JP4617031B2 - EL device using photodegradable dye - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、EL(エレクトロルミネッセンス)素子、特に光分解性染料含有層を設けた有機EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
EL素子は自発光の面状表示素子としての使用が注目されている。その中でも、有機物質を発光材料として用いた有機薄膜ELディスプレイは、印加電圧が10V弱であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定のパターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示用ディスプレイや動画を表示するフルカラーディスプレイへの応用が期待されている。
【0003】
このようなEL素子でフルカラーディスプレイパネルを作成するためには、青、緑、赤に発光する有機発光層や遮光層を精度良くパターニングすることが求められる。このパターニングにおいては、印刷やインクジェットマスク蒸着その他の方法を用い、ELパネル作成基板上に位置あわせのためのアライメントマークを設けることが一般的である。しかしながら、このアライメントマークは従来はCr蒸着やITOのエッチングなどで作成していたので製造コストの上昇要因となっていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、簡易に製造できるEL素子、特に遮光層の形成や発光層のパターニングが簡易に精度良く形成できるEL素子とその製造方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、光照射により退色する光分解性染料を用いることにより、遮光層の形成、アライメントマークの形成や、好ましくはぬれ性の違いにより発光層のパターニングを簡易に実現できるEL素子を提供できることを見出し、本発明を完成させた。
【0006】
したがって、本発明のEL素子は、第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少なくともなり、前記第1電極と前記第2電極の少なくとも一方が透明または半透明であるEL素子であって、前記EL素子に、光分解性染料含有層を少なくとも1層設けることを特徴とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
EL素子
本発明のEL素子は、第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極と、いずれかの位置に設けられた1層以上の光分解性染料含有層から少なくともなる。EL層(好ましくは有機EL層)は、発光層単層でもよいが、さらにバッファー層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等を適宜組み合せて、多層構造にすることが好ましい。
【0008】
また、本発明のEL素子は、好ましくは、第1電極または第2電極が透明または半透明電極であり、この電極がパターニングされたものであり、前記電極上に基体が設けられ、さらに前記EL層が少なくとも2層からなることができる。また好ましくは、本発明のEL素子は、前記EL素子に少なくとも1層の光触媒含有層を有することができる。また、ブラックマトリクスなど、画素間に遮光層を設けることもできる。
【0009】
光分解性染料含有層
(光分解性染料含有層)
本発明のEL素子に用いられる、光分解性染料含有層は、光照射により染料化合物が分解し、光照射量の増大に伴い退色して無色となる染料および/または無色となった染料(変化後に固定化処理をしたものを含む)を含む層であれば限定されない。
【0010】
(光分解性染料含有層の形状、配置)
本発明のEL素子において、光分解性染料含有層はEL素子のどの部位に設けることもできる。また、1層に限らず複数層設けることもできる。典型的には、基体、光分解性染料含有層、第1電極、EL層、第2電極の順番に構成したEL素子や、第1電極、EL層、第2電極、光分解性染料含有層、基体の順番に構成したEL素子が挙げられる。このような層構成の場合、光分解性染料含有層の電気的特性がEL層に影響を与えないため光分解性染料の選択の自由度が高まる点において好ましい。一方、電極間に光分解性染料含有層を設ける場合には、光分解性染料含有層層が、電荷を輸送する層(例えばバッファー層、電荷輸送層、電荷注入層など)として作用し、発光特性を低下させないことが求められるので材料設計上制約が生じるが、そのような材料であれば用いることができる。
【0011】
また、本発明のEL素子において、光分解性染料をEL素子を構成するいずれかの層に添加し、その層の機能と光分解性染料含有層の機能を兼ねることもできる。光分解性染料を添加するEL素子を構成する層は特に限定されないが、例えば本発明のEL素子の好適態様において設けられる光触媒含有層に添加することができる。この場合、さらに光触媒と光分解性染料をともに反応させることができる光でパターン露光をすると、光触媒反応による濡れ性向上部分と染料分解部分が一致して、例えば濡れ性向上部分に形成する発光層と光分解による透明部分が一致したEL素子が簡便に製造できる点で好ましい。
【0012】
(光分解性染料含有層の作用)
本発明においては、光分解性染料含有層に遮光層としての機能をもたせること、すなわち、ブラックマトリクスまたは特定波長の光のみを遮光するものとすることができる。このような遮光層は、例えば、光分解性染料含有層の遮光部分以外(EL素子発光領域に対応する部分)を光照射して分解させ、必要により固定処理を行うことにより簡便に形成することができ、隣接する発光層からの異なる色の光との混色、にじみを防止することができる。
【0013】
本発明においては、光照射後の光分解性染料含有層にアライメントマークとしての機能をもたせること、すなわち、EL層などを例えばインクジェット、電界ジェット、マスク蒸着などの方法で形成するときに必要となることがある位置あわせの印とすることができる。このようなアライメントマークは目視またはCCDなどでのモニターにより簡単に見分けができる。また、必要に応じ後工程で再度光照射して消去することもできる。
【0014】
(光分解性染料)
本発明に用いることのできる光分解性染料は、光照射により染料化合物が分解し、光照射量の増大に伴い退色して無色となる染料および/または無色となった染料であれば限定されない。
【0015】
また、光分解性染料を用いて遮光層を形成する場合は、黒色の他、発光層の発光色に応じ、例えば赤色発光層の周囲にはシアン、緑色発光層の周囲はマゼンダ、青色発光層の周囲にはイエローとすることができる。
【0016】
このような光分解性染料は、例えば、ジ置換およびモノ置換パラフェニレンジアミン類、アミノハイドロキノンエーテル誘導体、アミノジフェニル、アミノジフェニルアミン類、ヘテロ環アミン類、具体的には、(4−ジアゾ−N,Nジメチルアニリン)、(4−ジアゾ−N,Nジエチルアニリン)、(4−ジアゾ−N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン)、(4−ジアゾ−2,5−ジエトキシベンゾイルアニリン誘導体)が挙げられる。
【0017】
また光分解性染料は、好ましくは熱処理100〜150℃のオーブン、ホットプレート乾燥などによって、染料が分解されないものを用いることが好ましい。このような染料としては紫外線で分解するローダミン6G(純正化学株式会社)などが挙げられる。
【0018】
(光分解性染料含有層の形成方法)
光分解性染料含有層の形成方法は特に限定されないが、例えば光分解性染料を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート、グラビア印刷法、スピンコートなどの方法により塗布して形成することができる。
【0019】
光分解性染料等を含む塗布液を用いる場合に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されない。
【0020】
光分解性染料は熱によっても分解する場合が多いので、光分解性染料含有層形成過程に熱乾燥を用いる場合は、染料に応じ染料が分解しない程度の熱で乾燥する。
【0021】
(染料を分解させる照射光線)
本発明において染料を分解させる照射光線は、光分解性染料を分解できれば特に限定されない。このようなものとしては紫外線(UV)、可視光線、赤外線の他、これらの光線よりもさらに短波長または長波長の電磁波、放射線であることができる。
【0022】
光触媒含有層を有する場合は、好ましくは光触媒含有層の反応波長帯と、光分解性染料含有層の反応波長帯が少なくとも一部重なるものであり、その重なる部分の波長の光を用いて、1度の光照射で光触媒含有層と光分解性染料含有層の双方を反応させることが好ましい。
【0023】
光触媒含有層
(光触媒含有層)
本発明の好適態様において光触媒含有層は、広く光照射によって濡れ性が今後変化し得る層および既に変化した層を意味する。また、光触媒とは、このような変化を引き起こすものであれば、どのような物質であってもよい。光触媒含有層はパターン状に露光することにより、濡れ性の変化によるパターンを形成することができる。典型的には光照射しない部位は撥水性であるが、光照射した部位は高親水性となる。本発明の好適態様においては、光触媒含有層の表面の濡れ性の違いによるパターンを利用して光触媒含有層上に設けられる層(EL層、第1電極、第2電極など)のパターンを簡便に、品質良く形成することができる。例えば、インクジェット法などで、濡れ性の高い部位のみにこれらの層の形成液を塗布する方法により、品質の良いパターンが簡便に形成できる。
【0024】
また、光触媒含有層は、どのような位置に設けられてもよく、例えば、基体と第1電極との間、第1電極とEL層との間、EL層が複数層からなる場合のそれらのEL層間またはEL層と第2電極との間、基体が第2電極側に設けられる場合には第2電極と基体との間が挙げられる。このうち光触媒含有層が第1電極とEL層との間に設けられ、EL層をパターニングすることが好ましい。さらに好ましくは、光触媒含有層を第1電極と発光層との間に設け、光触媒含有層を正孔輸送層として用いることである。また、光触媒含有層は1層のみではなく複数層形成してもよく、その場合は、光触媒含有層上に形成される複数層のパターニングが容易かつ高品質に実現できる。
【0025】
光触媒含有層の膜厚は、薄すぎると濡れ性の違いが明確には発現しなくなりパターニングが困難になること、厚すぎると正孔または電子の輸送を阻害しEL素子の発光に悪影響を及ぼすため、好ましくは50〜2000Å、より好ましくは300〜1000Åとする。
【0026】
(濡れ性変化の原理)
本発明の好適態様においては、光の照射によって近傍の物質(バインダーなど)に化学変化を起こすことが可能な光触媒を用いて、光照射を受けた部分に濡れ性の違いによるパターンを形成する。光触媒による作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光の照射によって光触媒に生成したキャリアが、バインダーなどの化学構造を直接変化させ、あるいは酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によってバインダーなどの化学構造を変化させることにより、表面の濡れ性が変化すると考えられる。
【0027】
(光触媒材料)
本発明の好適態様に用いられる光触媒材料としては、例えば光半導体として知られている酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化すず(SnO)・チタン酸ストロンチウム(SrTiO)・酸化タングステン(WO)、酸化ビスマス(Bi)、酸化鉄(Fe)のような金属酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタンは、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定であり、毒性もなく、入手も容易である点で有利である。
【0028】
光触媒としての酸化チタンにおいては、アナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンが好ましい。具体的には例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(石原産業(株)、ST−K03、平均結晶子径7nm)、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学、TA−15、平均結晶子径12nm)を挙げることができる。
【0029】
光触媒含有層中の光触媒の量は、10〜95重量%であることが好ましく、50〜80重量%であることがより好ましい。
【0030】
(バインダー成分)
本発明の好適態様に用いられる光触媒含有層に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、あるいは(2)撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【0031】
前記(1)の場合、一般式YSiX4−n(n=1〜3)で表される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体であることができる。前記一般式では、Yは例えばアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基またはエポキシ基であることができ、Xは例えばハロゲン、メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基であることができる。
【0032】
具体的には、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン;n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;および、それらの部分加水分解物;およびそれらの混合物を挙げることができる。
【0033】
また、バインダーとして、特に好ましくはフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いることができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランのの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。
【0034】
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFSON(C)CCHSi(OCH
上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダーとして用いることにより、光触媒含有層の非光照射部の撥水性および撥油性が大きく向上する。
【0035】
前記(2)の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格を持つ化合物を挙げることができる。
【0036】
−(Si(R)(R)O)
ただし、nは2以上の整数、R、Rはそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であることができる。好ましくは全体の40モル%以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、Rおよび/またはRがメチル基であるものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメチル基が60モル%以上であり、鎖末端または側鎖には、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基などの反応性基を有する。
【0037】
また、前記のオルガノポリシロキサンとともにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
【0038】
(光触媒含有層に用いるその他の成分)
本発明の好適態様に用いられる光触媒含有層には、未露光部の濡れ性を低下させるため界面活性剤を含有させることができる。この界面活性剤は光触媒により分解除去されるものであれば限定されないが、具体的には、好ましくは例えば日本サーファクタント工業製:NIKKOL BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素系の界面活性剤、デュポン社製:ZONYL FSN、FSO、旭硝子製:サーフロンS−141、145、大日本インキ製:メガファックF−141、144、ネオス製:フタージェントF−200、F251、ダイキン工業製:ユニダインDS−401、402、スリーエム製:フロラードFC−170、176等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができる。また、カチオン系、アニオン系、両性界面活性剤を用いることもできる。
【0039】
また、本発明に好適に用いられる光触媒含有層には、他の成分、例えば、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリロニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマーを含むことができる。
【0040】
さらに、本発明に好適態様に用いられる光触媒含有層には、光触媒の光活性を増感させる成分である増感色素を含んでいてもよい。このような増感色素の添加により、低い露光量で濡れ性を変化させるあるいは異なる波長の露光で濡れ性を変化させることができる。また、光触媒含有層には、EL材料を添加することもでき、例えば、電荷注入材料または電荷輸送材料を混合することによりEL素子の発光特性を向上させることができる。
【0041】
(光触媒含有層の形成方法)
光触媒含有層の形成方法は特に限定されないが、例えば光触媒を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート、スピンコートなどの方法により基材に塗布して形成することができる。
【0042】
光触媒等を含む塗布液を用いる場合に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【0043】
(光触媒を作用させる照射光線)
光触媒を作用させるための照射光線は、光触媒を励起することができれば限定されない。このようなものとしては紫外線、可視光線、赤外線の他、これらの光線よりもさらに短波長または長波長の電磁波、放射線であることができる。
【0044】
例えば光触媒として、アナターゼ型チタニアを用いる場合は、励起波長が380nm以下にあるので、光触媒の励起は紫外線により行うことができる。このような紫外線を発するものとしては水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、その他の紫外線光源を使用することができる。
【0045】
発光層
本発明のEL素子に設けられるEL層には少なくとも1層の発光層が含まれている。この発光層は、蛍光を発する材料を含みEL発光するものであれば特に限定されない。発光機能と正孔輸送機能や電子輸送機能を兼ねていることができる。使用する発光材料としては、例えば以下のものが挙げられる。
【0046】
<色素系>
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー。
【0047】
<金属錯体系>
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体、等、中心金属に、Al、Zn、Be等または、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体。
【0048】
<高分子系>
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系、金属錯体系発光材料を高分子化したもの。
【0049】
<ドーピング材料>
発光層中に発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピングを行うことができる。このドーピング材料としては例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンが挙げられる。
【0050】
その他のEL層
(バッファー層)
本発明のEL層としては発光層の他にバッファー層を挙げることができ、このバッファー層は、発光層に電荷の注入が容易に行われるように、陽極と発光層との間または陰極と発光層との間に設けられる、有機物、特に有機導電体などを含む層である。例えば、発光層への正孔注入効率を高めて、電極などの凹凸を平坦化する機能を有する導電性高分子であることができる。
【0051】
(電荷輸送層)
本発明のEL層としては電荷輸送層も挙げることができ、この電荷輸送層には正孔輸送層、および/または電子輸送層が含まれる。これらは、例えば特願平9−155284号明細書に記載のものように、EL素子に一般に用いられるものであれば特に限定されない。
【0052】
(電荷注入層)
本発明のEL層としては電荷注入層も挙げることができ、この電荷注入層には正孔注入層および/または電子注入層が含まれる。これらは、例えば特願平9−155284号明細書に記載のもののように、EL素子に一般に用いられるものであれば特に限定されない。
【0053】
なお、以上の層を構成する、発光材料、正孔輸送材料、または電子輸送材料は、それぞれ単独で使用してもよいし、混合して使用してもよい。混合は、同じ性質を持つ材料でも異なる性質を有する材料同士でもよい。さらに、これらの材料を含む層は1層でも複数層でもよい。
【0054】
電極
本発明においては、電極は通常EL素子に用いられるものであれば限定されず、基体に先に設ける電極を第1電極、EL層形成後に設ける電極を第2電極と呼ぶ。これらの電極の一方または双方がパターニングされていることが好ましい。また、これらの電極は、陽極と陰極からなり、陽極と陰極のどちらか一方が、透明または、半透明であり、陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく、逆に陰極としては、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材料が好ましい。また、複数の材料を混合させてもよい。いずれの電極も、抵抗はできるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。
【0055】
具体的な好ましい陽極材料としては、例えば、ITO、酸化インジウム、金が挙げられる。好ましい陰極材料としては、例えばマグネシウム合金(MgAg他)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、AlMg他)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さい金属が挙げられる。
【0056】
基体
本発明において基体とは、その上に電極やEL層が設けられるものであり、所望により透明材料からなることができるが、不透明材料であってもよい。本発明のEL素子においては、基体は第1電極そのものであってもよいが、通常は強度を保持する基体の表面に第1電極が、直接または中間層を介して設けられる。
【0057】
製造方法
本発明のEL素子の製造方法は、光分解性染料含有層や光触媒含有層に対し、光照射によりパターニングする以外は一般的なEL素子の製造方法を用いて製造することができる。
【0058】
この光照射の工程は、例えば、EL素子の発光領域に対応する部分の光分解性染料含有層に光を照射して、染料を分解して退色させる工程であることができ、また、EL素子の発光領域に対応する部分の光分解性染料含有層および光触媒含有層に光を照射して、光分解性染料含有層の色と光触媒含有層の濡れ性を変化させる工程であることができる。あるいは、光分解性染料含有層をパターン露光して分解させてアライメントマークを形成する工程であることもできる。光触媒含有層を用いてパターニングする方法としては、例えば、特願2000−70493号明細書に記載の方法も用いることができる。
【0059】
図1を用いて、本発明のEL素子の製造工程の一例を説明する。図1(a)のような基体11上にパターニングされた陽極(ITO)12が形成された基板を洗浄する。光触媒含有層形成液に光分解性染料を混合して光触媒・光分解性染料含有層形成液を調製し、前記基板上にスピン塗布し、焼成乾燥して、図1(b)に示すような正孔輸送層としても機能する光触媒・光分解性染料含有層13を形成する。
【0060】
その後、図1(c)のようにパターニングされた陽極に対応する発光層形成領域と、図中では基体の末端にあるアライメントマーク形成領域に、マスク14を通して紫外線15を照射すると、紫外線照射部位13’である発光層形成領域とアライメントマーク形成領域は、光触媒の作用により濡れ性が高まりかつ染料の光分解により無色透明となり、それと同時にマスクされて紫外線照射をしなかった部位13は、濡れ性が低くかつ染料の色を呈する画像を鮮明にする遮光層となる。さらに、図1(d)のように形成されたアライメントマークで正確な位置あわせをして、インクジェットを用いて濡れ性が高まった発光層形成領域に発光層形成液を滴下して発光層16を形成する。次いで図1(e)のように発光層16の上に第2電極17を形成し、封止剤18により封止することによりEL素子が製造できる。
【0061】
このように、光触媒、光分解性染料含有層に光照射すると、光照射した部分は親水性かつ透明になり、光照射していない部分は撥水性でかつ呈色するという2重の効果を生じ、発光層のパターニング、アライメントマークの形成および混色を防ぐ遮光層の形成を同時に行うことができる。
【0062】
また、アライメントマークで位置あわせを正確に行った後、インクジェットの代わりにマスク蒸着により、発光層や第2電極を形成することもできる。
【0063】
【実施例】
イソプロピルアルコール3gとアナターゼ型チタニアゾル2gにフルオロアルコキシランを0.42g混合し、100℃で10分間撹拌し、その後この溶液に更にイソプロピルアルコールを16.26g混合し、更に光分解性染料として、UVで分解する、ローダミン6G(純正化学株式会社)を0.217g混合し、100℃で10分間撹拌し溶液Aを作製した。
【0064】
パターニングされたITOガラス基板上に洗浄処理と表面処理を施し、その上に溶液Aをスピンコーターで塗布し150℃のホットプレート上で10分間乾燥を行った。この溶液Aの塗布によって形成された膜厚は80nmであった。
【0065】
次にこの膜(光分解性染料・光触媒含有層)面上に発光させたい領域およびアライメントマークに対応した部分を開口させたマスクを用いてその上から水銀灯(主波長365nm,22mw/cm)により20分間照射した。水銀灯を照射によりEL素子の発光領域(有機EL発光層を塗布する部分)は親水性となり、その他の部分は撥水性をもち、さらに発光させたい部分は透明、若しくは色が薄くなる半透明化し、非照射部は色が残った。
【0066】
形成した光分解性染料・光触媒含有層上に有機EL発光層(緑色)形成溶液(ポリビニルカルバゾールが7重量部、クマリン6が0.1重量部、オキサジアゾール化合物が3重量部、トルエンが5050重量部からなる溶液)をディップコートにより塗布し、その後90℃で1時間乾燥し有機EL発光層80nmの厚みの膜を得た。
【0067】
この後、発光領域部に電子注入層としてCaを200Å、電極としてAgを2000Åマスク蒸着し、EL素子を得た。
【0068】
発光特性を調べたところ、2.5Vで発光が開始し9Vほどで最高輝度2万Cdを得た。また、このEL素子は緑色に発光し、一方で非発光部が赤色であるので、発光層からの出射光のうち非発光部へ発散する光はこの赤色によって吸収された。このため、パターンのコントラストが光分解性染料を用いないEL素子よりも向上した。
【0069】
また、アライメントマークを用いて正確な位置あわせを行い、ディップコート法の代わりにインクジェット法により上記の発光層形成液を塗布し、上記と同様に有機EL素子を作成することもできた。
【0070】
【発明の効果】
本発明によって、簡易に製造できるEL素子、特に遮光層の形成や発光層のパターニングが簡易に精度良く製造できるEL素子とその製造方法を提供できる。
また、ガラス上にアレイメントマークを形成しなくとも製造できるのでコストダウンが実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のEL素子の製造工程の一例を説明する断面図である。
【符号の説明】
11 基体
12 陽極(ITO)
13 光触媒・光分解性染料含有層(紫外線未照射部位)
13’ 光触媒・光分解性染料含有層の紫外線照射部位
14 マスク
15 紫外線
16 発光層
17 第2電極
18 封止剤
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an EL (electroluminescence) element, particularly an organic EL element provided with a photodegradable dye-containing layer.
[0002]
[Prior art]
EL elements are attracting attention for use as self-luminous planar display elements. Among them, organic thin-film EL displays using organic substances as light-emitting materials have high light-emission efficiency such as high-luminance light emission even when the applied voltage is less than 10 V, and can emit light with a simple element structure. It is expected to be applied to advertisements that display these patterns in light emission, other low-cost displays for simple display, and full-color displays for displaying moving images.
[0003]
In order to create a full-color display panel using such EL elements, it is required to pattern organic light-emitting layers and light-shielding layers that emit blue, green, and red with high accuracy. In this patterning, an alignment mark for alignment is generally provided on the EL panel forming substrate by using printing, ink-jet mask vapor deposition, or other methods. However, this alignment mark has been conventionally produced by Cr vapor deposition, ITO etching or the like, which has been a factor in increasing the manufacturing cost.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide an EL device that can be easily manufactured, in particular, an EL device that can easily and accurately form a light shielding layer and patterning a light emitting layer, and a method for manufacturing the EL device.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present inventor provides an EL element that can easily realize patterning of a light-emitting layer by forming a light-shielding layer, forming an alignment mark, or preferably by a difference in wettability by using a photodegradable dye that fades when irradiated with light. The present invention has been completed by finding out what can be done.
[0006]
Therefore, the EL element of the present invention includes at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer, and the first electrode and the second electrode. An EL element in which at least one of the electrodes is transparent or translucent, is characterized in that at least one photodegradable dye-containing layer is provided on the EL element.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
EL element The EL element of the present invention is provided at any position of the first electrode, the EL layer formed on the first electrode, and the second electrode formed on the EL layer. And at least one photodegradable dye-containing layer. The EL layer (preferably an organic EL layer) may be a single light emitting layer, but a multilayer structure is formed by appropriately combining a buffer layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like. It is preferable.
[0008]
In the EL device of the present invention, preferably, the first electrode or the second electrode is a transparent or translucent electrode, the electrode is patterned, a base is provided on the electrode, and the EL The layer can consist of at least two layers. Preferably, the EL device of the present invention can have at least one photocatalyst-containing layer in the EL device. In addition, a light shielding layer such as a black matrix can be provided between pixels.
[0009]
Photodegradable dye-containing layer (photodegradable dye-containing layer)
The photodecomposable dye-containing layer used in the EL device of the present invention is a dye that decomposes due to light irradiation and fades as the amount of light irradiation increases and / or becomes a colorless dye (changes) The layer is not limited as long as it includes a layer that has been subjected to immobilization treatment later.
[0010]
(Shape and arrangement of photodegradable dye-containing layer)
In the EL device of the present invention, the photodegradable dye-containing layer can be provided in any part of the EL device. Further, not only one layer but also a plurality of layers can be provided. Typically, an EL element constructed in the order of a substrate, a photodegradable dye-containing layer, a first electrode, an EL layer, and a second electrode, or a first electrode, an EL layer, a second electrode, and a photodegradable dye-containing layer EL elements constructed in the order of the substrates are listed. In the case of such a layer structure, the electrical characteristics of the photodegradable dye-containing layer do not affect the EL layer, which is preferable in terms of increasing the degree of freedom in selecting the photodegradable dye. On the other hand, when a photodegradable dye-containing layer is provided between the electrodes, the photodegradable dye-containing layer acts as a layer for transporting charges (for example, a buffer layer, a charge transport layer, a charge injection layer, etc.) and emits light. Since it is required not to deteriorate the characteristics, there are restrictions on material design, but such materials can be used.
[0011]
Moreover, in the EL element of the present invention, a photodegradable dye can be added to any layer constituting the EL element, and the function of the layer can also serve as the function of the photodegradable dye-containing layer. Although the layer which comprises the EL element to which a photodegradable dye is added is not specifically limited, For example, it can add to the photocatalyst containing layer provided in the suitable aspect of the EL element of this invention. In this case, when pattern exposure is performed with light that can further react the photocatalyst and the photodegradable dye together, the wettability improving portion by the photocatalytic reaction coincides with the dye decomposing portion, for example, a light emitting layer formed in the wettability improving portion. EL element in which the transparent portion by photolysis coincides is preferable because it can be easily produced.
[0012]
(Operation of photodegradable dye-containing layer)
In the present invention, the photodegradable dye-containing layer can have a function as a light shielding layer, that is, only a black matrix or light of a specific wavelength can be shielded. Such a light shielding layer is easily formed by, for example, irradiating and decomposing a portion other than the light shielding portion of the photodegradable dye-containing layer (the portion corresponding to the EL element light emitting region), and performing a fixing treatment as necessary. It is possible to prevent color mixing and bleeding with light of different colors from adjacent light emitting layers.
[0013]
In the present invention, the photodegradable dye-containing layer after light irradiation has a function as an alignment mark, that is, it is necessary when forming an EL layer or the like by a method such as ink jet, electric field jet, or mask vapor deposition. Can be a mark of alignment. Such alignment marks can be easily identified visually or by a monitor such as a CCD. Moreover, it can also erase by irradiating light again in a post process as needed.
[0014]
(Photodegradable dye)
The photodegradable dye that can be used in the present invention is not limited as long as the dye compound is decomposed by irradiation with light and fades and becomes colorless and / or becomes colorless as the amount of light irradiation increases.
[0015]
When the light-shielding layer is formed using a photodegradable dye, in addition to black, depending on the light emitting color of the light emitting layer, for example, cyan around the red light emitting layer, magenta around the green light emitting layer, and blue light emitting layer The surrounding area can be yellow.
[0016]
Such photodegradable dyes include, for example, disubstituted and monosubstituted paraphenylenediamines, aminohydroquinone ether derivatives, aminodiphenyls, aminodiphenylamines, heterocyclic amines, specifically (4-diazo-N, N-dimethylaniline), (4-diazo-N, N diethylaniline), (4-diazo-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline), (4-diazo-2,5-diethoxybenzoylaniline derivative) Is mentioned.
[0017]
In addition, it is preferable to use a photodegradable dye that does not decompose the dye by heat treatment in an oven at 100 to 150 ° C. or hot plate drying. Examples of such a dye include rhodamine 6G (Pure Chemical Co., Ltd.) that decomposes with ultraviolet rays.
[0018]
(Method for forming photodegradable dye-containing layer)
The method for forming the photodegradable dye-containing layer is not particularly limited. For example, a coating solution containing a photodegradable dye is applied by a method such as spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, gravure printing, or spin coating. Can be formed.
[0019]
When using the coating liquid containing a photodegradable dye etc., it does not specifically limit as a solvent which can be used for a coating liquid.
[0020]
Since the photodegradable dye is often decomposed by heat, when heat drying is used in the process of forming the photodegradable dye-containing layer, the photodecomposable dye is dried with heat that does not cause the dye to decompose according to the dye.
[0021]
(Irradiated light that breaks down the dye)
In the present invention, the irradiation light for decomposing the dye is not particularly limited as long as the photodegradable dye can be decomposed. Examples of such a material include ultraviolet rays (UV), visible rays, infrared rays, and electromagnetic waves and radiation having a shorter wavelength or longer wavelength than these rays.
[0022]
When the photocatalyst-containing layer is included, preferably the reaction wavelength band of the photocatalyst-containing layer and the reaction wavelength band of the photodegradable dye-containing layer are at least partially overlapped. It is preferable to react both the photocatalyst-containing layer and the photodegradable dye-containing layer with a certain degree of light irradiation.
[0023]
Photocatalyst containing layer (photocatalyst containing layer)
In a preferred embodiment of the present invention, the photocatalyst-containing layer means a layer whose wettability can be changed in the future by light irradiation and a layer that has already changed. The photocatalyst may be any substance as long as it causes such a change. The photocatalyst-containing layer can form a pattern due to a change in wettability by exposing it in a pattern. Typically, the part not irradiated with light is water-repellent, but the part irradiated with light becomes highly hydrophilic. In a preferred embodiment of the present invention, the pattern of the layers (EL layer, first electrode, second electrode, etc.) provided on the photocatalyst-containing layer can be simply obtained using a pattern due to the difference in wettability of the surface of the photocatalyst-containing layer. , Can be formed with good quality. For example, a pattern having a good quality can be easily formed by a method of applying the formation liquid of these layers only to a portion having high wettability by an inkjet method or the like.
[0024]
The photocatalyst-containing layer may be provided at any position, for example, between the base and the first electrode, between the first electrode and the EL layer, or when the EL layer is composed of a plurality of layers. When the substrate is provided on the second electrode side between the EL layers or between the EL layer and the second electrode, the space between the second electrode and the substrate can be mentioned. Of these, the photocatalyst-containing layer is preferably provided between the first electrode and the EL layer, and the EL layer is preferably patterned. More preferably, a photocatalyst containing layer is provided between the first electrode and the light emitting layer, and the photocatalyst containing layer is used as a hole transport layer. Further, the photocatalyst-containing layer may be formed not only as a single layer but also as a plurality of layers. In this case, patterning of the plurality of layers formed on the photocatalyst-containing layer can be realized easily and with high quality.
[0025]
If the film thickness of the photocatalyst containing layer is too thin, the difference in wettability will not clearly appear and patterning becomes difficult. If it is too thick, the transport of holes or electrons will be hindered and the EL device will be adversely affected. The thickness is preferably 50 to 2000 mm, more preferably 300 to 1000 mm.
[0026]
(Principle of wettability change)
In a preferred embodiment of the present invention, a photocatalyst capable of causing a chemical change in a nearby substance (such as a binder) by light irradiation is used to form a pattern due to a difference in wettability on the portion irradiated with light. The mechanism of action by the photocatalyst is not necessarily clear, but the carrier generated in the photocatalyst by light irradiation directly changes the chemical structure of the binder or the binder by the active oxygen species generated in the presence of oxygen and water. It is considered that the wettability of the surface changes by changing the chemical structure.
[0027]
(Photocatalytic material)
Examples of the photocatalytic material used in a preferred embodiment of the present invention include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and oxide, which are known as photo semiconductors. Metal oxides such as tungsten (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) can be mentioned, and titanium oxide is particularly preferable. Titanium oxide is advantageous in that it has a high band gap energy, is chemically stable, is not toxic, and is easily available.
[0028]
In titanium oxide as a photocatalyst, both anatase type and rutile type can be used, but anatase type titanium oxide is preferable. Specifically, for example, hydrochloric acid peptization type anatase titania sol (Ishihara Sangyo Co., Ltd., ST-K03, average crystallite diameter 7 nm), nitrate peptization type anatase titania sol (Nissan Chemical, TA-15, average crystal) (Diameter 12 nm).
[0029]
The amount of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer is preferably 10 to 95% by weight, and more preferably 50 to 80% by weight.
[0030]
(Binder component)
The binder that can be used in the photocatalyst-containing layer used in the preferred embodiment of the present invention preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) sol-gel reaction, etc. Can be used to hydrolyze and polycondense chloro or alkoxysilane, etc. to exhibit high strength, or (2) organopolysiloxane crosslinked with reactive silicone having excellent water and oil repellency. .
[0031]
In the case of (1), the main component is one or more hydrolyzed condensates or cohydrolyzed compounds of the silicon compound represented by the general formula Y n SiX 4-n (n = 1 to 3). Can do. In the general formula, Y can be, for example, an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, or an epoxy group, and X can be, for example, a halogen, a methoxyl group, an ethoxyl group, or an acetyl group.
[0032]
Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltrit-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxy Silane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hex Lutriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n- Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltrit-butoxysilane; Phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane Tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, Diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane; phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxy Hydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltri Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit-butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyl Triisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-methacryloxypropylmethyldimethyl Xysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyl Tri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ- Aminopropyltri-t-butoxysilane; γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrieth Xysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane And partial hydrolysates thereof; and mixtures thereof.
[0033]
Further, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be used as the binder, and specifically, one or two or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensations of the following fluoroalkylsilanes can be used. In addition, a material generally known as a fluorine-based silane coupling agent may be used.
[0034]
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2
CF 3 (CF 2 ) 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si (OCH 3) 3
By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the water repellency and oil repellency of the non-light-irradiated portion of the photocatalyst containing layer are greatly improved.
[0035]
Examples of the reactive silicone (2) include compounds having a skeleton represented by the following general formula.
[0036]
-(Si (R 1 ) (R 2 ) O) n-
Here, n may be an integer of 2 or more, R 1, R 2 each having 1 to 10 carbon atoms substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group. Preferably, 40 mol% or less of the total may be vinyl, phenyl, or phenyl halide. In addition, it is preferable that R 1 and / or R 2 is a methyl group because the surface energy is the smallest, and preferably the methyl group is 60 mol% or more, and the chain end or side chain includes at least in the molecular chain. It has one or more reactive groups such as a hydroxyl group.
[0037]
Moreover, you may mix the stable organosilicon compound which does not raise | generate a crosslinking reaction like a dimethylpolysiloxane with the said organopolysiloxane in a binder.
[0038]
(Other components used in the photocatalyst-containing layer)
The photocatalyst-containing layer used in the preferred embodiment of the present invention can contain a surfactant in order to reduce the wettability of the unexposed area. The surfactant is not limited as long as it can be decomposed and removed by a photocatalyst, but specifically, preferably a hydrocarbon-based interface such as NIKKOL BL, BC, BO, BB series manufactured by Nippon Surfactant Kogyo Co., Ltd. Activator, manufactured by DuPont: ZONYL FSN, FSO, manufactured by Asahi Glass: Surflon S-141, 145, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. Unidyne DS-401, 402, manufactured by 3M: Fluoro-based or silicone-based nonionic surfactants such as Florard FC-170, 176 can be mentioned. Cationic, anionic and amphoteric surfactants can also be used.
[0039]
In addition, the photocatalyst-containing layer suitably used in the present invention includes other components such as polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine. Resin, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, nylon, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, etc. Oligomers and polymers can be included.
[0040]
Furthermore, the photocatalyst-containing layer used in the preferred embodiment of the present invention may contain a sensitizing dye that is a component that sensitizes the photoactivity of the photocatalyst. By adding such a sensitizing dye, the wettability can be changed with a low exposure amount, or the wettability can be changed with exposure at a different wavelength. In addition, an EL material can be added to the photocatalyst-containing layer. For example, the emission characteristics of the EL element can be improved by mixing a charge injection material or a charge transport material.
[0041]
(Method for forming photocatalyst-containing layer)
The method for forming the photocatalyst-containing layer is not particularly limited. For example, the photocatalyst-containing layer can be formed by applying a coating solution containing a photocatalyst to a substrate by a method such as spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, or spin coating. .
[0042]
When a coating solution containing a photocatalyst or the like is used, the solvent that can be used for the coating solution is not particularly limited, and examples thereof include alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol.
[0043]
(Irradiated light that causes photocatalyst to act)
The irradiation light for causing the photocatalyst to act is not limited as long as the photocatalyst can be excited. Examples of such materials include ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays, and electromagnetic waves and radiations having shorter or longer wavelengths than these rays.
[0044]
For example, when anatase type titania is used as a photocatalyst, the excitation wavelength is 380 nm or less, so that the photocatalyst can be excited by ultraviolet rays. As the lamp that emits such ultraviolet rays, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an excimer laser, and other ultraviolet light sources can be used.
[0045]
Light emitting layer The EL layer provided in the EL element of the present invention includes at least one light emitting layer. The light emitting layer is not particularly limited as long as it includes a material that emits fluorescence and emits EL light. The light emitting function can be combined with the hole transport function and the electron transport function. Examples of the light emitting material to be used include the following.
[0046]
<Dye system>
Cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives , Oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers.
[0047]
<Metal complex system>
Aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethylzinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc., center metal, Al, Zn, Be etc. Metal complexes having an oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, etc. as a ligand.
[0048]
<Polymer system>
Polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, etc., polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and the above-described dye-based and metal complex-based light emitting materials.
[0049]
<Doping material>
Doping can be performed in the light emitting layer for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of the doping material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, and phenoxazone.
[0050]
Other EL layers (buffer layers)
The EL layer of the present invention may include a buffer layer in addition to the light emitting layer, and this buffer layer is provided between the anode and the light emitting layer or between the anode and the light emitting layer so that charge can be easily injected into the light emitting layer. It is a layer containing an organic substance, particularly an organic conductor, provided between the layers. For example, it can be a conductive polymer having a function of increasing hole injection efficiency into the light emitting layer and flattening irregularities such as electrodes.
[0051]
(Charge transport layer)
Examples of the EL layer of the present invention include a charge transport layer, and the charge transport layer includes a hole transport layer and / or an electron transport layer. These are not particularly limited as long as they are generally used for EL elements, for example, as described in Japanese Patent Application No. 9-155284.
[0052]
(Charge injection layer)
Examples of the EL layer of the present invention include a charge injection layer, and the charge injection layer includes a hole injection layer and / or an electron injection layer. These are not particularly limited as long as they are generally used for EL elements, such as those described in Japanese Patent Application No. 9-155284.
[0053]
Note that the light-emitting material, the hole transport material, or the electron transport material constituting the above layers may be used alone or in combination. The mixing may be a material having the same property or materials having different properties. Furthermore, the layer containing these materials may be a single layer or a plurality of layers.
[0054]
Electrode In the present invention, the electrode is not limited as long as it is usually used in an EL element, and the electrode provided on the substrate first is called the first electrode, and the electrode provided after forming the EL layer is called the second electrode. One or both of these electrodes are preferably patterned. These electrodes are composed of an anode and a cathode, and either the anode or the cathode is transparent or translucent, and the anode is made of a conductive material having a large work function so that holes can be easily injected. On the contrary, the cathode is preferably a conductive material having a small work function so that electrons can be easily injected. A plurality of materials may be mixed. Each electrode preferably has a resistance as small as possible. Generally, a metal material is used, but an organic substance or an inorganic compound may be used.
[0055]
Specific preferred anode materials include, for example, ITO, indium oxide, and gold. Preferred cathode materials include, for example, magnesium alloys (MgAg, etc.), aluminum alloys (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), metallic calcium, and metals with a low work function.
[0056]
Substrate In the present invention, the substrate is a substrate on which an electrode and an EL layer are provided, and can be made of a transparent material if desired, but may be an opaque material. In the EL device of the present invention, the substrate may be the first electrode itself, but the first electrode is usually provided directly or via an intermediate layer on the surface of the substrate that maintains strength.
[0057]
Manufacturing method The EL device manufacturing method of the present invention is manufactured using a general EL device manufacturing method except that the photodegradable dye-containing layer and the photocatalyst-containing layer are patterned by light irradiation. Can do.
[0058]
This light irradiation step can be, for example, a step of irradiating light to a part of the photodegradable dye-containing layer corresponding to the light emitting region of the EL element to decompose and fade the dye, and the EL element. The photodecomposable dye-containing layer and the photocatalyst-containing layer corresponding to the light emitting region may be irradiated with light to change the color of the photodegradable dye-containing layer and the wettability of the photocatalyst-containing layer. Or it can also be the process of pattern-exposing and decomposing | disassembling a photodegradable dye content layer, and forming an alignment mark. As a method for patterning using the photocatalyst-containing layer, for example, the method described in Japanese Patent Application No. 2000-70493 can also be used.
[0059]
An example of the manufacturing process of the EL element of the present invention will be described with reference to FIG. The substrate on which the patterned anode (ITO) 12 is formed on the substrate 11 as shown in FIG. A photocatalyst / photodegradable dye-containing layer forming solution is prepared by mixing a photodegradable dye into the photocatalyst-containing layer forming solution, spin-coated on the substrate, baked and dried, as shown in FIG. A photocatalyst / photodegradable dye-containing layer 13 that also functions as a hole transport layer is formed.
[0060]
Thereafter, when the light emitting layer forming region corresponding to the patterned anode as shown in FIG. 1C and the alignment mark forming region at the end of the substrate in the drawing are irradiated with ultraviolet rays 15 through the mask 14, an ultraviolet irradiation region 13 is obtained. The light emitting layer forming region and the alignment mark forming region are improved in wettability by the action of the photocatalyst and become colorless and transparent by the photodecomposition of the dye. At the same time, the region 13 that is masked and not irradiated with ultraviolet rays has wettability. It becomes a light-shielding layer that sharpens an image having a low color and a dye color. Further, the alignment mark formed as shown in FIG. 1D is accurately aligned, and the light emitting layer forming liquid is dropped onto the light emitting layer forming region where wettability is increased by using an ink jet to form the light emitting layer 16. Form. Next, as shown in FIG. 1E, the second electrode 17 is formed on the light emitting layer 16 and sealed with a sealant 18, whereby an EL element can be manufactured.
[0061]
Thus, when the photocatalyst / photodegradable dye-containing layer is irradiated with light, the light-irradiated portion becomes hydrophilic and transparent, and the non-light-irradiated portion is water repellent and colored. The patterning of the light emitting layer, the formation of alignment marks, and the formation of a light shielding layer for preventing color mixing can be performed simultaneously.
[0062]
In addition, the light emitting layer and the second electrode can be formed by mask vapor deposition instead of ink jet after accurately aligning with the alignment mark.
[0063]
【Example】
0.42 g of fluoroalkoxylane is mixed with 3 g of isopropyl alcohol and 2 g of anatase-type titania sol and stirred at 100 ° C. for 10 minutes, and then 16.26 g of isopropyl alcohol is further mixed with this solution. 0.217 g of rhodamine 6G (Pure Chemical Co., Ltd.) to be decomposed was mixed and stirred at 100 ° C. for 10 minutes to prepare Solution A.
[0064]
The patterned ITO glass substrate was subjected to cleaning treatment and surface treatment, and the solution A was applied thereon with a spin coater and dried on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes. The film thickness formed by applying this solution A was 80 nm.
[0065]
Next, a mercury lamp (main wavelength: 365 nm, 22 mw / cm 2 ) is used from above using a mask in which a region corresponding to the alignment mark is opened on the surface of this film (photodegradable dye / photocatalyst-containing layer). For 20 minutes. The light emitting area of the EL element (part where the organic EL light emitting layer is applied) is made hydrophilic by irradiation with a mercury lamp, the other part has water repellency, and the part that wants to emit light is transparent, or the color becomes lightly transparent. The color remained in the non-irradiated part.
[0066]
On the formed photodegradable dye / photocatalyst containing layer, an organic EL light emitting layer (green) forming solution (polyvinylcarbazole 7 parts by weight, coumarin 6 0.1 parts by weight, oxadiazole compound 3 parts by weight, toluene 5050 A solution consisting of parts by weight) was applied by dip coating, and then dried at 90 ° C. for 1 hour to obtain a film having a thickness of 80 nm of the organic EL light emitting layer.
[0067]
Thereafter, 200 μm of Ca as an electron injection layer and 2000 mm of Ag as an electrode were vapor-deposited on the light emitting region to obtain an EL element.
[0068]
When the light emission characteristics were examined, light emission started at 2.5V, and a maximum luminance of 20,000 Cd was obtained at about 9V. In addition, since the EL element emits green light and the non-light emitting portion is red, light emitted from the light emitting layer to the non-light emitting portion is absorbed by the red light. For this reason, the contrast of the pattern was improved as compared with the EL element not using the photodegradable dye.
[0069]
In addition, the alignment mark was used for accurate alignment, and the light emitting layer forming liquid was applied by an inkjet method instead of the dip coating method, and an organic EL element could be produced in the same manner as described above.
[0070]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide an EL element that can be easily manufactured, in particular, an EL element that can be easily and accurately manufactured by forming a light shielding layer and patterning a light emitting layer, and a method for manufacturing the EL element.
Moreover, since it can manufacture without forming an array mark on glass, cost reduction is realizable.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a manufacturing process of an EL element of the present invention.
[Explanation of symbols]
11 Base 12 Anode (ITO)
13 Photocatalyst / photodegradable dye-containing layer (UV-irradiated part)
13 'UV irradiation portion 14 of photocatalyst / photodegradable dye containing layer Mask 15 UV 16 Light emitting layer 17 Second electrode 18 Sealing agent

Claims (11)

第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少なくともなり、前記第1電極と前記第2電極の少なくとも一方が透明または半透明であるEL素子であって、
前記EL素子に、光分解性染料含有層を少なくとも1層設け
前記光分解性染料含有層の、EL素子発光領域に対応する部分の染料が光分解されていることを特徴とする、EL素子。
It consists of at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer, and at least one of the first electrode and the second electrode is transparent or translucent An EL element,
The EL element is provided with at least one photodegradable dye-containing layer ,
An EL element, wherein a dye corresponding to an EL element light-emitting region of the photodegradable dye-containing layer is photolyzed .
基体と、前記基体上に形成された光分解性染料含有層と、前記光分解性染料含有層上に形成された第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少なくともなる、請求項1に記載のEL素子。  A substrate, a photodegradable dye-containing layer formed on the substrate, a first electrode formed on the photodegradable dye-containing layer, an EL layer formed on the first electrode, and the EL The EL device according to claim 1, comprising at least a second electrode formed on the layer. 第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極と、前記第2電極上に形成された光分解性染料含有層と、前記光分解性染料含有層上に形成された基体から少なくともなる、請求項1に記載のEL素子。  A first electrode; an EL layer formed on the first electrode; a second electrode formed on the EL layer; a photodegradable dye-containing layer formed on the second electrode; and the light The EL device according to claim 1, comprising at least a substrate formed on the decomposable dye-containing layer. 前記EL素子が少なくとも1層の光触媒含有層を有する、請求項1に記載のEL素子。  The EL device according to claim 1, wherein the EL device has at least one photocatalyst-containing layer. 前記光触媒含有層に光分解性染料を含ませることにより、光触媒・光分解性染料含有層とする、請求項4に記載のEL素子。  The EL device according to claim 4, wherein a photocatalyst / photodegradable dye-containing layer is formed by including a photodegradable dye in the photocatalyst-containing layer. 基体と、前記基体上に形成された第1電極と、前記第1電極上に形成された光触媒・光分解性染料含有層と、前記光触媒・光分解性染料含有層上に形成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極とから少なくともなる、請求項1に記載のEL素子。  A base, a first electrode formed on the base, a photocatalyst / photodegradable dye-containing layer formed on the first electrode, and an EL layer formed on the photocatalyst / photodegradable dye-containing layer The EL device according to claim 1, comprising at least a second electrode formed on the EL layer. 前記光触媒含有層の反応波長帯と、前記光分解性染料含有層の反応波長帯が少なくとも一部重なるものである、請求項4〜6のいずれか1項に記載のEL素子。  The EL device according to any one of claims 4 to 6, wherein the reaction wavelength band of the photocatalyst-containing layer and the reaction wavelength band of the photodegradable dye-containing layer overlap at least partially. 前記光分解性染料含有層をパターン露光して分解させて形成したアライメントマークを有する、請求項1に記載のEL素子。  The EL device according to claim 1, comprising an alignment mark formed by pattern exposure of the photodegradable dye-containing layer and decomposition. 請求項1に記載のEL素子を製造する方法であって、前記光分解性染料含有層の、EL素子発光領域に対応する部分の染料を光分解する工程を含む、EL素子の製造方法。  The method for producing an EL element according to claim 1, comprising the step of photolyzing a dye corresponding to an EL element light emitting region of the photodegradable dye-containing layer. 請求項1に記載のEL素子を製造する方法であって、前記光分解性染料含有層をパターン露光して分解させてアライメントマークを形成する工程を含む、EL素子の製造方法。  The method for producing an EL element according to claim 1, comprising a step of pattern-exposing and decomposing the photodegradable dye-containing layer to form an alignment mark. 請求項5または6に記載のEL素子を製造する方法であって、前記光分解性染料および光触媒を含有する層をパターン露光して、光照射により濡れ性が向上しかつ無色透明な部分と、光照射をしないことにより濡れ性が低くかつ有色不透明な部分とを形成し、EL層形成用のパターニング、アライメントマークの形成および混色を防ぐ遮光層の形成を同時に行う工程を含む、EL素子の製造方法。  A method for producing the EL device according to claim 5 or 6, wherein the layer containing the photodegradable dye and the photocatalyst is subjected to pattern exposure, and wettability is improved by light irradiation and is a colorless and transparent portion, Manufacturing an EL element including a step of forming a colored opaque portion having low wettability by not irradiating light, and simultaneously performing patterning for forming an EL layer, formation of an alignment mark, and formation of a light shielding layer for preventing color mixing Method.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4486316B2 (en) * 2003-04-28 2010-06-23 大日本印刷株式会社 Functional element manufacturing method and manufacturing apparatus thereof
JP2007044596A (en) * 2005-08-08 2007-02-22 Dainippon Printing Co Ltd Photocatalyst-containing layer
JP4694300B2 (en) * 2005-08-08 2011-06-08 大日本印刷株式会社 Method for producing photocatalyst containing layer
KR101338102B1 (en) 2006-06-30 2013-12-06 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating organic luminescence layer and organic electro luminescence display device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63138347A (en) * 1986-11-29 1988-06-10 Ibiden Co Ltd Formation of photosolder-resist coating
JPH04182648A (en) * 1990-11-19 1992-06-30 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive elastomer constituent
WO1997043874A1 (en) * 1996-05-15 1997-11-20 Chemipro Kasei Kaisha, Limited Multicolor organic el element, method for manufacturing the same, and display using the same
JPH11504439A (en) * 1995-05-02 1999-04-20 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Acid bleaching dyes containing lithographic printing plate compositions
JP2000223270A (en) * 1999-02-02 2000-08-11 Dainippon Printing Co Ltd Electroluminescent element and its manufacture
WO2001058221A1 (en) * 2000-01-31 2001-08-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic electroluminescence display unit and production method therefor

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63138347A (en) * 1986-11-29 1988-06-10 Ibiden Co Ltd Formation of photosolder-resist coating
JPH04182648A (en) * 1990-11-19 1992-06-30 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive elastomer constituent
JPH11504439A (en) * 1995-05-02 1999-04-20 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Acid bleaching dyes containing lithographic printing plate compositions
WO1997043874A1 (en) * 1996-05-15 1997-11-20 Chemipro Kasei Kaisha, Limited Multicolor organic el element, method for manufacturing the same, and display using the same
JP2000223270A (en) * 1999-02-02 2000-08-11 Dainippon Printing Co Ltd Electroluminescent element and its manufacture
WO2001058221A1 (en) * 2000-01-31 2001-08-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic electroluminescence display unit and production method therefor

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