JP2002318208A

JP2002318208A - Ｘａｆｓ測定装置

Info

Publication number: JP2002318208A
Application number: JP2001122202A
Authority: JP
Inventors: Takeyoshi Taguchi; 武慶田口; Katsumi Tsukamoto; 勝美塚本; Atsunori Kiku; 敦徳禧久
Original assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Current assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Priority date: 2001-04-20
Filing date: 2001-04-20
Publication date: 2002-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】Ｘ線光路を覆う真空パスや大型の真空容器を
使わずにＸ線の光路を大気から隔離できるようにする。【解決手段】ＸＡＦＳ測定装置はＸ線分光装置と検出
部を備えている。このＸＡＦＳ測定装置は、少なくとも
Ｘ線分光装置の全体を気密に覆うカバー１０を備えてい
る。カバー１０の内部にヘリウムガスを充填できる。Ｘ
線管２０の外面とカバー１０の開口部２６はゴム製の蛇
腹２２によって気密につながっている。この蛇腹２２の
内部空間は、Ｘ線管２０の高圧ブッシングの露出部分を
収容していて、かつ、前記開口部２６を介して大気に連
通している。このように高圧ブッシングが大気中に存在
するので、高圧ブッシングのところで放電を生じること
はない。また、Ｘ線分光装置の動きに伴ってＸ線管が移
動しても、蛇腹２２が曲がったり伸縮したりすること
で、Ｘ線管２０の外面とカバー１０の開口部２６とは気
密につながった状態を保つ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ＸＡＦＳ（ザフ
ス、X-ray Absorption Fine Structure: Ｘ線吸収微細
構造）測定装置に関し、特に、Ｘ線光路を大気から隔離
しうるＸＡＦＳ測定装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＸＡＦＳ（ザフス、X-ray Absorption F
ine Structure: Ｘ線吸収微細構造）測定装置は、試料
のＸ線吸収端近傍の微細なＸ線吸収スペクトルを測定す
る装置である。ＸＡＦＳは、ＥＸＡＦＳ（イグザフス、
Extended X-ray Absorption Fine Structure: Ｘ線広域
吸収微細構造）とＸＡＮＥＳ（ゼーネス、X-ray Absorp
tion Near Edge Structure：Ｘ線吸収端近傍微細構造）
とに分類される。ＥＸＡＦＳは、試料のＸ線吸収端より
もエネルギーの高い方に向かって１ｋｅＶ程度の広い範
囲にわたって見られる吸収微細構造のことであり、従来
からよく知られている。一方、ＸＡＮＥＳはＸ線吸収端
の近傍（吸収端±５０ｅＶ程度）の狭い領域に現れる吸
収端微細構造のことであり、最近注目を集めている。Ｘ
ＡＮＥＳは、ＥＸＡＦＳ測定装置と同じ装置構成で測定
できるので、ＸＡＮＥＳ測定とＥＸＡＦＳ測定の両方が
できる装置として、従来のＥＸＡＦＳ測定装置という名
称に代えて、最近はもっぱらＸＡＦＳ測定装置の名称を
使うようになってきている。本件発明はこのＸＡＦＳ測
定装置に関するものである。

【０００３】ＸＡＦＳ測定装置は、連続Ｘ線を結晶モノ
クロメータで分光して任意の波長の単色Ｘ線を取り出す
ことができて、この波長を変化させて試料のＸ線吸収係
数を測定することができる。

【０００４】ＸＡＦＳ測定装置は、試料の着目物質の吸
収端付近のエネルギーのＸ線波長をスキャンして試料の
Ｘ線吸収スペクトルを測定しているが、原子番号の小さ
な物質を測定する場合は吸収端のエネルギーが小さくな
る（測定に使うＸ線波長が大きくなる）ために、空気に
よるＸ線の吸収が無視できなくなる。特に、吸収端のエ
ネルギーが５ｋｅＶ以下の元素（チタンよりも原子番号
の小さい元素）を測定する場合には、空気によるＸ線の
吸収が大きいために、大気中ではＸＡＦＳ測定に必要な
Ｘ線強度が確保できない。したがって、吸収端のエネル
ギーが５ｋｅＶ以下の元素を測定するには、従来は、Ｘ
線の光路部分を大気から隔離して、この光路部分にヘリ
ウムガスを充填したり、この光路部分を真空排気したり
していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ＸＡＦＳ測定装置にお
いて、Ｘ線の光路部分だけを大気から隔離する場合、次
の問題がある。ＸＡＦＳ測定装置は、連続Ｘ線源から任
意の波長のＸ線を取り出すために、湾曲結晶モノクロメ
ータを用いたＸ線分光装置を用いている。このＸ線分光
装置において、取り出す波長を変更するには、モノクロ
メータに対するＸ線の入射角を変更する必要があり、そ
の場合、Ｘ線の光路部分を物理的に移動させる必要があ
る。このような移動可能な光路部分だけを大気から隔離
しようとすると、移動可能な真空パスを作る必要があ
る。このような真空パスを作ると、Ｘ線分光装置の移動
可能な範囲に制約が出てくる。すなわち、真空パスがな
い場合は湾曲結晶モノクロメータの回折角度（２θ）が
３０度の低角になるまで分光装置を動かすことができて
も、真空パスを備えたＸ線分光装置の場合は、２θが５
０〜６０度程度が下限となる。

【０００６】次に、モノクロメータを低角で使うと有利
になることを説明する。モノクロメータを使って所望の
Ｘ線波長を取り出す場合に、同じ波長のＸ線を取り出す
のに、モノクロメータの結晶材質とＸ線入射角との組み
合わせがいくつか考えられる。例えば、硫黄（元素記号
Ｓ）のＸＡＦＳ測定をすることを想定すると、その吸収
端エネルギーは２４７１ｅＶであり、このエネルギーに
相当するＸ線の波長を取り出すには、図５に示すような
組み合わせが考えられる。この中で、ＥＤｄＴは Ethyl
ene Diamine Dextrotartrate の略称、ＡＤＰは Ammoni
um DihydrogenPhosphate の略称、ＰＥＴは Pentaeryth
ritol の略称である。また、Ｂｅｒｙｌは日本語では緑
柱石である。また、ｄは回折に寄与する格子面間隔であ
り、θはモノクロメータに対するＸ線の入射角である。

【０００７】上述の組み合わせのうちで、Ｘ線入射角θ
が小さいほどＸ線強度を稼ぐことができる。したがっ
て、図５に示す組み合わせの中では、モノクロメータと
してＢｅｒｙｌ結晶の（１０１０）面を使う組み合わせ
が、Ｘ線の入射角θが一番小さくなり、Ｘ線強度を稼ぐ
ことができる。しかしながら、このようにＸ線入射角を
小さくしようとしても、真空パスを使う従来のＸＡＦＳ
測定装置では、分光光学系の移動が制約されるので、最
適なＢｅｒｙｌ（１０１０）を使うことができないこと
になる。

【０００８】そこで、Ｘ線の光路だけを真空パスにしな
いで、Ｘ線分光装置の全体を真空容器の内部に配置する
ことが考えられる。このようにすれば、分光装置の角度
範囲について上述のような制約がなくなる。しかしなが
ら、Ｘ線分光装置の全体を真空容器の内部に配置する
と、次のような問題がある。第１に、真空容器がかなり
大型になり、このような大型の真空容器を大気圧に耐え
るようにするためには、かなり頑丈な容器にする必要が
ある。第２に、Ｘ線管の高圧ブッシングのところで放電
が生じ易くなる（大気圧では放電は起こらない）。第３
に、Ｘ線管の放熱性が悪くなる。

【０００９】この発明は上述の問題点を解決するために
なされたものであり、その目的は、Ｘ線光路を覆う真空
パスや大型の真空容器を使わずにＸ線の光路を大気から
隔離できるようなＸＡＦＳ測定装置を提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明のＸＡＦＳ測定
装置はＸ線分光装置と検出部を備えている。Ｘ線分光装
置はＸ線管とモノクロメータと受光スリットとを含んで
いて、モノクロメータに対するＸ線の入射角を変更する
ことで波長の異なるＸ線を受光スリットから取り出すこ
とができる。検出部は、受光スリットを出て試料に入射
する前のＸ線の強度を検出する第１のＸ線検出器と、試
料から出てきたＸ線の強度を検出する第２のＸ線検出器
とを含んでいる。そして、この発明に特徴的なことは、
少なくともＸ線分光装置の全体を気密に覆うカバーを備
えている。カバーの内部は大気から隔離されており、こ
のカバーの内部にヘリウムガスなどの充填ガスを充填で
きる。さらに、この発明は、Ｘ線管の外面とカバーの開
口部とを気密につなぐ可撓性の筒状部材（例えば、ゴム
製の蛇腹）を備えている。この筒状部材の内部空間は、
Ｘ線管の高圧ブッシングの露出部分を収容していて、か
つ、前記開口部を介して大気に連通している。このよう
に高圧ブッシングが大気中に存在するので、高圧ブッシ
ングのところで放電を生じることはない。また、Ｘ線分
光装置の動きに伴ってＸ線管が移動しても、可撓性の筒
状部材が曲がったり伸縮したりすることで、Ｘ線管の外
面とカバーの開口部とは気密につながった状態を保つ。

【００１１】

【発明の実施の形態】図１はこの発明のＸＡＦＳ測定装
置のひとつの実施形態の正面図であり、カバー１０だけ
は断面で示してある。このＸＡＦＳ測定装置は、その全
体が気密性のカバー１０で覆われている。この実施形態
ではカバー１０はアクリル製である。カバー１０は第１
カバー８０と第２カバー８２からなり、それらの内部空
間は薄い仕切り膜８４（例えば、ポリイミド製のフィル
ム）で仕切られている。第１カバー８０はＸ線分光装置
の全体を気密に覆うものであり、第２カバー８２は検出
部を気密に覆うものである。通常の測定では第１カバー
８０の内部だけをヘリウムガスで満たしており、第２カ
バー８２の内部は大気にしている。第１カバー８０の上
端付近にはガス供給口１２があり、供給弁１４が接続さ
れている。一方、第１カバー８０の下端付近にはガス排
出口１６があり、排出弁１８が接続されている。ガス供
給口１２はヘリウムガスを第１カバー８０の内部に供給
するためのものであり、ガス排出口は第１カバー８０の
内部の空気を外部に追い出すためのものである。

【００１２】図２はＸＡＦＳ測定装置の第１カバー８０
の内部の斜視図である。したがって、この図はＸ線分光
装置を示している。まず、このＸ線分光装置の構成を説
明する。

【００１３】このＸ線分光装置は湾曲結晶モノクロメー
タ３０を用いるものであり、その回折光学系のローラン
ド円は鉛直面内にある。Ｘ線分光装置のほぼ全ての荷重
は下方のベース３２で支持されている。ベース３２の一
端の上面には１対の第１ブラケット３４が固定されてい
る。この第１ブラケット３４に第１アーム３６の下端が
回転可能に連結されている。また、正面側の第１ブラケ
ット３４にはスリットボックス３５が正面側に突き出る
ように固定されている。このスリットボックス３５の内
部に受光スリットが収納されている。ベース３２の上面
には１対の第１ガイドレール３８が固定されている。こ
の第１ガイドレール３８の上に第１スライド台４０がス
ライド可能に載っている。第１スライド台４０は第１ボ
ールねじ４２に噛み合っており、第１ボールねじ４２は
第１モータ４３の出力軸に結合されている。第１モータ
４３が回転すると第１ボールネジ４２が回転し、これに
よって第１スライド台４０が第１ガイドレール３８上を
スライドする。

【００１４】第１スライド台４０の上面には１対の第２
ブラケット４４が固定されている。この第２ブラケット
４４に支柱４５の下端が回転可能に連結されている。ま
た、正面側の第２ブラケット４４には第２アーム４６の
下端が回転可能に連結されていて、そこにモノクロメー
タ支持台４８が固定されている。このモノクロメータ支
持台４８に湾曲結晶モノクロメータ３０が取り付けられ
ている。

【００１５】図１に戻って、支柱４５の正面側に１対の
第２ガイドレール５０が固定されている。この第２ガイ
ドレール５０に第２スライド台５２がスライド可能に連
結されている。第２スライド台５２は第２ボールねじ５
４に噛み合っており、第２ボールねじ５４は上方の第２
モータ５６の出力軸に結合されている。第２モータ５６
が回転すると第２ボールネジ５４が回転し、これによっ
て第２スライド台５２が第２ガイドレール５０に沿って
スライドする。第２スライド台５２の正面側には第３ア
ーム５８の上端が回転可能に連結されている。そして、
第１アーム３６の上端と第２アーム４６の上端と第３ア
ーム５８の下端は回転中心５９のところで互いに回転可
能に連結されている。回転中心５９はローランド円の中
心に一致している。

【００１６】第２スライド台５２の正面側の上端付近に
はＸ線管支持板６０（図２も参照）が固定されている。
このＸ線管支持板６０は第２スライド台５２から正面側
に突き出している。このＸ線管支持板６０の下面にＸ線
管２０が固定されている。また、第２スライド台５２の
側縁にはバランスウェイト支持板６２が固定されてい
る。このバランスウェイト支持板６２にバランスウェイ
ト６４が固定されている。バランスウェイト６４はＸ線
管２０の重量のバランスをとるためのものであり、支柱
４５に対してＸ線管２０とバランスウェイト６４が互い
に反対方向にほぼ等しい曲げモーメントが作用するよう
にしている。

【００１７】図１と図２において、このＸ線分光装置
は、その荷重のほぼすべてをベース３２で支持してい
る。ベース３２は、Ｘ線管２０を移動させる機構（支柱
４５、第２ガイドレール５０、第２スライド台５２、第
２ボールねじ５４及び第２モータ５６）と、湾曲結晶モ
ノクロメータ３０を移動させる機構（第１ガイドレール
３８、第１スライド台４０、第１ボールねじ４２及び第
１モータ４３）のすべてを支持していることになる。こ
れにより、Ｘ線分光装置の構成がコンパクトになってい
る。

【００１８】Ｘ線管２０は開放型の固定対陰極Ｘ線管で
あり、Ｘ線管２０の内部を真空排気するためのターボ分
子ポンプ６６が接続されている。なお、このＸ線管２０
は、回転対陰極Ｘ線管としてもよいし、封入式のＸ線管
としてもよい。

【００１９】次に、このＸ線分光装置の動作を説明す
る。図１において、Ｘ線管２０の焦点Ｆと湾曲結晶モノ
クロメータ３０の反射面と受光スリットＲＳはローラン
ド円上に位置している。Ｘ線管２０の焦点Ｆから出た連
続Ｘ線は、発散スリット（第２スライド台５２に取り付
けられている）で発散角を制限されてから湾曲結晶モノ
クロメータ３０に入射する。そのときの入射角θ（モノ
クロメータ３０の反射面と入射Ｘ線とのなす角度）に対
応した波長（ブラッグ条件を満足した波長）のＸ線だけ
がモノクロメータ３０で反射して受光スリットＲＳに集
光する。図１は、モノクロメータ３０に対するＸ線の入
射角θが４５度（２θ＝９０度）の状態を示している。
このとき、支柱４５は鉛直状態にある。

【００２０】図３は図１の状態からモノクロメータ３０
に対するＸ線の入射角θを３０度（２θ＝６０度）に変
更した状態を示している。このような状態にするには、
第１スライド台４０を図３の右方向に所定距離だけ移動
させて、同時に、第２スライド台５２を同じ距離だけ支
柱４５に沿って下降させればよい。そのためには、第１
モータ４３（図２を参照）を所定量だけ回転させ、同時
に、第２モータ５６を所定量だけ回転させる。第１モー
タ４３と第２モータ５６はパルスモータであり、パルス
数を制御することによって第１スライド台４０と第２ス
ライド台５２の位置を正確に制御できる。図３の状態に
なっても、Ｘ線管２０の焦点Ｆと湾曲結晶モノクロメー
タ３０の反射面と受光スリットＲＳはローランド円上に
載っている。

【００２１】図１の状態と図３の状態を比較すると分か
るように、このＸ線分光装置では、Ｘ線の波長を変化さ
せるように湾曲結晶モノクロメータ３０とＸ線管２０と
を動かしても、受光スリットＲＳは完全に静止してい
る。さらに、湾曲結晶モノクロメータ３０から受光スリ
ットＲＳに向かう光軸の方向も全く変化しない。このこ
とは、Ｘ線分光装置から取り出すＸ線の波長を変化させ
ても受光スリットＲＳの後方に設置する試料やＸ線検出
器は全く動かす必要がないことを意味する。

【００２２】次に、図１に戻って、検出部の構造を説明
する。スリットボックス３５の後方（図面の右側）に
は、透過型比例計数管７４（第１のＸ線検出器）と試料
７６とシンチレーションカウンタ７８（第２のＸ線検出
器）とが、この順番に配置されている。スリットボック
ス３５内の受光スリットＲＳを通過したＸ線は、透過型
比例計数管７４を通過して、試料７６を透過し、シンチ
レーションカウンタ７８に達する。試料７６を透過する
前のＸ線強度は透過型比例計数管７４で検出され、試料
７６を透過した後のＸ線強度はシンチレーションカウン
タ７８で検出される。両者のＸ線強度を比較することに
より、試料７６のＸ線吸収係数を求めることができる。
そして、第１スライド台４０と第２スライド台５２を移
動させることにより、モノクロメータ３０へのＸ線入射
角θを変化させることができ、このようにＸ線の波長を
変化させて試料７６のＸ線吸収係数を測定すれば、試料
７６のＸ線吸収スペクトルを求めることができる。な
お、第１のＸ線検出器としては、上述の透過型比例計数
管のほかに、イオンチャンバー（電離箱）やシリコンＰ
ＩＮダイオードなども使用できる。また、第２のＸ線検
出器としては、比例計数管やＳＳＤ（半導体検出器）な
ども使用できる。

【００２３】ところで、第２カバー８２の内部は通常は
大気の状態にしているので、仕切り膜８４（スリットボ
ックス３５の直後に位置している）を通過したＸ線は空
気中を進むことになる。したがって、この検出部のとこ
ろでは空気によってＸ線が吸収されてＸ線強度が減衰す
ることになる。しかしながら、仕切り膜８４からシンチ
レーションカウンタ７８（第２検出器）までの距離は、
Ｘ線分光装置におけるＸ線経路の長さと比較すればわず
かであるので、検出部における空気の影響はそれほど大
きくなく、測定に影響するほどのものではない。したが
って、検出部はヘリウムガスで満たしていない。ただ
し、非常に低いエネルギー（例えば３ｋｅＶ以下）で測
定をする場合には、この検出部における空気の吸収も無
視できなくなるので、第１カバー８０と第２カバー８２
の間の仕切り膜８４を外して、第２カバー８２の内部空
間もヘリウムガスで満たすことが望ましい。その際は、
通常の比例計数管やシンチレーション検出器をそのまま
使うと、高圧印加部で放電を生じるおそれがあるので、
高圧印加部を気密にシールドしたＸ線検出器を使う必要
がある。

【００２４】次に、第１カバー８０の内部をヘリウムガ
スで充填する作業を説明する。第１カバー８０の内部に
空気が充満している状態で、この空気をヘリウムガスに
置換するには次のようにする。供給弁１４と排出弁１８
を開いて、供給弁１４を通してヘリウムガスを第１カバ
ー８０の内部に供給する。ヘリウムガスは空気よりも軽
いので、第１カバー８０の内部空間の上方から空気がヘ
リウムガスに置換されていき、重い空気は下方の排出弁
１８から出ていく。排気弁１８からヘリウムガスが出て
くるようになれば、第１カバー８０の内部空間はすべて
ヘリウムガスに置換されたことになる。その後は、ヘリ
ウムガスの供給流量を少なくして、わずかにヘリウムガ
スが流れる状態にしておく。こうすると、カバーに多少
の洩れがあっても、第１カバー８０の内部空間は常にヘ
リウムガスで満たされた状態になる。第１カバー８０内
のヘリウムガスの圧力を大気圧と同じにすれば、第１カ
バー８０には気圧差に起因する力がかからないので、頑
丈なカバーは必要ない。

【００２５】次に、Ｘ線管とカバーとを気密につなぐ構
造を説明する。図１において、Ｘ線管２０には蛇腹２２
の一端が接続されており、蛇腹２２の他端はカバーの窓
２４に形成された開口２６に接続されている。窓２４か
らはＸ線管２０の高圧ケーブル２８が取り出される。こ
の点を図２を参照して詳しく説明する。図２において、
Ｘ線管２０の真空容器の一方の端面からは対陰極支持部
６８の一部が露出している。この対陰極支持部６８に、
冷却水の供給口及び排出口（図示せず）が接続されてお
り、さらには、高圧ブッシング７０（高電圧用の電気導
入端子）が接続されている。高圧ブッシング７０には高
圧ケーブル２８が接続されている。そして、Ｘ線管２０
の真空容器の一方の端部付近にはフランジ７２が気密に
固定されている。このフランジ７２にゴム製の蛇腹２２
の一端が気密に接続されている。蛇腹２２の他端は図１
に示すように窓２４の開口２６に気密に接続されてい
る。なお、図２では蛇腹２２は、その内部が見えるよう
に一部を削除して図示している。

【００２６】図１において、蛇腹２２は第１カバー８０
の内部空間（ヘリウムガス雰囲気）と外部空間（大気）
とを仕切るものである。すなわち、蛇腹２２の内部空間
は開口２６を通して外部空間とつながっている。したが
って、蛇腹２２の内部に存在する高圧ブッシングは大気
中にある。ゆえに、高圧ブッシングに高電圧を印加した
場合に、高圧ブッシングとＸ線管の真空容器との間で放
電が生じない。もし高圧ブッシングがヘリウムガス中に
あると、高圧ブッシングのところで放電が生じるおそれ
がある。なお、Ｘ線管の内部の真空度を測定するイオン
ゲージをＸ線管に設ける場合があるが、その場合は、こ
のイオンゲージも蛇腹２２の内部空間に収容するのが好
ましい。イオンゲージをヘリウムガス雰囲気に入れる
と、イオンゲージのところでも放電が生じるおそれがあ
るからである。したがって、イオンゲージの配線も蛇腹
２２の内部を通って開口２６から取り出される。さらに
は、上述の冷却水の配管も蛇腹２２の内部を通って開口
２６から取り出される。なお、図１と図２ではイオンゲ
ージの配線や冷却水配管は図示を省略してある。

【００２７】第１カバー８０の内部を大気圧のヘリウム
ガスで満たした場合は、蛇腹２２の内部空間（大気）と
外部（ヘリウムガス雰囲気）との間には気圧差が生じな
いので、耐圧製の蛇腹にする必要はない。したがって、
この実施形態ではゴム製の蛇腹を用いている。ゴム製の
蛇腹は伸縮性に優れている。

【００２８】Ｘ線分光装置が図３のように姿勢を変更し
た場合に、Ｘ線管２０は開口２６から離れる方向に移動
するが、その場合でも、蛇腹２２が伸びることによって
Ｘ線管２０と開口２６との間はつながっている。

【００２９】図４はカバー１０の斜視図である。第１カ
バー８０と第２カバー８２の外観がよく示されている。
第１カバー８０の窓２４に形成された開口２６からは、
高圧ケーブル２８が外部に取り出されている。

【００３０】

【発明の効果】この発明のＸＡＦＳ測定装置は、少なく
ともＸ線分光装置を気密カバーで覆って、Ｘ線管の外面
とカバーの開口部とを可撓性の筒状部材でつなぎ、この
筒状部材の内部空間にＸ線管の高圧ブッシングの露出部
分を収容して、この内部空間を大気に連通したので、Ｘ
線の光路だけを覆う真空パスや大型の真空容器を使わず
にＸ線の光路を大気から隔離できる。したがって、空気
の影響がなくなり低エネルギーでのＸＡＦＳ測定が可能
になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明のＸＡＦＳ測定装置のひとつの実施形
態の正面図である。

【図２】図１のＸＡＦＳ測定装置のＸ線分光装置の部分
を示す斜視図である。

【図３】図１の状態からモノクロメータに対するＸ線の
入射角を変更した状態を示す正面図である。

【図４】カバーの斜視図である。

【図５】硫黄の吸収端エネルギーに相当するＸ線波長を
得るためのモノクロメータの結晶材質と回折角度２θと
の組み合わせを示す表である。

【符号の説明】

１０カバー１２ガス供給口１４供給弁１６ガス排出口１８排出弁２０Ｘ線管２２蛇腹２４窓２６開口２８高圧ケーブル３０湾曲結晶モノクロメータ７０高圧ブッシング７２フランジ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者禧久敦徳東京都昭島市松原町３丁目９番12号理学電機株式会社内Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA13 CA01 DA01 EA01 GA01 GA13 JA01 JA04 JA05 JA11 JA14 SA01 SA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の構成を備えるＸＡＦＳ測定装置。（ａ）Ｘ線管とモノクロメータと受光スリットを含んで
いて、モノクロメータに対するＸ線の入射角を変更する
ことで波長の異なるＸ線を受光スリットから取り出すこ
とができるＸ線分光装置。（ｂ）前記受光スリットを出て試料に入射する前のＸ線
の強度を検出する第１のＸ線検出器と、試料から出てき
たＸ線の強度を検出する第２のＸ線検出器とを含む検出
部。（ｃ）少なくとも前記Ｘ線分光装置の全体を気密に覆う
カバー。（ｂ）前記Ｘ線管の外面と前記カバーの開口部とを気密
につなぐ可撓性の筒状部材であって、その内部空間がＸ
線管の高圧ブッシングの露出部分を収容していてかつ前
記開口部を介して大気に連通している筒状部材。
【請求項２】請求項１に記載のＸＡＦＳ測定装置にお
いて、前記可撓性の筒状部材はゴム製の蛇腹であること
を特徴とするＸＡＦＳ測定装置。
【請求項３】請求項１に記載のＸＡＦＳ測定装置にお
いて、前記カバーの内部に充填ガスを供給するためのガ
ス供給口が前記カバーに設けられていることを特徴とす
るＸＡＦＳ測定装置。