JP2002319494A - El element with photocatalyst-containing layer and its manufacturing method - Google Patents

El element with photocatalyst-containing layer and its manufacturing method

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JP2002319494A
JP2002319494A JP2001122709A JP2001122709A JP2002319494A JP 2002319494 A JP2002319494 A JP 2002319494A JP 2001122709 A JP2001122709 A JP 2001122709A JP 2001122709 A JP2001122709 A JP 2001122709A JP 2002319494 A JP2002319494 A JP 2002319494A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EL element which can be manufactured with more ease and its manufacturing method. SOLUTION: The element consists of at least a base body, a transparent first electrode formed on the base body, a hole carrier layer formed on the first electrode, a photocatalyst-containing layer formed on the hole carrier layer, a light-emitting layer formed on the photocatalyst layer, and a second electrode formed on the light-emitting layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、EL(エレクトロ
ルミネッセンス)素子、特にディスプレイ装置に使用さ
れる有機薄膜EL素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an EL (electroluminescence) device, and more particularly to an organic thin film EL device used for a display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】EL素子は自発光の面状表示素子として
の使用が注目されている。その中でも、有機物質を発光
材料として用いた有機薄膜ELディスプレイは、印加電
圧が10V弱であっても高輝度な発光が実現するなど発
光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定の
パターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示
用ディスプレイへの応用が期待されている。
2. Description of the Related Art Attention has been paid to the use of EL elements as self-luminous planar display elements. Among them, an organic thin-film EL display using an organic substance as a light-emitting material has high luminous efficiency, such as realizing high-luminance light emission even at an applied voltage of slightly less than 10 V, and can emit light with a simple element structure. Is expected to be applied to advertisements for displaying the pattern of light emission and other low-cost displays for simple displays.

【0003】しかしながら、EL素子を用いたディスプ
レイを実際に製造するにあたっては、電極や有機EL層
のパターニングが必要であって、典型的にはフォトリソ
工程や複雑なパターン成膜装置によるパターニング工程
を要し、工程の複雑化やコストの上昇を招く。また有機
EL材料をマスク蒸着によりパターニングする方法で
は、高価格の真空装置が必要となり、歩留まりや、高価
なEL材料の利用効率が悪くコストが問題となる。一
方、インクジェット法によりパターン形成する方法は、
工程は比較的簡便ではあるが、歩留まりや膜厚均一性の
点で問題がある。また、広告用EL素子等多様な形状や
大面積化が要求される場合には、生産性が著しく低下す
る問題がある。
However, in actually manufacturing a display using EL elements, it is necessary to pattern electrodes and an organic EL layer, and typically requires a photolithography process and a patterning process using a complicated pattern film forming apparatus. However, this complicates the process and increases the cost. Further, in the method of patterning the organic EL material by mask vapor deposition, a high-priced vacuum apparatus is required, and the yield and the use efficiency of the expensive EL material are poor, resulting in cost. On the other hand, a method of forming a pattern by an inkjet method is as follows.
Although the process is relatively simple, there are problems in terms of yield and film thickness uniformity. Further, when various shapes and large areas are required such as an EL element for advertisement, there is a problem that productivity is remarkably reduced.

【0004】このように、EL素子、特に有機ELディ
スプレイの製造においては、電極、有機EL層および絶
縁層等のパターニングを行うために、工程数が非常に多
くなり、歩留まり、生産性、コストの面で大きな課題を
抱えている。
As described above, in the production of an EL element, particularly, an organic EL display, the number of steps becomes very large in order to perform patterning of electrodes, organic EL layers, insulating layers, and the like, resulting in an increase in yield, productivity, and cost. Face big challenges.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、より
簡便に製造できるEL素子とその製造方法を提供するこ
とである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an EL device which can be manufactured more easily and a method for manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、光触媒含
有層にパターン露光することで濡れ性の違いによるパタ
ーンを形成し、そのパターンを利用して発光層を形成す
ることにより前記課題を解決できることを見出し本発明
を完成させた。
Means for Solving the Problems The present inventors have solved the above-mentioned problems by forming a pattern based on the difference in wettability by patternwise exposing a photocatalyst-containing layer and forming a light-emitting layer using the pattern. The inventors have found that the present invention can be solved and completed the present invention.

【0007】したがって、本発明のEL素子は、基体
と、前記基体上に形成された透明な第1電極と、前記第
1電極上に形成された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上
に形成された光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形
成された発光層と、前記発光層上に形成された第2電極
から少なくともなることを特徴とするものである。
Therefore, the EL device of the present invention comprises a base, a transparent first electrode formed on the base, a hole transport layer formed on the first electrode, , A light-emitting layer formed on the photocatalyst-containing layer, and a second electrode formed on the light-emitting layer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】EL素子 本発明のEL素子は、前記のように、少なくとも基体
と、透明な第1電極と、正孔輸送層と、光触媒含有層
と、発光層と、第2電極とが積層されているものであ
る。本発明のEL素子は通常EL素子に用いることのあ
る任意の層を含むことができる。また、EL素子が微細
な画素をパターニングするフルカラー表示のディスプレ
イであると、本発明の効果が大きく好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION EL element As described above, the EL element of the present invention comprises at least a substrate, a transparent first electrode, a hole transport layer, a photocatalyst containing layer, a light emitting layer, and a second electrode. Are laminated. The EL device of the present invention can include any layer that is usually used for an EL device. In addition, it is preferable that the EL element is a display of full color display in which fine pixels are patterned, because the effect of the present invention is large.

【0009】光触媒含有層 (光触媒含有層)本発明において光触媒含有層とは、広
く光照射によって濡れ性が今後変化し得る層および既に
変化した層を意味する。また、光触媒とは、このような
変化を引き起こすものであれば、どのような物質であっ
てもよい。光触媒含有層はパターン状に露光することに
より、濡れ性の変化によるパターンを形成することがで
きる。典型的には光照射しない部位は撥水性であるが、
光照射した部位は高親水性となる。本発明においては、
光触媒含有層の表面の濡れ性の違いによるパターンを利
用して光触媒含有層上に設けられる発光層のパターンを
簡便に、品質良く形成することができる。
Photocatalyst-Containing Layer (Photocatalyst-Containing Layer) In the present invention, the photocatalyst-containing layer means a layer whose wettability can be changed in the future by light irradiation and a layer which has already changed. The photocatalyst may be any substance that causes such a change. By exposing the photocatalyst-containing layer in a pattern, a pattern due to a change in wettability can be formed. Typically, the area not irradiated with light is water repellent,
The site irradiated with light becomes highly hydrophilic. In the present invention,
The pattern of the light emitting layer provided on the photocatalyst containing layer can be easily formed with high quality by utilizing the pattern due to the difference in wettability of the surface of the photocatalyst containing layer.

【0010】本発明の光触媒含有層は、好ましくは照射
する光の量に応じ仕事関数が変化するものとする。この
ような光触媒含有層は、光照射量を調節することによ
り、仕事関数を適切に変化できるので、光照射量の調節
により光触媒含有層の仕事関数を正孔輸送層より大き
く、発光層より小さな値に合わせ込むことにより、電荷
の注入を促進させ、ひいてはEL素子の発光効率を高め
ることができる。
The photocatalyst-containing layer of the present invention preferably has a work function that changes according to the amount of light to be irradiated. Such a photocatalyst containing layer, by adjusting the amount of light irradiation, can appropriately change the work function, the work function of the photocatalyst containing layer by adjusting the amount of light irradiation is larger than the hole transport layer, smaller than the light emitting layer. By adjusting the value to the value, the injection of electric charge can be promoted, and the luminous efficiency of the EL element can be increased.

【0011】また、正孔輸送層には紫外線に弱い材料が
多く、そのような正孔輸送層を用いる場合には、好まし
くは光触媒含有層に紫外線吸収剤を含有させ、正孔輸送
層を紫外線照射から保護することができる。
In addition, the hole transport layer is often made of a material which is sensitive to ultraviolet rays. When such a hole transport layer is used, it is preferable that the photocatalyst-containing layer contains an ultraviolet absorber and the hole transport layer is made of an ultraviolet ray. Can be protected from irradiation.

【0012】光触媒含有層の膜厚は、薄すぎると濡れ性
の違いが明確には発現しなくなりパターニングが困難に
なること、厚すぎると正孔または電子の輸送を阻害しE
L素子の発光に悪影響を及ぼすため、好ましくは50〜
2000Å、より好ましくは300〜1000Åとす
る。
If the thickness of the photocatalyst-containing layer is too small, the difference in wettability does not clearly appear and patterning becomes difficult. If the thickness is too large, the transport of holes or electrons is hindered.
Since the light emission of the L element is adversely affected, preferably 50 to
2000 °, more preferably 300 to 1000 °.

【0013】(濡れ性変化の原理)本発明においては、
光の照射によって近傍の物質(バインダーなど)に化学
変化を起こすことが可能な光触媒を用いて、光照射を受
けた部分に濡れ性の違いによるパターンを形成する。光
触媒による作用機構は、必ずしも明確なものではない
が、光の照射によって光触媒に生成したキャリアが、バ
インダーなどの化学構造を直接変化させ、あるいは酸
素、水の存在下で生じた活性酸素種によってバインダー
などの化学構造を変化させることにより、表面の濡れ性
が変化すると考えられる。
(Principle of Change in Wettability) In the present invention,
Using a photocatalyst capable of causing a chemical change in a nearby substance (such as a binder) by light irradiation, a pattern due to a difference in wettability is formed in a portion irradiated with light. The mechanism of action by the photocatalyst is not always clear, but the carrier generated in the photocatalyst by light irradiation directly changes the chemical structure of the binder or the like, or the active oxygen species generated in the presence of oxygen or water binds the binder. It is considered that the surface wettability changes by changing the chemical structure such as the above.

【0014】(光触媒材料)本発明に用いられる光触媒
材料としては、例えば光半導体として知られている酸化
チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化すず
(SnO)・チタン酸ストロンチウム(SrTi
)・酸化タングステン(WO)、酸化ビスマス
(Bi)、酸化鉄(Fe)のような金属酸
化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好まし
い。酸化チタンは、バンドギャップエネルギーが高く、
化学的に安定であり、毒性もなく、入手も容易である点
で有利である。
(Photocatalyst Material) Examples of the photocatalyst material used in the present invention include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ) and strontium titanate (SrTi) which are known as optical semiconductors.
Metal oxides such as O 3 ) / tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) can be given, and titanium oxide is particularly preferred. Titanium oxide has a high band gap energy,
It is advantageous in that it is chemically stable, has no toxicity, and is easily available.

【0015】光触媒としての酸化チタンにおいては、ア
ナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができる
が、アナターゼ型酸化チタンが好ましい。具体的には例
えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(石原産
業(株)、STS−02、平均結晶子径7nm)、硝酸
解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学、TA−
15、平均結晶子径12nm)を挙げることができる。
As titanium oxide as a photocatalyst, both anatase type and rutile type can be used, but anatase type titanium oxide is preferable. Specifically, for example, anatase titania sol of peptic hydrochloride type (Ishihara Sangyo Co., Ltd., STS-02, average crystallite diameter 7 nm), anatase titania sol of nitric acid deflocculation type (Nissan Chemical, TA-
15, average crystallite diameter of 12 nm).

【0016】光触媒含有層中の光触媒の量は、5〜60
重量%であることが好ましく、20〜40重量%である
ことがより好ましい。
The amount of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer is 5 to 60.
% By weight, and more preferably 20 to 40% by weight.

【0017】(バインダー成分)本発明の光触媒含有層
に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格
が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結
合エネルギーを有するものであり、例えば、(1)ゾル
ゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加
水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリ
シロキサン、あるいは(2)撥水性や撥油性に優れた反
応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を
挙げることができる。
(Binder Component) The binder that can be used in the photocatalyst-containing layer of the present invention preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. Examples include organopolysiloxanes that exhibit large strength by hydrolyzing and polycondensing chloro or alkoxysilanes by reaction or the like, or (2) organopolysiloxanes obtained by crosslinking reactive silicones having excellent water repellency and oil repellency. Can be.

【0018】前記(1)の場合、一般式YSiX
4−n(n=1〜3)で表される珪素化合物の1種また
は2種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体
であることができる。前記一般式では、Yは例えばアル
キル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基また
はエポキシ基であることができ、Xは例えばハロゲン、
メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基である
ことができる。
In the case of the above (1), the general formula Y n SiX
One or more hydrolyzed condensates and co-hydrolyzed compounds of the silicon compound represented by 4-n (n = 1 to 3) can be the main component. In the above general formula, Y can be, for example, an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group or an epoxy group, and X is, for example, a halogen,
It can be a methoxyl, ethoxyl, or acetyl group.

【0019】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;およびそれらの混合物
を挙げることができる。
Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrichlorosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyl Tribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and partial hydrolysates thereof; and mixtures thereof.

【0020】また、バインダーとして、特に好ましくは
フルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いる
ことができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシラ
ンのの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分
解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカッ
プリング剤として知られているものを使用してもよい。
As the binder, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be used particularly preferably. Specifically, one or more hydrolyzed condensates of the following fluoroalkylsilanes, Examples include a hydrolytic condensate, and those generally known as a fluorine-based silane coupling agent may be used.

【0021】CF(CFCHCHSi(O
CH CF(CFCHCHSi(OCH CF(CFCHCHSi(OCH CF(CFCHCHSi(OCH (CFCF(CFCHCHSi(OC
(CFCF(CFCHCHSi(OC
(CFCF(CFCHCHSi(OC
CF(C)CSi(OCH CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
(CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH (CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH (CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH CF(C)CSiCH(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFSON(C)CCH
Si(OCH 上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキ
サンをバインダーとして用いることにより、光触媒含有
層の非光照射部の撥水性および撥油性が大きく向上す
る。
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (O
CH 3) 3 CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3 (CF 3) 2 CF (CF 2) 6 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3 (CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3 CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH
3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH
3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH
3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3) 2 (CF 3) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3
(OCH 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3
(OCH 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3
(OCH 3) 2 CF 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH
3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 5 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH
3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH
3 (OCH 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 C
H 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 C
H 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 C
H 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 C
H 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH
2 Si (OCH 3 ) 3 By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the water repellency and oil repellency of the non-light-irradiated portion of the photocatalyst containing layer are greatly improved.

【0022】前記(2)の反応性シリコーンとしては、
下記一般式で表される骨格を持つ化合物を挙げることが
できる。
The reactive silicone of the above (2) includes:
Compounds having a skeleton represented by the following general formula can be given.

【0023】−(Si(R)(R)O)− ただし、nは2以上の整数、R、Rはそれぞれ炭素
数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニ
ル、アリールあるいはシアノアルキル基であることがで
きる。好ましくは全体の40モル%以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、
および/またはRがメチル基であるものが表面エ
ネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメ
チル基が60モル%以上であり、鎖末端または側鎖に
は、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基などの反応
性基を有する。
-(Si (R 1 ) (R 2 ) O) n-wherein n is an integer of 2 or more, and R 1 and R 2 are each a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl or aryl having 1 to 10 carbon atoms. Alternatively, it can be a cyanoalkyl group. Preferably, up to 40 mol% of the total can be vinyl, phenyl or phenyl halide. Also,
It is preferable that R 1 and / or R 2 be a methyl group because the surface energy is minimized. Preferably, the methyl group is at least 60 mol%, and at least one of the methyl group and the chain end or side chain in the molecular chain It has a reactive group such as the above hydroxyl group.

【0024】また、前記のオルガノポリシロキサンとと
もにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさ
ない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合
してもよい。
Further, a stable organosilicon compound which does not cause a cross-linking reaction, such as dimethylpolysiloxane, may be mixed with the binder together with the above-mentioned organopolysiloxane.

【0025】(光触媒含有層に用いるその他の成分)本
発明に用いられる光触媒含有層には、未露光部の濡れ性
を低下させるため界面活性剤を含有させることができ
る。この界面活性剤は光触媒により分解除去されるもの
であれば限定されないが、具体的には、好ましくは例え
ば日本サーファクタント工業製:NIKKOL BL、
BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素系の界面活
性剤、デュポン社製:ZONYL FSN、FSO、旭
硝子製:サーフロンS−141、145、大日本インキ
製:メガファックF−141、144、ネオス製:フタ
ージェントF−200、F251、ダイキン工業製:ユ
ニダインDS−401、402、スリーエム製:フロラ
ードFC−170、176等のフッ素系あるいはシリコ
ーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができる。ま
た、カチオン系、アニオン系、両性界面活性剤を用いる
こともできる。
(Other Components Used in Photocatalyst-Containing Layer) The photocatalyst-containing layer used in the present invention may contain a surfactant in order to reduce the wettability of the unexposed portion. The surfactant is not limited as long as it can be decomposed and removed by a photocatalyst, and specifically, preferably, for example, NIKKOL BL, manufactured by Nippon Surfactant Industries, Ltd.
Hydrocarbon surfactants such as BC, BO and BB series, manufactured by DuPont: ZONYL FSN, FSO, manufactured by Asahi Glass: Surflon S-141, 145, manufactured by Dainippon Ink: Megafac F-141, 144, Neos: Futagent F-200, F251; Daikin Industries: Unidyne DS-401, 402; 3M: Florad FC-170, 176, etc., fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants. In addition, cationic, anionic and amphoteric surfactants can also be used.

【0026】また、本発明に好適に用いられる光触媒含
有層には、他の成分、例えば、ポリビニルアルコール、
不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジ
アリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマ
ー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メ
ラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ
アミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロ
プレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリ
ブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリロニ
トリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリ
イソプレン等のオリゴマー、ポリマーを含むことができ
る。
The photocatalyst-containing layer suitably used in the present invention contains other components such as polyvinyl alcohol,
Unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene And oligomers and polymers such as polyvinyl acetate, nylon, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, and polyisoprene.

【0027】さらに、本発明に用いられる光触媒含有層
には、光触媒の光活性を増感させる成分である増感色素
を含んでいてもよい。このような増感色素の添加によ
り、低い露光量で濡れ性を変化させるあるいは異なる波
長の露光で濡れ性を変化させることができる。また、光
触媒含有層には、EL材料を添加することもでき、例え
ば、電荷注入材料、電荷輸送材料または発光材料を混合
することによりEL素子の発光特性を向上させることが
できる。
Further, the photocatalyst-containing layer used in the present invention may contain a sensitizing dye which is a component for sensitizing the photoactivity of the photocatalyst. By adding such a sensitizing dye, the wettability can be changed at a low exposure dose, or the wettability can be changed at a different wavelength. Further, an EL material can be added to the photocatalyst-containing layer. For example, by mixing a charge injecting material, a charge transporting material, or a light emitting material, the light emitting characteristics of the EL element can be improved.

【0028】(紫外線吸収剤)本発明に用いられる光触
媒含有層には紫外線吸収剤を用いることができる。この
ようなものとしては、ベンゾフェノン系としてBASF
(株)製のUVINUL D−49、UVINUL D
−50、ケミプロ化成(株)製のKemisorb10
11、Kemisorb1001、ベンゾトリアゾール
系として、アデカアーガス化学(株)製のMARK L
A−31、住友化学(株)製のSumisorb25
0、アリールエステル、オギザニリド、ホルムアミジン
などが挙げられる。
(Ultraviolet absorber) An ultraviolet absorber can be used in the photocatalyst-containing layer used in the present invention. Such materials include BASF as a benzophenone-based material.
UVINUL D-49, UVINUL D manufactured by
-50, Chemisorb10 manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd.
11. Kemisorb 1001, MARK L manufactured by Adeka Argus Chemical Co., Ltd. as benzotriazole type
A-31, Sumisorb 25 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
0, aryl esters, oganilide, formamidine and the like.

【0029】(光触媒含有層の形成方法)光触媒含有層
の形成方法は特に限定されないが、例えば光触媒を含ん
だ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロール
コート、ビードコートなどの方法により基材に塗布して
形成することができる。
(Method for Forming Photocatalyst-Containing Layer) The method for forming the photocatalyst-containing layer is not particularly limited. For example, a coating solution containing a photocatalyst is applied to a substrate by a method such as spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. It can be formed by coating.

【0030】光触媒等を含む塗布液を用いる場合に、塗
布液に使用することができる溶剤としては、特に限定さ
れないが、例えばエタノール、イソプロパノール等のア
ルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
When a coating solution containing a photocatalyst or the like is used, the solvent that can be used for the coating solution is not particularly limited, and examples thereof include alcoholic organic solvents such as ethanol and isopropanol.

【0031】(光触媒を作用させる照射光線)光触媒を
作用させるための照射光線は、光触媒を励起することが
できれば限定されない。このようなものとしては紫外
線、可視光線、赤外線の他、これらの光線よりもさらに
短波長または長波長の電磁波、放射線であることができ
る。
(Irradiation Light for Activating Photocatalyst) Irradiation light for activating the photocatalyst is not limited as long as the photocatalyst can be excited. Examples of such a material include ultraviolet light, visible light, and infrared light, as well as electromagnetic waves and radiation having a shorter or longer wavelength than these light beams.

【0032】例えば光触媒として、アナターゼ型チタニ
アを用いる場合は、励起波長が380nm以下にあるの
で、光触媒の励起は紫外線により行うことができる。こ
のような紫外線を発するものとしては水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザ
ー、その他の紫外線光源を使用することができる。
For example, when anatase titania is used as the photocatalyst, since the excitation wavelength is 380 nm or less, the photocatalyst can be excited by ultraviolet rays. As a device emitting such ultraviolet rays, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an excimer laser, and other ultraviolet light sources can be used.

【0033】EL層(正孔輸送層、発光層など) 本発明のEL素子に設けられるEL層は、その構成要素
として、必須の層として発光層に正孔を輸送する正孔輸
送層および発光層、任意の層として、電子を輸送する電
子輸送層、ならびに、発光層または正孔輸送層に正孔を
注入する正孔注入層および発光層または電子輸送層に電
子を注入する電子注入層(これらはまとめて、電荷注入
層とよぶことがある)を設けることができる。
EL Layer (Hole Transport Layer, Light Emitting Layer, and the Like) The EL layer provided in the EL element of the present invention has, as essential components, a hole transport layer that transports holes to the light emitting layer and a light emitting layer. Layer, as an optional layer, an electron transport layer for transporting electrons, and a hole injection layer for injecting holes into the light emitting layer or the hole transport layer and an electron injection layer for injecting electrons into the light emitting layer or the electron transport layer ( These may be collectively referred to as a charge injection layer).

【0034】これらEL層を構成する材料としては例え
ば以下のものが挙げられる。
The following are examples of materials constituting these EL layers.

【0035】(発光層) <色素系>シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニル
ブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリ
ルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロ
ール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、
ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘
導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダ
イマー、ビラゾリンダイマー <金属錯体系>アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリ
ノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、
ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポル
フィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体、等、中心金属に
Al、Zn、Be等または、Tb、Eu、Dy等の希土
類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾ
ール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾー
ル、キノリン構造等を有する金属錯体。
(Light Emitting Layer) <Dye System> Cyclopentadiene derivative, tetraphenylbutadiene derivative, triphenylamine derivative, oxadiazole derivative, pyrazoloquinoline derivative, distyrylbenzene derivative, distyrylarylene derivative, silole derivative, thiophene ring Compound, pyridine ring compound,
Perinone derivative, perylene derivative, oligothiophene derivative, trifmanylamine derivative, oxadiazole dimer, virazoline dimer <metal complex> aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex,
Benzothiazole zinc complex, azomethyl zinc complex, porphyrin zinc complex, eurobium complex, etc., have Al, Zn, Be or the like as a central metal or rare earth metals such as Tb, Eu, Dy, etc., and oxadiazole as a ligand Metal complexes having a thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure or the like.

【0036】<高分子系>ポリパラフェニレンビニレン
誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘
導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリ
ビニルカルバゾール等、ポリフルオレン誘導体 (ドーピング材料)ペリレン誘導体、クマリン誘導体、
ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘
導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセ
ン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキ
サゾン (正孔輸送層)本発明のEL素子において正孔輸送層
は、第1電極と光触媒含有層との間に設けられる。正孔
輸送層に用いられる材料としては、例えば、トリフェニ
ルアミン類、ビス類、ピラゾリン誘導体、スチルベン化
合物、オキサジアゾール誘導体、フタロシアニン誘導
体、ポルフィリン誘導体に代表される複素環化合物、ポ
リマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネー
ト、スチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチ
オフェン、ポリシランが挙げられる。
<Polymer System> Polyparaphenylene vinylene derivative, polythiophene derivative, polyparaphenylene derivative, polysilane derivative, polyacetylene derivative, polyvinylcarbazole, etc., polyfluorene derivative (doping material) perylene derivative, coumarin derivative,
Rubrene derivative, quinacridone derivative, squarium derivative, porphyrin derivative, styryl dye, tetracene derivative, pyrazoline derivative, decacyclene, phenoxazone (hole transport layer) In the EL device of the present invention, the hole transport layer comprises a first electrode and a photocatalyst containing layer. And provided between them. Materials used for the hole transport layer include, for example, triphenylamines, bis, pyrazoline derivatives, stilbene compounds, oxadiazole derivatives, phthalocyanine derivatives, heterocyclic compounds represented by porphyrin derivatives, and the above-described single compounds in polymer systems. Examples thereof include a polycarbonate having a monomer in a side chain, a styrene derivative, polyvinyl carbazole, polythiophene, and polysilane.

【0037】(電子輸送層)本発明のEL素子において
電子輸送層は、発光層と第2電極との間に設けることが
できる。電子輸送層に用いられる材料としては、例えば
オキサジアゾール類、アルミニウムキノリノール錯体
等、一般的に安定なラジカルアニオンを形成し、イオン
化ポテンシャルの大きい物質が挙げられ、具体的には、
1,3,4−オキサジアゾール誘導体、1,2,4−ト
リアゾール誘導体などが挙げられる。
(Electron Transport Layer) In the EL device of the present invention, the electron transport layer can be provided between the light emitting layer and the second electrode. Examples of the material used for the electron transporting layer include substances that generally form stable radical anions and have a large ionization potential, such as oxadiazoles and aluminum quinolinol complexes.
Examples thereof include 1,3,4-oxadiazole derivatives and 1,2,4-triazole derivatives.

【0038】(正孔注入層(陽極バッファー材料))本
発明のEL素子において正孔注入層は、第1電極と正孔
輸送層との間に設けることができる。正孔注入層に用い
られる材料としては、以下のものが挙げられる。フェニ
ルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニ
ン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウ
ム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボ
ン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体 (電子注入層(陰極バッファー材料))本発明のEL素
子において電子注入層は、電子輸送層と第2電極との間
に設けることができる。電子注入層に用いられる材料と
しては、以下のものが挙げられる。アルミリチウム、フ
ッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フ
ッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カル
シウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化スト
ロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレート、
ポリスチレンスルホン酸ナトリウム (EL層内の隔壁層材料)EL層には隔壁を設けること
もでき、この隔壁は、異なる色を発光するEL層を組み
合わせるときに特に有用である。このような材料として
は、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂、他、光硬
化型樹脂、熱硬化型樹脂、撥水性樹脂などが挙げられ
る。
(Hole Injection Layer (Anode Buffer Material)) In the EL device of the present invention, the hole injection layer can be provided between the first electrode and the hole transport layer. The materials used for the hole injection layer include the following. Oxides such as phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline, and polythiophene derivatives (electron injection layer (cathode buffer material)) EL of the present invention In the device, the electron injection layer can be provided between the electron transport layer and the second electrode. The materials used for the electron injection layer include the following. Aluminum lithium, lithium fluoride, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, aluminum oxide, strontium oxide, calcium, polymethyl methacrylate,
Sodium polystyrenesulfonate (partition layer material in EL layer) A partition may be provided in the EL layer, and the partition is particularly useful when combining EL layers emitting different colors. Examples of such a material include a photosensitive polyimide resin, an acrylic resin, a photocurable resin, a thermosetting resin, and a water-repellent resin.

【0039】第1電極および第2電極 本明細書においては、基体上に先に設ける電極を第1電
極、その後EL層上に設ける電極を第2電極として呼
ぶ。第1電極は透明または、半透明とする。これらの電
極は、特に限定されないが、好ましくは、電極は陽極と
陰極からなり、この場合第1電極は陽極、陰極のいずれ
であってもよい。陽極としては、正孔が注入し易いよう
に仕事関数の大きい導電性材料が好ましく、逆に陰極と
しては、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電
性材料が好ましい。また、複数の材料を混合させてもよ
い。いずれの電極も、抵抗はできるだけ小さいものが好
ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あ
るいは無機化合物を用いてもよい。
First Electrode and Second Electrode In this specification, the electrode provided first on the substrate is referred to as the first electrode, and the electrode provided thereafter on the EL layer is referred to as the second electrode. The first electrode is transparent or translucent. Although these electrodes are not particularly limited, preferably, the electrodes include an anode and a cathode, and in this case, the first electrode may be either an anode or a cathode. The anode is preferably a conductive material having a large work function so that holes can be easily injected, and the cathode is preferably a conductive material having a small work function so that electrons can be easily injected. Further, a plurality of materials may be mixed. The resistance of each electrode is preferably as low as possible. In general, a metal material is used, but an organic substance or an inorganic compound may be used.

【0040】具体的には好ましい陽極材料は、ITO、
酸化インジウム、金、ポリアニリン、陰極材料として
は、マグネシウム合金(MgAg他)、アルミニウム合
金(AlLi、AlCa、AlMg他)、金属カルシウ
ムが挙げられる。
Specifically, preferred anode materials are ITO,
Examples of indium oxide, gold, polyaniline, and cathode materials include magnesium alloys (eg, MgAg), aluminum alloys (eg, AlLi, AlCa, AlMg), and calcium metal.

【0041】基体 本発明において基体とは、その上に電極やEL層が設け
られるものであり、所望により透明材料からなることが
できるが、不透明材料であってもよい。本発明のEL素
子においては、基体は第1電極そのものであってもよい
が、通常は強度を保持する基体の表面に第1電極が、直
接または中間層を介して設けられる。
Substrate In the present invention, the substrate is a substrate on which electrodes and an EL layer are provided, and can be made of a transparent material if desired, but may be an opaque material. In the EL device of the present invention, the substrate may be the first electrode itself, but usually the first electrode is provided directly or via an intermediate layer on the surface of the substrate that maintains strength.

【0042】屈折率変化材料層 本発明のEL素子においては基体と光触媒含有層の間の
いずれかの位置に少なくとも1層、光照射による屈折率
変化材料層を設けることができる。
Refractive Index Changing Material Layer In the EL device of the present invention, at least one refractive index changing material layer by light irradiation can be provided at any position between the substrate and the photocatalyst containing layer.

【0043】本発明のEL素子に用いられる、光照射に
よる屈折率変化材料層は、感光により光の屈折率が変化
しうる材料および/または変化した材料(変化後に固定
化処理をしたものを含む)の層であれば限定されない。
The material layer whose refractive index can be changed by light irradiation used in the EL device of the present invention includes a material whose refractive index can be changed by light exposure and / or a material whose light refractive index has changed (including a material which has been subjected to a fixing treatment after the change). ) Is not limited.

【0044】(屈折率変化材料層の作用)EL素子の発
光層からは、全方位に光が発散されるが、そのうち表示
光として有効に視認されるものは、発光層からEL素子
の表示面へ放射された一部の光にすぎず、その他は非発
光領域へもれてしまう。また、表示面に向かって放射さ
れても表示面表面と角度の小さい放射光は、表示の視認
性にあまり寄与していない場合がある。この屈折率変化
材料層は、光照射によって屈折率が変化した部分と変化
しなかった部分との界面で起こるEL光の全反射(場合
によっては屈折の作用も加わる)により、発光層から放
射した光の横方向への逃げを減らしたり、表示面の法線
方向の成分を増加させることができEL表示光の強度を
増加させて視認性を向上させる作用を有する層とするこ
とができる。
(Effect of Refractive Index Changing Material Layer) Light is radiated in all directions from the light emitting layer of the EL element. Among them, the light that is effectively visually recognized as display light is transmitted from the light emitting layer to the display surface of the EL element. Only a part of the light emitted to the light-emitting region, and the others leak to the non-light-emitting region. Further, even when the light is radiated toward the display surface, the radiated light having a small angle with respect to the display surface may not contribute much to the visibility of the display. The refractive index changing material layer radiated from the light emitting layer by total reflection of EL light generated at the interface between the portion where the refractive index was changed by the light irradiation and the portion where the refractive index did not change (in some cases, a refraction effect was added). The layer can reduce the escape of light in the horizontal direction, increase the component in the normal direction of the display surface, increase the intensity of EL display light, and improve visibility.

【0045】図1は、このような屈折率変化材料層を有
するEL素子の断面を模式的に例示する図である。この
EL素子では、基体1上に、順次屈折率変化材料層2と
3、第1電極4、正孔輸送層5、光触媒含有層6、発光
層7、第2電極8が設けられている。屈折率変化材料層
のうち符号2で示される部分は光照射により屈折率を高
めた部分、符号3で示される部分は光照射をしていない
屈折率の低い部分である。本発明のEL素子の発光層7
から放射された光は、光線aやbのように直接発光領域
に達するものもあるが、従来発光領域に達しなかった光
線cであっても屈折率変化材料層2と屈折率変化材料層
3との界面で反射されることによりEL素子発光領域に
達し、有効に視認される光として放射される。また、フ
ルカラー表示の場合に隣接する色の発光領域へ届いて混
色を起こし、色味を狂わせる光線cも屈折率変化材料層
2と屈折率変化材料層3との界面で反射されることによ
り隣接する領域に届かなくなり、コントラスト、視野
角、視認性が向上する。
FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a cross section of an EL element having such a refractive index changing material layer. In this EL device, a refractive index changing material layers 2 and 3, a first electrode 4, a hole transport layer 5, a photocatalyst containing layer 6, a light emitting layer 7, and a second electrode 8 are sequentially provided on a base 1. The portion indicated by reference numeral 2 in the refractive index changing material layer is a portion whose refractive index has been increased by light irradiation, and the portion indicated by reference numeral 3 is a low refractive index portion not irradiated with light. Light-emitting layer 7 of EL device of the present invention
Some of the light emitted from the light source a and b directly reach the light-emitting region, such as light beams a and b. However, even if the light beam c does not reach the light-emitting region in the past, the refractive index changing material layers 2 and 3 The light reaches the EL element light emitting region by being reflected at the interface with the light emitting element, and is emitted as light that can be visually recognized effectively. Further, in the case of full-color display, a light ray c that reaches a light emitting region of an adjacent color to cause color mixing and disturbs the color is reflected at the interface between the refractive index changing material layer 2 and the refractive index changing material layer 3 so as to be adjacent. And the contrast, the viewing angle, and the visibility are improved.

【0046】このように、EL素子の発光領域の屈折率
変化材料層と非発光領域の屈折率変化材料層との屈折率
の差により、EL素子の発光のうち非発光領域への漏れ
る光が発光領域に反射され、EL素子の輝度が向上す
る。この反射光の割合は、屈折率差が大きいほど大き
く、また入射角Xが大きいほど大きくなり、全反射条件
を満たせばなおよい。したがって、屈折率変化材料層2
と3の屈折率差が大きいほど好ましい。さらに、屈折率
変化材料層2と3の界面を図1のように表示面方向に広
がるように斜めに形成することは、入射角Xの大きな光
線を増加させることになり、反射光を増加させるので好
ましい。また、好ましくは、基体1、屈折率変化材料層
2、第1電極4、正孔輸送層5、光触媒含有層6、発光
層7を形成する材料の屈折率を近づけ、それらの界面で
の反射を防ぐことが好ましい。さらに、第1電極4や正
孔輸送層5、光触媒含有層6の厚みに比べ屈折率変化材
料層2の厚みを大きくすることは、非発光領域へ向かう
光を反射により発光領域に集める比率が高めることがで
き好ましい。
As described above, due to the difference in the refractive index between the refractive index changing material layer in the light emitting region of the EL element and the refractive index changing material layer in the non-light emitting region, light leaked to the non-light emitting region of the EL element is emitted. The light is reflected by the light emitting region, and the luminance of the EL element is improved. The ratio of the reflected light increases as the difference in the refractive index increases, and increases as the incident angle X increases. Therefore, the refractive index changing material layer 2
It is more preferable that the difference between the refractive indices and is larger. Further, forming the interface between the refractive index changing material layers 2 and 3 obliquely so as to spread in the direction of the display surface as shown in FIG. 1 increases light rays having a large incident angle X and increases reflected light. It is preferred. Also, preferably, the refractive index of the material forming the base 1, the refractive index changing material layer 2, the first electrode 4, the hole transport layer 5, the photocatalyst containing layer 6, and the light emitting layer 7 is made close to each other, and the reflection at the interface between them is obtained. Is preferably prevented. Further, increasing the thickness of the refractive index changing material layer 2 as compared with the thickness of the first electrode 4, the hole transport layer 5, and the photocatalyst containing layer 6 increases the ratio of the light directed toward the non-light emitting region to the light emitting region by reflection. It can be increased and is preferable.

【0047】(屈折率変化材料層の形状、配置)本発明
のEL素子において、異なる屈折率を有する屈折率変化
材料層の界面は、表示面に対し垂直であってもよいが、
好ましくは屈折率を変化させる光を角度をつけて照射す
ることにより、前述したように界面が発光層から表示面
に向かって広がるようにすることが好ましい。このよう
にすることで、反射する光が多くなるため、さらに光の
取り出し効率を向上し、光の漏れが低減できる。
(Shape and Arrangement of Refractive Index Changing Material Layer) In the EL device of the present invention, the interface between the refractive index changing material layers having different refractive indices may be perpendicular to the display surface.
It is preferable to irradiate the light for changing the refractive index at an angle so that the interface spreads from the light emitting layer toward the display surface as described above. By doing so, the amount of reflected light increases, so that the light extraction efficiency can be further improved and light leakage can be reduced.

【0048】本発明のEL素子において、屈折率変化材
料層は、第1電極の外側、第1電極と正孔輸送層との
間、正孔輸送層とEL層との間、EL層が複数層からな
る場合はそれらのEL層の間、EL層と第2電極の間、
第2電極の外側、第1または第2電極の外側に基体を設
ける場合は基体としてまたは基体の外側などの任意の位
置に設けることができる。好ましくは、EL層を構成す
る発光層と前記透明電極(第1電極および/または第2
電極)との間または前記透明電極の外側のいずれかの部
位に屈折率変化材料層を設けることにより、本発明の前
記の光学作用を効率的に得ることができる。また、電極
より外側に屈折率変化材料層を設ける場合は、屈折率変
化材料層の材料の電気的特性の制約がなく、幅広い材料
を選択できる点で好ましい。
In the EL device of the present invention, the refractive index changing material layer is provided outside the first electrode, between the first electrode and the hole transport layer, between the hole transport layer and the EL layer, and when there are a plurality of EL layers. Layers, between the EL layers, between the EL layer and the second electrode,
When the base is provided outside the second electrode, outside the first or second electrode, it can be provided at any position such as the base or outside the base. Preferably, the light emitting layer constituting the EL layer and the transparent electrode (the first electrode and / or the second electrode)
The optical action of the present invention can be efficiently obtained by providing a refractive index changing material layer between the electrode and the transparent electrode or at any position outside the transparent electrode. In addition, it is preferable to provide the refractive index changing material layer outside the electrode because there is no restriction on the electrical characteristics of the material of the refractive index changing material layer and a wide range of materials can be selected.

【0049】(屈折率変化材料)屈折率変化材料は、光
照射の前後での屈折率の変化が大きいものが反射する光
の量が多くなり好ましい。特にフルカラーのEL素子に
おいては、この比率が大きいほど隣接する異なる色の光
が漏れることによる色のにじみも低減できる。
(Refractive index changing material) A refractive index changing material having a large change in refractive index before and after light irradiation is preferable because the amount of reflected light is large. In particular, in a full-color EL element, as this ratio increases, color bleeding due to leakage of light of adjacent different colors can be reduced.

【0050】また屈折率変化材料は、オーブンでベーク
するなどで熱処理する、または、紫外線照射後に熱処理
するなどの方法によって、屈折率のパターンを固定で
き、その後光照射を行っても屈折率が変化しない材料と
することが好ましい。
The refractive index changing material can be fixed in a refractive index pattern by a method such as heat treatment such as baking in an oven, or heat treatment after irradiation with ultraviolet rays, and the refractive index changes even after light irradiation. It is preferable that the material is not used.

【0051】このような屈折率変化材料は、特に限定さ
れるものではないが、例えば従来からホログラム記録用
のフォトポリマーとして知られているものが使用でき
る。ホログラム記録用フォトポリマーは、モノマー、光
重合開始剤・増感剤、バインダーを主成分とするもの
で、これらの材料としては、例えば以下のものが挙げら
れる。
Although such a refractive index changing material is not particularly limited, for example, a material conventionally known as a photopolymer for hologram recording can be used. The hologram recording photopolymer contains a monomer, a photopolymerization initiator / sensitizer, and a binder as main components. Examples of these materials include the following.

【0052】モノマーとしては、1分子中に少なくとも
エチレン性不飽和二重結合を1個有する光重合、光架橋
可能なモノマー、オリゴマー、プレポリマー及びそれら
の混合物であり、モノマー及びその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と
脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カル
ボン酸と脂肪族多価アミン化合物のアミド等があげられ
る。
The monomers include photopolymerizable, photocrosslinkable monomers, oligomers, prepolymers and mixtures thereof having at least one ethylenically unsaturated double bond in one molecule, and monomers and copolymers thereof. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.

【0053】光重合開始剤・増感剤としては、一般的な
ものが挙げられる。
Examples of the photopolymerization initiator and sensitizer include general ones.

【0054】また、バインダーとしては、ポリメタクリ
ル酸エステルまたはその部分加水分解物、ポリ酢酸ビニ
ルまたはその加水分解物、ポリスチレン、ポリビニルブ
チラール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニル、塩素化
ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールまたはその誘導体、ポリ−N−ビニルピ
ロリドンまたはその誘導体、スチレンと無水マレイン酸
の共重合体またはその半エステル、アクリル酸、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
アクリルアミド、アクリルニトリル等の共重合可能なモ
ノマー群から選択されるモノマーを重合成分とする共重
合体等を用いることができる。
Examples of the binder include polymethacrylate or its partial hydrolyzate, polyvinyl acetate or its hydrolyzate, polystyrene, polyvinyl butyral, polychloroprene, polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, -N-vinylcarbazole or a derivative thereof, poly-N-vinylpyrrolidone or a derivative thereof, a copolymer of styrene and maleic anhydride or a half ester thereof, acrylic acid, acrylic ester, methacrylic acid, methacrylic ester,
A copolymer containing a monomer selected from a group of copolymerizable monomers such as acrylamide and acrylonitrile as a polymerization component can be used.

【0055】(屈折率を変化させる照射光線)屈折率を
変化させるための照射光線は、その材料の屈折率を変化
できれば特に限定されないが、例えば紫外線、可視光
線、赤外線の他、これらの光線よりもさらに短波長また
は長波長の電磁波、放射線であることができる。
(Irradiation light beam for changing the refractive index) The irradiation light beam for changing the refractive index is not particularly limited as long as the refractive index of the material can be changed. Can also be short or long wavelength electromagnetic waves, radiation.

【0056】本発明のEL素子は、前記光照射による屈
折率変化材料と、光触媒含有層中の光触媒材料が、同一
波長の光で反応させることができるものの組み合わせと
することができる。このような組み合わせでは、屈折率
変化材料層の屈折率を変化させる光照射によって光触媒
含有層の濡れ性も変化させることができる点で工程の簡
便化などにつながり、好ましい。
The EL element of the present invention can be a combination of the above-mentioned material that changes the refractive index by irradiation with light and the photocatalyst material in the photocatalyst containing layer that can react with light of the same wavelength. Such a combination is preferable because the irradiation of light for changing the refractive index of the refractive index changing material layer can also change the wettability of the photocatalyst-containing layer, which leads to simplification of the process and the like.

【0057】一方、本発明のEL素子は、前記光照射に
よる屈折率変化材料と、後述の光触媒含有層中の光触媒
材料が、同一波長の光で反応しないものの組み合わせと
することもできる。このような組み合わせとすること
で、屈折率の変化したパターンと光触媒含有層の濡れ性
変化とを関係させずに、所望の範囲で屈折率を変化させ
ることができる。
On the other hand, the EL device of the present invention may be a combination of a material in which the refractive index changing material by light irradiation and a photocatalyst material in a photocatalyst containing layer described later do not react with light of the same wavelength. With such a combination, the refractive index can be changed within a desired range without relating the change in the refractive index and the change in the wettability of the photocatalyst-containing layer.

【0058】(屈折率変化材料層の形成方法)屈折率変
化材料層の形成方法は特に限定されないが、例えば屈折
率変化材料を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディッ
プコート、ロールコート、ビードコート、スピンコー
ト、グラビアコート、ブレードコート、ダイコートなど
の方法により塗布して形成することができる。
(Method of Forming Refractive Index Changing Material Layer) The method of forming the refractive index changing material layer is not particularly limited. For example, a coating solution containing the refractive index changing material is spray-coated, dip-coated, roll-coated, and bead-coated. , Spin coating, gravure coating, blade coating, die coating and the like.

【0059】屈折率変化材料等を含む塗布液を用いる場
合に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特
に限定されないが、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、テトラヒ
ドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト、酢酸エチル、1,4−ジオキサン、1,2−ジクロ
ロエタン、ジクロルメタン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等を挙げることがで
きる。
When a coating solution containing a refractive index changing material or the like is used, the solvent that can be used for the coating solution is not particularly limited. For example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xylene Chlorobenzene, tetrahydrofuran, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, 1,4-dioxane, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, chloroform, methanol, ethanol, isopropanol and the like. .

【0060】光照射による光分解性色素含有層 本発明のEL素子においては正孔輸送層および/または
光触媒含有層が、光照射により分解する色素を含む光分
解性色素含有層であることができる。
Photodegradable Dye-Containing Layer by Light Irradiation In the EL device of the present invention, the hole transporting layer and / or the photocatalyst-containing layer may be a photodegradable dye-containing layer containing a dye that is decomposed by light irradiation. .

【0061】本発明のEL素子に用いられる、光分解性
色素含有層は、感光により色素材料が分解し、それによ
り色素の色が劣化する、典型的には退色し、好ましくは
無色となりうる色素および/または変化した色素(変化
後に固定化処理をしたものを含む)を含む層であれば限
定されない。
The photo-decomposable dye-containing layer used in the EL device of the present invention is a dye which is capable of decomposing a dye material upon exposure to light, thereby deteriorating the color of the dye, typically fading, and preferably becoming colorless. The layer is not limited as long as it is a layer containing a changed dye (including a dye subjected to an immobilization treatment after the change).

【0062】光触媒含有層に光分解性色素を添加した場
合、さらに光触媒と光分解性色素をともに反応させるこ
とができる光でパターン露光をすると、光触媒反応によ
る濡れ性向上部分と色素分解部分が一致して、例えば濡
れ性向上部分に形成する発光層と光分解による透明部分
が一致したEL素子が簡便に製造できる点で好ましい。
When a photodegradable dye is added to the photocatalyst-containing layer, if pattern exposure is performed with light that can cause both the photocatalyst and the photodecomposable dye to react, the wettability-improved portion and the dye-decomposed portion due to the photocatalytic reaction become one. Therefore, for example, it is preferable in that an EL element in which the light emitting layer formed on the wettability improving portion and the transparent portion formed by photolysis coincide can be easily manufactured.

【0063】(光分解性色素含有層の作用)本発明にお
いては、光分解性色素含有層に遮光層としての機能をも
たせること、すなわち、ブラックマトリクスまたは特定
波長の光のみを遮光するものとすることができる。この
ような遮光層は、例えば、光分解性色素含有層の遮光部
分以外(EL素子発光領域に対応する部分)を光照射し
て分解させることにより簡便に形成することができ、隣
接する発光層からの異なる色の光との混色、にじみを防
止することができる。
(Function of Photodegradable Dye-Containing Layer) In the present invention, the photodegradable dye-containing layer is provided with a function as a light-shielding layer, that is, it blocks only a black matrix or light of a specific wavelength. be able to. Such a light-shielding layer can be easily formed by, for example, irradiating light other than the light-shielding portion of the photodegradable dye-containing layer (a portion corresponding to the EL element light-emitting region) to decompose the light-emitting layer. Color mixture with light of a different color from the surface and bleeding can be prevented.

【0064】本発明においては、光照射後の光分解性色
素含有層にアライメントマークとしての機能をもたせる
こと、すなわち、EL層などを例えばインクジェット、
電界ジェット、マスク蒸着などの方法で形成するときに
必要となることがある位置あわせの印とすることができ
る。このようなアライメントマークは目視またはCCD
などのモニターにより簡単に見分けができる。また、必
要に応じ後工程で再度光照射して消去することもでき
る。
In the present invention, the photodegradable dye-containing layer after light irradiation has a function as an alignment mark.
It can be an alignment mark that may be required when forming by a method such as electric field jet or mask evaporation. Such alignment marks can be visually inspected or CCD
It can be easily identified by such monitors. If necessary, light can be irradiated again in a later step to erase the data.

【0065】(光分解性色素)本発明に用いることので
きる光分解性色素は感光により色素材料が分解し、それ
により色素の色が分解する、典型的には退色し、好まし
くは無色となりうる色素および/または変化した色素
(変化後に固定化処理をしたものを含む)であれば限定
されない。
(Photodecomposable Dye) The photodecomposable dye which can be used in the present invention can decompose the dye material upon exposure to light, whereby the color of the dye is decomposed, typically fade, and can preferably be colorless. The dye is not limited as long as it is a dye and / or a changed dye (including those subjected to an immobilization treatment after the change).

【0066】色素の色は、着色の目的に応じて任意に選
択することができる。例えば、光分解性色素を用いてア
ライメントマークを形成する場合は、好ましくは黒色で
露光部は無色とし、コントラストが高いものとすること
ができる。
The color of the dye can be arbitrarily selected according to the purpose of coloring. For example, when an alignment mark is formed using a photodegradable dye, the alignment mark is preferably black, the exposed portion is colorless, and the contrast can be high.

【0067】また、光分解性色素を用いて遮光層を形成
する場合は、黒色の他、発光層の発光色を吸収する色と
することができる。
In the case where the light-shielding layer is formed using a photodegradable dye, the color can be a color that absorbs the emission color of the light-emitting layer in addition to black.

【0068】このような光分解性色素は、例えばジ置換
およびモノ置換パラフェニレンジアミン類、アミノハイ
ドロキノンエーテル誘導体、アミノジフェニル、アミノ
ジフェニルアミン類、ヘテロ環アミン類、具体的には、
(4−ジアゾ−N,Nジメチルアニリン)、(4−ジア
ゾ−N,Nジエチルアニリン)、(4−ジアゾ−N−エ
チル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン)、(4−ジ
アゾ−2,5−ジエトキシベンゾイルアニリン誘導体)
が挙げられる。
Such photodegradable dyes include, for example, disubstituted and monosubstituted paraphenylenediamines, aminohydroquinone ether derivatives, aminodiphenyl, aminodiphenylamines, heterocyclic amines, specifically,
(4-diazo-N, N-dimethylaniline), (4-diazo-N, N-diethylaniline), (4-diazo-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline), (4-diazo-2,5 -Diethoxybenzoylaniline derivative)
Is mentioned.

【0069】また光分解性色素は、好ましくは熱処理、
100〜150℃のオーブン、ホットプレート乾燥など
によって、色素が分解されないものを用いることが好ま
しい。このような色素としては赤色ならローダミン6G
が挙げられる。 (光分解性色素含有層の形成方法)光分解性色素含有層
の形成方法は特に限定されないが、例えば光分解性色素
を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、
ロールコート、ビードコート、スピンコート、グラビア
コート、ブレードコート、ダイコートなどの方法により
塗布して形成することができる。
The photodegradable dye is preferably heat-treated,
It is preferable to use one that does not decompose the pigment by an oven at 100 to 150 ° C. or hot plate drying. As such a dye, if it is red, rhodamine 6G
Is mentioned. (Method of forming photodegradable dye-containing layer) The method of forming the photodegradable dye-containing layer is not particularly limited. For example, a coating solution containing a photodegradable dye is spray-coated, dip-coated,
It can be formed by applying by a method such as roll coating, bead coating, spin coating, gravure coating, blade coating, and die coating.

【0070】光分解性色素等を含む塗布液を用いる場合
に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に
限定されないが、例えば塗布液に使用することができる
溶剤としては、特に限定されないが、例えばアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセ
ロソルブアセテート、酢酸エチル、1,4−ジオキサ
ン、1,2−ジクロロエタン、ジクロルメタン、クロロ
ホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノール等
を挙げることができる。
When a coating solution containing a photodecomposable dye or the like is used, the solvent that can be used for the coating solution is not particularly limited, but for example, the solvent that can be used for the coating solution is not particularly limited. But, for example, acetone,
Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, tetrahydrofuran, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, 1,4-dioxane, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, Chloroform, methanol, ethanol, isopropanol and the like can be mentioned.

【0071】光分解性色素は熱によっても劣化する場合
が多いので、光分解性色素含有層形成過程に熱乾燥を用
いる場合は、色素に応じ色素が劣化しない程度の熱で乾
燥する。
Since photodegradable dyes are often degraded by heat, when heat drying is used in the process of forming a photodegradable dye-containing layer, drying is carried out with heat to such an extent that the dye does not deteriorate depending on the dye.

【0072】(色素を分解させる照射光線)本発明にお
いて色素を分解させる照射光線は、光分解性色素を分解
できれば特に限定されない。このようなものとしては紫
外線(UV)、可視光線、赤外線の他、これらの光線よ
りもさらに短波長または長波長の電磁波、放射線である
ことができる。また、光触媒含有層の反応波長帯と、光
分解性色素含有層の反応波長帯が少なくとも一部重なる
ものであり、その重なる部分の波長の光を用いて、1度
の光照射で光触媒含有層と光分解性色素含有層の双方を
反応させることが好ましい。また、好ましくはこの照射
光線が他のEL層例えば正孔輸送層を反応させないこ
と、換言すればEL層を分解させない光で反応する光分
解性色素と光触媒を用いることが好ましい。
(Irradiation Light for Decomposing Dye) In the present invention, the irradiation light for decomposing the dye is not particularly limited as long as the photodegradable dye can be decomposed. Such materials include ultraviolet (UV), visible light, and infrared light, as well as electromagnetic waves and radiation having a shorter or longer wavelength than these light beams. In addition, the reaction wavelength band of the photocatalyst-containing layer and the reaction wavelength band of the photodegradable dye-containing layer at least partially overlap with each other. It is preferable to react both the photodecomposable dye-containing layer and the photodecomposable dye-containing layer. Further, it is preferable to use a photodegradable dye and a photocatalyst that do not cause the irradiation light to react with another EL layer, for example, a hole transport layer, in other words, that react with light that does not decompose the EL layer.

【0073】製造方法 本発明のEL素子の製造方法は、少なくとも前記基体上
に前記第1電極を形成する工程と、前記第1電極上に、
正孔輸送層を形成する工程と、前記正孔輸送層上に、光
触媒含有層を形成する工程と、前記光触媒含有層をパタ
ーン状に露光して、濡れ性の違いによるパターンを形成
する工程と、前記光触媒含有層の露光部上に、発光層形
成液を塗布してパターニングされた前記発光層を形成す
る工程と、前記発光層上に前記第2電極を形成する工程
を含むEL素子の製造方法である。
Manufacturing Method The method for manufacturing an EL element of the present invention comprises the steps of: forming at least the first electrode on the base;
A step of forming a hole transport layer, a step of forming a photocatalyst-containing layer on the hole transport layer, and a step of exposing the photocatalyst-containing layer in a pattern to form a pattern due to a difference in wettability. A step of forming a patterned light emitting layer by applying a light emitting layer forming liquid on an exposed portion of the photocatalyst containing layer; and forming the second electrode on the light emitting layer. Is the way.

【0074】また、本発明の好適態様において設けられ
る層は、通常のEL素子の製造法によることができる。
Further, the layer provided in the preferred embodiment of the present invention can be formed by a usual method for manufacturing an EL device.

【0075】塗布液の溶媒 光触媒含有層上に発光層を形成するために塗布される発
光層形成液(これらは塗布液と呼ぶ)は、溶媒が、水な
どの極性溶媒であることが好ましい。このような極性溶
媒を用いた塗布液は、光触媒含有層の露光部との濡れ性
が高く、かつ未露光部とははじきあう傾向が強く、塗布
液をパターニングする上で有利である。
Solvent of Coating Solution The luminescent layer forming solution applied to form the luminescent layer on the photocatalyst containing layer (these are called coating solutions) is preferably a solvent such as a polar solvent such as water. A coating solution using such a polar solvent has high wettability with the exposed portion of the photocatalyst-containing layer and has a strong tendency to repel the unexposed portion, which is advantageous in patterning the coating solution.

【0076】塗布方法 光触媒含有層への塗布液の塗布は、スピン塗布法、イン
クジェット法、ディップ塗布法、ブレードコート法およ
び光触媒含有層への滴下が挙げられる。
Coating Method Application of the coating solution to the photocatalyst-containing layer includes spin coating, ink jetting, dip coating, blade coating, and dropping to the photocatalyst-containing layer.

【0077】パターニング方法 光触媒含有層上に形成される発光層のパターニングは、
固化前の塗布液の状態でパターニングを行う方法の他、
固化後の層形成された状態で濡れ性の低い部分のみを剥
離して行うこともできる。具体的には例えば、固形化後
に粘着テープを貼って剥がす方法などが挙げられる。
Patterning Method The light emitting layer formed on the photocatalyst containing layer is patterned
In addition to the method of patterning in the state of the coating liquid before solidification,
It is also possible to peel off only a portion having low wettability in a state where a layer after solidification is formed. Specifically, for example, a method of sticking an adhesive tape after solidification and peeling it off may be used.

【0078】濡れ性パターンと画素 本発明のEL素子が、フルカラー表示のディスプレイで
ある場合には、好ましくは、光触媒含有層の濡れ性の違
いによるパターンに対応させてディスプレイの画素を形
成させる。
[0078] Wettability pattern and pixel EL element of the present invention, in the case of display of full color display, preferably, in correspondence to the pattern by wettability differences between the photocatalyst-containing layer to form a pixel of the display.

【0079】[0079]

【実施例】実施例1 イソプロピルアルコール3重量部とアナターゼ型チタニ
アゾル2重量部を混合し、90℃,10分間撹拌した後
フルオロアルコキシラン0.14重量部を更に混合し、
90℃,10分間撹拌した後、この溶液1をイソプロピ
ルアルコールで4倍に希釈し溶液2とした。
EXAMPLE 1 3 parts by weight of isopropyl alcohol and 2 parts by weight of anatase titania sol were mixed, stirred at 90 ° C. for 10 minutes, and further mixed with 0.14 parts by weight of fluoroalkoxylan.
After stirring at 90 ° C. for 10 minutes, the solution 1 was diluted 4 times with isopropyl alcohol to obtain a solution 2.

【0080】パターニングされたITOガラス基板上に
洗浄処理と表面処理を施し(洗浄工程後の仕事関数が
5.0eV)、その上に溶液2をスピンコーターで塗布
した基板Aと、PEDOT(正孔輸送層、仕事関数5.
2eV)を塗布した基板Bをそれぞれ用意した。乾燥条
件はそれぞれ150℃のホットプレート上に10分間放
置とした。両者ともスピンコートの回転数の制御により
20〜100nmの薄膜を得た。次に基板BにはPED
OT層上に溶液2をスピンコートで塗布し、150℃、
10分間乾燥を行った。
A cleaning treatment and a surface treatment are performed on the patterned ITO glass substrate (the work function after the cleaning process is 5.0 eV), and a substrate A on which a solution 2 is applied by a spin coater and a PEDOT (hole) 4. transport layer, work function
Substrates B coated with 2 eV) were prepared. The drying conditions were each left on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes. In both cases, a thin film of 20 to 100 nm was obtained by controlling the rotation speed of spin coating. Next, PED
Solution 2 is applied on the OT layer by spin coating,
Drying was performed for 10 minutes.

【0081】次に開口マスクを用意し開口部のパターン
で両基板の光触媒含有層上に水銀灯(主波長365n
m,30mW/cm)により10分間照射した。水銀
灯照射前の光触媒含有層の仕事関数は、4.8eV、1
0分照射後は5.3eVであった。
Next, an opening mask was prepared, and a mercury lamp (having a main wavelength of 365 nm) was formed on the photocatalyst containing layers of both substrates in an opening pattern.
m, 30 mW / cm 2 ) for 10 minutes. The work function of the photocatalyst-containing layer before irradiation with a mercury lamp was 4.8 eV, 1
After irradiation for 0 minutes, it was 5.3 eV.

【0082】更にこの両基板上に、後述の発光層形成溶
液をスピンコートにより塗布し、90℃で1時間ドライ
ボックス中で乾燥、80nm程の発光層(仕事関数が
5.7eV)の薄膜をパターン上に形成させた。最後に
ITOのパターンと直交するように電子注入層としてC
aを200オングストローム、電極としてAgを200
0オングストロームをマスク蒸着し、EL素子を得た。
Further, a light-emitting layer forming solution described later is applied on both substrates by spin coating, dried in a dry box at 90 ° C. for 1 hour, and a thin film of a light-emitting layer (work function: 5.7 eV) of about 80 nm is formed. It was formed on a pattern. Finally, C is used as an electron injection layer so as to be orthogonal to the pattern of ITO.
a is 200 angstroms, and Ag is 200 as an electrode.
0 Å was deposited by mask to obtain an EL device.

【0083】発光層形成溶液 ポリビニルカルバゾール 7重量部 発光色素(R、GまたはB) 0.1重量部 オキサジアゾール化合物 3重量部トルエン 5050重量部 発光色素Gはクマリン6、発光色素Rはナイルレッド、
発光色素Bはペリレン化合物を用いた。
Emitting Layer Forming Solution Polyvinylcarbazole 7 parts by weight Luminescent dye (R, G or B) 0.1 part by weight Oxadiazole compound 3 parts by weight Toluene 5050 parts by weight Luminescent dye G is coumarin 6 and luminescent dye R is Nile Red ,
As the luminescent dye B, a perylene compound was used.

【0084】基板Aを用いて作製したEL素子Aと基板
Bを用いて作製したEL素子BをそれぞれITO電極、
上部Ag電極をアドレス電極として駆動させ発光特性を
測定したところEL素子Bの方がEL素子Aと比べ、発
光開始電圧が低く、高輝度の特性が得られた。
The EL element A manufactured using the substrate A and the EL element B manufactured using the substrate B were each connected to an ITO electrode,
When the light emission characteristics were measured by driving the upper Ag electrode as an address electrode, the EL element B had a lower light emission start voltage and higher luminance than the EL element A.

【0085】[0085]

【発明の効果】本発明によって簡便に製造できるEL素
子とその製造方法を提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide an EL element which can be easily manufactured and a method for manufacturing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のEL素子の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of the EL device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 屈折率変化材料層(屈折率を変化させた部分) 3 屈折率変化材料層(屈折率を変化させていない部
分) 4 第1電極 5 正孔輸送層 6 光触媒含有層 7 発光層 8 第2電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base | substrate 2 Refractive-index change material layer (part which changed refractive index) 3 Refractive-index change material layer (part which does not change refractive index) 4 1st electrode 5 Hole transport layer 6 Photocatalyst containing layer 7 Light emitting layer 8 2nd electrode

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基体と、前記基体上に形成された透明な第
1電極と、前記第1電極上に形成された正孔輸送層と、
前記正孔輸送層上に形成された光触媒含有層と、前記光
触媒含有層上に形成された発光層と、前記発光層上に形
成された第2電極から少なくともなることを特徴とす
る、EL素子。
1. A base, a transparent first electrode formed on the base, a hole transport layer formed on the first electrode,
An EL device comprising at least a photocatalyst containing layer formed on the hole transport layer, a light emitting layer formed on the photocatalyst containing layer, and a second electrode formed on the light emitting layer. .
【請求項2】前記発光層と前記第2電極の間に電子輸送
層を有する、請求項1に記載のEL素子。
2. The EL device according to claim 1, further comprising an electron transport layer between said light emitting layer and said second electrode.
【請求項3】前記第1電極と前記正孔輸送層との間に正
孔注入層を有する、請求項1または2に記載のEL素
子。
3. The EL device according to claim 1, further comprising a hole injection layer between said first electrode and said hole transport layer.
【請求項4】前記電子輸送層と前記第2電極との間に電
子注入層を有する、請求項2に記載のEL素子。
4. The EL device according to claim 2, further comprising an electron injection layer between said electron transport layer and said second electrode.
【請求項5】前記正孔輸送層が、ITOより大きく前記
光触媒含有層よりも小さい仕事関数を有する、請求項1
に記載のEL素子。
5. The photoconductor according to claim 1, wherein the hole transport layer has a work function larger than ITO and smaller than the photocatalyst containing layer.
3. The EL device according to claim 1.
【請求項6】前記光触媒含有層が、照射する光の量に応
じ仕事関数が変化するものである、請求項1に記載のE
L素子。
6. The E according to claim 1, wherein the work function of the photocatalyst-containing layer changes according to the amount of light to be irradiated.
L element.
【請求項7】前記基体と前記光触媒含有層の間のいずれ
かの位置に、少なくとも1層の光照射による屈折率変化
材料層を設ける、請求項1に記載のEL素子。
7. The EL device according to claim 1, wherein at least one layer of a refractive index changing material layer by light irradiation is provided at any position between the substrate and the photocatalyst containing layer.
【請求項8】前記正孔輸送層および/または前記光触媒
含有層が、光分解性色素を含むものである、請求項1に
記載のEL素子。
8. The EL device according to claim 1, wherein said hole transport layer and / or said photocatalyst containing layer contains a photodegradable dye.
【請求項9】前記基体と前記第1電極との間に光分解性
色素含有層を有する、請求項1に記載のEL素子。
9. The EL device according to claim 1, further comprising a photodegradable dye-containing layer between said base and said first electrode.
【請求項10】前記光触媒含有層が、紫外線吸収材を含
むものである、請求項1に記載のEL素子。
10. The EL device according to claim 1, wherein the photocatalyst-containing layer contains an ultraviolet absorbing material.
【請求項11】前記光触媒含有層の膜厚が50〜200
0Åである、請求項1に記載のEL素子。
11. The photocatalyst-containing layer has a thickness of 50 to 200.
2. The EL device according to claim 1, wherein 0 °.
【請求項12】請求項1に記載のEL素子を用いてな
る、フルカラー表示のディスプレイ。
12. A full-color display using the EL element according to claim 1.
【請求項13】基体と、前記基体上に形成された透明な
第1電極と、前記第1電極上に形成された正孔輸送層
と、前記正孔輸送層上に形成された光触媒含有層と、前
記光触媒含有層上に形成された発光層と、前記発光層上
に形成された第2電極から少なくともなるEL素子の製
造方法であって、 前記基体上に前記第1電極を形成する工程と、 前記第1電極上に、正孔輸送層を形成する工程と 前記正孔輸送層上に、光触媒含有層を形成する工程と、 前記光触媒含有層をパターン状に露光して、濡れ性の違
いによるパターンを形成する工程と、 前記光触媒含有層の露光部上に、発光層形成液を塗布し
てパターニングされた前記発光層を形成する工程と、 前記発光層上に前記第2電極を形成する工程、とを含む
EL素子の製造方法。
13. A substrate, a transparent first electrode formed on the substrate, a hole transport layer formed on the first electrode, and a photocatalyst containing layer formed on the hole transport layer. And a light emitting layer formed on the photocatalyst containing layer, and a second electrode formed on the light emitting layer, the method for manufacturing an EL element, wherein the step of forming the first electrode on the substrate Forming a hole transport layer on the first electrode; forming a photocatalyst-containing layer on the hole transport layer; exposing the photocatalyst-containing layer in a pattern to obtain a wettability. A step of forming a pattern according to the difference, a step of applying a light emitting layer forming liquid on the exposed portion of the photocatalyst containing layer to form the patterned light emitting layer, and forming the second electrode on the light emitting layer A method of manufacturing an EL element.
【請求項14】前記光触媒含有層に照射する光の量を調
整し、光触媒含有層の仕事関数を変化させる工程を含
む、請求項13に記載のEL素子の製造方法。
14. The method according to claim 13, further comprising the step of adjusting the amount of light applied to the photocatalyst-containing layer to change the work function of the photocatalyst-containing layer.
【請求項15】前記EL素子が、フルカラー表示のディ
スプレイであって、前記光触媒含有層の濡れ性の違いに
よるパターンに対応させて、赤(R)、緑(G)、青
(B)の発光層をディスプレイの画素R、G、Bに対応
する場所に形成する、請求項13に記載のEL素子の製
造方法。
15. The display according to claim 15, wherein the EL element is a full-color display, and emits red (R), green (G), and blue (B) light corresponding to a pattern due to a difference in wettability of the photocatalyst-containing layer. 14. The method according to claim 13, wherein the layers are formed at locations corresponding to the pixels R, G, B of the display.
【請求項16】請求項1に記載のEL素子を製造するに
あたり、前記光触媒含有層に照射する光の量を調整する
ことによる、光触媒含有層の仕事関数を変化させる方
法。
16. A method for changing the work function of a photocatalyst-containing layer by adjusting the amount of light applied to the photocatalyst-containing layer in manufacturing the EL device according to claim 1.
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