を除去し、研磨メディア溶液組成物を再循環して使う研
磨洗浄方法を提供できた。
やさしい素材であるＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢ
セラミックスを研磨メディアとして用いることにより、
精密加工した基材の表面を、効率的に研磨洗浄し、研磨
洗浄後に研磨メディア溶液組成物から比重の差を利用し
て、簡単に金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子など
を除去し、研磨メディア溶液組成物を再循環して使う研
磨洗浄方法を提供できた。
【図１】本発明に係る研磨洗浄システム
１ 貯蔵槽 ２ 研磨メディア溶液組成物 ３ ポンプ ３’ ポンプ ４ ジエット水流ガン ５ 被加工物 ６ 加工部 ７ 処理済研磨メディア溶液組成物を受ける一時貯蔵
槽 ７’ 超音波槽 ８ ポンプ ８’ ポンプ ９ 静置槽 １０ 沈殿物 １１ 沈殿物抜き出し口 １２ 再循環ポンプ Ｕ 超音波発生装置
槽 ７’ 超音波槽 ８ ポンプ ８’ ポンプ ９ 静置槽 １０ 沈殿物 １１ 沈殿物抜き出し口 １２ 再循環ポンプ Ｕ 超音波発生装置
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 17/08 Ｃ１１Ｄ 17/08 (72)発明者 吉村 典之 長野県北佐久郡御代田町大字御代田4106− 73 ミネベア株式会社軽井沢製作所内 Ｆターム(参考） 3C047 FF19 GG13 3C049 AA07 AA11 4H003 AB03 AB44 DA14 DB01 DC04 EA12 EA19 EA24 ED02 FA03 FA05
Claims (8)
- 【請求項１】 ＲＢセラミックス及び／又はＣＲＢセラ
ミックス微粉末を含む研磨メディアを用い、研磨メディ
アを含む媒体流を被加工物の表面に当てることによる研
磨洗浄方法。 - 【請求項２】 研磨洗浄がジェット水流で行われる請求
項１に記載した研磨洗浄方法。 - 【請求項３】 研磨洗浄が水中の超音波により行われる
請求項１に記載した研磨洗浄方法。 - 【請求項４】 研磨メディアの分散媒が界面活性剤を含
む水系の分散媒を用いる請求項１〜請求項３のいずれか
ひとつに記載した研磨洗浄方法。 - 【請求項５】 研磨メディアの分散媒が、補助添加剤と
して、塩化カリウムや塩化アンモニウム、硫酸ナトリウ
ムまたはこれらの塩の組み合わせを含有する請求項１〜
４のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方法。 - 【請求項６】 ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミック
ス微粉末の平均粒子径が１μｍ〜１，０００μｍである
請求項１〜請求項５のいずれかひとつに記載した研磨洗
浄方法。 - 【請求項７】 研磨メディアの分散媒の比重が約１．１
〜１．４である請求項１〜請求項６のいずれかひとつに
記載した研磨洗浄方法。 - 【請求項８】 洗浄後の分散媒から、比重差により、重
い微粒子を分離し、ＲＢセラミックス又はＣＲＢセラミ
ックス粉末は、回収しないで、分散媒を循環させる請求
項１〜請求項７のいずれかひとつに記載した研磨洗浄方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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